TW202105421A - 絕緣被膜軟磁性合金粉末 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種同時具備絕緣性和耐腐蝕性等可靠性以及磁特性的軟磁性合金粉末。本發明提供一種在鐵基軟磁性合金粉末的表面上形成膜厚1~10nm的氧化物被膜，且粒徑(D50)/氧化物被膜的膜厚之比為100~21000的絕緣被膜軟磁性合金粉末。

Description

絕緣被膜軟磁性合金粉末
本發明係關於絕緣被膜軟磁性合金粉末。
近年來，由於對小型化及薄型化的要求，因此期望用於電源電路中的功率電感器為能在大電流及高頻下使用的軟磁性材料。習知可使用屬於氧化物的肥粒鐵系材料作為電感器的主材料，但是由於其飽和磁化度低，所以不利於小型化；近年來，使用有飽和磁化度高、有利於小型化及薄型化之合金系材料的金屬電感器迅速增加。作為金屬電感器，已知有使用以鐵作為主材料的軟磁性合金粉末(以下也稱為鐵基軟磁性合金粉末)，將軟磁性合金粉末和樹脂混合，壓縮成形的壓粉磁芯等。該壓粉磁芯的磁特性(飽和磁化度、磁導率、磁芯損耗、頻率特性等)取決於所用軟磁性合金粉末的磁特性、粒徑分佈、填充性及電阻。
由於習知所使用之肥粒鐵系材料為氧化物，因此絕緣性或耐腐蝕性等可靠性高，但是合金系材料之上述特性的可靠性較肥粒鐵系材料低，作為提高軟磁性合金粉末的絕緣性及耐腐蝕性的技術，例如，已知有藉由磷酸處理的成膜法(專利文獻1、2)。然而，在藉由磷酸處理而形成被膜時，由於被膜的厚度為微米數量級，所以存在粉末的磁特性降低、容易因外力使被膜剝離以及作為電感器的材料使用時，因電感器內的磁性體之通電或生鏽之產生等所引起 的特性劣化等的問題。為了同時具有絕緣性和耐腐蝕性等可靠性以及磁特性二者，需要更薄且難以剝離的被膜。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2003-272911號公報
[專利文獻2]日本專利特開2008-63651號公報
本發明的目的為提供一種同時具備絕緣性和耐腐蝕性等可靠性以及高磁特性的軟磁性合金粉末。
本發明人從所進行之各種研究的結果中獲得了如下的發現，從而完成了本發明：在鐵基軟磁性合金粉末上形成了具有奈米數量級膜厚之薄氧化物被膜，結果獲得可抑制磁特性之降低，同時還具有高絕緣性及耐腐蝕性的鐵基軟磁性合金粉末(以下也稱為絕緣被膜軟磁性合金粉末)。
即，本發明為一種在鐵基軟磁性合金粉末的表面上形成膜厚1~10nm的氧化物被膜，且粒徑(D50)/氧化物被膜的膜厚之比為100~21000的絕緣被膜軟磁性合金粉末。
本發明之一態樣提供上述絕緣被膜軟磁性合金粉末，其氧化物被膜的膜厚為1~6nm。
本發明之一態樣提供上述絕緣被膜軟磁性合金粉末，其粒徑(D50)/氧化物被膜的膜厚之比為150~3000。
本發明之一態樣提供上述絕緣被膜軟磁性合金粉末，其鐵基軟磁性合金粉末的粒徑(D50)為0.7~5.0μm。
本發明之一態樣提供上述絕緣被膜軟磁性合金粉末，其鐵基軟磁性合金粉末為鐵基非晶質合金粉末或鐵基結晶質合金粉末。
本發明之一態樣提供上述絕緣被膜軟磁性合金粉末，上述鐵基軟磁性合金粉末為具有下述組成式所示之組成的鐵基非晶質合金粉末：
(Fe1-s-tCosNit)100-x-y{(SiaBb)m(PcCd)n}xMy
[式中，Fe、Co及Ni的組成比例為
19
Figure 108142762-A0101-12-0003-10
x
Figure 108142762-A0101-12-0003-11
22、
0
Figure 108142762-A0101-12-0003-12
y
Figure 108142762-A0101-12-0003-13
6.0、
0
Figure 108142762-A0101-12-0003-14
s
Figure 108142762-A0101-12-0003-15
0.35、
0
Figure 108142762-A0101-12-0003-16
t
Figure 108142762-A0101-12-0003-17
0.35、以及
s+t
Figure 108142762-A0101-12-0003-18
0.35、
Si、B、P及C的組成比例為
(0.5：1)
Figure 108142762-A0101-12-0003-19
(m：n)
Figure 108142762-A0101-12-0003-20
(6：1)、
(2.5：7：5)
Figure 108142762-A0101-12-0003-21
(a：b)
Figure 108142762-A0101-12-0003-22
(5.5：4.5)、以及
(5.5：4.5)
Figure 108142762-A0101-12-0003-23
(c：d)
Figure 108142762-A0101-12-0003-24
(9.5：0.5)；
M為Nb或Mo]。
本發明之一態樣提供上述絕緣被膜軟磁性合金粉末，其鐵基軟磁性合金粉末為Fe-Si-Cr系結晶質合金粉末。
本發明之一態樣提供上述絕緣被膜軟磁性合金粉末，其含有5重量%以下之Cr。
本發明之一態樣提供上述絕緣被膜軟磁性合金粉末，其氧化物被膜為SiO2膜。
藉由本發明，能提供一種同時具備絕緣性和耐腐蝕性等可靠性以及高磁特性的軟磁性合金粉末。
圖1為本發明之絕緣被膜軟磁性合金粉末的穿透型電子顯微鏡照片。
圖2為表示本發明之絕緣被膜軟磁性合金粉末及未形成氧化物被膜的鐵基非晶質合金粉末的掃描式電子顯微鏡照片，以及藉由能量分散型X射線分析裝置所得的氧之線掃描結果的圖表。
圖3為表示比較例5及實施例11~17之氧化物被膜的膜厚、絕緣被膜軟磁性合金粉末的粒徑及氧量間之關係的圖表。
圖4為表示比較例5及實施例11~17之氧化物被膜的膜厚與電阻率間之關係的圖表。
圖5為表示實施例及比較例在鹽水噴霧試驗後有無生鏽的照片。
圖6為表示比較例5及實施例11~17之氧化物被膜的膜厚與磁導率間之關係的圖表。
後續對本發明的一實施形態進行詳細說明。本發明不限於以下的實施形態，在不妨礙本發明之效果的範圍內可加以適當變更來實施。
本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末係氧化物被膜形成於鐵基軟磁性合金粉末的表面上，上述氧化物被膜之膜厚為1~10nm。在本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末中，氧化物被膜之膜厚為1~10nm、較佳為1~9nm、更佳為1~8nm、最佳為1~6nm。藉由在鐵基軟磁性合金粉末的表面上形成上述範圍之奈米數量級薄度之膜厚的氧化物被膜，就能抑制絕緣被膜軟磁性合金粉末之磁特性的降低，同時還獲得高絕緣性及耐腐蝕性。
[膜厚]
本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末的氧化物被膜之膜厚是指使用穿透型電子顯微鏡等所測定的膜厚的實測值。
[氧化物被膜]
在本說明書中，「氧化物被膜」是指形成為鐵基軟磁性合金粉末狀的包含氧化物之具有絕緣性的被膜，只要使被膜具有絕緣性，對氧化物並無特別限定。
[鐵基軟磁性合金粉末]
在本說明書中，「鐵基軟磁性合金粉末」是指習知公知的以鐵作為主材料的軟磁性合金粉末。就磁特性及生產性等觀點而言，作為鐵基軟磁性合金粉末較佳為水霧化法製造的鐵基非晶質合金粉末或鐵基結晶質合金粉末。對於鐵基軟磁性合金粉末的粒徑並無特別限定，可根據所希望的磁特性來進行調整。
[粒徑(D50)/氧化物被膜的膜厚之比]
本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末中，絕緣被膜軟磁性合金粉末之粒徑(D50)/氧化物被膜的膜厚之比為100~21000、較佳為100~10000、更佳為150~5000、最佳為150~3000。「粒徑(D50)/氧化物被膜的膜厚之比」是指絕緣被膜軟磁性合金粉末之中位粒徑：D50的測定值與氧化物被膜之膜厚的測定值之比，為無單位之無因次量。藉由使粒徑(D50)/氧化物被膜的膜厚之比在上述範圍內，絕緣被膜軟磁性合金粉末作為壓粉磁芯的材料係優異且能同時具備磁特性、絕緣性及耐腐蝕性。
本實施形態的鐵基軟磁性合金粉末的粒徑較佳為0.1~210μm、更佳為0.2~100μm、進而較佳為0.5~50μm、進而更佳為0.5~30μm、特佳為0.7~5μm。
[粒徑]
在本說明書中，「粒徑」是指中位粒徑：D50，上述粒徑係藉由習知公知的方法測定，例如藉雷射折射．散射法而測定。
本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末中，鐵基軟磁性合金粉末較佳為鐵基非晶質合金粉末或鐵基結晶質合金粉末。藉由使用鐵基非晶質合金粉末或鐵基結晶質合金粉末，進而具有優異的軟磁特性。
本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末中，鐵基軟磁性合金粉末較佳是具有下述組成式所示之組成的鐵基非晶質合金粉末：
(Fe1-s-tCosNit)100-x-y{(SiaBb)m(PcCd)n}xMy
[式中，Fe、Co及Ni的組成比例為
19
Figure 108142762-A0101-12-0007-25
x
Figure 108142762-A0101-12-0007-26
22、
0
Figure 108142762-A0101-12-0007-27
y
Figure 108142762-A0101-12-0007-28
6.0、
0
Figure 108142762-A0101-12-0007-29
s
Figure 108142762-A0101-12-0007-30
0.35、
0
Figure 108142762-A0101-12-0007-31
t
Figure 108142762-A0101-12-0007-32
0.35、以及
s+t
Figure 108142762-A0101-12-0007-33
0.35、
Si、B、P及C的組成比例為
(0.5：1)
Figure 108142762-A0101-12-0007-34
(m：n)
Figure 108142762-A0101-12-0007-35
(6：1)、
(2.5：7：5)
Figure 108142762-A0101-12-0007-36
(a：b)
Figure 108142762-A0101-12-0007-37
(5.5：4.5)、以及
(5.5：4.5)
Figure 108142762-A0101-12-0007-38
(c：d)
Figure 108142762-A0101-12-0007-39
(9.5：0.5)；
M是Nb或Mo]。
藉由鐵基軟磁性合金粉末為具有上述組成的鐵基非晶質合金粉末，則除了具有優異的軟磁特性以外，還具有難燃性。
本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末中，鐵基軟磁性合金粉末較佳為Fe-Si-Cr系結晶質合金粉末的鐵基結晶質合金粉末。藉由使鐵基軟磁性合金粉末為Fe-Si-Cr系結晶質合金粉末，而能具有優異的軟磁特性及耐腐蝕性。
本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末中，鐵基軟磁性合金粉末較佳為含有5重量%以下的Cr。藉由含有Cr，在鐵基軟磁性合金粉末自身的表面上形成氧化物被膜，可進一步提高作為絕緣性軟磁性合金粉末之耐腐蝕性。不僅限於Cr，Al、Zn等也可對在鐵基軟磁性合金粉末自身的表面上之氧化物被膜之形成做出貢獻，並可獲得同樣的效果。Al能提高Cr及/或Zn所形成之氧化物被膜的硬度，具有提高耐腐蝕性的效果，所以藉由同時包含Cr 及/或Zn和Al可獲得協同作用。
本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末的氧化物被膜較佳為SiO2膜。藉由使氧化物被膜為緻密且化學上非常穩定的SiO2膜，就能獲得難以剝離且具有高絕緣性及耐腐蝕性的絕緣被膜軟磁性合金粉末。
[製造方法]
本實施形態之絕緣被膜軟磁性合金粉末藉由在鐵基軟磁性合金粉末上形成氧化物被膜而製得。
作為材料之鐵基軟磁性合金粉末可藉由習知公知的熔融工藝法、機械工藝法或化學工藝法製得，但是較佳為藉由霧化法製造。藉由如下的霧化法獲得粉末，其後乾燥上述粉末，便能製得作為目標物的鐵基軟磁性合金粉末；上述霧化法是對將已調整為所需組成的材料熔解而得的熔液設定參數以達到所需之冷卻條件及所需粒徑。在霧化法中，較佳是水霧化法，其原因在於水霧化法能在大氣環境氛圍下製造，因此設備費及製造成本低，且能獲得小粒徑的粉末。藉由粉末為小粒徑而能製得抑制渦流損耗且具有優異磁特性的壓粉磁芯等。
氧化物被膜的形成可藉由習知公知的方法，例如化學蒸鍍法(CVD)和物理蒸鍍法(PVD)等的氣相方法及熱噴塗法(Thermal Spraying)等進行。特別是就生產性及成本的觀點而言，較佳為藉由溶膠-凝膠法進行。在溶膠-凝膠法中，將包含作為被膜成分之氧化物原料的金屬醇鹽或金屬乙酸鹽、水解用的水、作為溶劑的醇、作為催化劑的酸或鹼等的溶液與上述獲得的鐵基軟磁性合金 粉末混合後，藉由加熱且除去溶劑來形成氧化物被膜。混合係可例如使用行星攪拌機、混合研磨機、擂潰機、螺帶混合機等進行，只要是具有使粉末及溶液混合之構造的裝置，對於混合時所使用的裝置便無特別限定。在溶膠-凝膠法中，藉由對氧化物的調配量、混合時間、溶液的滴下方法、滴下量、溫度等的條件進行調整，就能將氧化物被膜的膜厚調製到所需的厚度。
形成氧化物被膜後，藉由進行分級而能製得具有對應所需磁特性之目標粒徑的絕緣被膜軟磁性合金粉末。
[實施例]
以下表示本發明之實施例。本發明的內容不應被解釋為僅限定於該等實施例。
[絕緣被膜軟磁性合金粉末的製造]
1.原料合金粉末的調製
利用高頻感應爐將製備成具有以下組成的原料混合物熔融，並使用水霧化法製備鐵基非晶質合金粉末及鐵基結晶質合金粉末。
<鐵基非晶質合金粉末>
(Fe1-s-tCosNit)100-x-y{(SiaBb)m(PcCd)n}xMy
式中s=0、t=0、x=22、y=0.89、m：n=3：1、a：b=3.8：6.2、c：d=7.8：2.2、Cr：0wt%~3.0wt%。
<鐵基結晶質合金粉末>
‧(92)Fe3.5Si4.5Cr(wt%)、
‧(95)Fe2Si3Cr(wt%)、
‧(92)Fe5Si3Cr(wt%)、
‧(90)Fe7Si3Cr(wt%)、
‧(92)Fe7Si1Cr(wt%)、以及
‧(91)Fe7Si2Cr(wt%)
製備鐵基非晶質合金粉末及鐵基結晶質合金粉末的水霧化條件如下所述：
<鐵基非晶質合金粉末-水霧化條件>
‧水壓：100MPa
‧水量：100L/分
‧水溫：20℃
‧孔徑：
Figure 108142762-A0101-12-0010-40
4mm
‧熔液溫度：1500℃
<鐵基結晶質合金粉末-水霧化條件>
‧水壓：100MPa
‧水量：100L/分
‧水溫：20℃
‧孔徑：
Figure 108142762-A0101-12-0010-41
4mm
‧熔液溫度：1800℃
將所得的鐵基非晶質合金粉末及鐵基結晶質合金粉末分別藉由振動真空乾燥機(中央加工機製：VU-60)進行乾燥。乾燥條件如下。
<乾燥條件>
‧溫度：100℃
‧壓力：10kPa以下
‧時間：60分
使用ICP發光分析裝置(SPS3500D：日立高科技製)分別對乾燥後的鐵基非晶質合金粉末及鐵基結晶質合金粉末進行組成分析，以確認具有目標組成。
2.被膜處理
將乾燥後的鐵基非晶質合金粉末及鐵基結晶質合金粉末分別在依獲得目標膜厚的條件下，與具有形成SiO2之被膜所需成分的塗佈液混合，並於加熱將溶劑完全除去的同時，將氧化物被膜硬化，以形成各種膜厚的氧化物被膜。控制膜厚的條件係從塗佈液的被膜成分濃度(塗佈液的固體成分濃度)、被膜成分的比重以及各粉末的比表面積算出而決定。
例如，在獲得膜厚5nm之氧化物被膜的情況下，相對於1公斤的各粉末，混合濃度為10%的塗佈液10.98克。
3.分級處理
將被膜處理、乾燥後的鐵基非晶質合金粉末及鐵基結晶質合金粉末分別藉由氣流分級裝置(日清工程製：Turbo分級器)進行分級，以獲得目標絕緣被膜軟磁性合金粉末。使用濕式粒度分布測定機(MT3300EX II：麥奇克拜爾製)測定所得的絕緣被膜軟磁性合金粉末的粒徑(D50)。
對於使用鐵基非晶質合金粉末製得的絕緣被膜軟磁性合金粉末(實施例1~32及比較例1~16)及使用鐵基結晶質合金粉末製得的絕緣被膜軟磁性合金粉末(實施例33~50及比較例17~28)進行以下評價。
[評價項目]
1.粉體物性
1-1.觀察被膜
使用掃描式電子顯微鏡(SEM)(JSM7200：日本電子製)，觀察絕緣被膜軟磁性合金粉末的形狀，使用能量分散型X射線分析裝置(EDS)(X-MAX50：牛津儀器製)及穿透型電子顯微鏡(TEM)(H-9500：日立高科技製)對氧化物被膜進行觀察。
1-2.氧量測定
使用氧分析儀(EMGA823：堀場製作所製)，測量絕緣被膜軟磁性合金粉末中包含的氧量。
2.被膜性能
將絕緣被膜軟磁性合金粉末及環氧樹脂混合以製備造粒粉末，並壓粉成形為圓柱狀以製備顆粒(直徑：12mm，高度：5mm)，且進行如下評價。
2-1.絕緣性評價
使用耐電壓絕緣電阻計(TOS9201：菊水電機製)，將顆粒之兩面夾在銅板之間，以二端子法測定電阻值，從顆粒的外形尺寸及電阻值算出體積電阻率。
2-2.耐腐蝕性評價
使用鹽水噴霧試驗儀(STP-90V-4：須賀試驗儀製)，根據美國標準ASTM-B117進行鹽水噴霧試驗。每24小時目測確認顆粒表面生鏽的狀況，直到96小時為止。
3.磁特性
將上述造粒粉末壓粉成形為環形(成形壓力：5MPa)，製成壓粉磁芯(外徑：15mm，內徑：9mm，厚度：3mm)，將線徑0.3mm的銅線藉由雙線繞法來製作環形磁芯並作為評價資料。使用BH分析儀(SY8258：岩通計測製)，在測量頻率為1000kHz、最大磁通密度為40mT的條件下測量磁導率。
[評價結果]
1.粉體物性
圖1為實施例16之於鐵基非晶質合金粉末上形成了氧化物被膜之絕緣被膜軟磁性合金粉末的穿透型電子顯微鏡(TEM)照片。如圖1所示，確認了在鐵基非晶質合金粉末上確實形成有被膜(膜厚：5nm)。又，亦確認了從氧化物被膜之被膜處理條件所算出的膜厚與實際的膜厚基本一致。
圖2為實施例15之絕緣被膜軟磁性合金粉末(圖2右側)及比較例5之不具有氧化物被膜的鐵基非晶質合金粉末(圖2左側)的掃描式電子顯微鏡照片(SEM)以及藉由能量分散型X射線分析裝置(EDS)所得之氧的線掃描結果。縱軸為氧的Kα線每小時的計數數值，數值越高，則意味著氧的存在，即形成了氧化物被膜。從圖2左右部分的比較可知，藉由實施被膜處理，確認在鐵基非晶質合金粉末上確實形成了氧化物被膜。
圖3為表示從氧化物被膜的形成條件所計算出之氧化物被膜的膜厚(nm)與絕緣被膜軟磁性合金粉末的粒徑(D50：μm) 及氧量(wt%)間之關係圖表的一例(比較例5及實施例11~17)。如圖3所示，隨著膜厚增厚，氧量也成比例增加，代表在鐵基非晶質合金粉末上形成有氧化物被膜，且能將氧化物被膜調製到目標膜厚。
2.被膜性能
圖4為表示絕緣被膜軟磁性合金粉末之氧化物被膜的膜厚與電阻率間之關係的圖表的一例(比較例5及實施例11~17)。不具氧化物被膜的鐵基非晶質合金粉末的電阻率約為1.0×104Ω‧m，而氧化物被膜的膜厚即使僅為1nm，電阻率也增加了約100倍；當氧化物被膜的膜厚為2nm時，可達到約1.0×107Ω‧m的高電阻率。
圖5為表示在鹽水噴霧試驗後有無生鏽之照片的一例，虛線所包圍的照片中之黑色點狀表示有生鏽產生。不具氧化物被膜的鐵基非晶質合金粉末在經過48小時後生鏽。另一方面，具有氧化物被膜的鐵基非晶質合金粉末中，在膜厚為2.5nm時，於96小時後初次觀察到生鏽；而當膜厚為3nm時，甚至在96小時後也沒有觀察到生鏽。可知：本實施例之絕緣被膜軟磁性合金粉末的氧化物被膜的膜厚即使如奈米數量級般薄時，也能大大提高耐腐蝕性。
3.磁特性
圖6為表示氧化物被膜之膜厚與磁導率間之關係的圖表的一例(比較例5及實施例11~17)。可知由於氧化物被膜之膜厚薄至奈米數量級，所以即使增加膜厚，磁導率之降低減少，磁導率之降低亦 較緩慢。
將使用鐵基非晶質合金粉末所製成的絕緣被膜軟磁性合金粉末(實施例1~32、比較例1~16)的評價結果表示在表1中；將使用鐵基結晶質合金粉末所製成的絕緣被膜軟磁性合金粉末(實施例33~50，比較例17~28)的評價結果表示在表2中。
[表1]
Figure 108142762-A0101-12-0016-1
[表2]
Figure 108142762-A0101-12-0017-3
在表1和表2中，「降低率(%)」是指與沒有實施被膜處理之未形成氧化物被膜的合金粉末相比的磁導率之降低率，「耐腐蝕性(小時)」是指在上述鹽水噴霧試驗中，每24小時目測所確認到的生鏽結果，「-48」表示在48小時以內確認到生鏽，「48-72」表示在48至72小時內確認到生鏽，「72-96」表示在72至96小時內確認到生鏽，「96-」表示在經過96小時後也未確認到生鏽。
如表1和表2所示，實施例之絕緣被膜軟磁性合金粉末無論是非晶質還是結晶質，都將磁導率的降低率抑制到未滿20%，而與沒有形成被膜的比較例相比，電阻率及耐腐蝕性皆提高。對於表1中的實施例11、24及27，均具有與比較例5、11及13相同的耐腐蝕性評價的結果「-48」，但是從與比較例5、11及13相比電阻率大幅度提高的情況來看，明顯確實形成了氧化物被膜，且每24小時觀察時並沒有差異，與沒有形成氧化物被膜的比較例相比，耐腐蝕性明顯提升。就該結果而言，實施例之絕緣被膜軟磁性合金粉末作為壓粉磁芯的材料係具有優異特性。特別是實施例1~9、11~15、18、19、21、22、24、25、27、28、30、31的絕緣被膜軟磁性合金粉末具有磁導率的降低率未滿10%的優異之磁特性。其中，特別是實施例1、2、5~9、14、15、19及31的絕緣被膜軟磁性合金粉末還同時具備高電阻率及高耐腐蝕性。實施例之絕緣被膜軟磁性合金粉末作為壓粉磁芯的材料具有非常優異的特性。
如表1和表2所示般，實施例之絕緣被膜軟磁性合金粉末在鐵基軟磁性合金粉末自身的表面上形成氧化物被膜，即使具有提高耐腐蝕性效果的Cr之含量較少，亦能提高耐腐蝕性。即，藉由本發明，可減少Cr的使用量，可以更低的成本製造絕緣被膜 軟磁性合金粉末。
在本實施例中雖然是以SiO2膜對各粉末進行被膜，但即使以Al2O3膜進行被膜，亦能獲得同樣的結果。

Claims (9)

  1. 一種絕緣被膜軟磁性合金粉末，其特徵在於，在鐵基軟磁性合金粉末之表面上形成膜厚1~10nm的氧化物被膜，且粒徑(D50)/氧化物被膜之膜厚的比為100~21000。
  2. 如請求項1之絕緣被膜軟磁性合金粉末，其中，上述氧化物被膜的膜厚為1~6nm。
  3. 如請求項1或2之絕緣被膜軟磁性合金粉末，其中，上述粒徑(D50)/氧化物被膜之膜厚的比為150~3000。
  4. 如請求項1至3中任一項之絕緣被膜軟磁性合金粉末，其中，上述鐵基軟磁性合金粉末的粒徑(D50)為0.7~5μm。
  5. 如請求項1至4中任一項之絕緣被膜軟磁性合金粉末，其中，上述鐵基軟磁性合金粉末為鐵基非晶質合金粉末或鐵基結晶質合金粉末。
  6. 如請求項5之絕緣被膜軟磁性合金粉末，其中，上述鐵基軟磁性合金粉末為具有下述組成式所示之組成的鐵基非晶質合金粉末：
    (Fe1-s-tCosNit)100-x-y{(SiaBb)m(PcCd)n}xMy
    [式中，Fe、Co及Ni的組成比例為
    19
    Figure 108142762-A0101-13-0001-42
    x
    Figure 108142762-A0101-13-0001-43
    22、
    0
    Figure 108142762-A0101-13-0001-44
    y
    Figure 108142762-A0101-13-0001-45
    6.0、
    0
    Figure 108142762-A0101-13-0001-46
    s
    Figure 108142762-A0101-13-0001-47
    0.35、
    0
    Figure 108142762-A0101-13-0001-48
    t
    Figure 108142762-A0101-13-0001-49
    0.35、以及
    s+t
    Figure 108142762-A0101-13-0001-50
    0.35、
    Si、B、P及C的組成比例為
    (0.5：1)
    Figure 108142762-A0101-13-0002-51
    (m：n)
    Figure 108142762-A0101-13-0002-53
    (6：1)、
    (2.5：7：5)
    Figure 108142762-A0101-13-0002-54
    (a：b)
    Figure 108142762-A0101-13-0002-55
    (5.5：4.5)、以及
    (5.5：4.5)
    Figure 108142762-A0101-13-0002-56
    (c：d)
    Figure 108142762-A0101-13-0002-57
    (9.5：0.5)；
    M為Nb或Mo]。
  7. 如請求項5之絕緣被膜軟磁性合金粉末，其中，上述鐵基軟磁性合金粉末為Fe-Si-Cr系結晶質合金粉末。
  8. 如請求項1至7中任一項之絕緣被膜軟磁性合金粉末，其中，含有5重量%以下的Cr。
  9. 如請求項1至8中任一項之絕緣被膜軟磁性合金粉末，其中，上述氧化物被膜為SiO2膜。
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