TW202113400A - 減少鐳射散斑的反射漫射器和包括該漫射器的反射發光輪 - Google Patents

Abstract

用於去除鐳射散斑的漫射器包括：透明漫射器基板和反射膜，該透明漫射器基板具有去除散斑的微結構，該微結構設置在透明漫射器基板的第一面（即，正面）上或在其中形成，該反射膜塗覆在透明漫射器基板的相對的第二面（即，背面）上。消光層可以塗覆在反射膜上。抗反射（AR）塗層可以設置在透明漫射器基板的第一面上。還公開了發光輪，其包括盤和固定到盤以與盤一起旋轉的光學環。光學環包括至少一個螢光段和上述漫射器。

Description

減少鐳射散斑的反射漫射器和包括該漫射器的反射發光輪

本發明涉及光學領域、鐳射照明領域、發光輪/螢光輪（luminescent wheel）領域等相關領域。

發光輪包括盤和經連接以使盤旋轉的電動機，其中，盤具有設置在盤的周邊上的螢光（fluorescent）段。在使用中，鐳射光束被引導到旋轉盤的周邊上。鐳射被螢光段轉換成螢光（即，波長轉換光）。商業發光輪通常採用反射佈置，其中盤由諸如金屬的反射材料製成，或者在支撐螢光段的一側具有反射塗層。發光輪的一種商業應用是在光學投影儀中。原則上，通過使發射紅色、綠色和藍色轉換光的螢光段圍繞輪的周邊設置，輸出將是紅色、綠色和藍色照明的序列，該序列可以與由微機電DLP反射器或其他合適的圖像形成技術限定的紅色、綠色和藍色圖元圖案同步，以投射時間平均的全彩色圖像。

然而，激發螢光段的鐳射的光子能量應當高於波長轉換光的光子能量。這意味著使用藍色螢光段將需要使用紫外鐳射器。更通常的設計是使用藍色鐳射器和具有紅色和綠色螢光段和透光段的發光輪。藍色鐳射隨後穿過透光段以提供紅色、綠色和藍色照明序列的藍光分量。

這種設計的一個困難是藍色鐳射具有由相干鐳射光束的波前相互干涉引起的散斑圖案。這種散斑圖案在藍色照明分量中是不期望的。因此，已知在透光段的光學路徑中添加漫射器以消除散斑。漫射器通常通過在玻璃基板上蝕刻以形成微結構來製成。當鐳射光束撞擊漫射器時，漫射器的微結構會產生散射，以消除鐳射的干涉特性，並達到減少或消除散斑的目的。漫射器基板通常是玻璃或石英或透光陶瓷。

本文公開了一些改進。

根據本文公開的一些說明性實施例，一種發光輪包括：盤，該盤能夠與電動機連接以使該盤旋轉；光學環，其固定到該盤，以便與該盤一起旋轉。光學環包括至少一個螢光段和至少一個漫射器段。每個螢光段被配置成將激發波長下的鐳射轉換成轉換光。每個漫射器段包括：透明漫射器基板，其具有塗覆在該透明漫射器基板的背面上的反射膜。透明漫射器基板可具有微結構，該微結構設置在該透明漫射器基板的正面上或形成到該透明漫射器基板的正面中，並且被配置成去除該激發波長下的鐳射散斑，且透明漫射器基板還可以包括抗反射（AR）塗層，其設置在正面上，且防止該激發波長下的該鐳射反射。每個漫射器段還可以包括：消光層，該消光層塗覆到該反射膜上並且被配置成阻擋該激發波長下的鐳射。

根據本文公開的一些說明性實施例，公開了用於去除鐳射散斑的漫射器。該漫射器包括：透明漫射器基板，其具有第一面（即，正面）和與該第一面相對的第二面（即，背面）；微結構，該微結構設置在該透明漫射器基板的第一面上或形成到該第一面中，並且被配置成去除該鐳射散斑；以及反射膜，其塗覆在該透明漫射器基板的第二面上。在該透明漫射器基板的第二面和反射膜的接合處限定的光學介面對該鐳射具有至少96%的反射率。漫射器還可以可選地包括：消光層，該消光層塗覆在該反射膜上並且被配置成阻擋該鐳射，和/或AR塗層，其設置在該透明漫射器基板的第一面上，且防止該鐳射反射。

根據本文公開的一些說明性實施例，一種發光輪包括盤和光學環，該盤可與電動機連接以使盤旋轉，以及光學環固定到該盤以便與該盤一起旋轉。該光學環包括至少一個螢光段和如前一段該的漫射器。每個螢光段被配置成將鐳射轉換成具有與鐳射不同的光譜的轉換光。

根據本文公開的一些說明性實施例，公開了一種用於去除鐳射散斑的漫射器的製造方法。該方法包括：在透明漫射器基板的第一面（即，正面）上形成微結構，該微結構被配置成去除鐳射散斑；以及用反射膜塗覆透明漫射器基板的與第一面相對的第二面（即，背面）。該方法還可包括在反射膜上沉積消光層。該方法還可包括將抗反射塗層沉積到透明漫射器基板的第一面上，該抗反射塗層防止鐳射反射。

通過參考附圖，可以獲得對本文公開的過程和設備的更完整的理解。這些圖僅僅是基於方便和容易地展示現有技術和/或本發明的發展的示意性表示，因此，不旨在指示元件或其部件的相對尺寸和大小。通過參考以下對期望的實施例和其中包括的示例的詳細描述，可以更容易地理解本公開。在以下說明書和所附申請專利範圍中，將參考許多術語，其將被定義為具有以下含義。單數形式“一個（a、an）”和“該（the）”包括複數指代物，除非上下文清楚地另外指明。本申請的說明書和申請專利範圍中的數值應理解為包括當減少至相同數量的有效數字時相同的數值和與該值的差異小於本申請中該類型的常規測量技術的實驗誤差以確定該值的數值。本文公開的所有範圍包括該端點。

如前所述，已知的發光輪設計採用紅色和綠色螢光段以及透射段，並且與藍色鐳射器結合使用。由此提供了在紅色、綠色和藍色（或一些其它排序，例如綠色、紅色和藍色）之間的連續光迴圈。然而，這種已知的設計具有很大的缺點。螢光段以反射模式操作（實際上，轉換的螢光通常以近似朗伯（Lambertian）圖案發射，但是由於盤是金屬的或者是不透明的，因此得到的螢光照明近似於漫反射）；而藍光是通過激光束透射通過透光段而產生的。這意味著需要附加的光學部件，來重新定向和組合漫射的“反射”螢光紅光和綠光，以及直接透射的藍光的發散光學路徑，以形成最終的連續照明輸出。附加的光學器件又增加了連續彩色照明源的尺寸和複雜性。

為了避免對附加的光學路徑的需要，漫射器被附接到反射盤，使得去除散斑的藍光還以反射模式發射。在這種情況下，沒有透光段；然而，漫射器段被粘附到盤。在盤的旋轉使得藍色段與鐳射光束接觸時，藍色鐳射光束通過漫射器（從而被去除散斑），從反射盤反射並返回通過漫射器。然而，這種方法也具有缺點。

首先，光損耗高。耐高溫的盤基板的反射率通常僅為約95%。此外，藍色鐳射光束兩次穿過粘合劑。如果使用矽樹脂作為粘合劑，則透明矽樹脂的透射率為約98%。因此，總效率僅為95%×（2×98%），即大約91%，這降低了藍色鐳射的利用率。

第二，通常用於漫射器的玻璃和作為螢光段的常用主體的矽樹脂之間存在大的密度差。這種密度差可能使旋轉盤不平衡。由於盤通常快速旋轉以實現彩色照明序列的高迴圈頻率，因此這種不平衡會導致電動機的磨損和/或盤的擺動。

第三，將漫射器固定到盤的粘合劑接收來自藍色鐳射光束的直接照射。矽樹脂粘合劑通常用於粘附螢光段，因為矽樹脂是耐熱的並且發光輪被高功率鐳射光束加熱。固定螢光段的矽樹脂粘合劑不經歷直接鐳射光束照射，因為螢光段吸收大部分該照射。然而，如果還使用矽樹脂來粘附漫射器段，則在直接鐳射照射下，將加速漫射器段處的矽樹脂粘合劑的老化。

第四，透明矽樹脂的熱導率僅為大約0.2W/m.K，這將導致發光輪的溫度升高，這種溫度升高是由於來自直接鐳射照射的熱被在漫射器段處的矽樹脂粘合劑吸收所導致的。

現在參考圖1至圖3，示出了發光輪。圖1以分解透視圖示出發光輪10，而圖2以組裝前視圖示出發光輪且圖3以組裝後視圖示出發光輪。電纜11為電動機12供電，該電動機12經由驅動軸13驅動發光輪。盤14具有中心開口15，該中心開口15可與電動機12連接並經由輪轂16固定以旋轉盤14。例如，連接可以是通過利用膠水粘合。盤14包括與漫射器段20對準的扇形切口18。漫射器段20和至少一個螢光段22共同限定光學環，該光學環固定到盤14以隨著盤14一起旋轉。光學環包括至少一個螢光段22和至少一個漫射器段20。如圖2所示，在所示示例中，存在三個螢光段22：發射轉換的紅光的紅色（R） 螢光段、發射轉換的綠光的綠色（G） 螢光段和發射轉換的黃光的黃色（Y） 螢光段。在所示示例中，存在單個漫射器段20。每個螢光段22被配置為將由在激發波長下鐳射器（未示出）發射的鐳射轉換成轉換光（如，在示例中為轉換的紅光、轉換的綠光和轉換的黃光）。漫射器段20去除鐳射散斑並對鐳射進行反射，該鐳射在說明性示例中為藍色鐳射。在適於提供連續彩色照明的一些實施例中，鐳射的激發波長是在440-485 nm（包含）（且更具體的，為440-460 nm（包含））光譜範圍的藍色波長，且每個螢光段22被配置為（如，通過包括在包括透明材料（如，矽樹脂）的主體中散佈的適當的螢光粉）將在藍色波長下的鐳射轉換成具有如下光譜的轉換光：該光譜具有在460-800 nm（包含）（且更具體的，為490-750 nm（包含））光譜範圍的最大峰值。

特別參考圖2的前視組裝圖，鐳射作為（可選地，聚焦後的）鐳射光束在光斑24處撞擊光學環。鐳射器是固定的。隨著盤14在逆時針（CCW）方向（如圖所示，或替代地，在順時針CW方向）旋轉，鐳射光斑204也沿著圓形軌跡移動（相對於盤14的參考系），以連續撞擊連續的螢光段22和漫射器段20。對於圖2中示出的指示的轉換光顏色，所得到的連續彩色照明是藍色、紅色、黃色、綠色、藍色、紅色、黃色、綠色、藍色、紅色、黃色……，其中，在鐳射光斑24撞擊漫射器段20時產生藍光。將理解的是，可以通過對在光學環中的一個或多個螢光段和一個或多個漫射器段的適當選擇和佈置而獲得色彩的任何順序。此外，儘管鐳射的激發波長在本文被描述為藍光，但是鐳射器發射的激發光可以是另一波長。

圖1至圖3的發光輪還包括上述輪轂16和平衡元件30，該平衡元件30具有與盤14的中心開口15和輪轂16的中心開口對齊的中心開口32。在所述的示例中，盤14適當地由鋁或鋁合金製成，平衡元件30適當地由鋼或鋁合金製成，儘管這些部件也可考慮其它材料。平衡元件30在本文中有時稱為平衡鋼30；然而，也可以使用其它導熱材料，例如鋁合金等。平衡鋼30徑向向外延伸足夠的距離，以與漫射器段20的內側部分（即，“內側”是指更靠近中心開口15）重疊，但不徑向向外延伸到盤14的外周邊。這使得漫射器段20的暴露的外側部分暴露，如圖2的組裝正視圖中最佳示出的。漫射器段20裝配到盤14的扇形切口18中，且漫射器段20的內側部分粘合到平衡鋼30的後表面。因此，漫射器段20的內側部分粘合到平衡元件30的後表面，且漫射器段20的外側部分不粘合到平衡元件（或被平衡元件覆蓋）。

繼續參考圖1至圖3，並且進一步參考圖4，描述了用於組裝圖1至圖3的發光輪的適當的組裝方法。在步驟S1中，矽樹脂或其它合適基質中的螢光粉分配或印刷到盤14的前表面上以形成至少一個螢光段22。可以考慮用於形成至少一個螢光段22的其它製造方法，例如，預成型模制螢光段，然後使用矽樹脂粘合劑等將它們粘合到盤14的前表面。在步驟S2中，漫射器段20粘合到平衡鋼30的後表面。在步驟S3中，平衡鋼30的前表面粘合到輪轂16，平衡鋼30的開口32與輪轂16的開口對齊。在步驟S4中，平衡鋼30的後表面粘合到盤14的前表面，從而形成盤元件，該盤元件包括粘合有（一個或多個）螢光段22的盤14、粘合有漫射器段20的平衡鋼30以及粘合到平衡鋼30的輪轂16。在步驟S5中，盤組件固定到電動機12。該操作可以採用各種方法。在一種方法中，輪轂16是螺母，其通過螺紋連接到電動機12的驅動軸13的配合螺紋。在另一種方法中，驅動軸13包括通過粘合劑粘合到盤14的後表面的平面部分。可以考慮其它方法。

圖1至圖3的發光輪具有某些優點。通過不將漫射器段20直接粘合到盤14 （相反，漫射器段20粘合到平衡鋼30），在光斑24撞擊到漫射器段20上的時間間隔期間，熱不被傳遞（或至多被微弱地傳遞）到盤14。此外，通過調節平衡鋼30的品質，圖1至圖3的發光輪容易地被平衡。此外，該設計（特別是扇形切口18）允許漫射器段20與盤14處於同一平面中，這減少或消除了在漫射器段20的邊緣處的不期望的鐳射光束反射，並且此外，漫射器段20不從盤14的表面突出，這種突出會引入空氣擾動，這種空氣擾動會不利地影響發光輪的穩定旋轉。

應瞭解，剛剛描述的說明性發光輪10是示例。發光輪10可以用在任何基於反射發光輪的連續彩色照明系統中。在這樣的系統中，鐳射可以以垂直入射或以一定角度撞擊在光學環上。此外，預期在除發光輪之外的其它光學應用中採用所公開的漫射器20。

現在參考圖5，進一步詳細描述漫射器段20。圖5示出漫射器段20的側剖視圖。（注意，術語“漫射器”20和“漫射器段”20在本文可互換使用。漫射器20在用作發光輪10的光學環的段時為漫射器段20，但是更一般地，漫射器20可以用在其他光學系統中。）通常，每個漫射器段（或者更一般地，為漫射器）20包括透明漫射器基板50和反射膜60，該透明漫射器基板50具有背離盤12的第一面（即，正面）52和靠近盤12的第二面（即，背面）54，以及該反射膜60塗覆在透明漫射器基板50的第二面（即，背面）54上。注意，分別指示第一面（即，正面）和第二面（即，背面）的附圖標記52和54僅在圖2中示出。透明漫射器基板50在激發波長下是透明的，即，對於撞擊鐳射光束24（見圖2）的鐳射而言是透明的。例如，透明漫射器基板50可以是在激發波長下是透明的玻璃基板、石英基板或陶瓷基板。透明漫射器基板50具有微結構（未示出），其設置在透明漫射器基板50的第一面52上或形成在其中，且該微結構被配置為去除激發波長下的鐳射散斑。使用用於製作去除散斑的微結構的任何已知方法適當地形成微結構。例如，通過對透明漫射器基板50的第一面52進行化學、機械、化學機械或全息蝕刻，或通過轉印過程，微結構可以形成在透明漫射器基板20的第一面52上，在轉印過程中，使用預成型的模具創建的一薄層微結構被轉印到透明漫射器基板20的第一面52上。當鐳射照射在漫射器20上時，微結構改變鐳射的散射方向和光路，以消除鐳射的干擾特性並實現降低或消除散斑的目的。微結構是非平面微結構，且優選（但不必）是隨機或偽隨機或無序的微結構。

有利地，塗覆在透明漫射器基板50的第二面（即，背面）54上的反射膜60提供了高度反射介面，這提高了光學效率。反射膜60可以例如包括金屬塗層或電介質層堆疊，該金屬塗層或電介質層堆疊被調諧成反射激發波長下的鐳射。在一些優選實施例中，光學介面限定在透明漫射器基板50的第二面54和反射膜60的接合處，該反射膜60對於鐳射具有至少96%的反射率，並且更優選地，對於鐳射具有至少97%的反射率，並且甚至更優選地，對於鐳射具有至少98%的反射率。

為了更進一步的增強光學效率，抗反射（AR）塗層62可選擇地設置在透明漫射器基板20的第一面52上（從而塗覆去除散斑的微結構）。優選地，與微結構的尺寸相比，AR塗層62更薄，如，AR塗層62的厚度可以為幾納米到幾十納米，但是也可以設想更大的厚度。對於激發波長下的鐳射，AR塗層62是抗反射的。AR塗層62是折射率匹配塗層，其使環境空氣與透明漫射器基板50的玻璃、石英或其他材料之間的折射率階躍（index step）變得平滑。在其他實施例中，AR塗層62是電介質層堆疊，其被調諧成對於鐳射具有近零的反射率。

在一些實施例中，將消光層64塗覆到反射膜60上。通過構成消光層64的材料的不透明性和厚度，將可選的消光層64配置為阻擋鐳射。例如，消光層64可以包括金屬塗層（例如，鋁或鋁合金塗層、鉻或鉻合金塗層等）或消光墨（可選地，與反射膜60的折射率匹配）。

繼續參考圖2，漫射器20的操作如下。入射鐳射70撞擊在漫射器20的第一面52上。鐳射穿過第一面52，在此處通過微結構去除鐳射散斑，鐳射然後穿過透明漫射器基板50到達第二面54，在此處鐳射被反射膜60反射，反射的鐳射穿過透明漫射器基板50返回至第一面52，在此處鐳射再次與微結構相互作用，並且鐳射作為反射鐳射72從第一面52射出。應當注意，儘管圖5示出入射鐳射70以非直角撞擊，但是替代地，可以設想使鐳射以直角入射，在這種情況下，反射鐳射將遵從與入射鐳射相同的軌跡（儘管方向相反）。

與圖5的設計相比，在常規的發光輪設計中，漫射器安裝在盤上，並且不包括圖5的漫射器20的層60、62。因此，在這種常規螢光轉輪設計中作為反射漫射器的操作依賴於盤的反射表面。鐳射在穿過透明漫射器基板之後，將無阻礙地穿過將漫射器粘合到盤的粘合劑，然後從盤的反射表面反射。如前所述，矽樹脂粘合劑的透射率為約98%，盤的反射率通常為約95%，使得在這種情況下總效率僅為95%×（2×98%），即約91%。

相比之下，在圖5的漫射器20中，在透明漫射器基板50的第二面54和反射膜60的接合處限定的光學介面優選地具有至少96%的鐳射反射率，更優選地具有至少97%的反射率，甚至更優選地具有至少98%的反射率。這些值是容易實現的，因為金屬或電介質堆疊直接塗覆到透明漫射器基板50的第二表面54上，以在該介面處提供緊密接觸並且消除了光通過任何粘合劑的通路。

如果設置有消光層64，則可選的消光層64確保基本上沒有鐳射穿過漫射器20。這是有益的，因為鐳射照射可以具有高強度。例如，在一些實施例中，鐳射以500W/mm² 或更高的鐳射能量密度照射。反射膜60和消光層64應足夠厚以承受這種能量輸入，並且將反射方面和鐳射吸收方面分離成單獨的層60、64可簡化設計以實現這些設計約束。然而，如果反射膜60足夠不透明（例如足夠厚），則反射膜60也可以用於基本上完全地消除鐳射光束，在這種情況下，可以適當地省略附加消光層64。

在發光輪10中採用所公開的漫射器段20的另一優點在於，包括透明漫射器基板50和附加層60、64的漫射器段20的總品質可與螢光段18的品質相當。這有助於平衡發光輪10。

現在參考圖6，描述了用於製造圖5的反射漫射器20 （例如，用在圖1至圖3的發光輪中）的說明性方法。在步驟S10中，提供光學透明基板晶片。晶片由玻璃、石英、透光陶瓷或適合用作透明漫射器基板的其它材料製成。在步驟S12中，在晶片的第一面上或第一面中蝕刻（或以其它方式形成）微結構，且在可選步驟S14中，沉積AR塗層（例如，通過真空蒸發、濺射沉積等）。在步驟S16中，將反射膜塗覆到晶片的第二面上（例如，通過真空蒸發、濺射沉積等），且在可選步驟S18中，將消光膜沉積到反射膜上（例如，通過真空蒸發、濺射沉積等）。在一些實施方案中，反射膜和消光膜可在單次真空蒸發或濺射沉積操作中沉積，而不會在兩次沉積之間破壞沉積室的真空。最後，在步驟S20中，例如使用機械鋸、鐳射切割等將基板晶片切成小塊，以形成漫射器段。

已經參考示例性實施例描述了本公開。顯然，在閱讀和理解了前面的詳細描述之後，其他人將想到修改和改變。本公開旨在被解釋為包括所有這樣的修改和改變，只要它們在所附請求項或其等同物的範圍內。

10:發光輪 11:電纜 12:電動機 13:驅動軸 14:盤 15:具有中心開口 16:輪轂 18:扇形切口 20:漫射器段 22:螢光段 24:光斑 30:平衡元件 32:開口；中心開口 50:透明漫射器基板 52:前側 54:後側 60:反射膜 62:抗反射塗層 64:消光層 70:入射鐳射 72:反射鐳射 S1~S20:步驟

附圖是為了說明本文公開的示例性實施例而不是為了限制本發明而給出的。 圖1示意性地示出了發光輪的分解透視圖。 圖2以組裝的前視圖示意性地示出圖1的發光輪。 圖3以組裝的後視圖示意性地示出圖1和圖2的發光輪。 圖4示意性地示出用於組裝圖1至圖3的發光輪的合適的組裝方法。 圖5示意性地示出圖1至圖3的反射漫射器的側視圖。 圖6示意性地示出用於製造反射漫射器的合適的製造方法。

10:發光輪

11:電纜

12:電動機

13:驅動軸

14:盤

15:具有中心開口

16:輪轂

18:扇形切口

20:漫射器段

22:螢光段

30:平衡元件

32:開口；中心開口

Claims (26)

1. 一種用於去除鐳射散斑的漫射器，該漫射器包括： 透明漫射器基板，其具有正面和與該正面相對的背面； 微結構，其設置在該透明漫射器基板的該正面上或形成到該正面中，並且被配置成去除該鐳射散斑；以及 反射膜，其塗覆在該透明漫射器基板的該背面上； 其中，在該透明漫射器基板的該背面和該反射膜的接合處限定的光學介面對該鐳射具有至少96%的反射率。
2. 如請求項1所述的漫射器，其中，該反射膜包括被調諧為反射該鐳射的金屬塗層或電介質層堆疊。
3. 如請求項1至2中任一項所述的漫射器，還包括： 消光層，該消光層塗覆在該反射膜上並且被配置成阻擋該鐳射。
4. 如請求項3所述的漫射器，其中，該消光層包括金屬塗層或消光墨。
5. 如請求項1至4中任一項所述的漫射器，還包括： 抗反射（AR）塗層，其設置在該透明漫射器基板的該正面上，且防止該鐳射反射。
6. 如請求項第1至5項中任一項所述的漫射器，其中，該透明漫射器基板是對於該鐳射透明的玻璃基板、石英基板或陶瓷基板。
7. 一種發光輪，包括： 盤，該盤能夠與電動機連接以使該盤旋轉，該盤具有扇形切口； 光學環，其固定到該盤，以便與該盤一起旋轉，該光學環包括至少一個螢光段和如請求項1至6中任一項所述的漫射器， 其中，每個螢光段被配置成將鐳射轉換成具有與該鐳射不同的光譜的轉換光；以及 平衡元件，該平衡元件粘合至該盤且粘合至該漫射器。
8. 如請求項7所述的發光輪，其中，該漫射器不直接粘合到該盤。
9. 如請求項7至8中任一項所述的發光輪，還包括： 與該盤固定在一起的平衡元件； 其中，該盤具有切口，該漫射器段裝配到該切口中；以及 其中，該漫射器段的內側部分粘合到該平衡元件的後表面，並且該漫射器段的外側部分未粘合到該平衡元件。
10. 一種發光輪，包括： 盤，該盤能夠與電動機連接以使該盤旋轉；以及 光學環，其固定到該盤，以便與該盤一起旋轉，該光學環包括至少一個螢光段和至少一個漫射器段； 其中，每個螢光段被配置成將激發波長下的鐳射轉換成轉換光；以及 其中，每個漫射器段包括： 透明漫射器基板，其具有塗覆在該透明漫射器基板的背面上的反射膜。
11. 如請求項10所述的發光輪，其中，該透明漫射器基板具有微結構，該微結構設置在該透明漫射器基板的正面上或形成到該透明漫射器基板的正面中，並且被配置成去除該激發波長下的鐳射散斑。
12. 如請求項11所述的發光輪，其中，每個漫射器段還包括抗反射（AR）塗層，其設置在該透明漫射器基板的正面上，且防止該激發波長下的該鐳射反射。
13. 如請求項10至12中任一項所述的發光輪，其中，該反射膜包括被調諧成反射該激發波長下的鐳射的金屬塗層或電介質層堆疊。
14. 如請求項10至13中任一項所述的發光輪，其中，在該透明漫射器基板的該背面和該反射膜的接合處限定的光學介面對於在該激發波長下的該鐳射具有至少96%的反射率。
15. 如請求項10至14中任一項所述的發光輪，其中，每個漫射器段還包括： 消光層，該消光層被塗覆到該反射膜上並且被配置成阻擋該激發波長下的鐳射。
16. 如請求項15所述的發光輪，其中，該消光層包括金屬塗層或消光墨。
17. 如請求項10至16中任一項所述的發光輪，其中，存在單個漫射器段，並且該盤具有與該漫射器段對準的扇形切口，該發光輪還包括： 平衡元件，其粘合到該盤且粘合到該漫射器段，其中，該漫射器段不直接粘合到該盤。
18. 如請求項17所述的發光輪，其中，該漫射器段的內側部分粘合到該平衡元件的後表面，並且該漫射器段的外側部分未粘合到該平衡元件。
19. 如請求項10至18中任一項所述的發光輪，其中，該透明漫射器基板是在該激發波長下透明的玻璃基板、石英基板或陶瓷基板。
20. 如請求項10至19中任一項所述的發光輪，還包括： 電動機，該電動機與該盤操作地連接，以使該盤旋轉。
21. 如請求項20所述的發光輪，還包括： 鐳射器，其被佈置成發射被引導到該光學環上的該激發波長下的該鐳射。
22. 一種製造用於去除鐳射散斑的漫射器的方法，該方法包括： 在透明漫射器基板的正面上形成微結構，該微結構被配置成去除該鐳射散斑；以及 用反射膜塗覆該透明漫射器基板的與該正面相對的背面。
23. 如請求項22所述的方法，其中，通過蝕刻該透明漫射器基板的該正面形成該微結構。
24. 如請求項22至23中任一項所述的方法，其中，該反射塗層包括金屬層或電介質層。
25. 如請求項22至24中任一項所述的方法，還包括： 在該反射膜上沉積消光層。
26. 如請求項22至25中任一項所述的方法，還包括： 將抗反射塗層沉積到該透明漫射器基板的第一面上，該抗反射塗層防止該鐳射反射。

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