TW201606459A - 具有無需潤滑之接觸對的時計機構 - Google Patents

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Abstract

一種時計機構,包含一對組件,具有一第一組件,其包括取自包括有固體單晶性及天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,及第二組件至少在其第二摩擦表面中包括具有大於10原子百分比之高濃度硼之材料,及在一特殊實施例中,此第二相對組件包括至少一含硼陶瓷。 一種用於製造此機構之方法。 一種用於轉變此機構之方法。

Description

具有無需潤滑之接觸對的時計機構
本發明關於一種具有改良摩潤學(tribology)之時計機構。
本發明尤其關於一種時計機構,包括至少一對組件,包含一第一組件,其包括取自包括有二氧化矽(SiO2)、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合。
本發明亦關於一種包括此機構之時計機芯。
本發明亦關於一種包括此時計機芯及/或此機構之時計。
本發明亦關於一種製造此型機構之方法。
本發明亦關於一種轉變此機構之方法。
本發明關於時計機構之領域,包括永恆運動之組件,及較明確說為擒縱機構之領域。
時計設計師一向竭力於增加機芯的可靠性,以致減少維修操作的頻率,同時確保時計機芯之準確操作。
擒縱輪及小齒輪與移動組件之潤滑是項待解決的難題。長時間的潤滑測試是產生解決方法所必要的,以便簡化或甚至省除潤滑。
較明確說,其係藉由嘗試界定具有穩定、低摩擦係數及低磨損、並且呈現長時間優異耐磨性的成對摩擦材料,以尋求達成擒縱機構之無潤滑操作。
在時計擒縱機構中無需潤滑之摩擦接觸的材料使用範疇內,近年來的研發趨勢顯示自身摩擦之微晶或巨晶性化學氣相沈積(CVD)金剛石會造成擒縱機構在有限操作時間後停止。在習知鋼/紅寶石擒縱機構之情況中,這個問題需要在潤滑後接著做定期維修。
DAMASKO之歐洲專利申請案1233314A1號揭露一具有擒縱叉與擒縱輪之擒縱機構,其中至少一接觸表面係以類金剛石碳(或DLC)塗佈。
CSEM之歐洲專利申請案0732635A1號揭露一微機械組件之製造,特別是一擒縱機構之擒縱叉,其具有一包括無特定成分之氮化矽的摩擦表面。此申請案設想到一配對具有一改良摩潤學之配對件,此申請案引證氮化鈦與碳化鈦配對關係,或氮化鈦與碳化矽配對關係。
本發明提出對於此問題之解決方式。
本發明之一目的在一種時計機構之無潤滑式操作,其藉由防止阻塞現象出現在含有擒縱叉瓦與塗有化學氣相沈積(CVD)金剛石之擒縱輪的擒縱機構中。
本發明尤其關於含硼材料在一時計機構之至少一接觸表面中的使用情形。
就此而言,本發明關於一種時計機構,包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括取自包括有二氧化矽(SiO2)、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其特徵在該第二相對組件至少在該第二摩擦表面中包括具有大於10原子百分比之高濃度硼之材料,及該第二相對組件包括至少一含硼陶瓷。
本發明關於一種時計機構,包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括取自包括有二氧化矽(SiO2)、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其特徵在該第二相對組件至少在該第二摩擦表面中包括具有大於10原子百分比之高濃度硼之材料,及其中該第一組件包括第一摩擦層,及其中該第一組件係與取自該第一族群材料的該第一摩擦層形成一單件。
本發明關於一種時計機構,包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括取自包括有二氧化矽(SiO2)、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其特徵在該第二相對組件至少在該第二摩擦表面中包括具有大於10原子百分比之高濃度硼之材料,及其中該第二組件包括表面摩擦層,及其中該第二組件係與由含硼陶瓷材料形成或包括至少一含硼陶瓷之該第二摩擦層形成一單件。
本發明關於一種時計機構,包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括取自包括有二氧化矽(SiO2)、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其特徵在該第二相對組件至少在該第二摩擦表面中包括具有大於10原子百分比之高濃度硼之材料,及其中該機構係一擒縱機構及包括複數對之該組件,一方面各以擒縱輪組之輪齒為基礎形成,另方面則以擒縱叉之擒縱叉瓦為基礎。
本發明亦關於一種包括此機構之時計機芯。
本發明亦關於一種包括此時計機芯及/或此機構之時計。
本發明亦關於一種製造此型機構之方法,其特徵在: - 製成該第一組件,及使用取自該第一族群材料的該第一摩擦層塗佈;- 製成該第二組件,及使用由含硼陶瓷形成或包括至少一含硼陶瓷的該第二層塗佈;- 該第一摩擦層之該第一摩擦表面係以乾式接觸、無潤滑方式配合該第二摩擦層之該第二摩擦表面。
本發明亦關於一種用於製造此類型時計機構之方法,該時計機構包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其特徵在:- 第一摩擦層施加於該第一摩擦表面,以形成新的第一硬摩擦表面,該第一摩擦層係取自包括有二氧化矽、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及- 第二摩擦層施加於該第二摩擦表面,以形成新的第二硬摩擦表面,該第二摩擦層係由含硼陶瓷形成或包括至少一含硼陶瓷,及- 該新的第一硬摩擦表面係以乾式接觸、無潤滑方式配合該新的第二硬摩擦表面。
1‧‧‧一對組件
2‧‧‧第一組件
3‧‧‧第二組件
4‧‧‧輪齒
5‧‧‧擒縱叉瓦
20‧‧‧第一摩擦層
21‧‧‧第一摩擦表面
30‧‧‧第二摩擦層
31‧‧‧第二摩擦表面
40‧‧‧擒縱輪
50‧‧‧擒縱叉
100‧‧‧時計機構
200‧‧‧時計機芯
210‧‧‧第一硬摩擦表面
300‧‧‧時計
310‧‧‧第二硬摩擦表面
本發明之其他特性及優點可以在審讀文後之詳細說明並配合附圖後瞭解,其中: 圖1揭示一擒縱機構之概略平面圖,特別是在根據本發明配置之接觸表面上的擒縱叉瓦與操作接觸之擒縱輪。
圖2揭示相對立接觸表面之間的配合情形概略圖。
圖3揭示包括有機芯之時計之方塊圖,機芯包括一擒縱機構,擒縱機構包含根據本發明配置之一對組件。
本發明關於在一時計機芯中用於與金剛石做無潤滑摩擦接觸之含硼材料的使用,較明確說為含硼陶瓷。
本發明在於將摩擦配對件的其中一者(通常是金剛石對金剛石)更換成含硼材料,及較明確的是含硼陶瓷,特別是非氧化物陶瓷。
習於此技者瞭解(金剛石之非潤滑摩擦)的是表面不飽和鍵會因摩擦配對件導致化學鍵結的產生,造成摩擦係數增加並可能黏結,特別是如果另一配對件為相同性質時[A.Erdemir,C.Donnet "Tribology of Diamond,Diamond-Like Carbon,and Related Films"]。這些不飽和鍵之鈍化可能來自周圍環境、濕度、氣體。
在化學氣相沈積金剛石擒縱機構在幾十微米寬度表面上以極低接觸力(~1mN)摩擦的情況中,周圍環境造成之鈍化似乎不易發生,導致顯著磨損、石墨碎屑sp2形成,其透過黏結而加速了擒縱機構的阻塞。
金剛石與其他材料之間的摩擦機制極為複雜。
惟,與金剛石摩擦的一配對件可以直接提供自由原子 以形成和碳不飽和鍵的鏈結,其有利於在機芯中所遭遇到的低接觸力下鈍化。鈍化可防止鍵結出現。
穩定的低係數曾在微晶性化學氣相沈積金剛石面對稱為BAM(AlMgB14+TiB2,"NewTech Ceramics")之硼陶瓷的摩擦中取得。
無黏結的良好潤滑行為亦可在硼陶瓷面對單晶性、微晶性或奈米晶金剛石的摩擦中取得。
典型上,硼陶瓷像是BAM可以製造成薄層或固體形式。用於取得薄層陶瓷之製造方法很特別,但是並非獨一無二:即PVD(濺射、脈衝雷射沈積、等等)、化學氣相沈積(CVD)、低壓化學氣相沈積(LPCVD)、電漿增強型化學氣相沈積(PECVD)。固體陶瓷之製造通常透過羒末燒結法達成。
在一時計應用之範疇內,一特別折衷之組態係關於一擒縱機構,特別是瑞士槓桿或同軸向型擒縱機構,其具有一由塗佈矽之化學氣相沈積金剛石製成的擒縱輪(及/或齒輪),係摩擦於固體硼陶瓷擒縱叉瓦。
可由本發明取得之非詳盡組態可引用如下:- 塗有硼陶瓷之矽擒縱輪/塗有化學氣相沈積金剛石之矽擒縱叉瓦;- 塗有化學氣相沈積金剛石之矽擒縱輪/塗有硼陶瓷之矽擒縱叉瓦;- 塗有化學氣相沈積金剛石之矽擒縱輪/固體硼陶瓷之矽擒縱叉瓦。
應該注意的是矽基板可由其他材料取代,像是金屬、碳化矽、氮化矽、氧化矽、石英、玻璃或容許硼陶瓷層或化學氣相沈積金剛石層沈積及黏接之任意其他陶瓷或材料。
硼陶瓷或金剛石層之厚度範圍一般是從100奈米至10微米。
硼陶瓷是有利的選擇,以便取得接近於化學氣相沈積金剛石者之高硬度。子層可用於增進層黏接於硼及/或影響其應力狀態。
顯然,並非所有硼陶瓷都具備相同功能。
尤其是可以使用下列硼陶瓷:
- 硼化鋁鎂(AlMgB14)或BAM+二硼化鈦(TiB2)
- 硼化鋁鎂(AlMgB14)或BAM
- 硼化物:(TiB2、AlB2、ZrB2、TaB2、NiB、VB2、SiB4、boron carbide B4C、及類似者)
- 立方氮化硼(CBN),尤其是多晶性立方氮化硼
- 三氧化硼或無水氧化硼(B2O3)。
吾人亦知含硼陶瓷可對二氧化矽(SiO2)展現優異摩擦性質,像是B4C、TiB2、或BAM,特別是由「New Tech Ceramics」生產者、或類似物,實際上,此硼陶瓷/二氧化矽配對比硼陶瓷/金剛石配對更具有獨立於周圍濕度的優點。二氧化矽所含之H2及H2O,尤其是藉由濕式氧化取得者,其在界面處產生硼酸膜,以確保自行潤滑,即使是在低周圍溫度之情況下。儘 管硼/金剛石配對在周圍溫度大於40%時提供良好摩擦性能,但是硼陶瓷/二氧化矽配對則在周圍溫度小於40%時可供取得極低摩擦係數(<0.2)。
本發明亦關於碳的同素異性體,像是:微奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石及類金剛石碳(DLC)。典型上,這些碳的同素異性體係使用一般技術沈積成薄層,像是化學氣相沈積、電漿增強型化學氣相沈積、物理氣相沈積、等等。
固體的人造或天然金剛石可以取代紅寶石擒縱叉瓦;金剛石擒縱叉瓦即摩擦於一塗有硼陶瓷之擒縱輪。
因此,在一較佳應用中,本發明關於一種時計機構100,包含至少一對組件1,即包括第一組件2,其包括取自包括有二氧化矽、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面21,配置成與包含在第二相對組件3中之第二摩擦表面31配合。
根據本發明,第二組件3至少在其第二摩擦表面31中包括一具有高濃度硼之材料。
較佳地,此材料具有高於10原子百分比濃度之硼。
具有高濃度硼之此材料可以是陶瓷、金屬合金、複合材料或類似者。
較明確說,第二相對組件3包括至少一含硼陶瓷。
「陶瓷」在此是指非金屬、無機材料。
此第二組件3包括至少一含硼陶瓷,設於一表面層30中或在大多數之此第二組件3中。
在一特定變化中,第二組件3之至少一表面層30係僅由一或多個含硼陶瓷形成。
更明確說,第二組件3係僅由一或多個含硼陶瓷形成。
在一特定變化中,包含在第二組件3中之含硼陶瓷係由取自包括有化學式AlMgB14之斜方晶系硼化物、化學式Al0.75Mg0.75B10之斜方晶系硼化物、二硼化鈦(TiB2)、二硼化鋁(AlB2)、二硼化鋯(ZrB2)、二硼化鉭(TaB2)、硼化鎳(NiB)、三硼化釩(VB3)、四硼化矽(SiB4)、碳化硼(B4C)、多晶性立方氮化硼(CBN)、六方晶系氮化硼、無水氧化硼(B203)的第二族群材料構成。
在一特定變化中,含硼陶瓷係非氧化物陶瓷。
在一特定變化中,含硼陶瓷包括化學式AlMgB14之斜方晶系硼化物。
在一特定變化中,含硼陶瓷包括化學式Al0.75Mg0.75B14之斜方晶系硼化物。
在一特定變化中,含硼陶瓷包括二硼化鈦(TiB2)。
在一特定變化中,含硼陶瓷一方面包括化學式AlMgB14或Al0.75Mg0.75B14之斜方晶系硼化物,及另方面包括二硼化鈦(TiB2)。
在一特定變化中,含硼陶瓷係稱為BAM之硼化鋁 鎂,及一方面包括化學式AlMgB14之斜方晶系硼化物,及另方面包括二硼化鈦(TiB2)。
在一特定變化中,第一組件2包括由微或奈米晶化學氣相沈積金剛石構成之第一摩擦層20。
在一特定變化中,第一組件2包括第一摩擦層20,第二組件3包括表面摩擦層30,並且第一摩擦層20及第二摩擦層30各具有在100奈米與10000奈米之間的厚度。
在一特定變化中,第一組件2包括第一摩擦層20,第二組件3包括表面摩擦層30,並且第一摩擦層20及第二摩擦層30具有相似之表面厚度,第一摩擦表面21及第二摩擦表面31則分別包含於其中。
在一特定變化中,第一組件2包括第一摩擦層20,及該第一摩擦層20係製成於取自包括有矽、氧化矽、二氧化矽、碳化矽、氮化矽、石英、玻璃的第三族群材料的基板中。
在一特定變化中,第二組件3包括一表面摩擦層30,及該第二摩擦層30係製成於取自包括有矽、氧化矽、二氧化矽、碳化矽、氮化矽、石英、玻璃的第三族群材料的基板中。
在一特定變化中,第二組件3包括一表面摩擦層30,及該第二摩擦層30係製成於取自包括有碳鋼、鈷基超合金、「Phynox」K13C20N16Fe15D7、「Durnico」Z2NKDT 18-05-05、Cu Be1.9、黃銅、麻時效鋼、HIS鋼 的第四族群材料的基板中。在一特定變化中,第一組件2包括第一摩擦層20,及該第一組件2係與取自上述第一族群材料的第一摩擦層20形成一單件。
在一特定變化中,第二組件3包括一表面摩擦層30,及該第二組件3係與由含硼陶瓷材料形成或包括至少一含硼陶瓷的該第二摩擦層30形成一單件。
在一特別有利之應用中,機構100係擒縱機構,及包括複數對之該組件1,一方面各以一擒縱輪40之一輪齒4為基礎形成,另方面則以一擒縱叉50之一擒縱叉瓦5為基礎。
在一變化中,各輪齒4係由塗矽之硼陶瓷構成,及各該擒縱叉瓦5係由塗矽之化學氣相沈積金剛石構成。
在一變化中,各輪齒4係由塗矽之化學氣相沈積金剛石構成,及各擒縱叉瓦5係由塗矽之硼陶瓷構成。
在一變化中,各輪齒4係由塗矽之化學氣相沈積金剛石構成,及各擒縱叉瓦5係由固體硼陶瓷構成。
較佳及有利的是,第一摩擦表面21及第二摩擦表面31之間的接觸係無任何潤滑劑之乾式接觸。
本發明亦關於一種時計機芯200,包括至少一此類型之時計機構100。
本發明亦關於一種時計300,包括至少一此類型之時計機芯200,及/或至少一此類型之時計機構100。
本發明自然適用於本文內所述及代表本發明特別有利之示範性應用的擒縱機構以外之時計機構。
本發明亦關於一種製造此時計機構100之方法。根據本發明:- 製成第一組件2,及使用取自該第一族群材料的第一摩擦層20塗佈,或使用取自該第一族群材料製成固體;- 製成第二組件3,及使用由含硼陶瓷形成或包括至少一含硼陶瓷的第二層30塗佈,或使用包括至少一含硼陶瓷的材料製成固體;- 第一組件2之第一摩擦表面21及特別是若該第一移動組件2塗佈時之第一摩擦層20係以乾式接觸、無潤滑方式配合第二組件3之第二摩擦表面31及特別是若該第二移動組件3塗佈時之第二摩擦層30。
本發明亦關於一種用於轉變此類型時計機構之方法,時計機構包含至少一對組件1,即包括第一組件2,其包括第一摩擦表面21,配置成與包含在第二相對組件3中之第二摩擦表面31配合。根據本發明:- 第一摩擦層20施加於第一摩擦表面21,以形成新的第一硬摩擦表面210,第一摩擦層係取自包括有二氧化矽、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及- 第二摩擦層30施加於第二摩擦表面31,以形成新的第二硬摩擦表面310,第二摩擦層係由含硼陶瓷形成或包括至少一含硼陶瓷,及 - 新的第一硬摩擦表面210係以乾式接觸、無潤滑方式配合新的第二硬摩擦表面310。
2‧‧‧第一組件
3‧‧‧第二組件
20‧‧‧第一摩擦層
30‧‧‧第二摩擦層
100‧‧‧時計機構

Claims (31)

  1. 一種時計機構,包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括取自包括有二氧化矽、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其中該第二相對組件包含,至少在該第二摩擦表面中包括具有大於10原子百分比之高濃度硼之材料,及其中該第二組件包含至少一含硼陶瓷。
  2. 如申請專利範圍第1項之時計機構,該第二組件至少包括該含硼陶瓷於表面層中,或在大多數之該第二組件中。
  3. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第二組件之該至少一表面層係僅由一或多個含硼陶瓷形成。
  4. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第二組件係僅由一或多個含硼陶瓷形成。
  5. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該含硼陶瓷係由取自包括有化學式AlMgB14之斜方晶系硼化物、化學式Al0.75Mg0.75B14之斜方晶系硼化物、二硼化鈦、二硼化鋁、二硼化鋯、二硼化鉭、硼化鎳、三硼化釩、四硼化矽、碳化硼、多晶性立方氮化硼、六方晶系氮化硼、無水氧化硼的第二族群材料構成。
  6. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該含硼陶瓷係非氧化物陶瓷。
  7. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該含硼陶瓷包括化學式AlMgB14之斜方晶系硼化物。
  8. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該含硼陶瓷包括化學式Al0.75Mg0.75B14之斜方晶系硼化物。
  9. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該含硼陶瓷包括二硼化鈦。
  10. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該含硼陶瓷一方面包括化學式AlMgB14或Al0.75Mg0.75B14之斜方晶系硼化物,及另方面包括二硼化鈦。
  11. 如申請專利範圍第10項之時計機構,其中該含硼陶瓷係稱為BAM之硼化鋁鎂,及一方面包括化學式AlMgB14之斜方晶系硼化物,及另方面包括二硼化鈦。
  12. 如申請專利範圍第10或11項之時計機構,其中該第一組件包括由微或奈米晶化學氣相沈積金剛石構成之第一摩擦層。
  13. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第一組件包括第一摩擦層及其中該第二組件包括表面摩擦層,及其中該第一摩擦層及該第二摩擦層各具有在100奈米與10000奈米之間的厚度。
  14. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第一組件包括第一摩擦層及其中該第二組件包括表面摩擦層,及其中該第一摩擦層及該第二摩擦層在該第一摩擦表面及該第二摩擦表面上具有相似之表面厚度。
  15. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第一 組件包括第一摩擦層,及其中該第一摩擦層係製成於取自包括有矽、氧化矽、二氧化矽、碳化矽、氮化矽、石英、玻璃的第三族群材料的基板中。
  16. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第二組件包括第二表面摩擦層,及其中該第二摩擦層係製成於取自包括有矽、氧化矽、二氧化矽、碳化矽、氮化矽、石英、玻璃的第三族群材料的基板中。
  17. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第二組件包括第二表面摩擦層,及其中該第二摩擦層係製成於取自包括有碳鋼、鈷基超合金、「Phynox」K13C20N16Fe15D7、「Durnico」Z2NKDT 18-05-05、Cu Be1.9、黃銅、麻時效鋼、HIS鋼的第四族群材料的基板中。
  18. 一種時計機構,包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括取自包括有二氧化矽、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其中該第二相對組件至少在其該第二摩擦表面中包括具有大於10原子百分比之高濃度硼之材料,及其中該第一組件包括第一摩擦層,及其中該第一組件係與取自該第一族群材料的該第一摩擦層形成一單件。
  19. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第一組件包括第一摩擦層,及其中該第一組件係與取自該第一 族群材料的該第一摩擦層形成一單件。
  20. 一種時計機構,包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括取自包括有二氧化矽、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其中該第二相對組件至少在其該第二摩擦表面中包括具有大於10原子百分比之高濃度硼之材料,及其中該第二組件包括表面摩擦層,及其中該第二組件係與由含硼陶瓷材料形成或包括至少一含硼陶瓷之該第二摩擦層形成一單件。
  21. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第二組件包括表面摩擦層,及其中該第二組件係與由含硼陶瓷材料形成或包括至少一含硼陶瓷之該第二摩擦層形成一單件。
  22. 一種時計機構,包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括取自包括有二氧化矽、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及其具有第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其中該第二相對組件至少在其該第二摩擦表面中包括具有大於10原子百分比之高濃度硼之材料,及其中該機構係擒縱機構及包括複數對之該組件,一方面各以擒縱輪組之輪齒為基礎形成,另方面則以擒縱叉之擒 縱叉瓦為基礎。
  23. 如申請專利範圍第22項之時計機構,其中各該輪齒係由塗矽之硼陶瓷構成,及其中各該擒縱叉瓦係由塗矽之化學氣相沈積金剛石構成。
  24. 如申請專利範圍第22項之時計機構,其中各該輪齒係由塗矽之化學氣相沈積金剛石構成,及其中各該擒縱叉瓦係由塗矽之硼陶瓷構成。
  25. 如申請專利範圍第22項之時計機構,其中各該輪齒係由塗矽之化學氣相沈積金剛石構成,及其中各該擒縱叉瓦係由固體硼陶瓷構成。
  26. 如申請專利範圍第22項之時計機構,其中各該輪齒係由塗矽之固體硼陶瓷化學氣相沈積金剛石構成,及其中各該擒縱叉瓦係由塗矽之化學氣相沈積金剛石構成。
  27. 如申請專利範圍第1項之時計機構,其中該第一摩擦表面與該第二摩擦表面之間的接觸為乾式接觸。
  28. 一種時計機芯,包括至少一如申請專利範圍第1項之時計機構。
  29. 一種時計,包括至少一如申請專利範圍第1項之時計機構。
  30. 一種用於製造如申請專利範圍第1項之時計機構的方法,其中:- 製成該第一組件,及使用取自該第一族群材料的該第一摩擦層塗佈;- 製成該第二組件,及使用由含硼陶瓷形成或包括至 少一含硼陶瓷的該第二層塗佈;- 該第一摩擦層之該第一摩擦表面係以乾式接觸、無潤滑方式配合該第二摩擦層之該第二摩擦表面。
  31. 一種用於轉變此類型時計機構之方法,該時計機構包含至少一對組件,即包括第一組件,其包括第一摩擦表面,配置成與包含在第二相對組件中之第二摩擦表面配合,其中:- 第一摩擦層施加於該第一摩擦表面,以形成新的第一硬摩擦表面,該第一摩擦層係取自包括有二氧化矽、天然金剛石、微或奈米晶化學氣相沈積金剛石、固體單晶性金剛石、及稱為類金剛石碳或「DLC」之非晶性碳的第一族群材料,及- 第二摩擦層施加於該第二摩擦表面,以形成新的第二硬摩擦表面,該第二摩擦層係由含硼陶瓷形成或包括至少一含硼陶瓷,及- 該新的第一硬摩擦表面係以乾式接觸、無潤滑方式配合該新的第二硬摩擦表面。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3171230B1 (fr) * 2015-11-19 2019-02-27 Nivarox-FAR S.A. Composant d'horlogerie a tribologie amelioree
CH713144A1 (fr) * 2016-11-17 2018-05-31 Richemont Int Sa Échappement pour pièce d'horlogerie.
EP3499317B1 (fr) * 2017-12-13 2024-08-21 Rolex Sa Mobile de calendrier horloger
US10533606B2 (en) 2018-04-13 2020-01-14 Hamilton Sundstrand Corporation Air bearing shaft assembly with surface layer
JP7103041B2 (ja) 2018-08-03 2022-07-20 セイコーエプソン株式会社 アンクル、ムーブメント、時計
JP2022529155A (ja) * 2019-04-15 2022-06-17 ロレックス・ソシエテ・アノニム カム式時計部品
EP3783445B1 (fr) * 2019-08-22 2023-06-14 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Mécanisme régulateur d'horlogerie à haut facteur de qualité et à lubrification minimale
JP7464379B2 (ja) 2019-11-26 2024-04-09 津田駒工業株式会社 回転駆動装置
EP4303666A1 (fr) * 2022-07-06 2024-01-10 Association Suisse pour la Recherche Horlogère Composant horloger comprenant un substrat en silicium cristallin et ayant une résistance à la rupture améliorée

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5554568A (en) * 1979-10-15 1980-04-21 Seiko Epson Corp Crown bridge for watch having solid lubricating property
US4966552A (en) * 1989-05-08 1990-10-30 Den-Tal-Ez, Inc. Sterilizable non-lubricated rotary instrument for dental and medical use
JP3225576B2 (ja) * 1992-01-28 2001-11-05 住友電気工業株式会社 自己修復性硬質固体潤滑膜で被覆した摺動機械部品
FR2731715B1 (fr) * 1995-03-17 1997-05-16 Suisse Electronique Microtech Piece de micro-mecanique et procede de realisation
DE19712287C1 (de) * 1997-03-24 1998-08-20 Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt Gezahntes Bauelement zur mechanischen Kraftübertragung
EP1233314A1 (de) * 2001-02-15 2002-08-21 DAMASKO, Konrad Uhrwerk
US6755566B2 (en) * 2001-02-15 2004-06-29 Konrad Damasko Clockwork
JP4229839B2 (ja) * 2001-12-21 2009-02-25 北川工業株式会社 樹脂製軸受部を有する時計及び輪列装置
JP2008544290A (ja) * 2005-06-28 2008-12-04 ウーテーアー・エス・アー・マニファクチュール・オロロジェール・スイス 強化された微小機械部品
CH699109A1 (fr) * 2008-07-10 2010-01-15 Swatch Group Res & Dev Ltd Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique.
EP2440684B1 (en) * 2009-06-09 2018-10-31 The Swatch Group Research and Development Ltd. Method for coating micromechanical components of a micromechanical system, in particular a watch and related micromechanical coated component
EP2363762B1 (fr) * 2010-03-04 2017-11-22 Montres Breguet SA Pièce d'horlogerie comportant un mouvement mécanique à haute fréquence
CH702930A2 (fr) * 2010-04-01 2011-10-14 Patek Philippe Sa Geneve Echappement d'horlogerie à protection contre les chocs.
EP2400352A1 (fr) * 2010-06-22 2011-12-28 The Swatch Group Research and Development Ltd. Système d'échappement pour pièce d'horlogerie
CH703475B1 (fr) * 2010-07-30 2015-06-30 Swatch Group Res & Dev Ltd Procédé de réalisation d'une transmission sans contact dans un mouvement d'horlogerie.
EP2511229B1 (de) * 2011-04-12 2017-03-08 GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH Flankenverstärktes mikromechanisches Bauteil
CN103765330B (zh) * 2011-07-21 2019-01-29 斯沃奇集团研究和开发有限公司 功能性微机械组件

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Publication number Publication date
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