TW202110763A - 玻璃、化學強化玻璃及覆蓋玻璃 - Google Patents

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今北健二
金原一樹
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Abstract

本發明係關於一種玻璃，該玻璃之SiO2 、Al2 O3 、Li2 O之含量、Na2 O及K2 O之任一種以上之總計含量、Li2 O含量相對於Li2 O、Na2 O及K2 O之總量之比、MgO、CaO、SrO、BaO及ZnO之總計含量在特定範圍內。

Description

玻璃、化學強化玻璃及覆蓋玻璃
本發明係關於一種玻璃、化學強化玻璃及覆蓋玻璃。
近年來，出於行動電話、智慧型手機、平板終端等之顯示器裝置之保護以及提高美觀之目的，使用包含化學強化玻璃之覆蓋玻璃。
在化學強化玻璃中，有表面壓縮應力(值)(CS)及壓縮應力層深度(DOL)越大，強度越變高之傾向。另一方面，由於在玻璃內部產生內部拉伸應力(CT)，以保持與表面壓縮應力之均衡，故CS及DOL越大，CT越變大。在CT較大之玻璃破裂時，碎片數變多，碎片飛散之危險性增大。
在專利文獻1中，曾記載藉由2階段之化學強化處理，形成以彎折之線表示之應力量變曲線，藉此能夠一面抑制內部拉伸應力(CT)，一面增大表面壓縮應力(CS)。
又，在專利文獻2中，曾揭示藉由2階段之化學強化處理而獲得較大之表面壓縮應力及壓縮應力層深度之鋰鋁矽酸鹽玻璃。鋰鋁矽酸鹽玻璃藉由使用鈉鹽與鉀鹽之2階段之化學強化處理，而可抑制CT，且將CS及DOL均增大。
另一方面，智慧型手機等所使用之觸控面板由於在使用時供人之手指接觸，故易於附著因指紋等造成之髒污。且，亦謀求以手指操作觸控面板時之操作性。在專利文獻3中曾記載使用含氟有機矽化合物作為提高防污性及手指滑動性之塗料。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：美國專利申請案公開第2015/0259244號說明書 專利文獻2：日本特表2013-520388號公報 專利文獻3：日本特開2000-144097號公報
[發明所欲解決之問題]
鋰鋁矽酸鹽玻璃在玻璃之製造步驟中、或在將獲得之玻璃彎曲成形等之步驟中，有容易失透之傾向。
又，對鋰鋁矽酸鹽玻璃施以離子交換處理之化學強化玻璃有提高防污性與手指滑動性之層(以下為防污層)容易剝離之情形。
本發明之目的在於提供一種製造特性優異且抑制防污層之剝離之玻璃。 [解決問題之技術手段]
本發明人等針對鋰鋁矽酸鹽玻璃進行探討，發現製造特性優異之玻璃組成之特徵。又，針對防污層之剝離進行探討之結果，發現玻璃之表面電阻率越低，剝離越受抑制之傾向。又，在經化學強化之玻璃中，發現跳頻越大，剝離越受抑制之傾向。跳頻係在玻璃中因電荷載子之躍繼振動而產生電導時之振動之頻率。基於該等見解，完成本發明。
本發明提供一種玻璃，該玻璃在氧化物基準之莫耳百分比表示下， 含有60～75%之SiO2 ； 含有8～20%之Al2 O3 ； 含有5～16%之Li2 O； 總計含有2～15%之Na2 O及K2 O之任一種以上； Li2 O含量相對於Li2 O、Na2 O及K2 O之總量之比PLi 為0.40以上； MgO、CaO、SrO、BaO及ZnO之含量之總計為0～10%。
又，提供一種化學強化玻璃，該化學強化玻璃之表面壓縮應力值為600 MPa以上；且 母玻璃組成在氧化物基準之莫耳百分比表示下， 含有60～75%之SiO2 ； 含有8～20%之Al2 O3 ； 含有5～16%之Li2 O； 總計含有2～15%之Na2 O及K2 O之任一種以上； Li2 O含量相對於Li2 O、Na2 O及K2 O之總量之比PLi 為0.40以上； MgO、CaO、SrO、BaO及ZnO之含量之總計為0～10%；且 跳頻為102.8 Hz以上。
又，提供一種包含前述化學強化玻璃之覆蓋玻璃。 [發明之效果]
根據本發明能夠提供一種難以產生失透，且具有較大之表面壓縮應力值(CS)及較大之壓縮應力層深度(DOL)，並且防污層等之有機物層難以剝離之化學強化玻璃。
雖然以下詳細地說明本發明之玻璃，但本發明並非係限定於以下之實施形態者，在不脫離本發明之要旨之範圍內，可任意變形而實施。
在本說明書中，「化學強化玻璃」係指施以化學強化處理後之玻璃。又，「化學強化用玻璃」係指施以化學強化處理前之玻璃。
在本說明書中，有將化學強化用玻璃之玻璃組成稱為化學強化玻璃之母玻璃組成之情形。在化學強化玻璃中，通常，由於在玻璃表面部分形成因離子交換產生之壓縮應力層，故未進行離子交換之部分之玻璃組成與化學強化玻璃之母玻璃組成一致。
在本說明書中，玻璃組成以氧化物基準之莫耳百分比表示進行表示，有將莫耳%簡單記載為%之情形。又，表示數值範圍之「～」係在作為下限值及上限值包含其前後所記載之數值之含義下使用。
在玻璃組成中「實質上不含有」意指除了原材料等中所含之不可避免之雜質除外不含有、亦即非意圖含有。具體而言，針對著色成分以外之成分，例如未達0.1莫耳%。
在本說明書中，「應力量變曲線」係以距玻璃表面之深度為變量，表示表面壓縮應力值之圖案。負的壓縮應力值意指拉伸應力。
在本說明書中，「應力量變曲線」之測定係可以將光波導表面應力計與散射光光彈性應力計組合使用之方法測定。
光波導表面應力計可以短時間正確地測定玻璃之應力。作為光波導表面應力計，存在例如折原製作所製 FSM-6000。然而，光波導表面應力計在原理上，僅在折射率自試料表面朝向內部變低之情形下，能夠測定應力。在化學強化玻璃中以外部之鉀離子置換玻璃內部之鈉離子而獲得之層由於折射率自試料表面朝向內部變低，故能夠以光波導表面應力計測定應力。然而，以外部之鈉離子置換玻璃內部之鋰離子而獲得之層之應力無法以光波導表面應力計正確地測定。
使用散射光光彈性應力計之方法能夠與折射率分佈無關地測定應力。作為散射光光彈性應力計，例如存在折原製作所製 SLP1000。然而，散射光光彈性應力計容易受表面散射影響，有無法正確地測定表面附近之應力之情形。 根據上述理由，藉由將光波導表面應力計與散射光光彈性應力計之2種測定裝置組合使用，可實現正確之應力測定。
＜玻璃＞ ＜＜組成＞＞ 本實施形態之玻璃(以下有稱為「本玻璃」之情形)較佳為在氧化物基準之莫耳百分比表示下含有： 60～75%之SiO2 、 8～20%之Al2 O3 、及 5～16%之Li2 O之鋰鋁矽酸鹽玻璃。
以下，說明較佳之玻璃組成。
SiO2 係構成玻璃之網狀結構之成分。且，為提高化學耐久性之成分，且為減少在玻璃表面受損時之裂痕之產生之成分。
SiO2 之含量較佳為60%以上，更佳為63%以上，尤佳為65%以上。另一方面，基於提高熔融性之觀點，SiO2 之含量較佳為75%以下，更佳為72%以下，進而較佳為70%以下，尤佳為68%以下。
Al2 O3 係提高化學強化時之離子交換性能，且增大強化後之表面壓縮應力之成分。
Al2 O3 之含量較佳為8%以上，更佳為9%以上，進而較佳為10%以上，進而更佳為11%以上，尤佳為12%以上。另一方面，若Al2 O3 之含量過多，則在熔融中結晶容易成長，容易產生因失透缺點所致之成品率降低。又，玻璃之高溫黏性增大，難以熔融。Al2 O3 之含量較佳為20%以下，更佳為18%以下，進而較佳為16%以下。
SiO2 與Al2 O3 均為使玻璃之構造穩定之成分。為了降低脆性，總計之含量較佳為65%以上，更佳為70%以上，進而較佳為75%以上。
SiO2 與Al2 O3 均有提高玻璃之熔融溫度之傾向。因而，為了容易熔融，其總計之含量較佳為90%以下，更佳為87%以下，進而較佳為85%以下，尤佳為82%以下。
Li2 O係藉由離子交換而形成表面壓縮應力之成分，且係提高玻璃之熔融性之成分。以藉由化學強化玻璃含有Li2 O，而將玻璃表面之Li離子與外部之Na離子進行離子交換，進而將Na離子與外部之K離子進行離子交換之方法，獲得表面壓縮應力及壓縮應力層均較大之應力量變曲線。基於容易獲得較佳之應力量變曲線之觀點，Li2 O之含量較佳為5%以上，更佳為7%以上，進而較佳為9%以上，尤佳為10%以上，最佳為11%以上。
另一方面，若Li2 O之含量過多，則玻璃成形中之結晶成長速度變大，容易產生因失透所致之品質之降低。Li2 O之含量較佳為20%以下，更較佳為16%以下，進而較佳為14%以下，尤佳為12%以下。
Na2 O及K2 O均並非必需，係使玻璃之熔融性提高，且降低玻璃成形中之結晶成長速度之成分。且，為了提高離子交換性能，較佳為亦少量含有。
Na2 O係在使用鉀鹽之化學強化處理中形成表面壓縮應力層之成分，且係降低玻璃之黏性之成分。為了獲得該效果，Na2 O之含量較佳為1%以上，更較佳為2%以上，進而較佳為3%以上，進而更佳為4%以上，尤佳為5%以上。另一方面，基於避免在由鈉鹽進行之強化處理中，表面壓縮應力(CS)降低之觀點，Na2 O之含量較佳為10%以下，更佳為8%以下，進而較佳為6%以下，尤佳為5%以下。
K2 O可出於提高離子交換性能等之目的而含有。含有K2 O之情形之含量較佳為0.1%以上1%，更較佳為0.15%以上，尤佳為0.2%以上。為了有效地防止失透，較佳為0.5%以上，更佳為1.2%以上。另一方面，若K2 O過多，則玻璃之脆性容易降低。又，有化學強化之效率降低之情形。K2 O之含量較佳為5%以下，更佳為3%以下，進而較佳為1%以下，尤佳為0.5%以下。
Na2 O及K2 O之含量之總計([Na2 O]+[K2 O])較佳為2～15%，更佳為3%以上，進而較佳為4%以上。另一方面，含量之總計更佳為10%以下，進而較佳為8%以下，進而更佳為6%以下，更佳為5%以下，尤佳為4%以下。
又，Na2 O含量較佳為大於K2 O含量。K2 O容易增大表面電阻率。
為了降低表面電阻率，以PLi =[Li2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O])表示之含量之比較佳為0.40以上，更較佳為0.50以上，進而較佳為0.60以上。另一方面，為了抑制在玻璃熔融中產生失透，上述比較佳為0.90以下，尤佳為0.80以下。
為了抑制失透，而以PNa =[Na2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O])表示之含量之比較佳為0.1以上，更佳為0.2以上。為了降低表面電阻率，上述比較佳為0.5以下，更較佳為0.4以下。
為了降低表面電阻率，以PK =[K2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O])表示之含量之比較佳為0.3以下，更較佳為0.2以下。上述比之下限無特別限定，可為0。
又，以([Al2 O3 ]+[Li2 O])/([Na2 O]+[K2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]+[ZrO2 ]+[Y2 O3 ])表示之含量之比，基於降低失透結晶之成長速度之觀點，較佳為5以下，更佳為4以下，進而較佳為3.5以下，尤佳為3以下。
基於降低表面電阻率之觀點，以[Al2 O3 ]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O])表示之含量之比較佳為0.6以上，更佳為0.7以上，進而較佳為0.8以上。另一方面，為了改善失透特性，上述比較佳為2以下，更佳為1.5以下，進而較佳為1.2以下。
基於增大使用鈉鹽之化學強化處理之表面壓縮應力之觀點，以([Al2 O3 ]+[Li2 O])/([Na2 O]+[K2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]+[ZrO2 ]+[Y2 O3 ])表示之含量之比較佳為1以上，更佳為1.5以上，進而較佳為2以上。
MgO可為了降低熔解時之黏性等而含有。MgO之含量較佳為1%以上，更較佳為2%以上，進而較佳為3%以上。另一方面，若MgO之含量過多，則在化學強化處理時難以增大壓縮應力層。MgO之含量較佳為10%以下，更較佳為8%以下，尤佳為6%以下。
在含有MgO之情形下，為了調整玻璃製造時之黏性，而與SiO2 及Al2 O3 之總計之含量[SiO2 ]+[Al2 O3 ]+[MgO]較佳為85%以下，更較佳為83%以下，進而較佳為82%以下。
另一方面，為了降低玻璃之脆性，上述總計之含量較佳為70%以上，更較佳為73%以上，進而較佳為75%以上。
MgO、CaO、SrO、BaO及ZnO均並非必需，基於提高玻璃之穩定性之觀點，可含有。其等之含量之總計[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]較佳為0.1%以上，更佳為0.2%以上。為了提高玻璃之脆性，較佳為10%以下，更佳為5%以下，進而較佳為3%以下，進而更佳為未達1%。
為了提高玻璃之穩定性，更佳為含有MgO及CaO之至少一者，進而較佳為含有MgO。MgO與CaO之總計之含量較佳為0.1%以上，更佳為0.5%以上，進而較佳為1.0%以上。為了提高化學強化特定，MgO及CaO之總計之含量較佳為3%以下，更佳為2%以下。
由於ZnO、SrO及BaO有使化學強化特性惡化之傾向，故為了容易實現化學強化，其等之含量之總計[ZnO]+[SrO]+[BaO]較佳為1.5%以下，更佳為1.0%以下，進而較佳為0.5%以下。又，為了提高玻璃之脆性，[ZnO]+[SrO]+[BaO]較佳為未達1%。上述含量之總計之下限無特別限定，可不含有。
CaO係提高玻璃之熔融性之成分，可含有。含有CaO之情形之含量較佳為0.1%以上，更佳為0.15%以上，進而較佳為0.5%以上。另一方面，若CaO之含量過量，則在化學強化處理時難以增大壓縮應力值。CaO之含量較佳為5%以下，更佳為3%以下，進而較佳為1%以下，進而更佳為0.5%以下。
SrO係提高玻璃之熔融性之成分，可含有。含有SrO之情形之含量較佳為0.1%以上，更佳為0.15%以上，進而較佳為0.5%以上。另一方面，若SrO之含量過量，則在化學強化處理時難以增大壓縮應力值。SrO之含量較佳為3%以下，更佳為2%以下，進而較佳為1%以下，尤佳為0.5%以下。
BaO係提高玻璃之熔融性之成分，可含有。含有BaO之情形之含量較佳為0.1%以上，更佳為0.15%以上，進而較佳為0.5%以上。另一方面，若BaO之含量過量，則在化學強化處理時難以增大壓縮應力值。BaO之含量較佳為3%以下，更佳為2%以下，進而較佳為1%以下，尤佳為0.5%以下。
ZnO係提高玻璃之熔融性之成分，可含有。含有ZnO之情形之含量較佳為0.1%以上，更佳為0.15%以上，進而較佳為0.5%以上。另一方面，若ZnO之含量過量，則在化學強化處理時難以增大壓縮應力值。ZnO之含量較佳為3%以下，更佳為2%以下，進而較佳為1%以下，尤佳為0.5%以下。
ZrO2 雖然可不含有，但基於增大化學強化玻璃之表面壓縮應力之觀點，較佳為含有。ZrO2 之含量較佳為0.1%以上，更佳為0.15%以上，進而較佳為0.2%以上，進而更佳為0.25%以上，尤佳為0.3%以上。另一方面，若ZrO2 之含量過多，則容易產生失透缺點，在化學強化處理時難以增大壓縮應力值。ZrO2 之含量較佳為2%以下，更佳為1.5%以下，進而較佳為1%以下，尤佳為0.8%以下。
Y2 O3 並非必需，為了增大化學強化玻璃之表面壓縮應力，且降低結晶成長速度，而較佳為含有。 又，為了增大破壊靭性值，較佳為總計含有0.2%以上之Y2 O3 、La2 O3 及ZrO2 之任一種以上。Y2 O3 、La2 O3 及ZrO2 之總計之含量較佳為0.5%以上，更佳為1.0%以上，進而較佳為1.5%以上。又，為了降低液相溫度，抑制失透，總計之含量較佳為8%以下，更佳為6%以下，進而較佳為5%以下，進而更佳為4%以下。
為了抑制失透、亦即為了降低液相溫度，而Y2 O3 及La2 O3 之總計較佳為大於ZrO2 之含量，更佳為Y2 O3 之含量大於ZrO2 之含量。
Y2 O3 之含量較佳為0.1%以上，更佳為0.2%以上，進而較佳為0.5%以上，尤佳為1%以上。另一方面，若過多，則在化學強化處理時難以增大壓縮應力層。Y2 O3 之含量較佳為5%以下，更佳為3%以下，進而較佳為2%以下，尤佳為1.5%以下。
La2 O3 雖然並非必需，但可以與Y2 O3 同樣之理由含有。La2 O3 較佳為0.1%以上，更佳為0.2%以上，進而較佳為0.5%以上，尤佳為0.8%以上。另一方面，由於若過多，則在化學強化處理時難以增大壓縮應力層，故La2 O3 較佳為5%以下，更佳為3%以下，進而較佳為2%以下，尤佳為1.5%以下。
TiO2 係抑制玻璃之日曬之效果較高之成分，可含有。含有TiO2 之情形之含量較佳為0.02%以上，更佳為0.03%以上，進而較佳為0.04%以上，進而更佳為0.05%以上，尤佳為0.06%以上。另一方面，基於防止產生失透，化學強化玻璃之品質降低之觀點，TiO2 之含量較佳為1%以下，更佳為0.5%以下，進而較佳為0.25%以下。
B2 O3 雖然並非必需，但出於減小玻璃之脆性且提高耐裂痕性之目的、或出於提高玻璃之熔融性之目的，可含有。為了減小脆性，B2 O3 之含量較佳為0.5%以上，更佳為1%以上，進而較佳為2%以上。另一方面，由於若B2 O3 之含量過多，則耐酸性容易惡化，故較佳為10%以下。B2 O3 之含量更佳為6%以下，進而較佳為4%以下，尤佳為2%以下。基於防止在熔融時產生條痕之觀點，更佳為實質上不含有。
P2 O5 雖然並非必需，但出於增大化學強化時之壓縮應力層之目的，可含有。含有P2 O5 之情形之含量較佳為0.5%以上，更佳為1%以上，進而較佳為2%以上。另一方面，基於提高耐酸性之觀點，P2 O5 之含量較佳為6%以下，更佳為4%以下，進而較佳為2%以下。基於防止在熔融時產生條痕之觀點，更佳為實質上不含有。
B2 O3 與P2 O5 之含量之總計較佳為0～10%，更佳為1%以上，進而較佳為2%以上。B2 O3 與P2 O5 之含量之總計更佳為6%以下，進而較佳為4%以下。
Nb2 O5 、Ta2 O5 、Gd2 O3 、CeO2 具有抑制玻璃之日曬之效果，係改善熔融性之成分，可含有。含有該等成分之情形之各者之含量較佳為0.03%以上，更佳為0.1%以上，進而較佳為0.5%以上，進而更佳為0.8%以上，尤佳為1%以上。另一方面，由於若其等之含量過多，則在化學強化處理時難以增大壓縮應力值，而較佳為3%以下，更佳為2%以下，進而較佳為1%以下，尤佳為0.5%以下。
Fe2 O3 由於吸收熱射線故有提高玻璃之熔解性之效果，在使用大型熔解爐，大量生產玻璃之情形下，較佳為含有。該情形之含量在氧化物基準之重量%表示下，較佳為0.002%以上，更佳為0.005%以上，進而較佳為0.007%以上，尤佳為0.01%以上。另一方面，若Fe2 O3 過量地含有，則產生著色，故其含量，基於提高玻璃之透明性之觀點，在氧化物基準之重量%表示下，較佳為0.3%以下，更佳為0.04%以下，進而較佳為0.025%以下，尤佳為0.015%以下。
此外，雖然此處將玻璃中之氧化鐵全部設為Fe2 O3 而進行了說明，但實際上，通常為氧化狀態之Fe(III)與還原狀態之Fe(II)混存。其中，Fe(III)產生黃色之著色，Fe(II)產生藍色之著色，在兩者之平衡間於玻璃產生綠色之著色。
進而，在不阻礙所期望之化學強化特性之達成之範圍內，可添加其他之著色成分。作為其他之著色成分，可舉出例如Co3 O4 、MnO2 、NiO、CuO、Cr2 O3 、V2 O5 、Bi2 O3 、SeO2 、CeO2 、Er2 O3 、Nd2 O3 等較佳之著色成分。
包含Fe2 O3 之著色成分之含量在氧化物基準之莫耳百分比表示下，較佳為總計5%以下。若超過5%，則有玻璃容易失透之情形。著色成分之含量較佳為3%以下，進而較佳為1%以下。在欲提高玻璃之透過率之情形下，較佳為實質上不含有該等成分。
作為玻璃之熔融時之澄清劑等，可適宜地含有SO3 、氯化物、氟化物等。較佳為不含有As2 O3 。在含有Sb2 O3 之情形下，較佳為0.3%以下，更佳為0.1%以下，最佳為不含有。
本玻璃由於若以使用各成分之含量(莫耳%)之以下之式求得之參數X為0.70以上，則難以產生嚴重破壞，而為較佳。X更佳為0.75以上，進而較佳為0.80以上，尤佳為0.83以上。又，通常為1.5以下。X=0.00866×[SiO2 ]+0.00724×[Al2 O3 ]+0.00526×[MgO]+0.00444×[CaO]+0.00797×[ZnO]+0.0122×[ZrO2 ]+0.0172×[Y2 O3 ]+0.009×[Li2 O]+0.00163×[Na2 O]-0.00384×[K2 O]
＜＜防污層之耐剝離性＞＞ 本發明人等針對在化學強化玻璃表面形成有包含含氟有機化合物之層而作為防污層之情形之防污層之耐剝離性進行了探討。其結果為，發現在化學強化玻璃之表面電阻率與防污層之耐剝離性上存在相關關係。
防污層之耐剝離性可以當在玻璃表面形成防污層後，施以「橡皮摩擦磨耗」，而後測定水滴之接觸角之方法進行評估。可謂橡皮摩擦磨耗後之水接觸角越大，越保持防污層之功能，耐剝離性越優異。
防污層之耐剝離性具體而言可在以例如以下之方法進行橡皮摩擦磨耗後測定水滴之接觸角而進行評估。 (橡皮摩擦磨耗) 將直徑6 mm之圓筒形之橡皮安裝於磨耗試驗器，以荷重1 kgf、行程寬度40 mm、速度40 rpm、25℃、50%RH之條件將防污層之表面摩擦7500次，而使其磨耗。 (水接觸角測定) 使約1 μL之純水之水滴滴附於橡皮摩擦磨耗後之表面Na，使用接觸角計，測定水相對於玻璃之接觸角、亦即水接觸角。可謂摩擦磨耗後之水接觸角越大，防污層之耐剝離性越優異。
圖1係針對未經化學強化之玻璃板，顯示以後述之方法測定到之表面電阻率、與以前述之方法在橡皮摩擦磨耗後測定到之水接觸角之關係之圖。根據圖1，可知有表面電阻率越小，水接觸角越大，防污層之耐剝離性越優異之傾向。
＜＜跳頻＞＞ 圖2係針對經化學強化之玻璃，同樣地顯示表面電阻率、與防污層之耐剝離性、亦即密接性之關係之圖。與圖1同樣地視為表面電阻率越小，水接觸角越大，防污層之密接性越優異之傾向。惟，表面電阻率與防污層之密接性之相關性未及未經化學強化之玻璃般明確。
對此，本發明人等考量如下。 防污層之密接性依存於玻璃之帶電特性，玻璃之帶電特性依存於電荷自玻璃表面之易移動性，換言之依存於玻璃表面之電導率。玻璃之表面電阻率、亦即電導率依存於在玻璃表面存在之鹼成分之種類與量。
另一方面，防污層之密接性與玻璃之帶電特性不僅受玻璃表面之電導率影響，亦受玻璃內部之電導率影響。在經化學強化之玻璃中，於離子交換處理之影響下，存在於玻璃表面之鹼成分、與存在於玻璃內部之鹼成分不同。因而，在玻璃之表面與內部，電導率不同，玻璃之表面電阻率與防污層之耐剝離性之相關性變弱。 又，防污層之密接性以利用橡皮摩擦磨耗試驗予以評估居多。認為在以橡皮摩擦時產生之帶電較直流更適合由交流進行之評估。
因而，本發明人等為了考量防污層之密接性，認為較直流之表面電阻值，更應探討交流電路之電容元件之導納模型，而考察玻璃之複導納。
與離子傳導性材料相關之複導納Y＊ (ω)，採用頻率ω之變量，業已知悉被稱為Almond-West式之以下之模型式(參考文獻：Journal of Materials Science vol. 19, 1984：3236-3248)。
[數1]
Figure 02_image001
此處，A1 、B1 、A2 、B2 係如以下般。
[數2]
Figure 02_image003
本發明人等根據關係式，如以下般進行了考察。
玻璃之複導納係以常數K、n1 、n2 、C∞ 及跳頻ωp 表示。因而，認為玻璃之帶電特性依存於跳頻，若增大跳頻，則難以帶電。
藉由使用阻抗分析儀測定玻璃板之複導納，並以前述之式(13)(Almond-West式)進行擬合，而求得跳頻。
圖3係針對經化學強化之玻璃，顯示以後述之方法測定到之跳頻與以前述之方法測定到之橡皮摩擦磨耗後之水接觸角之關係的圖。根據圖3，可知有跳頻越大，水接觸角亦越變大，防污層之耐剝離性越優異之傾向。 此外，針對未經化學強化之玻璃，由於在表面電阻率與跳頻之間存在線性之關係，故在跳頻與防污層之耐剝離性之間存在相關關係。
對本玻璃予以化學強化而獲得之本實施形態之化學強化玻璃(以下，亦簡稱為本化學強化玻璃)在利用以下之方法測定之跳頻為102.8 Hz以上，較佳為103.0 Hz以上，更佳為103.5 Hz以上時，難以帶電。然而，跳頻過大之玻璃有容易失透，或破壊靭性值較小之傾向。本化學強化玻璃之跳頻較佳為106.0 Hz以下，更佳為105.5 Hz以下，進而較佳為105.0 Hz以下。(跳頻之測定方法) 將玻璃板加工為50 mm×50 mm×0.7 mm之板狀，於一個表面形成圖6所示之電極圖案。 使用阻抗分析儀測定20 MHz～2 MHz之阻抗，而求得複導納。
＜＜熵函數＞＞ 本發明人等又針對未經化學強化之玻璃，發現表面電阻率依存於熵函數S。本玻璃由於以下表示之熵函數S之值(亦簡稱為S值)較小，故表面電阻率較小，防污層之耐剝離性優異。
S=-PLi ×log(PLi )-PNa ×log(PNa )-PK ×log(PK ) 此處，PLi =[Li2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O]) PNa =[Na2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O]) PK =[K2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O]) 其中，[Li2 O]、[Na2 O]及[K2 O]分別為Li2 O、Na2 O、K2 O之以氧化物基準之莫耳%表示而表示之含量。此外，以下有針對其他之成分亦同樣地記述之情形。
本玻璃之S值較佳為0.37以下，更佳為0.35以下，進而較佳為0.3以下，進而更佳為0.28以下。又，下限無特別限定，但通常為0.15以上。 本玻璃之化學強化後之玻璃較佳為其母玻璃組成之S值滿足上述本玻璃之S值之範圍。
＜＜表面電阻率＞＞ 為了減小玻璃表面之帶電量，本玻璃之未強化時之玻璃之50℃之表面電阻率較佳為1013 Ω/sq以下，更佳為1012.5 Ω/sq以下，進而較佳為1012 Ω/sq以下。另一方面，由於帶電量較小之玻璃有製造時之失透特性較差之傾向，故本玻璃之50℃之表面電阻率較佳為例如108 Ω/sq以上，更佳為108.5 Ω/sq以上，進而較佳為109 Ω/sq以上。
為了減小玻璃表面之帶電量，本玻璃之化學強化後之玻璃之50℃之表面電阻率較佳為1015 Ω/sq以下，更佳為1014.5 Ω/sq以下，進而較佳為1014 Ω/sq以下，尤佳為1013.5 Ω/sq以下，最較佳為1013 Ω/sq以下。表面電阻率為例如108 Ω/sq以上，較佳為108.5 Ω/sq以上，進而較佳為109 Ω/sq以上，尤佳為1010.5 Ω/sq以上，最佳為1011 Ω/sq以上。
表面電阻率在實施例中可以後述之方法測定。在圖4中顯示表面電阻率之測定所使用之梳型電極1之概略俯視圖。在圖4中，梳型電極1具有第1梳型電極11與第2梳型電極12以在梳型形狀之齒之部分相互交錯地組合之方式對向配置之形狀。
表面電阻率ρ係根據電阻值R、與電極係數r以ρ=R×r求得，該電阻值係根據使用梳型電極測定之電流值I與電壓V以R=V/I求得。電極係數r係根據各邊之電極之長度與電極間之長度之比算出。針對圖4之梳型電極1，電極係數係以r=(W3/W2)×8+(W1/W4)×7算出。梳型電極1之電極係數r為例如100～130。
構成梳型電極1之金屬使用例如鉑、鋁、金等電阻較小之材料。作為構成梳型電極1之金屬，較佳為鉑。梳型電極1準備例如電絕緣性基板，於該基板上，藉由濺射、真空蒸鍍、鍍覆等之手段，形成構成梳型電極之金屬之膜。
＜＜破壊靱性值＞＞ 本玻璃之破壊靱性值K1c較佳為0.70 MPa•m1/2 以上，更佳為0.75 MPa•m1/2 以上，進而較佳為0.80 MPa•m1/2 以上，尤佳為0.83 MPa•m1/2 以上。又，破壊靱性值通常為2.0 MPa•m1/2 以下，典型而言為1.5 MPa•m1/2 以下。藉由破壊靱性值較大，而即便藉由化學強化朝玻璃中導入較大之表面壓縮應力，亦難以產生嚴重破碎。
破壊靱性值例如可使用DCDC法(Acta metall. mater. Vol.43、pp. 3453-3458、1995)而測定。
本玻璃之β-OH值較佳為0.1 mm-1 以上，更佳為0.15 mm-1 以上，進而較佳為0.2 mm-1 以上，尤佳為0.22 mm-1 以上，最佳為0.25 mm-1 以上。
β-OH值為玻璃中之水分量之指標。β-OH值較大之玻璃有軟化溫度變低而容易進行彎曲加工之傾向。另一方面，基於由玻璃之化學強化提高強度之觀點，若玻璃之β-OH值變大，則化學強化處理後之表面壓縮應力(CS)之值變小，難以提高強度。因而，β-OH值較佳為0.5 mm-1 以下，更佳為0.4 mm-1 以下，進而較佳為0.3 mm-1 以下。
本玻璃之楊氏模數基於玻璃難以破碎之方面，較佳為80 GPa以上，更佳為82 GPa以上，進而較佳為84 GPa以上，尤佳為85 GPa以上。楊氏模數之上限無特別限定，但由於楊氏模數較高之玻璃有耐酸性變低之情形，故為例如110 GPa以下，較佳為100 GPa以下，更佳為90 GPa以下。楊氏模數可藉由例如超音波脈衝法而測定。
為了減輕產品之重量，而本玻璃之密度較佳為3.0 g/cm3 以下，更佳為2.8 g/cm3 以下，進而較佳為2.6 g/cm3 以下，尤佳為2.55 g/cm3 以下。密度之下限無特別限定，但由於有密度較小玻璃有耐酸性等較低之傾向，故為例如2.3 g/cm3 以上，較佳為2.4 g/cm3 以上，尤佳為2.45 g/cm3 以上。
基於降低可見光之表面反射之觀點，本玻璃之折射率較佳為1.6以下，更佳為1.58以下，進而較佳為1.56以下，尤佳為1.54以下。折射率之下限無特別限定，但由於折射率較小之玻璃有耐酸性較低之傾向，故為例如1.5以上，較佳為1.51以上，更佳為1.52以上。
基於降低光學應變之觀點，本玻璃之光彈性常數較佳為33 nm/cm/MPa以下，更佳為32 nm/cm/MPa以下，進而較佳為31 nm/cm/MPa以下，尤佳為30 nm/cm/MPa以下。又，由於光彈性常數較小之玻璃有耐酸性較低之傾向，故本玻璃之光彈性常數為例如24 nm/cm/MPa以上，更佳為25 nm/cm/MPa以上，進而較佳為26 nm/cm/MPa以上。
基於減小化學強化後之翹曲之觀點，本玻璃之50～350℃之平均線熱膨脹係數(熱膨脹係數)較佳為95×10-7 /℃以下，更佳為90×10-7 /℃以下，進而較佳為88×10-7 /℃以下，尤佳為86×10-7 /℃以下，最佳為84×10-7 /℃以下。熱膨脹係數之下限無特別限定，但由於熱膨脹係數較小之玻璃有難以熔融之情形，故本玻璃之50～350℃之平均線熱膨脹係數(熱膨脹係數)為例如60×10-7 /℃以上，較佳為70×10-7 /℃以上，更佳為74×10-7 /℃以上，進而較佳為76×10-7 /℃以上。
基於減小化學強化後之翹曲之觀點，玻璃轉移溫度(Tg)較佳為500℃以上，更佳為520℃以上，進而較佳為540℃以上。在易於浮法成形之方面，較佳為750℃以下，更佳為700℃以下，進而較佳為650℃以下，尤佳為600℃以下，最佳為580℃以下。
黏度成為102 dPa•s之溫度(T2)較佳為1750℃以下，更佳為1700℃以下，進而更佳為1675℃以下，尤佳為1650℃以下。溫度(T2)係成為玻璃之熔解溫度之標準之溫度，有T2越低，越容易製造玻璃之傾向。T2之下限無特別限定，但由於T2較低之玻璃有玻璃轉移溫度變低之傾向，故T2通常為1400℃以上，較佳為1450℃以上。
又，黏度成為104 dPa•s之溫度(T4)較佳為1350℃以下，更佳為1300℃以下，進而較佳為1250℃以下，尤佳為1150℃以下。溫度(T4)係成為將玻璃成形為板狀之溫度之基準之溫度，T4較高之玻璃有對成形設備之負荷變高之傾向。T4之下限無特別限定，但由於T4較低之玻璃有玻璃轉移溫度變得過低之傾向，故T4通常為900℃以上，較佳為950℃以上，更佳為1000℃以上。
本玻璃之失透溫度由於若為較黏度成為104 dPa・s之溫度(T4)高120℃之溫度以下，則在由浮法玻璃製程實現之成形時難以產生失透，而為較佳。失透溫度更佳為較T4高100℃之溫度以下，進而較佳為較T4高50℃之溫度以下，尤佳為T4以下。
本玻璃之軟化溫度較佳為850℃以下，更佳為820℃以下，進而較佳為790℃以下。這是因為玻璃之軟化溫度越低，彎曲成形之熱處理溫度越變低，除消耗能量變小以外，設備之負荷亦變小。雖然基於降低彎曲成形溫度之觀點，軟化溫度越低越佳，但在通常之玻璃中為700℃以上。因軟化溫度過低之玻璃有化學強化處理時導入之應力容易緩和，而容易變為低強度之傾向，而軟化溫度較佳為700℃以上。更佳為720℃以上，進而較佳為740℃以上。軟化溫度可以JIS R3103-1：2001所記載之纖維拉伸法測定。
本玻璃較佳為利用以下之測定方法測定之結晶峰值溫度高於軟化溫度-100℃。又，更佳為不會確認結晶峰值。
結晶峰值溫度係將約70 mg之玻璃粉碎，以瑪瑙研缽研磨，將升溫速度設為10℃/分，使用示差掃描熱量計(DSC)在室溫至1000℃間進行測定。
本實施形態之玻璃可以通常之方法製造。例如，對玻璃之各成分之原料予以調配，並以玻璃熔融爐進行加熱熔融。之後，藉由周知之方法，將玻璃均質化，成形為玻璃板等之所期望之形狀，並緩冷。
作為玻璃板之成形法，可舉出例如浮法玻璃製程、沖切法、熔化法及下拉法。尤其是，適於大量生產之浮法玻璃製程為較佳。又，浮法玻璃製程以外之連續成形法、例如熔化法及下拉法亦較佳。
之後，對成形之玻璃根據需要進行研削及研磨處理，而形成玻璃基板。此外，在將玻璃基板切斷為特定之形狀及尺寸，或進行玻璃基板之倒角加工之情形下，由於若於施以後述之化學強化處理前，進行玻璃基板之切斷或倒角加工，則藉由之後之化學強化處理，而在端面亦形成壓縮應力層，而為較佳。
＜化學強化玻璃＞ 本化學強化玻璃之母玻璃組成與前述之玻璃之玻璃組成相等。本化學強化玻璃較佳為表面壓縮應力值為600 MPa以上，更佳為700 MPa以上，進而較佳為800 MPa以上。
本化學強化玻璃可藉由在對獲得之玻璃板施以化學強化處理後，進行洗淨及乾燥而製造。
化學強化處理能夠藉由周知之方法進行。在化學強化處理中，藉由浸漬等使玻璃板與包含離子半徑較大之金屬離子(典型而言為K離子)之金屬鹽(例如硝酸鉀)之熔液接觸。藉此，將玻璃板中之離子半徑較小之金屬離子(典型而言為Na離子或Li離子)與離子半徑較大之金屬離子(典型而言，對於Na離子為K離子、對於Li離子為Na離子或K離子)置換。
化學強化處理、亦即離子交換處理例如能夠藉由使玻璃板浸漬於加熱至360～600℃之硝酸鉀等之熔鹽中0.1～500小時而進行。此外，作為熔鹽之加熱溫度，較佳為375℃以上，且更佳為500℃以下。玻璃板向熔鹽中之浸漬時間較佳為0.3小時以上，且更佳為200小時以下。
作為用於進行化學強化處理之熔鹽，可舉出硝酸鹽、硫酸鹽、碳酸鹽、氯化物等。其中作為硝酸鹽，可舉出硝酸鋰、硝酸鈉、硝酸鉀、硝酸銫、硝酸銀等。作為硫酸鹽，可舉出硫酸鋰、硫酸鈉、硫酸鉀、硫酸銫、硫酸銀等。作為碳酸鹽，可舉出碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀等。作為氯化物，可舉出氯化鋰、氯化鈉、氯化鉀、氯化銫、氯化銀等。該等熔鹽可單獨使用，亦可將複數種組合使用。
在本實施形態中，化學強化處理之處理條件考量對玻璃之特性、組成或熔鹽之種類、以及最終獲得之化學強化玻璃所期望之表面壓縮應力及壓縮應力層之深度等化學強化特性等，只要選擇適切之條件即可。
又，在本實施形態中，可進行一次化學強化處理，或可以2個以上之不同條件進行複數次化學強化處理(多段強化)。此處，例如，作為第1階段之化學強化處理，以DOL較大、CS相對變小之條件進行化學強化處理。之後，若作為第2階段之化學強化處理，以DOL較小、CS相對變高之條件進行化學強化處理，則可提高化學強化玻璃之最表面之CS，且抑制內部拉伸應力面積(St)，而將內部拉伸應力(CT)抑制為較低。
本化學強化玻璃較佳為於表面之至少一部分設置包含含氟有機化合物之層。藉由設置含有氟之有機化合物層，而防污性與手指滑動性提高。作為含有氟之有機化合物，存在例如全氟聚醚基團之矽烷化合物。又，上述有機化合物層之厚度較佳為0.1 nm以上，又更佳為1000 nm以下。
在本玻璃為板狀之玻璃板之情形下，基於提高化學強化之效果之觀點，其板厚(t)為例如2 mm以下，較佳為1.5 mm以下，更佳為1 mm以下，進而較佳為0.9 mm以下，尤佳為0.8 mm以下，最佳為0.7 mm以下。又，基於獲得由化學強化處理充分提高強度之效果之觀點，該板厚為例如0.1 mm以上，較佳為0.2 mm以上，更佳為0.4 mm以上，進而較佳為0.5 mm以上。
本玻璃之形狀可相應於所應用之產品或用途等，為板狀以外之形狀。又，玻璃板可為外周之厚度不同之修邊形狀等。又，玻璃板之形態並不限定於此，例如2個主面可不相互平行，且2個主面之一者或兩者之全部或一部分可為曲面。更具體而言，玻璃板例如可為無翹曲之平板狀之玻璃板，且可為具有彎曲之表面之曲面玻璃板。
本玻璃及將其化學強化之本化學強化玻璃作為例如覆蓋玻璃是有用的。又，作為行動電話、智慧型手機、可攜式資訊終端(PDA)、平板終端等行動機器等所使用之覆蓋玻璃，尤其有用。進而，在作為並非出於可攜帶之目的之電視(TV)、個人電腦(PC)、觸控面板等顯示器裝置之覆蓋玻璃、電梯壁面、人居建物或大廈等建築物之壁面(全面顯示器)、窗玻璃等建築用資材、台面、汽車或飛機等之內包裝等或其等之覆蓋玻璃，且藉由彎曲加工或成形而具有曲面形狀而非板狀之框體等之用途上亦有用。 [實施例]
以下，雖然藉由實施例說明本發明，但本發明並非係由其等限定者。G1～G44、G49～G66為實施例，G45～G48為比較例。又，S1～S7、S9～S14、S17～S22為實施例，S8、S15及S16為比較例。此外，針對表中之各測定結果，「-」表示未評估。
(化學強化用玻璃及化學強化玻璃之製作) 以成為表1～表5中所示之氧化物基準之莫耳百分比表示之各玻璃組成之方式，利用鉑坩堝熔融製作玻璃板。適宜地選擇氧化物、氫氧化物、碳酸鹽或硝酸鹽等一般所使用之玻璃原料，以玻璃為1000 g之方式進行秤量。其次，將混合之原料投入鉑坩堝，並投入1500～1700℃之電阻加熱式電爐，熔融3小時左右，進行脫泡，並均質化。使獲得之熔融玻璃流入模具材，當在玻璃轉移溫度+50℃之溫度下保持1小時後，以0.5℃/分之速度冷卻至室溫，而獲得玻璃塊。將獲得之玻璃塊切斷、研削，最後將兩面加工為鏡面，設為縱50 mm×橫50 mm×板厚0.7 mm之板狀玻璃，而獲得化學強化用玻璃。
如以下般評估獲得之化學強化用玻璃之物性。在表1～表5中顯示結果。在表1～表5中，以粗體字且斜體字表示之數值係根據玻璃組成算出之推定值。
＜熵函數＞ 使用Li2 O、Na2 O及K2 O之含量，算出熵函數S值。
＜密度＞ 密度係根據由液中秤量法(JIS Z8807：2012 固體之密度及比重之測定方法)測定到之值與玻璃組成而算出。單位為g/cm3 ，以表中「d」表示。
＜楊氏模數＞ 針對化學強化前之玻璃，藉由超音波脈衝法(JIS R1602：1995)而測定楊氏模數(E)(單位；GPa)。
＜平均線熱膨脹係數α及玻璃轉移溫度(Tg)＞ 溫度50～350℃之平均線膨脹係數(α50-350 )(單位；10-7 /℃)及玻璃轉移溫度係根據基於JIS R3102：1995『玻璃之平均線膨脹係數之試驗方法』之方法測定到之值與玻璃組成而算出。分別以表中「α」、「Tg」表示
＜T2、T4＞ 針對化學強化前之玻璃，根據藉由旋轉黏度計(基於ASTM C 965-96)而測定到黏度成為102 dPa・s之溫度T2及成為104 dPa・s之溫度T4之值與玻璃組成而算出。分別以表中「Tlogη=2」、「Tlogη=4」表示。
＜破壊靱性值K1c＞ 化學強化前之玻璃之破壊靱性值K1c係基於利用自動立體測圖儀 (島津公司製、AGS-X)與觀察用之相機之DCDC法(Acta metall. mater. Vol.43、pp. 3453-3458、1995)而測定。又，推定值係根據藉由測定而獲得之值與玻璃組成而算出。
＜失透成長速度＞ 按照以下之步序測定因失透現象而產生之結晶之成長速度。 將玻璃片以研缽粉碎並予以分級，將以離子交換水將通過3.35 mm篩目之篩子且未通過2.36 mm篩目之篩子之玻璃粒子洗淨、乾燥者用於試驗。
將1個玻璃粒子載置於具有多數個凹部之細長之鉑單元之各個凹部，在1000～1100℃之電爐內加熱至玻璃粒子之表面熔化且變得平滑。
其次，將該玻璃投入保持為特定之溫度之溫度梯度爐中，在進行熱處理一定時間(設為t時間)後，取出至室溫而急速冷卻。根據該方法，可在溫度梯度爐內設置細長之容器，同時對多數個玻璃粒子進行加熱處理。
以偏光顯微鏡(尼康公司製：ECLIPSE LV100ND)觀察熱處理後之玻璃，並測定觀察到之結晶中之大小最大者之直徑(設為L μm)。以目鏡10倍、物鏡5倍～100倍、透射光、偏光觀察之條件進行觀察。由於可認為因失透而產生之結晶各向同性地成長，故失透(結晶)成長速度為L/(2t)[單位：μm/h]。
惟，測定之結晶選擇未自與容器之界面析出之結晶。這是因為金屬界面之失透成長有與在玻璃內部或玻璃-氣體環境界面引起之一般的失透成長行為不同之傾向。
＜液相溫度＞ 朝鉑皿投入經粉碎之玻璃粒子，並在被控制為一定溫度之電爐中進行17小時之熱處理。以偏光顯微鏡觀察熱處理後之玻璃，以評估有無失透之方法估計失透溫度。例如，於在表中加載為「1325-1350」之情形下，若以1325℃進行熱處理則意指失透，但在1350℃之熱處理中意指未失透。此情形下，失透溫度為1325℃以上未達1350℃。
＜表面電阻率＞ (基板洗淨) 在以將偏矽酸鈉九水合物4質量%、聚氧乙烯烷基醚20質量%與純水混合而成之鹼性洗潔劑將玻璃基板進行5分鐘之洗淨後，以中性洗潔劑進行5分鐘之洗淨，在室溫下，以50℃、65℃之純水分別進行5分鐘之洗淨，並吹拂6分鐘之65℃之熱風，使基板表面乾燥。
(測定準備) 於玻璃基板(50 mm×50 mm)之表面，使用磁控濺射塗佈機(Quorum Techbiologies公司製 Q300TT)，在Ar氣體環境下將Pt膜以30 nm成膜，而製作圖5所示之梳型之電極圖案。在圖5中，表示各寬度之長度之數值之單位均為mm。
(測定) 測定係使用數位超高電阻/微小電流計(ADVANTEST R830A ＵLTRA HIGH RESISTANCE METER，愛得萬R830A超高電阻表)而實施。
於銅基板上設置玻璃板，當在獲得之電極連接銅線後，加熱至50℃，並靜置30分鐘直至溫度穩定為止。在溫度穩定後，每隔3分鐘施加50 V之電壓直至電壓穩定為止，開始電流測定，讀取3分鐘後之電流值，根據前述之關係式算出表面電阻率(Ω/sq)。在表中以表面電阻率之對數表示記載。
＜跳頻＞ 以於玻璃基板(50 mm×50 mm×0.7mm)之表面載置內徑38 mm、外徑40 mm、寬度1 mm之環並進行濺鍍之方法，形成圖6所示之電極圖案形狀，以前述之方法，並使用阻抗分析儀(是德科技(Keysight Technologies)公司製精準型LCR錶(Precision LCR Meter)E4980A及16451B介電體測試治具、附屬電極A)而測定複導納。將獲得之複導納之值以Almond-west式進行擬合，並算出跳頻(Hz)。 在本實施例中，K、n1 、n2 、C∞ 根據玻璃板之厚度假定為大致一定之值，設為K=-11.214、n1 =0.995、n2 =0.576、C∞ =20.726，並根據Almond-west式與獲得之複導納算出跳頻ωp。在表中以跳頻ωp之對數表示記載。
＜防污層耐剝離性＞ 於玻璃板(5cm×5cm)之表面，按照以下之步序形成防污層，在進行橡皮摩擦磨耗後，測定水接觸角。
(防污層之形成) 在對經水洗之玻璃板進一步進行電漿洗淨後，使用由電阻加熱進行之真空蒸鍍法對含有氟之有機化合物(大金公司製 UD-509)進行蒸鍍。成膜時之真空腔室內之壓力設為3.0×10-3 Pa，在蒸鍍輸出為318.5 kA/m2 下蒸鍍300秒。獲得之防污層之厚度為15 nm。
(橡皮摩擦磨耗試驗) 使用平面磨耗試驗器(三重型)(大榮科學精器製作所製、裝置名稱：PA-300A)，以荷重1 kgf、行程寬度40 mm、速度40 rpm、25℃、50%RH之條件，對防污層表面藉由直徑6 mm之橡皮(WOOJIN公司製 pink pencil)摩擦7500次，而使其磨耗。之後，測定防污層表面之水接觸角。
(水接觸角測定) 使約1 μL之純水之水滴滴附於防污層之表面上，使用接觸角計測定水之接觸角(ﾟ)。
＜β-OH＞ 作為化學強化前之玻璃之水分量之指標，係利用FT-IR分光裝置(賽默飛世爾科技(ThermoFisher Scientific)公司製、Nicolet iS10)測定β-OH之值。
[表1] 表1
(mol%) G1 G2 G3 G4 G5 G6 G7 G8 G9 G10
SiO2 63.7 68.0 64.7 64.7 63.7 63.7 66.7 65.2 67.7 66.2
Al2 O3 16.0 13.0 16.0 16.0 16.0 16.0 14.0 14.0 13.0 14.0
Li2 O 11.0 11.5 10.5 10.0 11.0 11.0 11.0 11.0 11.0 10.0
Na2 O 4.0 4.8 4.0 4.0 4.0 4.0 4.0 6.0 6.0 5.0
K2 O 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
Y2 O3 4.0 2.0 3.7 4.5 2.5 3.0 2.0 2.5 1.0 3.0
ZrO2 1.0 0.5 0.8 1.0 2.5 2.0 2.0 1.0 1.0 1.5
TiO2 0.1 0.1 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
CeO2 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
MgO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
CaO 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
SrO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
BaO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
ZnO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
La2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
B2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
P2 O5 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
Na2 O+K2 O 4.0 4.8 4.0 4.0 4.0 4.0 4.0 6.0 6.0 5.0
PLi (Li2 O/R2 O) 0.73 0.71 0.72 0.71 0.73 0.73 0.73 0.65 0.65 0.67
Y2 O3 +ZrO2 5.0 2.5 4.5 5.5 5.0 5.0 4.0 3.5 2.0 4.5
熵函數 0.25 0.26 0.26 0.26 0.25 0.25 0.25 0.28 0.28 0.28
d 2.69 2.54 2.66 2.73 2.64 2.65 2.58 2.59 2.49 2.63
α 71 72 69 69 68 69 67 77 74 70
Tg 715 616 719 750 705 710 667 640 597 685
E 98 90 97 100 96 97 92 92 87 94
Tlog η =2 1641 1653 1670 1673 1660 1653 1672 1620 1658 1661
Tlog η =4 1210 1179 1230 1242 1238 1229 1226 1169 1183 1217
K1c 0.85 0.83 0.85 0.86 0.83 0.84 0.83 0.83 0.81 0.84
表面電阻率 (Ω/sq)之對數 12.0 12.1 12.0 12.2 12.2 12.1 12.1 12.3 12.4 12.2
強化後表面電阻率(Ω/sq)之對數 - 13.8 - - - - - - - -
跳頻之對數 logωp - - - - - - - - - -
防污層耐剝離性、接觸角(ﾟ) - 102 - - - - - - - -
失透成長速度(μm/小時) 4294 4000 4348 3772 2869 3344 2849 2612 2331 2517
液相溫度(℃) 1325-1350 1275-1300 - - - - - - 1275以下 -
β-OH (mm-1 ) - 0.24 - - - - - - - -
[表2] 表2
(mol%) G11 G12 G13 G14 G15 G16 G17 G18 G19 G20
SiO2 66.2 68.7 68.7 68.0 65.0 65.0 68.0 67.0 67.0 68.0
Al2 O3 14.5 11.2 12.8 14.0 14.0 14.0 13.5 14.0 14.0 13.0
Li2 O 10.0 11.0 11.0 10.5 10.5 10.5 10.5 10.5 10.5 9.0
Na2 O 5.0 4.0 4.0 4.8 7.8 4.8 4.8 4.8 4.8 7.3
K2 O 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
Y2 O3 3.0 4.0 0.8 2.0 2.0 2.0 2.5 2.0 2.0 2.0
ZrO2 1.0 0.8 2.4 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
TiO2 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
CeO2 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 1.0 0.0 0.0
MgO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 3.0 0.0 0.0 0.0 0.0
CaO 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
SrO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
BaO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
ZnO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
La2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 1.0 0.0
B2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
P2 O5 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
Na2 O+K2 O 5.0 4.0 4.0 4.8 7.8 4.8 4.8 4.8 4.8 7.3
PLi (Li2 O/R2 O) 0.67 0.73 0.73 0.69 0.57 0.69 0.69 0.69 0.69 0.55
Y2 O3 +ZrO2 4.0 4.8 3.2 2.5 2.5 2.5 3.0 2.5 2.5 2.5
熵函數 0.28 0.25 0.25 0.27 0.30 0.27 0.27 0.27 0.27 0.30
d 2.62 2.65 2.50 2.53 2.56 2.56 2.56 - - 2.54
α 70 70 65 70 82 72 70 - - 76
Tg 685 665 632 648 609 644 653 - - 628
E 94 94 88 90 89 92 91 - - 88
Tlog η =2 1671 1620 1694 1693 1615 1626 1676 - - 1677
Tlog η =4 1220 1165 1234 1220 1151 1183 1207 - - 1201
K1c 0.84 0.86 0.83 0.83 0.81 0.82 0.84 - - 0.82
表面電阻率 (Ω/sq)之對數 12.2 12.2 12.2 12.0 12.7 12.4 12.1 11.7 11.7 12.4
跳頻之對數 logωp - 4.4 - - - - - - - -
防污層耐剝離性、接觸角(ﾟ) - 95 - - - - - - - -
失透成長速度(μm/小時) 3091 3368 2165 3665 1822 3399 3567 4176 4176 1525
液相溫度(℃) 1325-1350 1350℃以上 - 1300-1325 1250-1275 1250-1275 - 1275-1300 1250-1275 -
β-OH (mm-1 ) - - - - - - - - - -
[表3] 表3
(mol%) G21 G22 G23 G24 G25 G26 G27 G28 G29 G30 G31 G32 G33 G34
SiO2 68.0 67.7 68.9 69.2 68.0 68.0 68.2 67.7 69.6 67.0 68.4 67.4 67.9 67.7
Al2 O3 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 13.2 13.0 12.5 14.0 12.5 12.5 13.0 13.0
Li2 O 13.5 11.0 11.5 10.7 9.2 10.7 12.0 11.5 13.3 8.2 12.2 12.9 11.5 11.5
Na2 O 2.8 4.3 4.8 4.4 3.8 2.3 3.9 4.8 3.0 8.1 5.1 5.4 4.8 4.8
K2 O 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.1 0.3
Y2 O3 2.0 2.0 1.3 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 1.3 2.0 1.3 1.3 2.0 2.0
ZrO2 0.5 0.5 0.3 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.3 0.5 0.3 0.3 0.5 0.5
TiO2 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.12 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
MgO 0.0 1.5 0.0 0.0 3.3 3.3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
CaO 0.2 0.0 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.0 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
SrO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
BaO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
ZnO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
La2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
B2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
P2 O5 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
Na2 O+K2 O 2.8 4.3 4.8 4.4 3.8 2.3 3.9 5.1 3.0 8.1 5.1 5.4 4.9 5.1
PLi (Li2 O/R2 O) 0.83 0.72 0.71 0.71 0.71 0.82 0.75 0.69 0.82 0.50 0.71 0.71 0.70 0.69
Y2 O3 +ZrO2 2.5 2.5 1.6 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 1.6 2.5 1.6 1.6 2.5 2.5
熵函數 0.20 0.26 0.26 0.26 0.26 0.20 0.24 0.27 0.21 0.30 0.26 0.26 0.28 0.30
d 2.53 2.54 2.48 2.53 2.55 2.54 2.53 2.53 2 47 2.55 2.49 2.49 2.53 2.53
α 70 70 71 68 64 62 70 75 69 77 75 78 73 74
Tg 615 635 605 639 666 662 627 615 595 642 583 568 620 618
E 91 90 87 89 91 92 90 89 88 88 87 87 89 89
Tlog η =2 1633 1656 1676 1693 1687 1673 1659 1645 1661 1690 1640 1607 1651 1648
Tlog η =4 1161 1192 1190 1214 1234 1220 1186 1172 1172 1217 1155 1126 1178 1175
K1c 0.85 0.83 0.83 0.84 0.83 0.84 0.84 0.83 0.84 0.81 0.83 0.83 0.83 0.83
表面電阻率 (Ω/sq)之對數 11.8 12.1 12.0 12.1 12.3 12.1 11.8 12.1 11.8 12.4 12.3 12.4 12.3 12.5
跳頻之對數 logωp - - - - - - - - - - - - - -
防污層耐剝離性、接觸角(ﾟ) - - - - - - 105 101 107 - - - 92 89
失透成長速度(μm/小時) 5231 3607 3765 3644 3454 4690 4276 3900 4990 1098 3624 3620 3551 3366
液相溫度(℃) - - - - - - - 1250-1260 - - - - - -
β-OH (mm-1 ) - - - - - - - 0.30 - - - - - -
[表4] 表4
(mol%) G35 G36 G37 G38 G39 G40 G41 G42 G43 G44 G45 G46 G47 G48
SiO2 68.9 68.9 69.4 68.2 67.7 69.4 69.4 69.4 69.4 72.2 66.2 63.0 53.6 64.0
Al2 O3 12.5 12.5 12.0 12.9 13.4 12.5 12.5 12.5 12.5 10.0 11.2 16.0 32.1 12.0
Li2 O 11.5 11.5 11.5 11.5 11.5 11.5 11.5 11.5 11.5 12.0 10.4 6.3 10.7 16.0
Na2 O 4.8 5.3 5.3 4.8 4.8 4.8 4.8 4.8 4.8 5.5 5.6 11.0 0.0 0.0
K2 O 0.0 0.0 0.0 0.3 0.3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 1.5 0.0 0.0 0.0
Y2 O3 1.8 1.3 1.3 1.3 1.3 1.6 1.5 1.2 1.1 0.0 0.5 0.0 3.6 0.0
ZrO2 0.3 0.3 0.3 03 0.3 0.0 0.0 0.3 0.5 0.0 1.3 0.0 0.0 2
TiO2 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.12 0.12 0.03 0.12 0.12 0.00 0.00 0.00
MgO 0.0 0.0 0.0 0.6 0.6 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 3.1 0.0 0.0 6
CaO 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.0 0.0 0.0
SrO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
BaO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
ZnO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 1.1 0.0 0.0
La2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
B2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
P2 O5 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 2.5 0.0 0.0
Na2 O+K2 O 4.8 5.3 5.3 5.0 5.0 4.8 4.8 4.8 4.8 5.5 7.1 11.0 0.0 0.0
PLi (Li2 O/R2 O) 0.71 0.68 0.68 0.70 0.70 0.71 0.71 0.71 0.71 0.69 0.59 0.36 1.00 1.00
Y2 O3 +ZrO2 2.1 1.6 1.6 1.6 1.6 1.6 1.5 1.5 1.6 0.0 1.8 0.0 3.6 2.0
熵函數 0.26 0.27 0.27 0.27 0.27 0.26 0.26 0.26 0.26 0.27 0.38 0.29 0 0
d 2.51 2.49 2.48 2.49 2.49 2.49 2.49 2.48 2.48 2.38 2.49 2.44 2.72 2.48
α 72 74 74 73 73 72 72 72 71 74 79 82 - 64.9
Tg 608 590 585 598 603 600 594 591 595 517 559 628 - 569
E 88 87 86 87 88 87 87 87 87 81 85 79 105 91.6
Tlog η =2 1659 1660 1658 1659 1662 1669 1670 1674 1675 1664 1600 1676 - 1517
Tlog η =4 1177 1173 1169 1179 1183 1179 1179 1185 1188 1148 1146 1203 - 1103
K1c 0.83 0.83 0.83 0.82 0.82 0.83 0.83 0.83 0.83 0.82 0.79 0.74 0.97 0.84
表面電阻率 (Ω/sq)之對數 12.2 12.3 12.3 12.4 12.4 12.2 12.1 12.2 12.2 12.3 13.6 11.7 10.0 10.9
強化後表面電阻率(Ω/sq) 之對數 - - - - - - - - - - 14.2 13.4 - -
跳頻之對數logωp - - - - - - - - - - 2.7 5.0 - -
防污層耐剝離性、接觸角(ﾟ) - - - - - - - - - - 71 104 - -
失透成長速度(μm/小時) 3645 3336 3220 3416 3532 3931 3976 3692 3456 3052 400 1849 11003 5317
液相溫度(℃) - - - - - - - - - 1100-1150 1120-1130 1030-1040 1550℃以上 1340-1360
β-OH (mm-1 ) - - - - - - - - - - 0.30 - - -
[表5] 表5
(mol%) G49 G50 G51 G52 G53 G54 G55 G56 G57 G58 G59 G60 G61 G62 G63 G64 G65 G66
SiO2 68.7 68.7 69.1 68.9 68.3 68.9 69.0 69.0 69.0 69.0 69.0 69.2 68.3 65.8 69.24 69.1 68.76 68.4
Al2 O3 12.4 12.9 12.4 12.4 12.4 12.2 12.4 11.8 12.0 12.2 12.4 12.4 10.4 12.4 12.5 12.4 12.4 12.3
Li2 O 10.9 11.4 11.5 11.4 12.0 11.2 11.4 11.4 11.4 11.4 11.4 10.6 10.1 11.4 11.5 11.4 11.4 11.3
Na2 O 4.6 4.8 4.8 4.8 1.5 4.7 4.8 4.8 4.8 4.8 4.8 4.7 3.9 4.8 4.8 4.8 4.8 4.7
K2 O 0.3 0.3 0.3 0.6 3.0 0.7 0.6 1.2 1.0 0.8 0.6 1.2 1.2 0.3 0.07 0.14 0.29 0.43
Y2 O3 2.0 0.8 0.8 1.3 1.5 1.3 1.3 1.3 1.3 13 1.3 1.3 1.3 1.3 1.3 1.3 1.3 1.3
ZrO2 0.3 0.3 0.3 0.3 0.5 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.4
TiO2 0.03 0.12 0.12 0.03 0.12 0.12 0.12 0.12 0.12 0.12 0.12 0.12 0.12 0.12 0.115 0.032 0.115 0.032
MgO 0.6 0.6 0.6 0.1 0.6 0.6 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 4.4 3.6 0.2 0.3 0.6 0.9
CaO 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.2 0.1 0.1 0.2 0.1 0.2
SrO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
BaO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
ZnO 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
La2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
B2 O3 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
P2 O5 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0
Na2 O+K2 O 4.9 5.1 5.1 5.4 4.5 5.4 5.4 6.0 5.8 5.6 5.4 5.9 5.0 5.1 4.9 4.9 5.1 5.1
PLi (Li2 O/R2 O) 0.69 0.69 0.69 0.68 0.73 0.67 0.68 0.66 0.66 0.67 0.68 0.64 0.67 0.69 0.70 0.70 0.69 0.69
Y2 O3 +ZrO2 2.3 1.1 1.1 1.6 2.0 1.6 1.6 1.6 1.6 1.6 1.6 1.6 1.6 1.6 1.6 1.6 1.6 1.7
熵函數 0.30 0.30 0.30 0.32 0.33 0.33 0.32 0.35 0.34 0.33 0.32 0.36 0.35 0.30 0.26 0.27 0.27 0.27
d 2.53 2.46 2.46 2.48 2.49 2.49 2.49 2.48 2.48 2.48 2.49 2.48 2.50 2.51 2.49 2.48 2.49 2.49
α 72 73 73 74 74 74 74 77 76 75 74 74 72 75 72 72 73 73
Tg 627 587 582 597 600 592 591 577 582 587 591 603 587 590 598 605 595 603
E 89 86 86 86 86 86 86 85 86 86 86 85 87 89 87 87 87 87
Tlog η =2 1662 1675 1671 1664 1671 1663 1667 1654 1658 1663 1667 1687 1621 1593 1671 1666 1660 1652
Tlog η =4 1185 1188 1183 1177 1192 1178 1179 1165 1170 1174 1179 1197 1161 1140 1183 1180 1177 1174
K1c 0.83 0.82 0.82 0.82 0.82 0.82 0.82 0.82 0.82 0.82 0.82 0.81 0.81 0.81 0.83 0.83 0.82 0.82
表面電阻率 (Ω/sq)之對數 12.5 12.7 12.6 12.8 13.4 12.9 12.8 13.2 13.1 12.9 12.8 12.6 13.4 12.9 12.2 12.3 12.6 12.4
強化後表面電阻率(Ω/sq) 之對數 - - - - - - - - - - - 13.3 - - - - 13.5 -
跳頻之對數logωp - - - - - - - - - - - - - - - - - -
防污層耐剝離性、接觸角(ﾟ) - - - - - - - - - - - - - - - - - -
失透成長速度(μm/小時) 3291 3369 3297 3020 2668 2818 2978 2285 2516 2747 2978 1600 2025 3057 3512 3457 3200 3072
液相溫度(℃) - - - - - - - - - - - 1210-1220 - - 1230-1240 1220-1230 1220-1230 1210-1220
β-OH (mm-1 ) - - - - - - - - - - - 0.31 - - - - - -
如表1～表5所示般，實施例之玻璃之未強化時之表面電阻率較低，失透特性亦為良好。另一方面，作為比較例之G45之熵函數較高，表面電阻率較高。鹼總量較多之G46之K1c較低。
作為Al2 O3 較多、Na2 O+K2 O較少之比較例之G47及G48為液相溫度較高，且失透成長速度較快，失透特性較差之玻璃。
＜化學強化特性＞ 針對一部分之玻璃，以表6及表7所示之條件進行化學強化(離子交換)處理。表中，強化鹽為「Na50-K50」意指使用Na：K之莫耳比為50：50之熔鹽。又，在離子交換2亦有記載之例意指進行2階段之化學強化處理，作為空欄之例意指僅進行1階段之化學強化處理。 針對獲得之化學強化玻璃，表面壓縮應力(值)(CS)、及壓縮應力層深度(DOL)係藉由表面應力計(折原製作所製 表面應力計FSM-6000)而測定。內部之CS、DOL係使用散射光光彈性應力計(SLP-1000)而測定。在表6及表7中，「CS1」表示距表層之深度50 μm之壓縮應力值，「CS2」表示表層之CS。又，「D1」係以散射光光彈性應力計測定之DOL，「D2」係以表面應力計測定之壓縮應力層深度，表示鉀離子之侵入深度。又，表中之空欄意指未測定。
＜表面電阻率、跳頻及防污層之耐剝離性＞ 以與化學強化前之玻璃同樣之方法，評估表面電阻率、跳頻及防污層之耐剝離性。在表6及表7中顯示結果。表中之空欄意指未測定。
[表6] 表6
   S1 S2 S3 S4 S5 S6 S7 S8 S9 S10
玻璃組成 G2 G12 G27 G28 G29 G30 G31 G32 G33 G34
厚度t(mm) 0.55 0.7    0.55                  
離子交換1 強化鹽 Na50-K50 K95-Na4.5-LiO.5 K95-Na4.5-Li0.5 Na50-K50 K95-Na4.5-Li0.5 K95-Na4.5-Li0.5 K95-Na4.5-Li0.5 K95-Na4.5-LiO.5 K95-Na4.5-Li0.5 K95-Na4.5-Li0.5
溫度(℃) 380 400 400 425 400 400 400 400 400 400
處理時間(h) 2 6 6 3 6 6 6 6 6 6
離子交換2 強化鹽 Na1-K99       Na2-K98                  
溫度(℃) 450       400                  
處理時間(h) 1       1                  
應力量變曲線 CS1 92 126 122 180 123 84 103 102 113 113
D1 110 121 128 110 132 132 133 130 127 126
CS2 1072 1229 906 970 717 1033 720 676 896 887
D2 5.7 3.6 3.9 5.2 4.1 5.0 4.5 4.5 4.2 4.3
表面電阻率(Ω/sq)之對數 13.8 13.9                        
跳頻之對數 logωp 4.04 3.97 4.24 3.99 4.28 3.62 2.92 2.65 3.88 3.72
防污層耐剝離性、接觸角(ﾟ) 89 61 51 68 58 64 55 61 51 74
[表7] 表7
   S11 S12 S13 S14 S15 S16 S17 S18 S19 S20 S21 S22
玻璃組成 G35 G36 G37 G44 G45 G46 G56 G57 G58 G59 G60 G65
厚度t(mm)          0.6 0.55                     
離子交換1 強化鹽 K95- Na4.5-Li0.5 K95- Na4.5-Li0.5 K95-Na4.5 - Li0.5 Na100 Na100 K95-Na4.5- Li0.5 K95-Na4.5- Li0.5 K95-Na4.5- Li0.5 K95-Na4.5- Li0.5 K95-Na4.5- Li0.5 K96.5-Na3.5 K96.5-Na3.5
溫度(℃) 400 400 400 380 450 400 400 400 400 400 390 390
處理時間(h) 6 6 6 2 1.5 6 6 6 6 6 4 4
離子交換2 強化鹽             Na1-K99                     
溫度(℃)             425                     
處理時間(h)             1.5                     
應力量變曲線 CS1 106 100 97 61 93    130 101 102 103      
D1 131 134 134 69 107    129 127 129 130      
CS2 826 750 726    90.7    619 701 720 738      
D2 4.3 4.7 4.7    7.3    3.7 5.3 5.2 5.0      
表面電阻率(Ω/sq)之對數             14.2 13.4             13.3   
跳頻之對數logωp 3.88 3.83 3.74    2.52 5.52 3 3.1 3.3 3.6 3.2 3.6
防污層耐剝離性、接觸角(ﾟ)             37.6 82.4                  
作為利用Al2 O3 含量較少之G44之比較例之S14之化學強化特性較差，未獲得所要求之強度。
對本發明詳細地且參照特定之實施態樣進行了說明，但由熟悉此項技術者顯而易知，在不脫離本發明之精神與範圍之下可施加各種變更或修正。本發明申請案係基於2019年7月17日申請之日本發明專利申請案(日本特願2019-132124)、及2020年1月20日申請之日本發明專利申請案(日本特願2020-006948)者，其內容作為參照而被援用至此。
1:梳型電極 11:第1梳型電極 12:第2梳型電極
圖1係顯示未進行化學強化之玻璃之表面電阻率、與形成防污層且以一定之條件磨耗後之水滴之接觸角之關係的圖。 圖2係顯示已進行化學強化之玻璃之表面電阻率、與形成防污層且以一定之條件磨耗後之水滴之接觸角之關係的圖。 圖3係顯示已進行化學強化之玻璃之跳頻、與形成防污層且以一定之條件磨耗後之水滴之接觸角之關係的圖。 圖4係用於測定表面電阻率之電極圖案之概略俯視圖。 圖5係顯示在實施例中表面電阻率之測定所使用之電極圖案之概略俯視圖。在圖5中，表示各寬度之長度之數值之單位均為mm。 圖6係阻抗測定所使用之電極圖案之概略圖。

Claims (16)

  1. 一種玻璃，其在氧化物基準之莫耳百分比表示下， 含有60～75%之SiO2 ； 含有8～20%之Al2 O3 ； 含有5～16%之Li2 O； 總計含有2～15%之Na2 O及K2 O之任一種以上； Li2 O含量相對於Li2 O、Na2 O及K2 O之總量之比PLi 為0.40以上； MgO、CaO、SrO、BaO及ZnO之含量之總計為0～10%。
  2. 如請求項1之玻璃，其中以下式表示之S值為0.37以下， S=-PLi ×log(PLi )-PNa ×log(PNa )-PK ×log(PK ) 此處，PLi =[Li2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O]) PNa =[Na2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O]) PK =[K2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O]) 其中，[Li2 O]、[Na2 O]、[K2 O]分別表示Li2 O、Na2 O、K2 O之以莫耳%表示之含量。
  3. 如請求項1或2之玻璃，其中在氧化物基準之莫耳百分比表示下，總計含有0.5～8%之Y2 O3 、La2 O3 及ZrO2 之任一種以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之玻璃，其中破壊靱性值K1c為0.70 MPa/m1/2 以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之玻璃，其中在氧化物基準之莫耳百分比表示下，MgO及CaO之含量之總計為0.1～3%。
  6. 如請求項1至5中任一項之玻璃，其中在氧化物基準之莫耳百分比表示下，SrO、BaO及ZnO之含量之總計為1.5%以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之玻璃，其中在氧化物基準之莫耳百分比表示下，MgO、CaO、SrO、BaO及ZnO之含量之總計未達1%。
  8. 如請求項1至7中任一項之玻璃，其中在氧化物基準之莫耳百分比表示下，K2 O之含量為1%以下。
  9. 如請求項1至8中任一項之玻璃，其中50℃之表面電阻率為1013 Ω/sq以下。
  10. 如請求項1至9中任一項之玻璃，其中黏度成為102 dPa・s之溫度(T2)為1700℃以下。
  11. 一種化學強化玻璃，其表面壓縮應力值為600 MPa以上；且 母玻璃組成在氧化物基準之莫耳百分比表示下， 含有60～75%之SiO2 ； 含有8～20%之Al2 O3 ； 含有5～16%之Li2 O； 總計含有2～15%之Na2 O及K2 O之任一種以上； Li2 O含量相對於Li2 O、Na2 O及K2 O之總量之比PLi 為0.40以上； MgO、CaO、SrO、BaO及ZnO之含量之總計為0～10%； 跳頻為102.8 Hz以上。
  12. 如請求項11之化學強化玻璃，其中針對母玻璃組成以下式表示之S值為0.37以下， S=-PLi ×log(PLi )-PNa ×log(PNa )-PK ×log(PK ) 此處，PLi =[Li2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O]) PNa =[Na2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O]) PK =[K2 O]/([Li2 O]+[Na2 O]+[K2 O]) 其中，[Li2 O]、[Na2 O]、[K2 O]分別表示Li2 O、Na2 O、K2 O之以莫耳%表示之含量。
  13. 如請求項11或12之化學強化玻璃，其中在氧化物基準之莫耳百分比表示下，總計含有0.5～8%之Y2 O3 、La2 O3 及ZrO2 之任一種以上。
  14. 如請求項11至13中任一項之化學強化玻璃，其中50℃之表面電阻率為1015 Ω/sq以下。
  15. 如請求項11至14中任一項之化學強化玻璃，其中於表面之至少一部分形成有包含含氟有機化合物之層。
  16. 一種覆蓋玻璃，其包含如請求項11至15中任一項之化學強化玻璃。
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