TW201726307A

TW201726307A - 玻璃基板之製造方法及玻璃基板

Info

Publication number: TW201726307A
Application number: TW105142219A
Authority: TW
Inventors: Hideharu Torii; Nobuo Nakajima; Kazutomo Mori
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Priority date: 2015-12-21
Filing date: 2016-12-20
Publication date: 2017-08-01
Also published as: CN106892571A; DE102016015231A1; US10081569B2; US20170174562A1; JP2017116573A

Abstract

本發明之目的在於提供一種生產性優異之被賦予防眩功能之玻璃基板之製造方法及玻璃基板。本發明之玻璃基板之製造方法之特徵在於：其具備於玻璃板之至少一主面形成防眩區域之步驟、將上述玻璃板切斷之步驟、及將上述防眩區域之一部分去除之步驟。

Description

玻璃基板之製造方法及玻璃基板

本發明之實施形態係關於一種玻璃基板之製造方法及玻璃基板，尤其係關於一種賦予了防眩功能之玻璃基板之製造方法及玻璃基板。

近年來，例如於LCD(Liquid Crystal Display)裝置等顯示裝置之顯示面側，為了保護該顯示裝置而配置有由透明基體所構成之外罩。對於該透明基體，就外觀上之觀點而言大多情況下使用玻璃基板。然而，於在顯示裝置上設置有此種玻璃基板之情形時，於欲介隔玻璃基板觀看顯示裝置之顯示畫時，常有產生配置於周邊者之映像之情形。若於玻璃基板上產生此種映像，則顯示畫之視認者難以看到顯示畫，而且會令人感到不快。因此，為了抑制此種映像，例如正嘗試對玻璃基板之表面實施形成凹凸形狀之防眩處理之方法等。防眩處理例如有對玻璃基板表面進行蝕刻(例如參照專利文獻1)、於玻璃基板表面形成具有凹凸形狀之膜(例如參照專利文獻2)等方法，就提高生產效率之觀點而言，均較理想的是於實施形成大型玻璃基板之凹凸形狀之防眩處理後，依照各製品形狀進行切斷或加工。若一旦實施防眩處理，則將經防眩處理之區域精度良好地去除非常困難。因此，提出有如下技術：預先對不欲實施防眩處理之區域(以下稱為非防眩區域)實施遮蔽，區分製作非防眩區域與防眩區域(例如參照專利文獻3)。然而，於藉由遮蔽形成非防眩區域之情形時，於實施防眩處理後無法變更防眩區域與非防眩區域之部位，因而存在於各區域之位置發生偏移時造成浪費之問題。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]國際公開WO2014/119453號 [專利文獻2]美國專利8003194號 [專利文獻3]日本專利特表2013-529316號公報

[發明所欲解決之問題] 本發明之目的在於提供一種生產性優異之賦予了防眩功能之玻璃基板之製造方法及玻璃基板。 [解決問題之技術手段] 本發明之一形態之玻璃基板之製造方法的特徵在於：其具備於玻璃板之至少一主面形成防眩區域之步驟、將上述玻璃板切斷之步驟、及將上述防眩區域之一部分去除之步驟。又，本發明之一形態之玻璃基板之特徵在於：其具備玻璃板、設置於上述玻璃板之至少一主面之防眩區域、及設置於與上述防眩區域相同之主面之非防眩區域，上述非防眩區域為將防眩區域之一部分去除而成之非平坦面，該非平坦面內之最大高低差為0.6 μm以下。 [發明之效果] 根據本發明之實施形態，可提供一種生產性優異之賦予了防眩功能之玻璃基板之製造方法及玻璃基板。

以下，參照圖式，藉此對本發明之實施形態更詳細地進行說明。 (第1實施形態) 圖1係模式性地表示本發明之第1實施形態之玻璃基板之製造方法的流程圖。參照圖1，對本發明之第1實施形態之玻璃基板之製造方法簡單地進行說明。如圖1所示，本發明之第1實施形態之玻璃基板之製造方法具備於玻璃板之至少一主面形成防眩區域之步驟(防眩步驟)S1、將玻璃板切斷之步驟(切斷步驟)S2、及將防眩區域之一部分去除之步驟(去除步驟)S3。 S1係於至少一主面形成防眩區域之步驟，其加工方法並無特別限定，可利用對玻璃板之主面實施表面處理而形成所需之凹凸之方法。於本實施形態之玻璃基板中，所謂防眩區域例如係指可見光範圍之透過光之霧度為0.5%～70%的區域，所謂非防眩區域係指未形成有如上所述之凹凸之玻璃表面區域，例如可見光範圍之透過光之霧度未達0.5%的區域。具體而言，可列舉對玻璃板之主面實施凍結處理之方法。凍結處理例如可藉由將作為被處理體之玻璃板浸漬於氟化氫與氟化銨之混合溶液中，對浸漬面以化學方式進行表面處理而進行。又，除了此種化學處理之方法以外，亦可利用物理處理之方法，例如利用加壓空氣將結晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等噴附於玻璃板之表面之所謂噴砂處理，或藉由用水打濕之附著有結晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等之毛刷進行打磨等。尤其於實施使用氟化氫等化學藥液以化學方式進行表面處理之凍結處理之方法中，由於不易產生被處理體表面之微裂縫，不易降低機械強度，故而可較佳地用作實施透明基體之表面處理之方法。如此般形成凹凸後，為了調整表面形狀，一般對玻璃表面以化學方式進行蝕刻。藉此，可藉由蝕刻量將霧度調整為所需之值，可去除因噴砂處理等產生之裂縫，且可抑制眩光。作為蝕刻，可較佳地利用將作為被處理體之玻璃板浸漬於以氟化氫為主成分之溶液中的方法。作為氟化氫以外之成分，亦可含有鹽酸、硝酸、檸檬酸等。藉由含有該等，可抑制玻璃中含有之鹼成分與氟化氫反應而局部地發生析出反應，可面內均勻地進行蝕刻。又，防眩區域亦可藉由於玻璃板之主面設置防眩膜形成。防眩膜之折射率可藉由防眩膜之基質之材質、防眩膜之空隙率、向基質中添加具有任意折射率之物質等進行調整。例如，藉由提高防眩膜之空隙率可降低折射率。又，藉由將折射率較低之物質(實心二氧化矽粒子、中空二氧化矽粒子等)添加至基質中，可降低防眩膜之折射率。防眩膜較佳為以二氧化矽為主成分，但並不限定於此。若以二氧化矽為主成分，則防眩膜之折射率(反射率)容易變低。又，防眩膜之化學穩定性等亦良好。又，與玻璃板之密接性良好。於本說明書中，所謂以二氧化矽為主成分意指包含50質量%以上之SiO₂ ，更佳為包含90質量%以上之膜。於以二氧化矽為主成分之情形時，防眩膜可僅由二氧化矽構成，亦可包含少量二氧化矽以外之成分。作為其成分，可列舉：選自Li、B、C、N、F、Na、Mg、Al、P、S、K、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Sr、Y、Zr、Nb、Ru、Pd、Ag、In、Sn、Hf、Ta、W、Pt、Au、Bi及鑭系元素中之1種或複數種之離子及/或該等之氧化物等化合物。作為防眩膜，例如可列舉由包含二氧化矽前驅物與粒子之至少一者、及液狀介質之塗料組合物所形成者。該塗料組合物視需要亦可包含二氧化矽前驅物以外之其他黏合劑或其他添加劑等。於塗料組合物包含二氧化矽前驅物之情形時，防眩膜之基質係以源自二氧化矽前驅物之二氧化矽為主成分。防眩膜亦可由粒子構成，於該情形時，粒子較佳為二氧化矽粒子。此外，防眩膜亦可為粒子分散於上述基質中而成者。於本說明書為方便起見而表現為「防眩膜」，但實際上亦可不於玻璃板整個面以膜之形式連續地設置，係以如下含意使用：並非藉由玻璃板表面蝕刻而直接改質，而是於玻璃板表面上新表現出防眩功能。如上所述，作為以二氧化矽為主成分之防眩膜，可列舉：由包含二氧化矽前驅物之塗佈組合物所形成者、由包含二氧化矽粒子之塗佈組合物所形成者、由其他並非以二氧化矽為主成分之樹脂膜等所形成者。 S2係將玻璃板切斷之步驟(切斷步驟)，作為切斷方法，例如可使用：利用刀輪於大型玻璃板上引入劃線並折割之方法，或藉由對玻璃板照射雷射光進行切斷之方法等。亦可對切斷後之玻璃板實施對端面進行倒角加工之倒角加工步驟。於S2中，可由大型之玻璃板分別切斷成與使用形態相應之玻璃板之大小。此時，無需全部分割成相同大小之玻璃板，可適當分別分割成複數片所需大小之玻璃板。若藉由遮蔽而指定非防眩區域之位置，則必須配合非防眩區域之位置分割玻璃板。然而，於本實施形態中，並未預先形成非防眩區域，故而可效率良好地由大型之玻璃板切斷可分割之最大片數。 S3係將防眩區域之一部分去除之步驟(去除步驟)，係自暫且成為防眩區域之面之一部分去除防眩功能，形成非防眩區域之步驟。關於非防眩區域，例如於將本實施形態之玻璃基板用於攜帶用電子機器之蓋玻璃之情形時，係設為設置於相機之前表面之區域或設有指紋感測器之區域，於用作其他感測器用保護構件之情形時，係設為用以進行感測之可見光或電波透過之區域。作為防眩區域之具體之去除方法，可列舉研磨防眩區域之方法。於研磨之情形時，於玻璃板本身之表面形成有凹凸之情形時，可藉由將該形成有凹凸之部分之一部分去除而達成，於玻璃板表面形成有膜之情形時，可藉由將該膜之一部分去除而達成。又，亦可考慮的是藉由使用雷射光或蝕刻液將防眩區域之一部分去除。於使用雷射光之情形時，可藉由利用雷射光將玻璃板表面直接改質，或利用雷射光使設於玻璃板表面之膜蒸發而實施。又，於使用蝕刻液之情形時，可適當使用可直接蝕刻玻璃板表面之氫氟酸等蝕刻液、或可蝕刻設於玻璃板表面之膜之蝕刻液。於藉由蝕刻液將防眩區域之一部分去除之情形時，有對欲去除之區域選擇性地供給蝕刻液之方法、或對不欲設為非防眩區域之區域進行遮蔽之方法，研磨或雷射光等因容易精度良好地加工，故而較佳。以下，作為S3之去除步驟之一例，對利用研磨所進行之去除詳細地進行敍述。圖2係表示可用於本發明之第1實施形態之去除步驟之研磨磨石之一例的剖視圖。該研磨磨石1包含支持部2及磨石部3。支持部2包含不鏽鋼等構件，磨石部3通常具有研磨磨粒及將該研磨磨粒固定之黏結劑。一般而言支持部2及磨石部3具有圓柱形狀，但並不限定於此。然而，若考慮使研磨磨石1旋轉進行研磨，則就均勻性之觀點而言較佳為圓柱形狀。作為可用於磨石部3之研磨磨粒之種類，例如可使用努氏硬度(HK)為4000以下之氧化鈰、綠碳酸鹽、氧化鋁等。磨粒之粒度無特別限定，就對玻璃板之損傷性之觀點而言，於使用氧化鈰以外之磨粒之情形時，較佳為使用♯3000以上(作為一例，平均粒徑4～8 μm左右以下)者。又，作為可用於磨石部3之黏結劑之種類並無特別限定，例如可使用陶瓷黏結劑、金屬黏結劑、樹脂黏結劑，將研磨磨粒固著而形成之電鍍磨石等。於磨石部3為圓柱形狀之情形時，其直徑可根據非防眩區域之大小而適當調整，一般而言為0.5～100 mm左右。於與玻璃板接觸、成為研磨面之下部端面4之外周設有倒角部5。倒角部5通常係遍及磨石部3之下部端面之整個外周而設置。倒角部5與下部端面4所成之角α為20～60°。藉由設置倒角部5，於將下部端面4按壓於玻璃板時，可對被研磨面均勻地施加力，可精加工成階差較小之非防眩區域。於防眩區域係於玻璃板本身之表面形成有凹凸之情形時，若使用努氏硬度(HK)為2000～4000之磨粒，則可更有效地精加工成階差較小之非防眩區域，又，於防眩區域係由防眩膜所形成之情形時，若使用努氏硬度(HK)為2000以下之磨粒，則可更有效地精加工成階差較小之非防眩區域，因此較佳。去除步驟S3中之研磨磨石1之轉速並無特別限定，一般而言為20～60000 rpm。於防眩區域係於玻璃板本身之表面形成凹凸而成者之情形時，較佳為以較佳為30000 rpm以上、更佳為40000 rpm以上之轉速進行去除。增加轉速可更有效地抑制非防眩區域內之階差。另一方面，於防眩區域係由防眩膜所形成者之情形時，5000 rpm以下之轉速可精加工成階差更小之非防眩區域，較佳為以較佳為1000 rpm以下、尤佳為以200 rpm以下之轉速進行去除。減少轉速可更有效地抑制非防眩區域內之階差。關於去除步驟S3中之研磨磨石1之軌跡，例如可使其進行如圖3所示之動作，以非防眩區域6成為圓形狀之方式沿圖3中之箭頭方向即圓周方向移動。研磨磨石1之軌跡並無特別限定，較佳為以於非防眩區域6內與磨石接觸之時間儘可能變均勻之方式進行調整。研磨磨石1之移動速度並無特別限定，可適當變更而實施。去除步驟S3中之研磨磨石1之軌跡不限於1種，亦可使其以將複數種軌跡組合之方式動作。圖4係表示於使上述研磨磨石沿圓周方向移動之情形時的非防眩區域之一例的由顯微鏡所獲得之俯視圖。如圖4所示，由於研磨磨石為圓柱形狀，故而存在如下情形：於和成為研磨面之下部端面之中心部接觸的部位與和外周部接觸之部位中，研磨量不同。為了使透過之光無不均或散射搖晃而外觀良好地精加工成非防眩區域，必須將非防眩區域內之最大高低差抑制為0.6 μm以下。更佳為0.4 μm以下。因此，較佳為以消除研磨磨石之研磨面之中心部與外周部之加工收斂差之方式，將不同之研磨磨石之軌跡組合。例如可想到如下軌跡：如圖5所示，以研磨磨石之中心始終穿過非防眩區域之圓中心之方式使其沿半徑方向移動，以稍許改變其方向進行之方式研磨之軌跡；或如圖6所示，以字母N形狀之中心與圓中心重合之方式使其移動，以稍許改變其角度進行之方式研磨之軌跡。作為較佳之例，可想到：將使研磨磨石沿圓周方向移動之主研磨步驟、與以消除於該主研磨步驟中於圓周方向上產生之加工收斂差之方式描繪圓中心與研磨磨石之中心複數次重合般之軌跡的精加工研磨步驟組合。作為玻璃板，例如可列舉：鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、無鹼玻璃等。玻璃板係藉由浮式法或下拉法等成形之玻璃板。又，不僅為平坦形狀之玻璃板，亦可為具有曲面之形狀之玻璃板。玻璃板之厚度並無限定，例如可使用厚度10 mm以下之玻璃板。由於厚度越薄越可將光之吸收抑製得較低，故而對於以提高透過率為目的之用途而言較佳。玻璃板較佳為強化玻璃板。強化玻璃板係實施了強化處理之玻璃板。藉由強化處理，玻璃之強度提高，例如可一面維持強度一面削減板厚度。作為強化處理，一般已知有於玻璃板表面形成壓縮應力層之處理。作為於玻璃板表面形成壓縮應力層之方法，具代表性的有風冷強化法(物理強化法)、及化學強化法。實施化學強化處理之玻璃板只要具有可進行化學強化之組成，則並無特別限定，可使用各種組成，例如可列舉：鈉鈣玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃、鋰鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸玻璃、其他各種玻璃。就容易化學強化之方面而言，作為玻璃組成，較佳為以氧化物基準之莫耳百分率表示，含有56～75%之SiO₂ 、1～20%之Al₂ O₃ 、8～22%之Na₂ O、0～10%之K₂ O、0～14%之MgO、0～5%之ZrO₂ 、0～10%之CaO。該等之中，較佳為鋁矽酸鹽玻璃。實施化學強化處理之玻璃板之板厚度較佳為0.1～3.0 mm，尤佳為0.5～1.5 mm。玻璃板之物理強化處理及/或化學強化處理可於在玻璃板之主面形成防眩區域之前進行，亦可於形成之後進行。藉由本實施形態之玻璃基板之製造方法製造之玻璃基板之特徵在於：其具備玻璃板、形成於上述玻璃板之至少一主面之防眩區域、及形成於與上述防眩區域相同之主面之非防眩區域，且上述非防眩區域為將防眩區域之一部分去除而成之非平坦面，該非平坦面內之最大高低差為0.6 μm以下。非防眩區域係暫且經防眩處理，其後藉由研磨、雷射光之照射、與蝕刻液接觸等方法將防眩區域之一部分去除而成之非平坦面。於本說明書中，所謂非平坦面係以並非玻璃板成形時之火焰拋光面之含意使用。其原因在於將防眩區域去除時以某些形狀切削玻璃板表面。若非防眩區域為火焰拋光面，於其周圍鄰接設有防眩區域，則可能於其邊界產生由對比度差所致之干擾條紋。然而，對於本實施形態之玻璃基板而言，非防眩區域並非火焰拋光面而為非平坦面，藉此可抑制與鄰接之防眩區域之邊界部之對比度差，且該非平坦面內之最大高低差為0.6 μm以下，藉此可抑制透過之光之不均或散射，形成良好之外觀品質。 (第2實施形態) 圖7係模式性地表示本發明之第2實施形態之玻璃基板之製造方法的流程圖。參照圖7，對本發明之第2實施形態之玻璃基板之製造方法簡單地進行說明。如圖7所示，本發明之第2實施形態之玻璃基板之製造方法具備於玻璃板之至少一主面形成防眩區域之步驟(防眩步驟)S1、將防眩區域之一部分去除之步驟(去除步驟)S2、及將玻璃板切斷之步驟(切斷步驟)S3。第2實施形態於在切斷步驟之前實施去除步驟之方面與上述第1實施形態不同。除此以外之方面與上述第1實施形態相同，因此省略詳細之說明。如第1實施形態及第2實施形態所示，可先實施切斷步驟與去除步驟之任一者，可適當更換實施。 (實施例) 以下示出本發明之實施例。例1～3、15為實施例，例4～14為比較例。例1～12使用於玻璃板之主面設有以二氧化矽為主成分之二氧化矽系防眩膜者，例13～15使用藉由凍結處理於玻璃板本身之表面形成有凹凸者。關於研磨磨粒，於例1～4、8～10、13、14中使用白色氧化鋁質研磨材(WA)，於例5、12中使用金剛石，於例6中使用氧化鈰，於例7、11、15中使用綠色碳化矽(GC)。關於研磨磨石之黏結劑，於例5、12中使用金屬黏結劑，於除此以外之例中使用樹脂(resin)黏結劑，但僅於例1使用彈性模數低於其他例之樹脂黏結劑。研磨磨石之移動速度係於所有例中設為2500 mm/min，加工時間係設為150秒。任一例之自表面之去除量均為1 μm左右。於例1～4、10～15中亦實施精加工研磨步驟，該精加工研磨步驟採用如下軌跡：以研磨磨石之中心始終穿過非防眩區域之圓中心之方式使其沿半徑方向移動，以逐漸改變其方向進行之方式研磨。再者，例1～15全部使用於研磨磨石之成為研磨面之下部端面之外周設有倒角部，且倒角部與下部端面所成之角為45°者。亦利用未設有倒角部之研磨磨石進行相同之實驗，但無論如何變更條件，均無法精加工成透過之光無不均或散射揺晃之良好之非防眩區域。關於去除步驟之結果，對於可精加工成透過之光無不均或散射搖晃之良好之非防眩區域之例，將結果之項目記作○。將所有結果示於以下之表1。由例1～12之結果可知：於防眩區域係於玻璃板之主面設置以二氧化矽為主成分之二氧化矽系防眩膜而成者之情形時，有研磨磨石之轉速較低、黏結劑較軟之情況可獲得良好結果之傾向。又，由例13～15之結果可知：於防眩區域係藉由凍結處理於玻璃板本身之表面形成凹凸而成者之情形時，有較佳為使用努氏硬度高於將防眩膜去除之情形時之研磨磨粒，研磨磨石之轉速較高之情況可獲得良好結果之傾向。 [表1] 圖8～圖11分別為例1～4之非防眩區域之高度曲線及利用顯微鏡進行觀察而得之俯視圖。圖8與例1對應，圖9與例2對應，圖10與例3對應，圖11與例4對應。由圖8～圖11可知，結果之項目為○之例1～3中，非防眩區域之非平坦面內之最大高低差為0.6 μm以下。進而，於獲得非常良好之特性之例1中，非防眩區域之非平坦面內之最大高低差為0.4 μm以下。再者，雖未圖示，但結果之項目為×之例4～14中，非防眩區域之非平坦面內之最大高低差超過0.6 μm。詳細且參照特定實施態樣對本發明進行了說明，但該技術領域之業者明確，可於不脫離本發明之精神及範圍之情況下加以各種變更或修正。本申請案係基於2015年12月21日提出申請之日本專利申請案2015-248356者，將其內容以參照之方式引入至本文中。

1‧‧‧研磨磨石 2‧‧‧支持部 3‧‧‧磨石部 4‧‧‧下部端面 5‧‧‧倒角部 6‧‧‧非防眩區域 S1～S3‧‧‧步驟 α‧‧‧角

圖1係模式性地表示本發明之第1實施形態之玻璃基板之製造方法的流程圖。圖2係表示可用於本發明之第1實施形態之去除步驟的研磨磨石之一例之剖視圖。圖3係表示去除步驟S3中之研磨磨石1之軌跡的一例之俯視圖。圖4係表示於使研磨磨石沿圓周方向移動之情形時的非防眩區域之一例的由顯微鏡所獲得之俯視圖。圖5係表示本發明之第1實施形態之精加工研磨步驟之研磨磨石之軌跡的一例之俯視圖。圖6係表示本發明之第1實施形態之精加工研磨步驟之研磨磨石之軌跡的一例之俯視圖。圖7係模式性地表示本發明之第2實施形態之玻璃基板之製造方法的流程圖。圖8係例1之非防眩區域之高度曲線及利用顯微鏡進行觀察而得之俯視圖。圖9係例2之非防眩區域之高度曲線及利用顯微鏡進行觀察而得之俯視圖。圖10係例3之非防眩區域之高度曲線及利用顯微鏡進行觀察而得之俯視圖。圖11係例4之非防眩區域之高度曲線及利用顯微鏡進行觀察而得之俯視圖。

Claims

一種玻璃基板之製造方法，其特徵在於：其具備於玻璃板之至少一主面形成防眩區域之步驟、將上述玻璃板切斷之切斷步驟、及將上述防眩區域之一部分去除之去除步驟。
如請求項1之玻璃基板之製造方法，其中上述去除步驟係於上述切斷步驟之前實施。
如請求項1之玻璃基板之製造方法，其中上述切斷步驟係於上述去除步驟之前實施。
如請求項1至3中任一項之玻璃基板之製造方法，其中上述去除步驟係將防眩區域之一部分去除成為圓形狀。
如請求項4之玻璃基板之製造方法，其中上述去除步驟係使用圓柱形狀之磨石實施。
如請求項5之玻璃基板之製造方法，其中上述圓柱形狀之磨石係於上述去除步驟中與上述玻璃板之主面接觸之面的外周以20～60°之角度倒角。
如請求項5之玻璃基板之製造方法，其中上述防眩區域係藉由上述玻璃板之蝕刻形成，上述圓柱形狀之磨石所含之磨粒之努氏硬度(HK)為2000～4000。
如請求項6之玻璃基板之製造方法，其中上述防眩區域係藉由上述玻璃板之蝕刻形成，上述圓柱形狀之磨石所含之磨粒之努氏硬度(HK)為2000～4000。
如請求項5之玻璃基板之製造方法，其中上述防眩區域係由設置於上述玻璃板上之防眩膜所形成，上述圓柱形狀之磨石所含之磨粒之努氏硬度(HK)為2000以下。
如請求項6之玻璃基板之製造方法，其中上述防眩區域係由設置於上述玻璃板上之防眩膜所形成，上述圓柱形狀之磨石所含之研磨磨粒之努氏硬度(HK)為2000以下。
如請求項1之玻璃基板之製造方法，其中上述去除步驟包括包含磨石之軌跡不同之主研磨步驟及精加工研磨步驟的至少2種研磨步驟。
一種玻璃基板，其特徵在於：其具備玻璃板、形成於上述玻璃板之至少一主面之防眩區域、及形成於與上述防眩區域相同之主面之非防眩區域，且上述非防眩區域為將防眩區域之一部分去除而成之非平坦面，該非平坦面內之最大高低差為0.6 μm以下。
如請求項12之玻璃基板，其中上述非平坦面面內之最大高低差為0.4 μm以下。
如請求項12或請求項13之玻璃基板，其中上述非防眩區域為圓形狀。