TW201903312A - 氣體下降管,安裝構件及脫硫裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明的課題為提供一種氣體下降管,安裝構件及脫硫裝置,可達成使用時的附著物之累積的抑制,及安裝於間隔壁時之作業的簡略化。具備:管狀構件,及將該管狀構件安裝於間隔壁的安裝構件,該安裝構件,具有:其內壁抵接於上述管狀構件的外壁的管狀部,及設置在該管狀部的外壁的突出部,上述管狀部與上述突出部為一體的構件。
Description
本發明是有關使用於脫硫裝置的氣體下降管,安裝構件及脫硫裝置。
以外,在氣體吸收設備等的各種設備中,在以間隔壁分隔成複數空間的槽內,設置貫穿間隔壁的貫穿管,使氣體或液體通過貫穿管可流通於複數空間的構造已為人知。此時,貫穿管雖可藉焊接等連接(固定)於間隔壁,但因劣化或損傷等有以預定的頻率更換貫穿管的必要的場合,不但在更換作業需要莫大的時間並會有引起含間隔壁之槽主體的損傷等之虞。
為此,專利文獻1揭示有多管式氣液接觸裝置,具備:貫穿隔板(間隔壁)的管;雄構件,接著於管的頭部;母構件,支撐管的套管部;及埋沒管與隔板具有之開口部的間隙的襯套。 並且,專利文獻2及3是揭示支撐構造,具備:支撐管的支撐構件;卡止管的卡止構件;及埋沒管與間隔壁具有之開口孔的間隙的彈性構件。 根據專利文獻1相關的多管式氣液接觸裝置與專利文獻2及3相關的支撐構造,可不致引起槽主體的損傷等更換貫穿間隔壁的管。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開昭60-257831號公報 [專利文獻2] 日本特開平05-65980號公報 [專利文獻3] 日本特開平07-71660號公報
[發明所欲解決之課題]
但是,專利文獻1相關的多管式氣液接觸裝置中,由於有包括接著於管的頭部與支撐管的套管部的至少兩個零組件的必要,因此將管安裝於間隔壁時的作業步驟多,而謀求作業時間進一步的縮短。並且,頭部與套管部的形狀變得複雜,因此在凹部或間隙等會有附著物固著的場合。 並且,專利文獻2及3的相關支撐構造,也有包括支撐管的支撐構件與卡止管的卡止構件的至少兩個零組件的必要,因此會有與專利文獻1相關之多管式氣液接觸裝置的場合相同的問題。
因此,本發明以提供一種氣體下降管,安裝構件及脫硫裝置,可達成使用時的附著物之累積的抑制,及安裝於間隔壁時之作業的簡略化為目的。 [用於解決課題的手段]
本發明之一樣態的氣體下降管是安裝於間隔壁,該間隔壁分隔使得含硫磺氧化物的氣體與吸收液接觸而使該氣體脫硫之脫硫裝置的內部空間,並貫穿該間隔壁設置的氣體下降管,具備:管狀構件,及將該管狀構件安裝於上述間隔壁的安裝構件,該安裝構件,具有:其內壁抵接於上述管狀構件的外壁的管狀部,及設置在該管狀部的外壁的突出部,上述管狀部與上述突出部為一體的構件。 本發明之其他樣態相關的安裝構件是將貫穿間隔壁設置的管狀構件安裝於上述間隔壁的安裝構件,上述間隔壁分隔使得含硫磺氧化物的氣體與吸收液接觸而使該氣體脫硫之脫硫裝置的內部空間,該安裝構件,具有:其內壁抵接於上述管狀構件的外壁的管狀部,及設置在該管狀部的外壁的突出部,上述管狀部與上述突出部為一體的構件。 本發明之另外其他樣態相關的脫硫裝置,具備:導入含硫磺氧化物的氣體的氣體導入路;導入含上述硫磺氧化物的氣體的氣體導入室;設置在該氣體導入室的下側並將吸收液收容於其下部的吸收液室;分隔上述氣體導入室與上述吸收液室的間隔壁;及將導入上述氣體導入室的上述氣體供應至收容於上述吸收液室之上述吸收液中的氣體下降管,該氣體下降管是安裝於上述間隔壁,並貫穿該間隔壁設置所構成,並且,具備:管狀構件,及將該管狀構件安裝於上述間隔壁的安裝構件,該安裝構件,具有:其內壁抵接於上述管狀構件的外壁的管狀部,及設置在該管狀部的外壁的突出部,上述管狀部與上述突出部為一體的構件。 [發明效果]
根據本發明,提供一種氣體下降管,安裝構件及脫硫裝置,可達成使用時的附著物之累積的抑制,及安裝於間隔壁時之作業的簡略化。
以下,針對本發明相關之氣體下降管,安裝構件及脫硫裝置,一邊參閱圖示一邊詳細說明。 並且,以下說明的各樣態,雖從本發明的適當樣態賦予技術性較佳之種種的限定,但本發明的範圍在以下的說明中,只要是未記載有對本發明的限定,即不受限於該等的樣態。
[氣體下降管、安裝構件] 首先,一邊參閱第1圖及第2圖一邊說明本發明之一樣態相關的氣體下降管。 第1圖是表示本發明之一樣態相關的氣體下降管及其周邊的構成之一例的概略剖面圖,第2圖為第1圖之安裝構件的放大圖。
氣體下降管10,具備:管狀構件4,及將管狀構件4安裝於間隔壁8的安裝構件2。管狀構件4的外壁與安裝構件2(管狀部21的內壁)是例如可藉接著劑等習知的手段接著。 如第1圖表示,氣體下降管10貫穿間隔壁8,以其上部從間隔壁8的上面突出的狀態安裝。間隔壁8是上下面朝水平方向延伸,氣體下降管10使管軸朝著鉛直方向延伸。 氣體下降管10貫穿間隔壁8的開口部(未圖示),氣體下降管10的外壁與間隔壁8的開口的內壁是透過彈性構件6氣密地密接。針對彈性構件6的詳細如後述。
管狀構件4為管軸朝鉛直方向延伸的管狀(圓管狀)的構件,貫穿間隔壁8的開口。因此,管狀構件4實現連通藉間隔壁8所區隔之兩個空間的功能。本樣態相關的管狀構件4具體是使氣體在其內部流動,作為從上方向下方供應氣體之供應路的功能。
安裝構件2具有:其內壁抵接管狀構件4的外壁的管狀部21,及設置在管狀部21的外壁的突出部22。管狀部21與突出部22為一體的構件。
在此,所謂一體的構件可以是預先藉接著使複數的構件一體化的構件,也可不經以接著等一體化的過程而以原來單一的構件製作的構件。亦即,在安裝構件2安裝於間隔壁8時只要是一體的構件,可在安裝作業之前預先一體化後的複數構件所構成,也可以單一的構件所構成。 安裝構件2為單一的構件時,與將複數的構件預先一體化所製作的一體的構件比較,可藉著零件數的刪減與接著等的步驟的省略達成製造成本的降低或製造步驟的簡略化,因此特別理想。相對於此,例如專利文獻1相關的多管式氣液接觸裝置或專利文獻2及3相關的支撐構造的場合,除了從製造複數的構件製造成本增加之外,在安裝時需要將複數構件一體化的作業也會增加安裝的作業時間。
具有管狀部21與突出部22的安裝構件2是可藉習知的製法製作。 以單一的構件製作安裝構件2的場合,例如,可以射出成形來成形,也可以切削加工切出,可因應安裝構件2的材料加以適當選擇。該等之中,從生產性與產量的觀點來看,單一構件的安裝構件2尤其以射出成形製作的成形品為佳。 另一方面,將複數的構件一體化製作安裝構件2的場合,各構件的製作方法可使用與製作單一構件的場合相同的方法。對於所獲得的各構件之一體化的方法只要是可氣密地予以一體化尤其不加以限制,只要以習知的方法一體化即可。例如,可舉例如藉接著劑等接著的方法,或藉焊接接合的方法等。
突出部22是相對於管狀部21的管軸朝垂直方向(即,水平方向)突出,在其底面22b包括缺口部22n。缺口部22n是設置在突出部22的底面22b中管狀部21的外壁側端部所構成,指在底面22b中朝鉛直方向上側凹陷的部份。
缺口部22n的形狀是與氣體下降管10安裝於間隔壁8時之彈性構件6的上端部份的形狀大致相同,將缺口部22n與彈性構件6的上端部份彼此嵌合。因此,在將氣體下降管10安裝於間隔壁8時,突出部22的底面22b之中未設有缺口部22n的區域是與間隔壁8的上面抵接,底面22b之中設有缺口部22n的區域是與彈性構件6的上端部份抵接。藉著突出部22的底面22b與間隔壁8的上面抵接,可精度良好決定具備安裝構件2之氣體下降管10的位置。
管狀部21具有圓管狀的形狀。管狀部21的下端的外徑在管狀部21的軸向較與突出部22之底面22b的位置相同位置的管狀部21的外徑小。亦即,在安裝氣體下降管10時,和管狀部21透過彈性構件6與間隔壁8抵接的位置的外徑比較時,管狀部21的下端的外徑成為小的構成。根據相關的構成,容易將氣體下降管10***間隔壁8的開口部。 在將氣體下降管10貫穿間隔壁8的開口部安裝時,從管狀構件4的下端***開口部,接著,使管狀部21的下端位置通過開口部,最後使得管狀部21與間隔壁8的抵接位置到達開口部。因此,管狀部21的下端成為小的外徑,在安裝時不致減少與間隔壁8(彈性構件6)的抵接壓,將氣體下降管10***間隔壁8的開口部變得容易。
並且,管狀部21是以內徑一定為佳。因此,管狀部21的外徑是以增減管狀部21的壁厚來調整為佳。亦即,如第2圖表示,管狀部21其壁厚在下端較薄,透過彈性構件6在與間隔壁8抵接的位置其壁厚變得較厚。
作為安裝構件2的材料雖不特別加以限制,但舉例如氯乙烯等的合成樹脂。 又,作為管狀構件4的材料雖不特別加以限制,但舉例如聚氯乙烯等的合成樹脂。 安裝構件2的材料與管狀構件4的材料是以相同的為佳。
彈性構件6為環狀,設置在氣體下降管10(安裝構件2)的外壁與間隔壁8的開口部的內壁之間。彈性構件6是埋入氣體下降管10與間隔壁8的間隙,因此可將該等氣密地密接。也可在彈性構件6與安裝構件2的抵接面,或與間隔壁8的開口的抵接面,適當設置環狀的突起來提升密封性能。 如第1圖表示,彈性構件6是設置在氣體下降管10與間隔壁8的抵接位置,並設置從間隔壁8的上面及下面延伸出。藉此上下面的延伸部,即使在氣體下降管10的脫著時對彈性構件6有上下方向的力作用時,也不容易從間隔壁8脫落。 作為彈性構件6的材料雖尤其不加以限制,但可舉例如丁基橡膠、矽膠、含氟橡膠等的橡膠材料。以調整橡膠材料的硬度,硬至不會脫落的程度,且柔軟至可氣密性密接的程度的具有預定硬度的彈性構件尤其較佳。
另外,針對本樣態相關之氣體下降管及後述的被處理氣體導入室的諸條件說明。 氣體下降管10與間隔壁8之抵接區域的外徑D1
為100~200mm,下端的外徑D2
為90~190mm。氣體下降管10的外徑D1
與外徑D2
的差(D1
-D2
)為5~20mm,較佳為6~10mm。差(D1
-D2
)為5~20mm時,可容易實現氣體下降管10***時之彈性構件6的脫落防止,及氣體下降管10與彈性構件6之優異的密接性,安裝作業也可更為簡易地進行。 並且,氣體下降管10的長度為1200~4700mm。
另一方面,後述之被處理氣體導入室14的高度H為1500~5000mm。並且,設置在間隔壁8的開口部的直徑為110~210mm。氣體下降管10的外徑D1
與間隔壁8的開口部的直徑的差為5~20mm,較佳為6~10mm。 氣體下降管10的外徑D1
與設置在間隔壁8的開口部的直徑的差是意味著與彈性構件6的開口部的周圍壁面對之部位的厚度(安裝完成時、壓縮時)。 此厚度在上述的範圍時,氣體下降管10的穩定配設成為可能。
(安裝方法) 具體之氣體下降管10的安裝方法是例如可以下述(1)~(3)的順序進行。 (1) 首先,在間隔壁8的開口裝設環狀的彈性構件6。 (2) 接著,將氣體下降管10的下端***裝設有環狀的彈性構件6的間隔壁8的開口。並且,在***氣體下降管10之前預先將安裝構件2與管狀構件4預先接著。 (3) 並且,將氣體下降管10壓入,在安裝構件2的突出部22的底面22b與間隔壁8的上面抵接的時間點結束安裝。 在此,上述(2)中在***間隔壁8的開口的氣體下降管10,為容易進行***,以預先塗佈合成洗劑等的潤滑劑為佳。潤滑劑是以塗佈在氣體下降管10的前端部(與安裝構件2相反側的端部)及末端部(位在安裝構件2與突出部22之下的區域)為佳。
根據以上說明的本發明之一樣態相關的氣體下降管及安裝構件,由於安裝構件2的構成為簡易的構成,因此可抑制附著物的累積。並且,僅將安裝構件2與管狀構件4彼此接著的氣體下降管10***裝設有彈性構件6之間隔壁8的開口即可安裝氣體下降管10,因此可達成作業的大幅度簡略化。並且,本樣態中管狀部21與突出部22為單一的構件,因此不需要製造複數構件的時間及接著該等的時間,可縮短製造時間,可降低製造成本。
[變形例] 接著,一邊參閱第3圖及第4圖一邊說明本發明之一樣態相關的氣體下降管的變形例。 第3圖表示本發明之一樣態相關的氣體下降管及其周邊的構成之變形例的概略剖面圖,第4圖為第3圖之安裝構件的部份放大圖。 並且,以下是針對與第1圖及第2圖表示的構成不同的點說明,對於和第1圖及第2圖相同的構成省略說明。
第3圖及第4圖表示的變形例中,突出部22是底面22b為平面形狀,未設有第1圖及第2圖的缺口部22n。並且,也未設有第1圖表示的彈性構件6。 因此,氣體下降管10的外壁與間隔壁8的開口的內壁為直接抵接。又,突出部22的底面22b是跨全區域與間隔壁8的上面抵接。
作為本變形例的安裝構件2的材料是以具有彈性的材料構成為佳。本變形例是在安裝構件2擔保其彈性功能來取代設置彈性構件,以實現安裝構件2(氣體下降管10)與間隔壁8的氣密接觸。亦即,本變形例的安裝構件2是兼具有第1圖及第2圖表示的安裝構件2的功能與彈性構件6的功能的構件。
除了以上的點,本變形例與第1圖及第2圖表示的樣態相同。 根據本變形例,更藉著零件數的刪減可進一步減少安裝時的作業時間。
[脫硫裝置] 接著,一邊參閱第5圖一邊說明本發明之一樣態相關的噴射鼓泡方式的脫硫裝置。 第5圖表示本發明之一樣態相關的噴射鼓泡方式的脫硫裝置之一例的模式圖。噴射鼓泡方式是將含硫磺氧化物的氣體及氧導入收容在反應槽的下部的吸收液(鹼性劑含液)中,使氣體與吸收液氣液接觸一邊形成泡沫層一邊使該等反應,除去硫磺氧化物的方式。
硫磺氧化物(SOx)可舉例如亞硫酸氣體,或亞硫酸氣體溶解於水之物等的各種形態的二氧化硫等。並且含硫磺氧化物的氣體(以下,稱被處理氣體)可舉例從燃煤爐或燃煤火力發電廠所排出的燃燒排氣等。
如第5圖表示,噴射鼓泡方式的脫硫裝置100具有噴射鼓泡方式的反應槽11。並且,本樣態的反應槽11雖是圓筒狀,但反應槽11不限於圓筒狀,也可以是箱型(長方體形狀)等的任意的形狀。 反應槽11具有:被處理氣體導入室14、吸收液室16及被處理氣體排出室17。並且,反應槽11設有:被處理氣體導入路12及被處理氣體排出口13。
被處理氣體導入路12是突出於反應槽11的側壁中央部附近設置,將被處理氣體導入被處理氣體導入室14。 被處理氣體導入室14是設置在反應槽11內部的鉛直方向中央部,從被處理氣體導入路12導入含硫磺氧化物的被處理氣體。 吸收液室16是設置在被處理氣體導入室14的下側,形成在下部收容吸收液15的構成。 被處理氣體排出室17是設置在被處理氣體導入室14的上側,與被處理氣體排出口13連通。 被處理氣體排出口13是突出於反應槽11的側壁上部設置,將吸收液室16脫硫處理後的被處理氣體從被處理氣體排出室17排出。
被處理氣體導入室14與吸收液室16被以橫剖反應槽11的內部的間隔壁8所間隔。並且,被處理氣體導入室14與被處理氣體排出室17被以橫剖反應槽11的內部的被處理氣體排出室17的底板19所分隔。 因此,如第5圖表示的反應槽11的內部空間是被間隔壁8分隔為被處理氣體導入室14與吸收液室16,藉底板19分隔為被處理氣體導入室14與被處理氣體排出室17。
間隔壁8並成為被處理氣體導入室14的底面。在間隔壁8貫穿間隔壁8設有向下方延伸到達比吸收液15的液面24更下方的複數氣體下降管10。在此,氣體下降管10為上述本發明之一樣態相關的氣體下降管,藉安裝構件2安裝於間隔壁8,針對上述的彈性構件6省略圖示。 氣體下降管10連通被處理氣體導入室14與吸收液室16。因此,導入被處理氣體導入室14的被處理氣體是透過複數氣體下降管10供應至被收容於吸收液室16的吸收液15中。在氣體下降管10的下側設有複數的小的開口,將從氣體下降管10的開口所噴出的被處理氣體分散至吸收液15中。分散至吸收液15中的被處理氣體在隨後,在吸收液15中上升至液面24之後,形成泡沫層28。
底板19也具有作為分隔被處理氣體導入室14與被處理氣體排出室17之間隔壁的功能。但是,底板19不具有氣體下降管或安裝構件,與安裝有上述本發明之一樣態相關的氣體下降管為對象的間隔壁不同。 在底板19設有向下方延伸,貫穿被處理氣體導入室14的水平方向中央部並到達吸收液室16為止的連通管25,連通管25是與吸收液室16及被處理氣體排出室17連通。因此,在吸收液室16內被脫硫後的被處理氣體是從吸收液室16內的液面24上的空間的空間部26,透過連通管25到被處理氣體排出室17,從被處理氣體排出口13排出。 並且,省略被處理氣體排出室17或連通管25,連通空間部26地設置被處理氣體排出口13,空間部26也可以如第5圖表示兼作為被處理氣體排出室17的構成。
在被處理氣體導入路12內,設有將經由配管31的工業用水朝被處理氣體進行噴霧的工業用水供應管32。工業用水是使用作為被處理氣體加濕用的加濕液,進行被處理氣體加濕、冷卻。在被處理氣體導入路12內進行噴霧的加濕液不限於工業用水,例如水等,只要是可將被處理氣體加濕的液體尤其不加以限定。並且,配管31及工業用水供應管32也並非一定有設置的必要。並且,在被處理氣體導入路12內及被處理氣體導入室14內,除工業用水供應管32以外也可設置供應加濕液的其他的構件。
在反應槽11設有攪拌吸收液15的攪拌機27。攪拌機27是以預定的轉速旋轉,攪拌收容於吸收液室16中的吸收液15。
從反應槽11的吸收液室16的底部到中央附近,鋪設有氧供應管38的一端。氧供應管38的另一端連接於反應槽11的外部的氧供應源(未圖示)。並且,在收容於吸收液室16的吸收液15中,氧是藉氧供應管38來供應。 供應吸收液15中的氧是與溶解於吸收液15中的鹼性劑及硫磺氧化物反應。藉著氧與鹼性劑與硫磺氧化物的反應所產生之生成物的一部份析出於吸收液15中成為析出物。 並且,氧供應管38雖只需對吸收液15中從氧供應源供應含氧的液體或氣體即可,但從經濟的觀點來看以供應空氣為佳。
在將含析出物的吸收液收容於內部的吸收液室16的側壁底部設有與泵34連接的配管33。泵34是透過配管33從吸收液室16內,排出含析出物與吸收液的漿液。在泵34的出口側連接配管35的一端,將配管35的另一端連接於固液分離機46。因此,從吸收液室16被排出的漿液是透過配管33、泵34、配管35送至固液分離機46。
固液分離機46是將從混合槽36內所排出的混合物固液分離,分離回收固態物。 在固液分離機46的後段,連接有排水處理裝置。朝排水處理裝置,經由連接於固液分離機46的配管45,供應以固液分離機46回收固態物之後的回收殘液。排水處理裝置是從回收殘液除去氮化物或COD(Chemical Oxygen Demand)成分等可作為排水排出。
從配管45分支的配管47連接於反應槽11的吸收液室16。配管47在途中設有導入石灰石、熟石灰、氫氧化鎂、氫氧化鈉、氨等的鹼性劑的鹼性劑導入部48。鹼性劑導入部48朝著固液分離後的回收殘液的一部份導入鹼性劑,可再度作為吸收液室16中的吸收液15利用。 並且,配管47及鹼性劑導入部48並非一定有設置的必要。
根據以上說明的本發明之一樣態相關的脫硫裝置,得知可達成使用時之附著物的累積的抑制,及安裝於間隔壁時之作業的簡略化,可降低製造成本。
2‧‧‧安裝構件
4‧‧‧管狀構件
6‧‧‧彈性構件
8‧‧‧間隔壁
10‧‧‧氣體下降管
11‧‧‧反應槽
12‧‧‧被處理氣體導入路
13‧‧‧被處理氣體排出口
14‧‧‧被處理氣體導入室
15‧‧‧吸收液
16‧‧‧吸收液室
17‧‧‧被處理氣體排出室
19‧‧‧底板
21‧‧‧管狀部
22‧‧‧突出部
22b‧‧‧底面
22n‧‧‧缺口部
24‧‧‧液面
25‧‧‧連通管
26‧‧‧空間部
27‧‧‧攪拌機
28‧‧‧泡沫層
31‧‧‧配管
32‧‧‧工業用水供應管
33‧‧‧配管
34‧‧‧泵
35‧‧‧配管
38‧‧‧氧供應部
45‧‧‧配管
46‧‧‧固液分離機
47‧‧‧配管
48‧‧‧鹼性劑導入部
100‧‧‧脫硫裝置
第1圖表示本發明之一樣態相關的氣體下降管及其周邊的構成之一例的概略剖面圖。 第2圖為第1圖之安裝構件的部份放大圖。 第3圖表示本發明之一樣態相關的氣體下降管及其周邊的構成之變形例的概略剖面圖。 第4圖為第3圖之安裝構件的部份放大圖。 第5圖表示本發明之一樣態相關的噴射鼓泡方式的脫硫裝置之一例的模式圖。
Claims (11)
- 一種氣體下降管,係安裝於間隔壁,該間隔壁分隔使得含硫磺氧化物的氣體與吸收液接觸而使該氣體脫硫之脫硫裝置的內部空間,並貫穿該間隔壁設置的氣體下降管,其特徵為,具備: 管狀構件,及 將該管狀構件安裝於上述間隔壁的安裝構件, 該安裝構件,具有: 其內壁抵接於上述管狀構件的外壁的管狀部,及 設置在該管狀部的外壁的突出部, 上述管狀部與上述突出部為一體的構件。
- 如申請專利範圍第1項記載的氣體下降管,其中,上述管狀部的下端的外徑是比在該管狀部的軸向中與上述突出部的底面的位置相同位置的上述管狀部的外徑小。
- 如申請專利範圍第2項記載的氣體下降管,其中,上述管狀部是內徑為一定。
- 如申請專利範圍第1項記載的氣體下降管,其中,上述突出部是相對於上述管狀部的管軸朝垂直方向突出。
- 如申請專利範圍第2項記載的氣體下降管,其中,上述突出部是相對於上述管狀部的管軸朝垂直方向突出。
- 如申請專利範圍第3項記載的氣體下降管,其中,上述突出部是相對於上述管狀部的管軸朝垂直方向突出。
- 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項記載的氣體下降管,其中,上述突出部在其底面包括缺口部, 上述缺口部是在上述突出部的底面之中設置於上述管狀部的外壁側端部所構成。
- 一種安裝構件,係將貫穿間隔壁設置的管狀構件安裝於上述間隔壁的安裝構件,該間隔壁分隔使得含硫磺氧化物的氣體與吸收液接觸而使該氣體脫硫之脫硫裝置的內部空間,其特徵為,具有: 其內壁抵接於上述管狀構件的外壁的管狀部,及 設置在該管狀部的外壁的突出部, 上述管狀部與上述突出部為一體的構件。
- 一種脫硫裝置,具備: 導入含硫磺氧化物的氣體的氣體導入路; 導入含上述硫磺氧化物的氣體的氣體導入室; 設置在該氣體導入室的下側並將吸收液收容於其下部的吸收液室; 分隔上述氣體導入室與上述吸收液室的間隔壁;及 將導入上述氣體導入室的上述氣體供應至收容於上述吸收液室之上述吸收液中的氣體下降管, 該氣體下降管是安裝於上述間隔壁,並貫穿該間隔壁設置所構成,並且,具備: 管狀構件,及 將該管狀構件安裝於上述間隔壁的安裝構件, 該安裝構件,具有: 其內壁抵接於上述管狀構件的外壁的管狀部,及 設置在該管狀部的外壁的突出部, 上述管狀部與上述突出部為一體的構件。
- 如申請專利範圍第9項記載的脫硫裝置,其中,在上述間隔壁與上述安裝構件之間進一步具備彈性構件。
- 如申請專利範圍第10項記載的脫硫裝置,其中,上述突出部在其底面包括缺口部, 上述缺口部是在上述突出部的底面之中設置於上述管狀部的外壁側端部所構成, 上述缺口部與上述彈性構件的上端部為彼此嵌合所構成。
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