TW201602649A - 紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、硬化膜、近紅外線吸收濾波器、影像感測器、照相機模組及化合物 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、硬化膜、近紅外線吸收濾波器、影像感測器、照相機模組及化合物。本發明的紅外線感測器100含有紅外線透射濾波器113及近紅外線吸收濾波器111，且藉由檢出波長700nm以上且小於900nm的光來檢出物體，並且近紅外線吸收濾波器111含有在波長700nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長的近紅外線吸收物質。

Description

紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、硬化膜、近 紅外線吸收濾波器、影像感測器、照相機模組及化合物

本發明是有關於一種紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、硬化膜、近紅外線吸收濾波器、影像感測器、照相機模組及化合物。

於攝影機(video camera)、數位靜態照相機(digital still camera)、帶有照相功能的行動電話等中，一直使用作為彩色圖像的固體攝像元件的電荷耦合元件(Charge-Coupled Device，CCD)或互補式金屬氧化膜半導體(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor，CMOS)影像感測器。該些固體攝像元件於其受光部中使用對近紅外線具有感度的矽光電二極體(silicon photodiode)，故必須進行視感度修正，大多情況下使用近紅外線吸收濾波器。

作為具有近紅外線吸收能力的化合物，已知吡咯并吡咯色素 等(例如專利文獻1、非專利文獻1等)。

[現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2011-68731號公報

[非專利文獻]

[非專利文獻1]「德國應用化學(Angew.Chem.Int.Ed.)」(2007，46，3750.)

亦正在研究於各種用途中將固體攝像元件活用作感測器等。

例如，近紅外線與可見光相比波長更長，故不易散射，亦可活用於距離測量或三維測量等。另外，近紅外線不會被人、動物等的眼睛看見，因此即便於夜間以近紅外線光源照射被攝體亦不會引起被攝體注意，可作為拍攝夜行性野生動物的用途、防止犯罪用途而不刺激對象來進行拍攝。

如此，正在研究將固體攝像元件用於檢出近紅外線而檢出物體的紅外線感測器等。

因此，本發明的目的在於提供一種偵測性及畫質優異的紅外線感測器、近紅外線吸收組成物、硬化膜、近紅外線吸收濾波器、影像感測器、照相機模組及化合物。

本發明者等人進行了詳細研究，結果發現，藉由在近紅外線吸收濾波器中含有在特定的波長範圍內具有極大吸收波長的近紅外線吸收物質，可解決所述課題，從而完成了本發明。本發明提供以下內容。

<1>一種紅外線感測器，具有紅外線透射濾波器及近紅外線吸收濾波器，且藉由檢出波長700nm以上且小於900nm的光來檢出物體，並且近紅外線吸收濾波器含有在波長700nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長的近紅外線吸收物質。

<2>如申請專利範圍第1項所記載的紅外線感測器，其中近紅外線吸收物質為下述通式(1)所表示的化合物；

通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基；R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環狀結構；R⁴分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立 地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；其中，通式(1)滿足選自以下要件中的至少一個要件：選自R^1a、R^1b及R⁴中的至少一個具有交聯基；以及選自R²及R³中的至少一個經由環狀結構基而具有交聯基。

<3>如<2>所記載的紅外線感測器，其中近紅外線吸收物質滿足選自下述1)~3)的要件中的至少一個；1)通式(1)中，選自R^1a及R^1b中的至少一個經由具有芳香族性的環狀結構基而具有交聯基；2)通式(1)中，R²或R³經由具有芳香族性的環狀結構基而具有交聯基；3)通式(1)中，R⁴經由環狀結構基而具有交聯基。

<4>如<1>至<3>中任一項所記載的紅外線感測器，其中近紅外線吸收物質於一分子中具有2個以上的交聯基。

<5>如<2>至<4>中任一項所記載的紅外線感測器，其中於交聯基為烯烴基或苯乙烯基的情形時，近紅外線吸收物質於一分子中具有3個以上的交聯基。

<6>如<2>至<5>中任一項所記載的紅外線感測器，其中近紅外線吸收物質的R⁴表示(R^4A)₂B-；其中，R^4A分別獨立地表示原子或基團。

<7>如<2>至<6>中任一項所記載的紅外線感測器，其 中近紅外線吸收物質的R²及R³的其中一個為氰基，另一個具有雜環基。

<8>如<1>或<2>所記載的紅外線感測器，其中近紅外線吸收物質為下述通式(2)~通式(4)的任一個所表示的化合物；

通式(2)中，Z^1a及Z^1b分別獨立地表示形成芳基環或雜芳基環的原子組群；R^5a及R^5b分別獨立地表示碳數6~20的芳基、碳數4~20的雜芳基、碳數1~20的烷基、碳數1~20的烷氧基、碳數2~20的烷氧基羰基、羧基、胺甲醯基、鹵素原子或氰基的任一個；R^5a或R^5b與Z^1a或Z^1b亦可鍵結而形成縮合環；R²²及R²³分別獨立地表示氰基、碳數2~6的醯基、碳數2~6的烷氧基羰基、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基亞磺醯基或碳數3~20的含氮雜芳基，或者R²²及R²³鍵結而表示環狀酸性核；R²⁴表示氫原子、碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基、碳數3~20的 雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R²⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^5a及R²²~R²⁴中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；通式(2)滿足選自以下要件中的至少一個要件：選自R^5a、R^5b及R²⁴中的至少一個具有交聯基；以及選自R²²及R²³中的至少一個經由碳數3~20的含氮雜芳基而具有交聯基；

通式(3)中，R^31a及R^31b分別獨立地表示碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基或碳數3~20的雜芳基；R³²表示氰基、碳數2~6的醯基、碳數2~6的烷氧基羰基、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基亞磺醯基或碳數3~10的含氮雜芳基；R⁶及R⁷分別獨立地表示氫原子、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基或碳數3~10的雜芳基，R⁶及R⁷亦可相互鍵結而形成環，所形成的環為碳數5~10的脂環、碳數6~10的芳基環或碳數3~10的雜芳基環；R⁸及R⁹分別獨立地表示碳數1~10的烷基、碳數1~10的 烷氧基、碳數6~20的芳基或碳數3~10的雜芳基；X表示氧原子、硫原子、-NR-、-CRR'-或-CH=CH-，R及R'分別獨立地表示氫原子、碳數1~10的烷基或碳數6~10的芳基；選自R⁶~R⁹、R^31a、R^31b及R³²中的至少一個具有交聯基；

通式(4)中，R^41a及R^41b表示互不相同的基團，表示碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基或碳數3~20的雜芳基；R⁴²表示氰基、碳數1~6的醯基、碳數2~6的烷氧基羰基、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基亞磺醯基或碳數3~10的含氮雜芳基；Z²分別獨立地表示與-C=N-一起形成含氮雜五員環或含氮雜六員環的原子組群；R⁴⁴表示氫原子、碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基、碳數4~20的雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與Z²所形成的含氮雜環形成共價鍵或配位鍵；選自R^41a、R^41b、R⁴²及R⁴⁴中的至少一個具有交聯 基。

<9>如<1>或<2>所記載的紅外線感測器，其中近紅外線吸收物質為下述通式(5)所表示的化合物；

通式(5)中，L^1a、L^1b、L²及L³分別獨立地表示單鍵或二價連結基；R⁵分別獨立地表示氫原子或取代基；Z¹表示與-C=N-一起形成含氮雜五員環或含氮雜六員環的原子組群；K^1a、K^1b、K²及K³分別獨立地表示氫原子、氟原子或交聯基，至少一個表示交聯基；M表示硼原子、磷原子、矽原子或金屬原子；n分別獨立地表示1~3的整數；M與N的虛線的鍵表示配位鍵。

<10>如<9>所記載的紅外線感測器，其中近紅外線吸收物質滿足選自下述1A)~3A)的要件中的至少一個；1A)通式(5)中，選自L^1a及L^1b中的至少一個含有具有芳香族性的環狀結構基；2A)通式(5)中，L²含有芳香族烴基； 3A)通式(5)中，L³含有具有芳香族性的環狀結構基。

<11>如<9>所記載的紅外線感測器，其中通式(5)中，L^1a及L^1b分別獨立地表示單鍵或碳數1~30的伸烷基、碳數6~20的伸芳基、碳數3~20的伸雜芳基、-O-、-S-、-C(=O)-或包含該些基團的組合的基團，L²分別獨立地表示單鍵或碳數1~20的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的伸雜芳基、-O-、-S-、-C(=O)-或包含該些基團的組合的基團，L³分別獨立地表示單鍵或碳數1~20的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的伸雜芳基、-O-、-S-、-C(=O)-或包含該些基團的組合的基團，R⁵由氰基或下述通式(6)的結構表示； 通式(6)中，L⁴表示單鍵或-O-、-C(=O)-、亞磺醯基、碳數1~10的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的含氮伸雜芳基或包含該些基團的組合的基團，K⁴表示交聯基。

<12>如<2>至<11>中任一項所記載的紅外線感測器，其中交聯基為選自(甲基)丙烯醯氧基、環氧基、氧雜環丁基、異氰酸基、羥基、胺基、羧基、硫醇基、烷氧基矽烷基、羥甲基、乙 烯基、(甲基)丙烯醯胺基、磺基、苯乙烯基及馬來醯亞胺基中的一種以上。

<13>如<2>至<11>中任一項所記載的紅外線感測器，其中交聯基為選自(甲基)丙烯醯氧基、乙烯基、環氧基及氧雜環丁基中的一種以上。

<14>如<2>至<11>中任一項所記載的紅外線感測器，其中交聯基為選自下述通式(A-1)~通式(A-3)所表示的交聯基中的至少一種；

式(A-1)中，R¹⁵、R¹⁶及R¹⁷分別獨立地表示氫原子、碳數1~18的烷基、碳數1~18的烯基、碳數1~18的炔基、碳數3~18的環烷基、碳數3~18的環烯基、碳數3~18的環炔基或碳數6~18的芳基；式(A-2)中，R¹⁸、R¹⁹及R²⁰分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF₃；式(A-3)中，R²¹及R²²分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF₃，Q表示1或2。

<15>如<14>所記載的紅外線感測器，其中式(A-1)中， R¹⁶及R¹⁷表示氫原子，式(A-2)中，R¹⁹及R²⁰表示氫原子，式(A-3)中，R²¹及R²²表示氫原子。

<16>一種近紅外線吸收組成物，其是用於形成藉由檢出波長700nm以上且小於900nm的光來檢出物體的紅外線感測器的近紅外線吸收層，並且所述近紅外線吸收組成物含有在波長700nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長的近紅外線吸收物質。

<17>如<16>所記載的近紅外線吸收組成物，其中近紅外線吸收物質為下述通式(1)所表示的化合物；

通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基；R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環狀結構；R⁴表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^1a、 R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；其中，通式(1)滿足選自以下要件中的至少一個要件：選自R^1a、R^1b及R⁴中的至少一個具有交聯基；以及選自R²及R³中的至少一個經由環狀結構基而具有交聯基；並且於交聯基為烯烴基或苯乙烯基的情形時，交聯基的合計為3以上。

<18>一種近紅外線吸收組成物，含有下述通式(1)所表示的化合物。

通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基；R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環狀結構；R⁴表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；其中，通式(1)滿足選自以下要件中的至少一個要件：選自R^1a、R^1b及R⁴中的至少 一個具有交聯基；以及選自R²及R³中的至少一個經由環狀結構基而具有交聯基；並且於交聯基為烯烴基或苯乙烯基的情形時，交聯基的合計為3以上。

<19>如<16>至<18>中任一項所記載的近紅外線吸收組成物，更含有選自硬化性化合物、聚合起始劑、硬化劑及溶劑中的至少一種。

<20>如<16>至<19>中任一項所記載的近紅外線吸收組成物，更含有與近紅外線吸收物質或通式(1)所表示的化合物不同的色素。

<21>一種硬化膜，其是使用如<16>至<20>中任一項所記載的近紅外線吸收組成物而成。

<22>一種近紅外線吸收濾波器，其是使用如<16>至<20>中任一項所記載的近紅外線吸收組成物而成。

<23>一種影像感測器，具有光電轉換元件、及所述光電轉換元件上的如<22>所記載的近紅外線吸收濾波器。

<24>一種照相機模組，具有固體攝像元件及如<22>所記載的近紅外線吸收濾波器。

<25>一種下述通式(1)所表示的化合物，[化10]

通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基；R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環狀結構；R⁴表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；其中，通式(1)滿足選自以下要件中的至少一個要件：選自R^1a、R^1b及R⁴中的至少一個具有交聯基、以及選自R²及R³中的至少一個經由環狀結構基而具有交聯基；並且於交聯基為烯烴基或苯乙烯基的情形時，交聯基的合計為3以上。

<26>如<25>所記載的化合物，其中通式(1)中，R²及R³的其中一個為氰基，另一個為具有雜環基的基團。

<27>如<25>或<26>所記載的化合物，其中交聯基為選自(甲基)丙烯醯氧基、環氧基、氧雜環丁基、異氰酸基、羥基、胺基、羧基、硫醇基、烷氧基矽烷基、羥甲基、乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、磺基、苯乙烯基及馬來醯亞胺基中的一種以上，於交聯 基為乙烯基或苯乙烯基的情形時，交聯基的合計為3以上。

根據本發明，可提供一種偵測性及畫質優異的紅外線感測器。另外，可提供一種近紅外線吸收組成物、硬化膜、近紅外線吸收濾波器、影像感測器、照相機模組及化合物。

另外，根據本發明的近紅外線吸收組成物，因色素具有交聯基，故可提供一種耐溶劑性優異、光微影性優異的硬化膜。

1‧‧‧透鏡光學系統

10‧‧‧固體攝像元件

20‧‧‧信號處理部

30‧‧‧信號切換部

40‧‧‧控制部

50‧‧‧信號蓄積部

60‧‧‧發光控制部

70‧‧‧紅外LED

80、81‧‧‧圖像輸出部

100‧‧‧近紅外線感測器

110‧‧‧固體攝像元件基板

111‧‧‧近紅外線吸收濾波器

112‧‧‧彩色濾波器

113‧‧‧紅外線透射濾波器

114‧‧‧區域

115‧‧‧微透鏡

116‧‧‧平坦化層

hv‧‧‧入射光

圖1為表示本發明的紅外線感測器的一實施形態的構成的概略剖面圖。

圖2為應用本發明的紅外線感測器的攝像裝置的功能區塊圖。

圖3為表示化合物(A-1)於氯仿溶液中的分光特性的圖。

圖4為表示化合物(A-2)於氯仿溶液中的分光特性的圖。

圖5為表示使用實施例1的近紅外線吸收組成物的硬化膜的分光特性的圖。

圖6為表示使用實施例2的近紅外線吸收組成物的硬化膜的分光特性的圖。

以下，對本發明的內容加以詳細說明。

本申請案說明書中，所謂「~」是以包含其前後所記載的數值作為下限值及上限值的含意而使用。

本申請案說明書的基團(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基團(原子團)，並且亦包含具有取代基的基團(原子團)。例如所謂「烷基」，不僅包含不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，而且亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。

本申請案說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，「(甲基)丙烯酸基」表示丙烯酸基及甲基丙烯酸基，「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基。

另外，本申請案說明書中，「單量體」與「單體(monomer)」為相同含意。單量體是指與寡聚物及聚合物相區分、重量平均分子量為2,000以下的化合物。

本申請案說明書中，所謂聚合性化合物，是指具有聚合性官能基的化合物，可為單量體亦可為聚合物。所謂聚合性官能基，是指參與聚合反應的基團。

關於本發明中所用的化合物的重量平均分子量及數量平均分子量的測定方法，藉由凝膠滲透層析儀(Gel Permeation Chromatography，GPC)進行測定，且以由GPC的測定所得的聚苯乙烯換算值的形式來定義。例如可藉由以下方式來求出重量平均分子量及數量平均分子量：使用HLC-8220(東曹(股)製造)，使用TSKgel Super AWM-H(東曹(股)製造，6.0mm ID(內徑)×15.0cm)作為管柱，且使用10mmol/L的溴化鋰N-甲基吡咯啶酮(N-methyl-pyrrolidinone，NMP)溶液作為溶離液。

所謂近紅外線，是指極大吸收波長範圍為700nm~2500nm的光(電磁波)。

本申請案說明書中，所謂總固體成分，是指自組成物的總組成中去掉溶劑所得的成分的總質量。本發明中所謂固體成分，是指25℃下的固體成分。

<近紅外線吸收組成物>

本發明的近紅外線吸收組成物(以下亦稱為本發明的組成物)含有下述通式(1)所表示的化合物。

<<通式(1)所表示的化合物>>

通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基；R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環狀結構；R⁴表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^1a、 R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；其中，選自R^1a、R^1b及R⁴中的至少一個具有交聯基，以及/或者R²及/或R³經由環狀結構基而具有交聯基。

通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基。

R^1a、R^1b所表示的烷基的碳數較佳為1~30，更佳為1~20，進而佳為1~10。烷基可為直鏈狀、分支狀或環狀的任一種。

R^1a、R^1b所表示的芳基的碳數較佳為6~30，更佳為6~20，進而佳為6~12。

R^1a、R^1b所表示的雜芳基的碳數較佳為1~30，更佳為1~12。構成雜芳基的雜原子例如可列舉氮原子、氧原子、硫原子等。

R^1a及R^1b亦可具有取代基，取代基可列舉後述取代基組群T，較佳為碳數1~30的烷氧基。於R^1a及R^1b具有取代基的情形時，亦可更具有取代基，取代基可列舉後述取代基組群T，較佳為碳數1~30的烷基。

尤其R^1a、R^1b所表示的基團較佳為含有具有分支烷基的烷氧基的芳基。分支烷基的烷基較佳為碳數3~30，更佳為3~20。例如，R^1a、R^1b所表示的基團較佳為4-(2-乙基己氧基)苯基、4-(2-甲基丁氧基)苯基、4-(2-辛基十二烷氧基)苯基等。

通式(1)中的R^1a、R^1b可彼此相同亦可不同。

(取代基組群T)

取代基組群T例如可列舉以下基團。以下的取代基亦可進一 步經取代。

．烷基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~10，例如可列舉甲基、乙基、異丙基、第三丁基、正辛基、正癸基、正十六烷基、2-甲基丁基、2-乙基環己基、環戊基、環己基等)

．烯基(較佳為碳數2~30，更佳為碳數2~20，尤佳為碳數2~10，例如可列舉乙烯基、烯丙基、2-丁烯基、3-戊烯基等)

．炔基(較佳為碳數2~30，更佳為碳數2~20，尤佳為碳數2~10，例如可列舉炔丙基、3-戊炔基等)

．芳基(較佳為碳數6~30，更佳為碳數6~20，尤佳為碳數6~12，例如可列舉苯基、對甲基苯基、聯苯基、萘基、蒽基、菲基等)

．胺基(較佳為碳數0~30，更佳為碳數0~20，尤佳為碳數0~10，包括烷基胺基、芳基胺基、雜環胺基，例如可列舉胺基、甲基胺基、二甲基胺基、二乙基胺基、二苄基胺基、二苯基胺基、二甲苯基胺基等)

．烷氧基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~10，例如可列舉甲氧基、乙氧基、丁氧基、2-乙基己氧基等)

．芳氧基(較佳為碳數6~30，更佳為碳數6~20，尤佳為碳數6~12，例如可列舉苯氧基、1-萘氧基、2-萘氧基等)

．芳香族雜環氧基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~12，例如可列舉吡啶氧基、吡嗪氧基、嘧啶氧基、喹 啉氧基等)

．醯基(較佳為碳數2~30，更佳為碳數2~20，尤佳為碳數2~12，例如可列舉乙醯基、苯甲醯基、甲醯基、三甲基乙醯基等)

．烷氧基羰基(較佳為碳數2~30，更佳為碳數2~20，尤佳為碳數2~12，例如可列舉甲氧基羰基、乙氧基羰基等)

．芳氧基羰基(較佳為碳數7~30，更佳為碳數7~20，尤佳為碳數7~12，例如可列舉苯氧基羰基等)

．醯氧基(較佳為碳數2~30，更佳為碳數2~20，尤佳為碳數2~10，例如可列舉乙醯氧基、苯甲醯氧基等)

．醯基胺基(較佳為碳數2~30，更佳為碳數2~20，尤佳為碳數2~10，例如可列舉乙醯基胺基、苯甲醯基胺基等)

．烷氧基羰基胺基(較佳為碳數2~30，更佳為碳數2~20，尤佳為碳數2~12，例如可列舉甲氧基羰基胺基等)

．芳氧基羰基胺基(較佳為碳數7~30，更佳為碳數7~20，尤佳為碳數7~12，例如可列舉苯氧基羰基胺基等)

．磺醯基胺基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~12，例如可列舉甲磺醯基胺基、苯磺醯基胺基等)

．胺磺醯基(較佳為碳數0~30，更佳為碳數0~20，尤佳為碳數0~12，例如可列舉胺磺醯基、甲基胺磺醯基、二甲基胺磺醯基、苯基胺磺醯基等)

．胺甲醯基(例如可列舉胺甲醯基、甲基胺甲醯基、二乙基胺 甲醯基、苯基胺甲醯基等)

．烷硫基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~12，例如可列舉甲硫基、乙硫基等)

．芳硫基(較佳為碳數6~30，更佳為碳數6~20，尤佳為碳數6~12，例如可列舉苯硫基等)

．芳香族雜環硫基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~12，例如可列舉吡啶硫基、2-苯并咪唑硫基、2-苯并噁唑硫基、2-苯并噻唑硫基等)

．磺醯基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~12，例如可列舉甲磺醯基、甲苯磺醯基等)

．亞磺醯基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~12，例如可列舉甲亞磺醯基、苯亞磺醯基等)

．脲基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~12，例如可列舉脲基、甲基脲基、苯基脲基等)

．磷醯胺基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~12，例如可列舉二乙基磷醯胺、苯基磷醯胺等)

．羥基

．巰基

．鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)

．氰基

．磺基

．羧基

．硝基

．羥肟酸基

．亞磺酸基

．肼基

．亞胺基

．雜環基(較佳為碳數1~30，更佳為碳數1~12，雜原子例如可列舉氮原子、氧原子、硫原子，具體而言，例如可列舉咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、噻吩基、哌啶基、嗎啉基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、咔唑基、氮呯基等)

．矽烷基(較佳為碳數3~40，更佳為碳數3~30，尤佳為碳數3~24，例如可列舉三甲基矽烷基、三苯基矽烷基等)

通式(1)中，R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，較佳為R²及R³的至少一個為吸電子性基。

吸電子性基可列舉：氰基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺磺醯基、亞磺醯基、雜環基等，較佳為氰基。該些吸電子性基亦可經取代，取代基可列舉所述取代基組群T的取代基。

電子求引基可例示哈米特(Hammett)的取代基常數σp值為0.2以上的取代基。σp值較佳為0.25以上，更佳為0.3以上，尤佳為0.35以上。上限並無特別限制，較佳為0.80。

具體例可列舉：氰基(0.66)、羧基(-COOH：0.45)、烷氧基羰基(-COOMe：0.45)、芳氧基羰基(-COOPh：0.44)、胺甲醯基(-CONH2：0.36)、烷基羰基(-COMe：0.50)、芳基羰基(-COPh： 0.43)、烷基磺醯基(-SO₂Me：0.72)或芳基磺醯基(-SO₂Ph：0.68)等。尤佳為氰基。此處，Me表示甲基，Ph表示苯基。

關於哈米特的取代基常數σ值，例如可參考日本專利特開2011-68731號公報的段落0017~段落0018，將其內容併入至本申請案說明書中。

通式(1)中，於R²及R³相互鍵結而形成環的情形時，較佳為形成5員環~7員環(較佳為5員環或6員環)。所形成的環較佳為通常於部花青色素中被用作酸性核的環(環狀酸性核)，其具體例可列舉：(a)1,3-二羰基核、(b)吡唑啉酮核、(c)異噁唑啉酮核、(d)氧基吲哚(oxyindole)核、(e)2,4,6-三酮六氫嘧啶核、(f)2-硫代-2,4-四氫噻唑二酮核、(g)2-硫代-2,4-噁唑啶二酮(2-硫代-2,4-(3H,5H)-噁唑二酮)核、(h)硫茚酮(thianaphthenone)核、(i)2-硫代-2,5-四氫噻唑二酮核、(j)2,4-四氫噻唑二酮核、(k)噻唑啉-4-酮核、(l)4-噻唑啉二酮核、(m)2,4-咪唑啶二酮(乙內醯脲)核、(n)2-硫代-2,4-咪唑啶二酮(2-硫乙內醯脲)核、(o)咪唑啉-5-酮核、(p)3,5-吡唑啶二酮核、(q)苯并噻吩-3-酮核、(r)二氫茚酮核等。另外，環狀酸性核的詳細情況可參考日本專利特開2011-68731號公報的段落0019的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。

通式(1)中，R³較佳為雜環。雜環可列舉：吡唑環、噻唑環、噁唑環、咪唑環、噁二唑環、噻二唑環、***環、吡啶環、噠嗪環、嘧啶環、吡嗪環、該等的苯并縮環或萘并縮環、或 該些縮環的複合體等。

通式(1)中的2個R²可彼此相同亦可不同，另外，2個R³可彼此相同亦可不同。

通式(1)中，R⁴表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-，較佳為表示(R^4A)₂B-。

於R⁴所表示的基團為烷基、芳基或雜芳基的情形時，與上文所述的通式(1)中的R^1a、R^1b中說明的烷基、芳基或雜芳基為相同含意，較佳範圍亦相同。

於R⁴所表示的基團為(R^4A)₂B-的情形時，R^4A分別獨立地表示原子或基團。R^4A所表示的原子較佳為鹵素原子。R^4A所表示的基團較佳為烷基、烷氧基、芳基或雜芳基，更佳為芳基。烷基、芳基及雜芳基與通式(1)中的R^1a及R^1b為相同含意。於R^4A表示基團的情形時，亦可具有取代基，取代基可列舉所述取代基組群T的取代基。2個R^4A可彼此相同亦可不同，亦可相互鍵結而形成環。

於R⁴所表示的基團為(R^4B)₂P-的情形時，R^4B分別獨立地表示原子或基團，與R^4A為相同含意，較佳為芳基。於R^4B表示基團的情形時，亦可具有取代基，取代基可列舉所述取代基組群T的取代基。2個R^4B可彼此相同亦可不同，較佳為相互鍵結而形成環。

於R⁴所表示的基團為(R^4C)₃Si-的情形時，R^4C分別獨立地表示原子或基團，與R^4A為相同含意，較佳為烷基。於R^4C表示基團的 情形時，亦可具有取代基，取代基可列舉所述取代基組群T的取代基。3個R^4C可彼此相同亦可不同，亦可相互鍵結而形成環。

於R⁴所表示的基團為(R^4D)_nM-的情形時，R^4D分別獨立地表示原子或基團，與R^4A為相同含意，較佳為鹵素原子或烷基。n表示2~4的整數，較佳為2。M表示n+1價的金屬原子，可列舉過渡金屬(例如銅原子、鋅原子等)。

於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，R⁴亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵。另外，R⁴亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的至少一個形成配位鍵。

通式(1)中，較佳為選自R^1a、R^1b及R⁴中的至少一個具有交聯基，或者R²及/或R³經由環狀結構基而具有交聯基。藉由設定為此種構成，例如交聯性基與硬化性化合物鍵結，通式(1)所表示的化合物容易於硬化膜中被固定，故可使耐溶劑性良好。另外，藉由通式(1)所表示的化合物具有交聯基，可提供一種光微影性亦優異的硬化膜。

此處，所謂通式(1)所表示的化合物所具有的交聯性基，是指藉由化學反應而生成共價鍵的基團。交聯性基可存在於通式(1)中的選自R^1a、R^1b、R²、R³及R⁴中的至少一個的末端，亦可存在於末端以外的位置。

於通式(1)中的選自R^1a及R^1b中的至少一個具有交聯基的情形時，較佳為經由具有芳香族性的環狀結構基而具有交聯基。具有芳香族性的環狀結構基可為芳香族烴基，亦可為芳香族雜環 基。於具有芳香族性的環狀結構基為芳香族烴基的情形時，碳數較佳為6~30，更佳為6~20，進而佳為6~12。於具有芳香族性的環狀結構基為芳香族雜環基的情形時，芳香族雜環基的碳數較佳為1~30，更佳為1~12。構成芳香族雜環基的雜原子例如可列舉氮原子、氧原子、硫原子等。芳香族雜環較佳為3員環~8員環。

於通式(1)中的R²或R³具有交聯基的情形時，較佳為經由具有芳香族性的環狀結構基而具有交聯基。具有芳香族性的環狀結構基與通式(1)中的R^1a及R^1b中說明者為相同含意。

於通式(1)中的R⁴具有交聯基的情形時，較佳為經由環狀結構基而具有交聯基。環狀結構基可具有芳香族性，亦可不具有芳香族性。環狀結構基亦可為雜環。環狀結構基可為單環亦可為多環，較佳為單環。環狀結構基較佳為3員環~8員環。

通式(1)所表示的化合物所具有的交聯基並無特別限定，較佳為選自(甲基)丙烯醯氧基、環氧基、氧雜環丁基、異氰酸基、羥基、胺基、羧基、硫醇基、烷氧基矽烷基、羥甲基、乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、磺基、苯乙烯基及馬來醯亞胺基中的一種以上，更佳為選自(甲基)丙烯醯氧基、乙烯基、環氧基及氧雜環丁基中的一種以上。通式(1)所表示的化合物所具有的交聯基可僅為一種，亦可為兩種以上。

另外，交聯基亦較佳為下述通式(A-1)~通式(A-3)所表示的至少一種。

[化12]

式(A-1)中，R¹⁵、R¹⁶及R¹⁷分別獨立地表示氫原子、碳數1~18的烷基、碳數1~18的烯基、碳數1~18的炔基、碳數3~18的環烷基、碳數3~18的環烯基、碳數3~18的環炔基或碳數6~18的芳基。

碳數1~18的烷基的碳數較佳為1~10，更佳為1~6，進而佳為1~3，尤佳為1。

碳數1~18的烯基的碳數較佳為1~10，更佳為1~6，進而佳為1~3。

碳數1~18的炔基的碳數較佳為1~10，更佳為1~6，進而佳為1~3。

碳數3~18的環烷基的碳數較佳為3~10，更佳為3~8，進而佳為3~6。

碳數3~18的環烯基的碳數較佳為3~10，更佳為3~8，進而佳為3~6。

碳數3~18的環炔基的碳數較佳為3~10，更佳為3~8，進而佳為3~6。

素數6~18的芳基的碳數較佳為6~12，更佳為6~8，進而佳為6。

式(A-1)中，R¹⁵較佳為氫原子或碳數1~18的烷基，更佳為氫原子。式(A-1)中，R¹⁶及R¹⁷分別獨立地較佳為氫原子或碳數1~18的烷基，更佳為氫原子。

式(A-2)中，R¹⁸、R¹⁹及R²⁰分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF₃。式(A-2)中，R¹⁸較佳為甲基。式(A-2)中，R¹⁹及R²⁰較佳為氫原子。

式(A-3)中，R²¹及R²²分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF₃，較佳為氫原子。式(A-3)中，Q表示1或2。

通式(1)所表示的化合物較佳為於一分子中具有2個以上的交聯基。另外，於交聯基為烯烴基(例如乙烯基)或苯乙烯基的情形時，通式(1)所表示的化合物較佳為於一分子中具有3個以上的交聯基。藉由設定為此種構成，可使耐溶劑性更良好。

例如於交聯基為乙烯基或苯乙烯基的情形時，通式(1)所表示的化合物一分子中的交聯基的合計較佳為3以上，更佳為4以上。於交聯基為乙烯基或苯乙烯基以外的情形時，通式(1)所表示的化合物一分子中的交聯基的合計為1以上，較佳為2以上，更佳為3以上。交聯基的合計的上限並無特別限定，較佳為10以下。

通式(1)所表示的化合物亦較佳為下述通式(2)~通式(4)的任一個所表示的化合物。

通式(2)中，Z^1a及Z^1b分別獨立地表示形成芳基環或雜芳基環的原子組群；R^5a及R^5b分別獨立地表示碳數6~20的芳基、碳數4~20的雜芳基、碳數1~20的烷基、碳數1~20的烷氧基、碳數2~20的烷氧基羰基、羧基、胺甲醯基、鹵素原子或氰基的任一個；R^5a或R^5b與Z^1a或Z^1b亦可鍵結而形成縮合環；R²²及R²³分別獨立地表示氰基、碳數2~6的醯基、碳數2~6的烷氧基羰基、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基亞磺醯基或碳數3~20的含氮雜芳基，或者R²²及R²³鍵結而表示環狀酸性核；R²⁴表示氫原子、碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基、碳數3~20的雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R²⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^5a及R²²~R²⁴中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；選自R^5a、R^5b及R²⁴中的至少一個具有交聯基，以及/或者R²² 及/或R²³經由碳數3~20的含氮雜芳基而具有交聯基。

通式(2)中，由Z^1a及Z^1b所形成的芳基環、雜芳基環與作為通式(1)中的R²及R³的取代基所說明的芳基、雜芳基為相同含意，較佳範圍亦相同。較佳為Z^1a及Z^1b相同。

通式(2)中，較佳為R^5a及R^5b彼此相同。R^5a或R^5b、與Z^1a或Z^1b亦可鍵結而形成縮合環，縮合環可列舉萘基環、喹啉環等。

於R²²及R²³鍵結而表示環狀酸性核的情形時，與上文所述的環狀酸性核為相同含意。

R²⁴與通式(1)中的R⁴為相同含意，較佳範圍亦相同。

通式(2)所表示的化合物亦可更具有取代基，取代基與上文所述的取代基組群T為相同含意，較佳範圍亦相同。

通式(3)中，R^31a及R^31b分別獨立地表示碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基或碳數3~20的雜芳基；R³²表示氰基、碳數2~6的醯基、碳數2~6的烷氧基羰基、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基亞磺醯基或碳數3~10的含氮雜芳基；R⁶及R⁷分別 獨立地表示氫原子、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基或碳數3~10的雜芳基，R⁶及R⁷亦可相互鍵結而形成環，所形成的環為碳數5~10的脂環、碳數6~10的芳基環或碳數3~10的雜芳基環；R⁸及R⁹分別獨立地表示碳數1~10的烷基、碳數1~10的烷氧基、碳數6~20的芳基或碳數3~10的雜芳基；X表示氧原子、硫原子、-NR-、-CRR'-或-CH=CH-，R及R'分別獨立地表示氫原子、碳數1~10的烷基或碳數6~10的芳基；選自R⁶~R⁹、R^31a、R^31b及R³²中的至少一個具有交聯基。

通式(3)中，R^31a及R^31b與通式(1)中的R^1a及R^1b中說明的例子為相同含意，較佳範圍亦相同。較佳為R^31a及R^31b相同。

通式(3)中，R³²與通式(1)中的R²的例子為相同含意，較佳範圍亦相同。

通式(3)中，R⁶及R⁷與通式(1)中的R²及R³的取代基的例子為相同含意，較佳範圍亦相同。另外，於R⁶及R⁷鍵結而形成環的情形時，較佳例可列舉苯環或萘環、吡啶環等。

通式(3)中，R⁸及R⁹與通式(1)中的R²及R³的取代基的例子為相同含意，較佳範圍亦相同。

X表示氧原子、硫原子、-NR-、-CRR'-或-CH=CH-。此處，R及R'分別獨立地表示氫原子、碳數1~10的烷基或碳數6~10的芳基，較佳為氫原子、碳數1~6的烷基或苯基。

[化15]

通式(4)中，R^41a及R^41b表示互不相同的基團，表示碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基或碳數3~20的雜芳基；R⁴²表示氰基、碳數1~6的醯基、碳數2~6的烷氧基羰基、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基亞磺醯基或碳數3~10的含氮雜芳基；Z²分別獨立地表示與-C=N-一起形成含氮雜五員環或含氮雜六員環的原子組群；R⁴⁴表示氫原子、碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基、碳數4~20的雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與Z²所形成的含氮雜環形成共價鍵或配位鍵；選自R^41a、R^41b、R⁴²及R⁴⁴中的至少一個具有交聯基。

通式(4)中，R^41a及R^41b與通式(1)中的R^1a及R^1b中說明的例子為相同含意，較佳範圍亦相同。其中，R^41a及R^41b表示互不相同的基團。

R⁴²與通式(1)中的R²的例子為相同含意，較佳範圍亦相同。

Z²表示與-C=N-一起形成含氮雜五員環或含氮雜六員環的原 子組群，含氮雜環可列舉：吡唑環、噻唑環、噁唑環、咪唑環、噁二唑環、噻二唑環、***環、吡啶環、噠嗪環、嘧啶環、吡嗪環、該等的苯并縮環或萘并縮環、或該些縮環的複合體。

R⁴⁴亦可與Z²所形成的含氮雜環形成共價鍵或配位鍵。

通式(1)所表示的化合物亦較佳為由下述通式(5)所表示。

通式(5)中，L^1a、L^1b、L²及L³分別獨立地表示單鍵或二價連結基；R⁵分別獨立地表示氫原子或取代基。Z¹表示與-C=N-一起形成含氮雜五員環或含氮雜六員環的原子組群；K^1a、K^1b、K²及K³分別獨立地表示氫原子、氟原子或交聯基，至少一個表示交聯基；M表示硼原子、磷原子、矽原子或金屬原子；n分別獨立地表示1~3的整數；M與N的虛線的鍵表示配位鍵。

於L^1a及L^1b分別獨立地表示二價連結基的情形時，較 佳為表示碳數1~30的伸烷基、碳數6~20的伸芳基、碳數3~20的伸雜芳基、-O-、-S-、-C(=O)-或包含該些基團的組合的基團。另外，亦較佳為選自L^1a及L^1b中的至少一個含有具有芳香族性的環狀結構基，具有芳香族性的環狀結構基與上文所述的通式(1)中的R^1a及R^1b具有交聯基的情形的具有芳香族性的環狀結構基為相同含意。

於L²表示二價連結基的情形時，較佳為表示碳數1~20的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的伸雜芳基、-O-、-S-、-C(=O)-或包含該些基團的組合的基團。另外，L²亦較佳為含有芳香族烴基，芳香族烴基與上文所述的通式(1)中的R^1a及R^1b具有交聯基的情形的芳香族烴基為相同含意。

於L³表示二價連結基的情形時，較佳為表示碳數1~20的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的伸雜芳基、-O-、-S-、-C(=O)-或包含該些基團的組合的基團。另外，L³亦較佳為含有具有芳香族性的環狀結構基，具有芳香族性的環狀結構基與通式(1)中的R²或R³具有交聯基的情形的具有芳香族性的環狀結構基為相同含意。

Z¹表示與-C=N-一起形成含氮雜五員環或含氮雜六員環的原子組群，與通式(4)中的Z²為相同含意，較佳範圍亦相同。

於選自K^1a、K^1b、K²及K³中的至少一個表示交聯基的情形時，交聯基與通式(1)中說明的交聯基為相同含意，較佳範圍亦相同。

於M表示金屬原子的情形時，可列舉過渡金屬(例如銅原子、 鋅原子等)。

於R⁵表示取代基的情形時，取代基可列舉上文所述的取代基組群T，較佳為由氰基或下述通式(6)的結構表示。

通式(6)中，L⁴表示單鍵或者-O-、-C(=O)-、亞磺醯基、碳數1~10的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的含氮伸雜芳基、或包含該些基團的組合的基團。碳數6~18的伸芳基較佳為伸苯基。通式(6)中的K⁴表示交聯基，與通式(1)中說明的交聯基為相同含意，較佳範圍亦相同。

以下列舉本發明中可使用的近紅外線吸收物質的例示化合物，但不限定於該些化合物。下述化合物中的虛線表示配位鍵。

[化18]

[化26]

[化29]

[化31]

[化33]

[化35]

[化38]

本發明的組成物中，相對於組成物中的總固體成分，所述通式(1)所表示的化合物的含量較佳為0.01質量%~50質量%， 更佳為0.1質量%~30質量%，進而佳為1質量%~25質量%。所述通式(1)所表示的化合物可僅使用一種，亦可併用兩種以上。

本發明的組成物亦可更含有所述以外的近紅外線吸收物質。

本發明的組成物亦可根據所使用的用途而更含有通式(1)所表示的化合物以外的其他成分。

本發明的組成物例如可用於：(i)可吸收特定的近紅外線範圍的光的近紅外線吸收濾波器用途；(ii)相較於僅利用通式(1)所表示的化合物來截止，而可吸收更廣的波長範圍的近紅外線區域的光的紅外線吸收濾波器等。

於用於所述(i)的近紅外線吸收濾波器用途的情形時，本發明的組成物較佳為含有通式(1)所表示的化合物，且實質上不含在通式(1)所表示的化合物的吸收波長以外的波長範圍內具有吸收的化合物。此處所謂實質上不含，是指通式(1)所表示的化合物的1質量%以下。進而亦可含有硬化性化合物、硬化劑、界面活性劑、溶劑等。

於用於所述(ii)的近紅外線吸收濾波器用途的情形時，本發明的組成物較佳為除了通式(1)所表示的化合物以外，還含有其他近紅外線吸收物質，該其他近紅外線吸收物質在與通式(1)所表示的化合物具有極大吸收的波長範圍不同的近紅外線範圍內具有極大吸收。進而亦可含有硬化性化合物、硬化劑、界面活性劑、溶劑等。

以下，對本發明的組成物可含有的其他成分加以說明。

<<硬化性化合物>>

本發明的組成物亦可含有硬化性化合物。硬化性化合物較佳為具有聚合性基的化合物(以下有時稱為「聚合性化合物」)。

聚合性化合物可為單官能亦可為多官能。藉由含有多官能化合物，可進一步提高耐熱性。

硬化性化合物可列舉：單官能的(甲基)丙烯酸酯、多官能的(甲基)丙烯酸酯(較佳為3官能~6官能的(甲基)丙烯酸酯)、多元酸改質丙烯酸系寡聚物、環氧樹脂或多官能的環氧樹脂。

<<<含乙烯性不飽和鍵的化合物>>>

含乙烯性不飽和鍵的化合物的例子可參考日本專利特開2013-253224號公報的段落0033~段落0034的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。

含乙烯性不飽和鍵的化合物較佳為伸乙氧基改質季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為NK酯(NK ESTER)ATM-35E；新中村化學公司製造)、二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-330；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-320；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-310；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)DPHA；日本化藥股份有限公司製造)、及該些化合物的(甲基)丙烯醯基介隔乙二醇殘基、丙二醇殘基的結構。另外亦可使用該等 的寡聚物類型。

另外，可參考日本專利特開2013-253224號公報的段落0034~段落0038的聚合性化合物的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。

另外，可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0477(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0585])中記載的聚合性單體等，將該些內容併入至本申請案說明書中。

另外，較佳為二甘油環氧乙烷(Ethylene Oxide，EO)改質(甲基)丙烯酸酯(市售品為M-460；東亞合成製造)。亦較佳為季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學製造，A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(日本化藥公司製造，卡亞拉得(KAYARAD)HDDA)。亦可使用該等的寡聚物類型。例如列舉RP-1040(日本化藥股份有限公司製造)等。

含乙烯性不飽和鍵的化合物亦可為多官能單體，且亦可具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。因此，含有乙烯性不飽和鍵的聚合性化合物只要如上文所述為混合物的情形般具有未反應的羧基，則可直接利用，視需要亦可使非芳香族羧酸酐與所述乙烯性化合物的羥基反應而導入酸基。於該情形時，所使用的非芳香族羧酸酐的具體例可列舉：四氫鄰苯二甲酸酐、烷基化四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、烷基化六氫鄰苯二甲酸酐、琥珀酸酐、馬來酸酐。

具有酸基的含乙烯性不飽和鍵的化合物為脂肪族多羥 基化合物與不飽和羧酸的酯，較佳為使非芳香族羧酸酐與脂肪族多羥基化合物的未反應的羥基反應而具有酸基的多官能單體，尤佳為於其酯中脂肪族多羥基化合物為季戊四醇及/或二季戊四醇。市售品例如可列舉：東亞合成股份有限公司製造的作為多元酸改質丙烯酸系寡聚物的亞羅尼斯(Aronix)系列的M-305、M-510、M-520等。

具有酸基的多官能單體的較佳酸值為0.1mg-KOH/g~40mg-KOH/g，尤佳為5mg-KOH/g~30mg-KOH/g。於併用兩種以上的酸基不同的多官能單體的情形、或併用不具有酸基的多官能單體的情形時，較佳為以總體的多官能單體的酸值在所述範圍內的方式調整。

<<<具有環氧基或氧雜環丁基的化合物>>>

聚合性化合物亦可含有具有環氧基或氧雜環丁基的化合物。具有環氧基或氧雜環丁基的化合物具體而言有於側鏈上具有環氧基的聚合物、及於分子內具有2個以上的環氧基的聚合性單體或寡聚物，可列舉：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。另外，亦可列舉單官能或多官能縮水甘油醚化合物，較佳為多官能脂肪族縮水甘油醚化合物。

該些化合物亦可使用市售品，亦可藉由對聚合物的側鏈導入環氧基而獲得。

市售品例如可參考日本專利特開2012-155288號公報的 段落0191等的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。

另外，市售品可列舉代那考爾(Denacol)EX-212L、代那考爾(Denacol)EX-214L、代那考爾(Denacol)EX-216L、代那考爾(Denacol)EX-321L、代那考爾(Denacol)EX-850L(以上為長瀨化成(Nagase Chemtex)(股)製造)等多官能脂肪族縮水甘油醚化合物。該些化合物為低氯品，亦可同樣地使用並非低氯品的EX-212、EX-214、EX-216、EX-321、EX-850等。

除此以外，亦可列舉：艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4000S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4003S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4010S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4011S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上為(艾迪科(ADEKA)(股)製造)，JER1031S、賽羅西德(Celloxide)2021P、賽羅西德(Celloxide)2081、賽羅西德(Celloxide)2083、賽羅西德(Celloxide)2085、EHPE3150、艾波利得(EPOLEAD)PB 3600、艾波利得(EPOLEAD)PB 4700(以上為大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造)，賽克羅馬(Cyclomer)P ACA 200M、賽克羅馬(Cyclomer)ACA 230AA、賽克羅馬(Cyclomer)ACA Z250、賽克羅馬(Cyclomer)ACA Z251、賽克羅馬(Cyclomer)ACA Z300、賽克羅馬(Cyclomer)ACA Z320(以上為大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造)等。

進而，苯酚酚醛清漆型環氧樹脂的市售品可列舉 JER-157S65、JER-152、JER-154、JER-157S70(以上為三菱化學(股)製造)等。

於側鏈上具有氧雜環丁基的聚合物、及所述於分子內具有2個以上的氧雜環丁基的聚合性單體或寡聚物的具體例可使用：亞龍氧雜環丁烷(Aron Oxetane)OXT-121、亞龍氧雜環丁烷(Aron Oxetane)OXT-221、亞龍氧雜環丁烷(Aron Oxetane)OX-SQ、亞龍氧雜環丁烷(Aron Oxetane)PNOX(以上為東亞合成(股)製造)。

分子量以重量平均計而較佳為500~5000000、更佳為1000~500000的範圍。

環氧不飽和化合物亦可使用(甲基)丙烯酸縮水甘油酯或烯丙基縮水甘油醚等具有縮水甘油基作為環氧基的化合物，較佳為具有脂環式環氧基的不飽和化合物。此種化合物例如可參考日本專利特開2009-265518號公報的段落0045等的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。

<<<其他硬化性化合物>>>

另外，硬化性化合物較佳為含有具有己內酯改質結構的多官能性單量體。具有己內酯改質結構的多官能性單量體可單獨使用或混合使用兩種以上。

具有己內酯改質結構的多官能性單量體可參考日本專利特開2013-253224號公報的段落0042~段落0045的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。

市售品例如可列舉：沙多瑪(Sartomer)公司製造的具有4個伸乙氧基鏈的四官能丙烯酸酯SR-494、具有3個伸異丁氧基鏈的三官能丙烯酸酯TPA-330等。

另外，多官能單體例如亦可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、三(2-羥基乙基)異氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯醯氧基)異氰脲酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、作為雙酚A的聚環氧乙烷或環氧丙烷的加成物的二醇的二(甲基)丙烯酸酯、作為氫化雙酚A的環氧乙烷或環氧丙烷的加成物的二醇的二(甲基)丙烯酸酯、於雙酚A的二縮水甘油醚上加成(甲基)丙烯酸酯而成的環氧(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二乙烯基醚等。該等中，較佳為三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯。

以上例示的多官能單體的市售品例如可列舉：尤碧馬(Upimer)UV SA1002、尤碧馬(Upimer)UV SA2007(以上為三菱化學股份有限公司製造)，比斯克(Biscoat)#195、比斯克(Biscoat)#230、比斯克(Biscoat)#215、比斯克(Biscoat)#260、比斯克(Biscoat)#335HP、比斯克(Biscoat)#295、比斯克(Biscoat)#300、比斯克(Biscoat)#360、比斯克(Biscoat)#700、比斯克(Biscoat)GPT、比斯克(Biscoat)3PA(以上為大阪有機化學工 業股份有限公司製造)，萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)4EG-A、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)9EG-A、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)NP-A、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)DCP-A、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)BP-4EA、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)BP-4PA、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)TMP-A、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)PE-3A、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)PE-4A、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)DPE-6A(以上為共榮社化學股份有限公司製造)，卡亞拉得(KAYARAD)PET-30、卡亞拉得(KAYARAD)TMPTA、卡亞拉得(KAYARAD)R-604、卡亞拉得(KAYARAD)DPCA-20、卡亞拉得(KAYARAD)-30、卡亞拉得(KAYARAD)-60、卡亞拉得(KAYARAD)-120、卡亞拉得(KAYARAD)HX-620、卡亞拉得(KAYARAD)D-330(以上為日本化藥股份有限公司製造)，亞羅尼斯(Aronix)M208、亞羅尼斯(Aronix)M210、亞羅尼斯(Aronix)M215、亞羅尼斯(Aronix)M220、亞羅尼斯(Aronix)M240、亞羅尼斯(Aronix)M309、亞羅尼斯(Aronix)M310、亞羅尼斯(Aronix)M315、亞羅尼斯(Aronix)M325、亞羅尼斯(Aronix)M400(以上為東亞合成股份有限公司製造)，理波西(Ripoxy)VR-77、理波西(Ripoxy)VR-60、理波西(Ripoxy)VR-90(以上為昭和高分子股份有限公司製造)等。

於本發明的近紅外線吸收組成物含有硬化性化合物的情形時，相對於除了溶劑以外的總固體成分，硬化性化合物的含量亦可設定為1質量%以上，亦可設定為15質量%以上，亦可設定為 40質量%以上。另外，相對於除了溶劑以外的總固體成分，硬化性化合物的含量亦可設定為90質量%以下，亦可設定為80質量%以下，亦可設定為50質量%以下，亦可設定為30質量%以下，亦可設定為25質量%以下。

於使用含有具有聚合性基的重複單元的聚合物作為硬化性化合物的情形時，相對於除了溶劑以外的本發明的組成物的總固體成分，較佳為2質量%~80質量%，更佳為5質量%~75質量%，尤佳為10質量%~75質量%。

硬化性化合物可僅為一種，亦可為兩種以上。兩種以上的情況下，較佳為合計量成為所述範圍。

<<聚合起始劑>>

本發明的組成物亦可含有聚合起始劑。聚合起始劑可僅為一種，亦可為兩種以上，兩種以上的情況下，合計量成為下述範圍。聚合起始劑的含量較佳為0.01質量%~30質量%，更佳為0.1質量%~20質量%，尤佳為0.1質量%~15質量%。

聚合起始劑只要具有藉由光、熱的任一者或此兩者來引發聚合性化合物的聚合的能力，則並無特別限制，較佳為光聚合性化合物。於藉由光來引發聚合的情形時，較佳為對紫外線範圍至可見光線具有感光性者。

另外，於藉由熱來引發聚合的情形時，較佳為於150℃~250℃下發生分解的聚合起始劑。

聚合起始劑較佳為至少具有芳香族基的化合物，例如可列 舉：醯基膦化合物、苯乙酮系化合物、α-胺基酮化合物、二苯甲酮系化合物、安息香醚系化合物、縮酮衍生物化合物、噻噸酮化合物、肟化合物、六芳基聯咪唑化合物、三鹵甲基化合物、偶氮化合物、有機過氧化物、重氮化合物、錪化合物、鋶化合物、吖嗪鎓化合物、茂金屬化合物等鎓鹽化合物、有機硼鹽化合物、二碸化合物、硫醇化合物等。

所述聚合起始劑可參考日本專利特開2013-253224號公報的段落0217~段落0228的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。

肟化合物可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造)、豔佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)。苯乙酮系起始劑可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-907、豔佳固(IRGACURE)-369及豔佳固(IRGACURE)-379(商品名；均為日本巴斯夫(BASF Japan)公司製造)。另外，醯基膦系起始劑可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-819或達羅固(DAROCUR)-TPO(商品名；均為日本巴斯夫(BASF Japan)公司製造)。

本發明亦可使用具有氟原子的肟化合物作為聚合起始劑。具有氟原子的肟化合物的具體例可列舉：日本專利特開2010-262028號公報記載的化合物、日本專利特表2014-500852號公報記載的化合物24、化合物36~化合物40、日本專利特開2013-164471號公報記載的化合物(C-3)等。將其內容併入至本說明書中。

<<硬化劑>>

本發明的組成物亦可含有硬化劑。硬化劑可較佳地使用環氧樹脂技術協會發行的「綜述環氧樹脂基礎篇I」(2003年11月19日發行，第3章)中記載的硬化劑、促進劑，例如可使用多元羧酸酐或多元羧酸。

多元羧酸酐的具體例可列舉：鄰苯二甲酸酐、衣康酸酐、琥珀酸酐、檸康酸酐、十二烯基琥珀酸酐、1,2,3-丙三甲酸酐、馬來酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、二甲基四氫鄰苯二甲酸酐、5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐、納迪克酸酐(nadic anhydride)等脂肪族或脂環族二羧酸酐；1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、環戊烷四羧酸二酐等脂肪族多元羧酸二酐；均苯四甲酸酐、偏苯三甲酸酐、二苯甲酮四羧酸酐等芳香族多元羧酸酐；乙二醇雙偏苯三酸酯、甘油三偏苯三酸酯等含酯基的酸酐，尤佳可列舉芳香族多元羧酸酐。另外，亦可較佳地使用市售的包含羧酸酐的環氧樹脂硬化劑。

另外，多元羧酸的具體例可列舉：琥珀酸、戊二酸、己二酸、丁烷四羧酸、馬來酸、衣康酸等脂肪族多元羧酸；六氫鄰苯二甲酸、1,2-環己烷二羧酸、1,2,4-環己烷三羧酸、環戊烷四羧酸等脂肪族多元羧酸，及鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、均苯四甲酸、偏苯三甲酸、1,4,5,8-萘四羧酸、二苯甲酮四羧酸等芳香族多元羧酸，較佳可列舉芳香族多元羧酸。

另外，多元羧酸中，較佳為使用乙烯基醚封端羧酸。具體可列舉：環氧樹脂技術協會發行的「綜述環氧樹脂基礎篇I」(P193 ~194)、日本專利特開2003-66223號公報、日本專利特開2004-339332號公報中記載的乙烯基醚封端羧酸。藉由利用乙烯基醚將羧酸封端，羧酸與環氧化合物的加成反應(酯化反應)於室溫下緩慢地進行，可抑制黏度經時上升。另外，於各種溶劑或環氧單體、環氧樹脂中的溶解性提高而可製作均勻的組成。該乙烯基醚封端羧酸較佳為與後述熱潛伏性觸媒併用。藉由與熱潛伏性觸媒併用，於加熱時脫封端化反應受到促進，加熱時的膜薄化少，可形成強度更高的彩色濾波器。

另外，硬化劑亦可使用甘油雙偏苯三酸酐酯單乙酸酯與脂環式二羧酸酐的混合物。市售品例如可使用理家德(Rikacid)MTA-15(以上為新日本理化(股)製造)。

相對於本發明的組成物的總固體成分，硬化劑的含量較佳為0.01質量%~20質量%，更佳為0.1質量%~20質量%。硬化劑可單獨使用一種，亦可為兩種以上的混合物。

<<鹼可溶性樹脂>>

本發明的組成物亦可含有鹼可溶性樹脂。藉由調配鹼可溶性樹脂，可藉由鹼顯影來形成所需的圖案。

鹼可溶性樹脂可自以下鹼可溶性樹脂中適當選擇：其為線性有機高分子聚合物，且於分子(較佳為以丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物作為主鏈的分子)中具有至少一個促進鹼可溶性的基團。就耐熱性的觀點而言，較佳為多羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共 聚物樹脂，就控制顯影性的觀點而言，較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。鹼可溶性樹脂可參考日本專利特開2012-208494號公報的段落0558~段落0571(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0685]~[0700])以後的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。

鹼可溶性樹脂亦較佳為含有聚合物(a)，該聚合物(a)是將包含下述通式(ED1)所表示的化合物及/或下述通式(ED2)所表示的化合物(以下亦將該些化合物稱為「醚二聚物」)的單體成分聚合而成。

通式(ED1)中，R¹及R²分別獨立地表示氫原子或可具有取代基的碳數1~25的烴基。

通式(ED2)中，R表示氫原子或碳數1~30的有機基。通式 (ED2)的具體例可參考日本專利特開2010-168539號公報的記載。

通式(ED1)中，R¹及R²所表示的可具有取代基的碳數1~25的烴基並無特別限制，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、第三戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等直鏈狀或分支狀的烷基；苯基等芳基；環己基、第三丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸基、異冰片基、金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基等脂環式基；1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基等經烷氧基取代的烷基；苄基等經芳基取代的烷基等。該些基團中，尤其就耐熱性的方面而言，較佳為甲基、乙基、環己基、苄基等般的不易因酸或熱而脫離的一級碳或二級碳的取代基。

醚二聚物的具體例例如可參考日本專利特開2013-29760號公報的段落0317，將其內容併入至本說明書中。醚二聚物可僅為一種，亦可為兩種以上。來源於通式(ED)所表示的化合物的結構體亦可使其他單體共聚合。

於本發明的組成物含有鹼可溶性樹脂的情形時，於本發明的組成物的總固體成分中，鹼可溶性樹脂的含量較佳為1質量%以上，亦可設定為2質量%以上，亦可設定為5質量%以上，亦可設定為10質量%以上。另外，於本發明的組成物的總固體成分中，鹼可溶性樹脂的含量亦可設定為80質量%以下，亦可設定為65質量%以下，亦可設定為60質量%以下，亦可設定為15質量%以下。

另外，於使用本發明的組成物且不藉由鹼顯影來形成圖案的情形時，當然亦可設定為不含鹼可溶性樹脂的態樣。

<<界面活性劑>>

本發明的組成物亦可含有界面活性劑。界面活性劑可僅使用一種，亦可組合兩種以上。相對於本發明的組成物的固體成分，界面活性劑的添加量較佳為0.0001質量%~5質量%，更佳為0.001質量%~1.0質量%。

界面活性劑可使用：氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。

尤其本發明的組成物藉由含有氟系界面活性劑及矽酮系界面活性劑的至少任一種，於製備成塗佈液時的溶液特性(特別是流動性)進一步提高。藉此，塗佈厚度的均勻性或省液性進一步改善。

即，於使用應用含有氟系界面活性劑及矽酮系界面活性劑的至少任一種的組成物的塗佈液來進行膜形成的情形時，藉由使被塗佈面與塗佈液的界面張力減小，對被塗佈面的濡濕性得到改善，對被塗佈面的塗佈性提高。因此，即便於以少量的液量來形成幾微米(μm)左右的薄膜的情形時，亦可更佳地進行厚度不均小的均勻厚度的膜形成，就此方面而言有效。

氟系界面活性劑中的氟含有率較佳為3質量%~40質量%，更佳為5質量%~30質量%，尤佳為7質量%~25質量%。氟 含有率為該範圍內的氟系界面活性劑於塗佈膜的厚度的均勻性或省液性的方面有效，於組成物中的溶解性亦良好。

氟系界面活性劑具體可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0552(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0678])等中記載的界面活性劑，將該些內容併入至本申請案說明書中。氟系界面活性劑的市售品例如可列舉：美佳法(Megafac)F-171、美佳法(Megafac)F-172、美佳法(Megafac)F-173、美佳法(Megafac)F-176、美佳法(Megafac)F-177、美佳法(Megafac)F-141、美佳法(Megafac)F-142、美佳法(Megafac)F-143、美佳法(Megafac)F-144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F-437、美佳法(Megafac)F-475、美佳法(Megafac)F-479、美佳法(Megafac)F-482、美佳法(Megafac)F-554、美佳法(Megafac)F-780(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，弗拉德(Fluorad)FC430、弗拉德(Fluorad)FC431、弗拉德(Fluorad)FC171(以上為住友3M(股)製造)，沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上為旭硝子(股)製造)等。

另外，下述化合物亦可作為本發明中所用的氟系界面活性劑而例示。

[化42]

所述化合物的重量平均分子量例如為14,000。

非離子系界面活性劑可列舉：聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基烯丙基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、去水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧伸乙基去水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧伸乙基烷基胺、甘油脂肪酸酯、氧伸乙基氧伸丙基嵌段共聚物、乙炔乙二醇系界面活性劑、乙炔系聚氧伸乙基氧化物等。該些化合物可單獨使用或使用兩種以上。

具體的商品名可列舉：蘇菲諾(Surfinol)61、蘇菲諾(Surfinol)82、蘇菲諾(Surfinol)104、蘇菲諾(Surfinol)104E、蘇菲諾(Surfinol)104H、蘇菲諾(Surfinol)104A、蘇菲諾(Surfinol)104BC、蘇菲諾(Surfinol)104DPM、蘇菲諾(Surfinol)104PA、蘇菲諾(Surfinol)104PG-50、蘇菲諾(Surfinol)104S、蘇菲諾(Surfinol)420、蘇菲諾(Surfinol)440、蘇菲諾(Surfinol)465、蘇菲諾(Surfinol)485、蘇菲諾(Surfinol)504、蘇菲諾(Surfinol)CT-111、蘇菲諾(Surfinol)CT-121、蘇菲諾(Surfinol)CT-131、蘇菲諾(Surfinol) CT-136、蘇菲諾(Surfinol)CT-141、蘇菲諾(Surfinol)CT-151、蘇菲諾(Surfinol)CT-171、蘇菲諾(Surfinol)CT-324、蘇菲諾(Surfinol)DF-37、蘇菲諾(Surfinol)DF-58、蘇菲諾(Surfinol)DF-75、蘇菲諾(Surfinol)DF-110D、蘇菲諾(Surfinol)DF-210、蘇菲諾(Surfinol)GA、蘇菲諾(Surfinol)OP-340、蘇菲諾(Surfinol)PSA-204、蘇菲諾(Surfinol)PSA-216、蘇菲諾(Surfinol)PSA-336、蘇菲諾(Surfinol)SE、蘇菲諾(Surfinol)SE-F、蘇菲諾(Surfinol)TG、蘇菲諾(Surfinol)GA、戴諾爾(Dainol)604(以上為日信化學(股)及空氣化工產品(Air Products & Chemicals)公司)，奧爾菲(Olfin)A、奧爾菲(Olfin)B、奧爾菲(Olfin)AK-02、奧爾菲(Olfin)CT-151W、奧爾菲(Olfin)E1004、奧爾菲(Olfin)E1010、奧爾菲(Olfin)P、奧爾菲(Olfin)SPC、奧爾菲(Olfin)STG、奧爾菲(Olfin)Y、奧爾菲(Olfin)32W、奧爾菲(Olfin)PD-001、奧爾菲(Olfin)PD-002W、奧爾菲(Olfin)PD-003、奧爾菲(Olfin)PD-004、奧爾菲(Olfin)EXP.4001、奧爾菲(Olfin)EXP.4036、奧爾菲(Olfin)EXP.4051、奧爾菲(Olfin)AF-103、奧爾菲(Olfin)AF-104、奧爾菲(Olfin)SK-14、奧爾菲(Olfin)AE-3(以上為日信化學(股))，阿塞迪諾(Acetylenol)E00、阿塞迪諾(Acetylenol)E13T、阿塞迪諾(Acetylenol)E40、阿塞迪諾(Acetylenol)E60、阿塞迪諾(Acetylenol)E81、阿塞迪諾(Acetylenol)E100、阿塞迪諾(Acetylenol)E200(以上全部為商品名，川研精化(股)公司製造)等。其中，較佳為奧爾菲(Olfin) E1010。

除此以外，非離子系界面活性劑具體可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0553(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0679])等中記載的非離子系界面活性劑，將該些內容併入至本申請案說明書中。

陽離子系界面活性劑具體可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0554(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0680])中記載的陽離子系界面活性劑，將該些內容併入至本申請案說明書中。

陰離子系界面活性劑具體可列舉W004、W005、W017(裕商(股)公司製造)等。

矽酮系界面活性劑例如可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0556(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0682])等中記載的矽酮系界面活性劑，將該些內容併入至本申請案說明書中。另外亦可例示：東麗道康寧(Toray-Dow corning)(股)製造的「東麗矽酮(Toray Silicone)SF8410」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SF8427」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH8400」、「ST80PA」、「ST83PA」、「ST86PA」，邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造的「TSF-400」、「TSF-401」、「TSF-410」、「TSF-4446」，信越矽酮股份有限公司製造的「KP321」、「KP323」、「KP324」、「KP340」等。

<聚合抑制劑>

本發明的組成物中，為了於組成物的製造中或保存中阻止聚合性化合物的不需要的熱聚合，亦可含有少量的聚合抑制劑。

聚合抑制劑可列舉：對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、聯苯三酚、第三丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺亞鈰鹽等，較佳為對甲氧基苯酚。

於本發明的組成物含有聚合抑制劑的情形時，相對於本發明的組成物的固體成分，聚合抑制劑的含量較佳為0.01質量%~5質量%。

<<溶劑>>

本發明的組成物亦可含有溶劑。溶劑並無特別限制，只要可將本發明的組成物的各成分均勻地溶解或分散，則可根據目的而適當選擇，例如可較佳地使用水、醇類等水系溶劑。另外，除此以外，本發明中所用的溶劑可較佳地列舉有機溶劑、酮類、醚類、酯類、芳香族烴類、鹵化烴類及二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、二甲基亞碸、環丁碸等。該些溶劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。

醇類、芳香族烴類、鹵化烴類的具體例可列舉日本專利特開2012-194534號公報的段落0136等中記載者，將其內容併入至本申請案說明書中。另外，酯類、酮類、醚類的具體例可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落0497(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0609])中記載者，進而可列舉： 乙酸-正戊酯、丙酸乙酯、鄰苯二甲酸二甲酯、苯甲酸乙酯、硫酸甲酯、丙酮、甲基異丁基酮、二***、乙二醇單丁醚乙酸酯等。

尤其溶劑較佳為使用選自環己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、N-甲基-2-吡咯啶酮、乙酸丁酯、乳酸乙酯及丙二醇單甲醚中的至少一種以上。

本發明的組成物中的溶劑的含量較佳為本發明的組成物中的總固體成分成為5質量%~90質量%的量，更佳為成為10質量%~80質量%的量，進而佳為成為20質量%~75質量%的量。

<<其他成分>>

本發明的組成物中可併用的其他成分例如可列舉：增感劑、交聯劑、硬化促進劑、填料、熱硬化促進劑、塑化劑等。進而，亦可併用對基材表面的密接促進劑及其他助劑類(例如導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、調平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調整劑、鏈轉移劑等)。

藉由適當含有該些成分，可調整目標近紅外線吸收濾波器的穩定性、膜物性等性質。

該些成分例如可參考日本專利特開2012-003225號公報的段落編號0183~段落編號0228(對應的美國專利申請公開第2013/0034812號說明書的[0237]~[0309])、日本專利特開2008-250074號公報的段落編號0101~段落編號0102、日本專利特開2008-250074號公報的段落編號0103~段落編號0104、日本專利特開2008-250074號公報的段落編號0107~段落編號0109、 日本專利特開2013-195480號公報的段落編號0159~段落編號0184等的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。

<近紅外線吸收組成物的製備及用途>

本發明的組成物可將所述各成分混合而製備。

關於本發明的組成物的黏度，例如於藉由塗佈來形成近紅外線吸收濾波器的情形時，較佳為在1mPa．s~3000mPa．s的範圍內，更佳為10mPa．s以上且2000mPa．s以下的範圍，進而佳為100mPa．s以上且1500mPa．s以下的範圍。

本發明的組成物可用於近紅外線吸收濾波器或藉由檢出波長700nm以上且小於900nm的光來檢出物體的紅外線感測器的近紅外線吸收層等。另外，亦可用於固體攝像元件基板的受光側的近紅外線吸收濾波器(例如對晶圓級透鏡的近紅外線吸收濾波器等)、固體攝像元件基板的背面側(與受光側為相反側)的近紅外線吸收濾波器等。

另外，亦可將本發明的組成物直接塗佈於影像感測器上形成塗膜而使用。本發明的組成物能以可塗佈的狀態而供給，故可於固體攝像元件的所需的構件或位置上容易地形成近紅外線吸收濾波器。

<近紅外線吸收濾波器>

繼而，對本發明的近紅外線吸收濾波器加以說明。

本發明的近紅外線吸收濾波器是使上文所述的本發明的組成物硬化而成。

於本發明的組成物含有上文所述的通式(1)所表示的化合物的情形時，於硬化膜中通式(1)所表示的化合物形成J締合物。因此，使用含有通式(1)所表示的化合物的組成物的近紅外線吸收濾波器於700nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長。

近紅外線吸收濾波器較佳為光透射率滿足以下的(1)~(7)中的至少一個條件，更佳為滿足(1)~(7)的所有條件。

(1)波長400nm下的光透射率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上，尤佳為99.9%以上。

(2)波長500nm下的光透射率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上，尤佳為99.9%以上。

(3)波長600nm下的光透射率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上，尤佳為99.9%以上。

(4)波長700nm下的光透射率較佳為30%以下，更佳為20%以下，進而佳為10%以下，尤佳為0.1%以下。

(5)波長750nm下的光透射率較佳為30%以下，更佳為20%以下，進而佳為10%以下，尤佳為0.1%以下。

(6)波長800nm下的光透射率較佳為30%以下，更佳為20%以下，進而佳為10%以下，尤佳為0.1%以下。

(7)波長900nm下的光透射率較佳為30%以下，更佳為20%以下，進而佳為10%以下，尤佳為0.1%以下。

近紅外線吸收濾波器可根據目的而適當選擇，較佳為設 定為膜厚20μm以下，更佳為設定為10μm以下，進而佳為設定為5μm以下。膜厚的下限例如較佳為0.1μm以上，更佳為0.2μm以上，進而佳為0.3μm以上。根據本發明的組成物，因具有高的近紅外線遮蔽性，故可使近紅外線吸收濾波器的膜厚變薄。

近紅外線吸收濾波器較佳為膜厚20μm以下時，於波長400nm~550nm的整個範圍內的可見光透射率為75%以上，更佳為90%以上。另外，較佳為波長700nm以上且小於900nm的範圍的至少一點的光透射率為20%以下。根據本發明，可確保高透射率的可見光範圍廣，可提供一種具有高的近紅外線遮蔽性的近紅外線吸收濾波器。

近紅外線吸收濾波器可用於：具有吸收．截止近紅外線的功能的透鏡(數位照相機或行動電話或汽車照相機等照相機用透鏡、f-θ透鏡、拾取透鏡等光學透鏡)及半導體受光元件用的光學濾波器、用於節能的阻斷熱線的近紅外線吸收膜或近紅外線吸收板、以選擇性地利用太陽光為目的之農業用塗劑、利用近紅外線的吸收熱的記錄媒體、電子設備用或照相用近紅外線吸收濾波器、護眼鏡、太陽鏡、熱線阻斷膜、光學文字讀取記錄、機密文件防影印用、電子照相感光體、雷射焊接等。另外，亦作為CCD照相機用雜訊截止濾波器、CMOS影像感測器用濾波器而有用。

<近紅外線吸收濾波器的製造方法>

近紅外線吸收濾波器可經由以下步驟而製造：藉由將本發明的組成物應用(較佳為滴加、塗佈或印刷)於支撐體上而形成膜 的步驟、及將膜加以乾燥的步驟。膜厚、積層結構等可根據目的而適當選擇。另外，亦可進一步進行形成圖案的步驟。

形成膜的步驟例如可藉由以下方式實施：於支撐體上，對本發明的組成物使用滴加法(滴鑄)、旋塗機、狹縫旋塗機、狹縫塗佈機、網版印刷、敷料器塗佈等。滴加法(滴鑄)的情況下，為了以既定的膜厚獲得均勻的膜，較佳為於支撐體上形成以光阻劑作為隔離壁的近紅外線吸收組成物的滴加區域。再者，關於膜厚，可調整組成物的滴加量及固體成分濃度、滴加區域的面積。

應用本發明的組成物的支撐體可為包含玻璃等的透明基板。另外，亦可為固體攝像元件基板。另外，亦可為設置於固體攝像元件基板的受光側的其他基板。另外，亦可為設置於固體攝像元件基板的受光側的平坦化層等層。

於將膜加以乾燥的步驟中，乾燥條件亦視各成分、溶劑的種類、使用比例等而不同，為60℃~150℃的溫度且30秒鐘~15分鐘左右。

形成圖案的步驟例如可列舉包括以下步驟的方法等：將本發明的組成物應用於支撐體上而形成膜狀的組成物層的步驟；對組成物層以圖案狀進行曝光的步驟；以及將未曝光部顯影去除而形成圖案的步驟。關於形成圖案的步驟，可藉由光微影法來形成圖案，亦可藉由乾式蝕刻法來形成圖案。

近紅外線吸收濾波器的製造方法中，亦可包括其他步驟。其他步驟並無特別限制，可根據目的而適當選擇。例如可列舉：基 材的表面處理步驟、前加熱步驟(預烘烤步驟)、硬化處理步驟、後加熱步驟(後烘烤步驟)等。

<<前加熱步驟．後加熱步驟>>

前加熱步驟及後加熱步驟中的加熱溫度通常為80℃~200℃，較佳為90℃~150℃。前加熱步驟及後加熱步驟中的加熱時間通常為30秒~240秒，較佳為60秒~180秒。

<<硬化處理步驟>>

硬化處理步驟為視需要對所形成的所述膜進行硬化處理的步驟，藉由進行該處理，近紅外線吸收濾波器的機械強度提高。

所述硬化處理步驟並無特別限制，可根據目的而適當選擇，例如可較佳地列舉全面曝光處理、全面加熱處理等。此處，本發明中所謂「曝光」是以如下含意使用：不僅包含各種波長的光的照射，亦包含電子束、X射線等放射線的照射。

曝光較佳為藉由照射放射線來進行，曝光時可使用的放射線尤其可較佳地使用電子束、KrF、ArF、g射線、h射線、i射線等紫外線或可見光。

曝光方式可列舉步進式曝光、或利用高壓水銀燈的曝光等。

曝光量較佳為5mJ/cm²~3000mJ/cm²，更佳為10mJ/cm²~2000mJ/cm²，尤佳為50mJ/cm²~1000mJ/cm²。

全面曝光處理的方法例如可列舉對所形成的所述膜的整個面進行曝光的方法。於近紅外線吸收組成物含有聚合性化合物的情形時，藉由全面曝光，由所述組成物所形成的膜中的聚合成分的 硬化受到促進，所述膜的硬化進一步進行，機械強度、耐久性得到改良。

進行所述全面曝光的裝置並無特別限制，可根據目的而適當選擇，例如可較佳地列舉超高壓水銀燈等紫外線(UV)曝光機。

另外，全面加熱處理的方法可列舉對所形成的所述膜的整個面進行加熱的方法。藉由進行全面加熱，可提高圖案的膜強度。

全面加熱的加熱溫度較佳為120℃~250℃，更佳為160℃~220℃。若加熱溫度為120℃以上，則藉由加熱處理而膜強度提高，若為250℃以下，則可防止所述膜中的成分發生分解而膜質變得又弱又脆的情況。

全面加熱的加熱時間較佳為3分鐘~180分鐘，更佳為5分鐘~120分鐘。

進行全面加熱的裝置並無特別限制，可自公知的裝置中根據目的而適當選擇，例如可列舉乾燥烘箱、加熱板、紅外線(Infrared，IR)加熱器等。

<紅外線感測器>

本發明的紅外線感測器具有紅外線透射濾波器及近紅外線吸收濾波器，且藉由檢出波長700nm以上且小於900nm的光來檢出物體，並且近紅外線吸收濾波器含有在波長700nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長的近紅外線吸收物質。

根據本發明的紅外線感測器，近紅外線吸收濾波器含有在波長700nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長的近紅 外線吸收物質，因此可利用近紅外線吸收濾波器來高效地遮蔽來自可見光的光，可製成感測器感度良好的紅外線感測器。

以下，使用圖1對本發明的紅外線感測器的一實施形態加以說明。

圖1所示的紅外線感測器100中，圖號110為固體攝像元件基板。

設於固體攝像元件基板110上的攝像區域具有紅外線吸收濾波器111及彩色濾波器112。

於紅外線透射濾波器113與固體攝像元件基板110之間，設有未形成近紅外線吸收濾波器111的區域114。於彩色濾波器112及紅外線透射濾波器113的入射光hv側，配置有微透鏡115。以覆蓋微透鏡115的方式形成有平坦化層116。

於圖1所示的實施形態中，彩色濾波器112是設置於較近紅外線吸收濾波器111更靠入射光hv側，但亦可更換近紅外線吸收濾波器111與彩色濾波器112的順序，將近紅外線吸收濾波器111設置於較彩色濾波器112更靠入射光hv側。

另外，於圖1所示的實施形態中，近紅外線吸收濾波器111與彩色濾波器112鄰接而積層，但兩濾波器亦未必要鄰接，亦可於其間設有其他層。

另外，於圖1所示的實施形態中，將近紅外線吸收濾波器111與彩色濾波器112設置成不同構件，但亦可使彩色濾波器112中含有近紅外線吸收物質，而使彩色濾波器112具有作為近紅外線 吸收濾波器的功能。於該情形時，近紅外線吸收濾波器111可省略。

本發明的紅外線感測器於內部具備近紅外線吸收濾波器，故不需要作為照相機模組的構件的近紅外線吸收濾波器，可減少照相機模組的零件個數，從而可實現照相機模組的小型化。

<<近紅外線吸收濾波器111>>

近紅外線吸收濾波器111含有在波長700nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長的近紅外線吸收物質，可使用近紅外線吸收組成物來形成。極大吸收波長較佳為與後述紅外LED(紅外發光二極體)的發光波長大致相同，該等之差較佳為20nm以內，更佳為10nm以內。所述近紅外線吸收物質較佳為吡咯并吡咯化合物，較佳為使用所述通式(1)所表示的化合物。

另外，近紅外線吸收濾波器111較佳為使上文所述的本發明的組成物硬化而成。近紅外線吸收濾波器111較佳為具有與所述近紅外線吸收濾波器相同的光透射性。近紅外線吸收濾波器111可與上文所述的近紅外線吸收濾波器同樣地製作。

<<彩色濾波器112>>

彩色濾波器112並無特別限定，可使用現有公知的畫素形成用的彩色濾波器，例如可參考日本專利特開2014-043556號公報的段落0214~段落0263的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。

<紅外線透射濾波器113>

紅外線透射濾波器113的形成方法可採用：製備後述著色感放射線性組成物(紅外線透射組成物)並藉由光微影法來進行設置的方法、或藉由噴墨法來進行設置的方法等方法。

紅外線透射濾波器113是根據後述紅外LED的發光波長來選擇其特性。例如以紅外LED的發光波長為830nm作為前提，進行以下說明。

紅外線透射濾波器113較佳為膜的厚度方向上的光透射率的於波長400nm~650nm的範圍(更佳為波長400nm~750nm的範圍)的最大值為30%以下，更佳為20%以下，進而佳為15%以下，尤佳為10%以下，進而更佳為0.1%以下。該透射率較佳為在波長400nm~650nm的整個範圍內滿足所述條件。於波長400nm~650nm的範圍的最大值通常為0.1%以上。

紅外線透射濾波器113較佳為膜的厚度方向上的光透射率的於波長800nm以上(較佳為800nm~1300nm，更佳為900nm~1300nm)的範圍的最小值為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上，尤佳為98%以上，進而更佳為99.9%以上。該透射率較佳為於波長800nm以上的一部分範圍內滿足所述條件，更佳為於與後述紅外LED的發光波長相對應的波長下滿足所述條件。於波長900nm~1300nm的範圍的光透射率的最小值通常為99.9%以下。

膜厚較佳為100μm以下，更佳為15μm以下，進而佳為5μm以下，尤佳為1μm以下。下限值較佳為0.1μm。若膜厚為所述範 圍，則可製成滿足上文所述的分光特性的膜。

以下示出膜的分光特性、膜厚等的測定方法。

關於膜厚，使用觸針式表面形狀測定器(優貝克(ULVAC)公司製造的德塔克(DEKTAK)150)對具有膜的乾燥後的基板進行測定。

膜的分光特性為使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的U-4100)的分光光度計(ref.玻璃基板)於波長300nm~1300nm的範圍內測定透射率所得的值。

所述光透射率的條件亦可藉由任意方法來達成，例如藉由使組成物中含有兩種以上的顏料，並且調整各顏料的種類及含量，可較佳地達成所述光透射率的條件。

紅外線透射濾波器113例如可使用含有後述著色劑(較佳為含有選自紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑中的兩種以上的著色劑的著色劑)的著色感放射線性組成物(紅外線透射組成物)來製作，較佳為使用黑色組成物作為著色感放射線性組成物。所述著色感放射線性組成物除了所述著色劑以外，亦可含有顏料分散劑、顏料衍生物、高分子化合物、硬化性化合物、聚合起始劑、鹼可溶性樹脂、溶劑、界面活性劑、聚合抑制劑等。關於硬化性化合物、聚合起始劑、鹼可溶性樹脂、界面活性劑、聚合抑制劑、溶劑，可參照所述本發明的組成物中說明者，較佳範圍亦相同。

<<著色劑>>

著色劑可為顏料，亦可為染料。顏料較佳為有機顏料，可列舉以下顏料。然而，本發明不限定於該些顏料。

顏色索引(Color Index，C.I.)顏料黃(Pigment Yellow)1、C.I.顏料黃2、C.I.顏料黃3、C.I.顏料黃4、C.I.顏料黃5、C.I.顏料黃6、C.I.顏料黃10、C.I.顏料黃11、C.I.顏料黃12、C.I.顏料黃13、C.I.顏料黃14、C.I.顏料黃15、C.I.顏料黃16、C.I.顏料黃17、C.I.顏料黃18、C.I.顏料黃20、C.I.顏料黃24、C.I.顏料黃31、C.I.顏料黃32、C.I.顏料黃34、C.I.顏料黃35、C.I.顏料黃35：1、C.I.顏料黃36、C.I.顏料黃36：1、C.I.顏料黃37、C.I.顏料黃37：1、C.I.顏料黃40、C.I.顏料黃42、C.I.顏料黃43、C.I.顏料黃53、C.I.顏料黃55、C.I.顏料黃60、C.I.顏料黃61、C.I.顏料黃62、C.I.顏料黃63、C.I.顏料黃65、C.I.顏料黃73、C.I.顏料黃74、C.I.顏料黃77、C.I.顏料黃81、C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃86、C.I.顏料黃93、C.I.顏料黃94、C.I.顏料黃95、C.I.顏料黃97、C.I.顏料黃98、C.I.顏料黃100、C.I.顏料黃101、C.I.顏料黃104、C.I.顏料黃106、C.I.顏料黃108、C.I.顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃113、C.I.顏料黃114、C.I.顏料黃115、C.I.顏料黃116、C.I.顏料黃117、C.I.顏料黃118、C.I.顏料黃119、C.I.顏料黃120、C.I.顏料黃123、C.I.顏料黃125、C.I.顏料黃126、C.I.顏料黃127、C.I.顏料黃128、C.I.顏料黃129、C.I.顏料黃137、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃147、C.I.顏料黃148、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃151、C.I. 顏料黃152、C.I.顏料黃153、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃155、C.I.顏料黃156、C.I.顏料黃161、C.I.顏料黃162、C.I.顏料黃164、C.I.顏料黃166、C.I.顏料黃167、C.I.顏料黃168、C.I.顏料黃169、C.I.顏料黃170、C.I.顏料黃171、C.I.顏料黃172、C.I.顏料黃173、C.I.顏料黃174、C.I.顏料黃175、C.I.顏料黃176、C.I.顏料黃177、C.I.顏料黃179、C.I.顏料黃180、C.I.顏料黃181、C.I.顏料黃182、C.I.顏料黃185、C.I.顏料黃187、C.I.顏料黃188、C.I.顏料黃193、C.I.顏料黃194、C.I.顏料黃199、C.I.顏料黃213、C.I.顏料黃214等(以上為黃色顏料)，C.I.顏料橙(Pigment Orange)2、C.I.顏料橙5、C.I.顏料橙13、C.I.顏料橙16、C.I.顏料橙17：1、C.I.顏料橙31、C.I.顏料橙34、C.I.顏料橙36、C.I.顏料橙38、C.I.顏料橙43、C.I.顏料橙46、C.I.顏料橙48、C.I.顏料橙49、C.I.顏料橙51、C.I.顏料橙52、C.I.顏料橙55、C.I.顏料橙59、C.I.顏料橙60、C.I.顏料橙61、C.I.顏料橙62、C.I.顏料橙64、C.I.顏料橙71、C.I.顏料橙73等(以上為橙色顏料)，C.I.顏料紅(Pigment Red)1、C.I.顏料紅2、C.I.顏料紅3、C.I.顏料紅4、C.I.顏料紅5、C.I.顏料紅6、C.I.顏料紅7、C.I.顏料紅9、C.I.顏料紅10、C.I.顏料紅14、C.I.顏料紅17、C.I.顏料紅22、C.I.顏料紅23、C.I.顏料紅31、C.I.顏料紅38、C.I.顏料紅41、C.I.顏料紅48：1、C.I.顏料紅48：2、C.I.顏料紅48：3、C.I.顏料紅48：4、C.I.顏料紅49、C.I.顏料紅49：1、C.I.顏料紅49：2、C.I.顏料 紅52：1、C.I.顏料紅52：2、C.I.顏料紅53：1、C.I.顏料紅57：1、C.I.顏料紅60：1、C.I.顏料紅63：1、C.I.顏料紅66、C.I.顏料紅67、C.I.顏料紅81：1、C.I.顏料紅81：2、C.I.顏料紅81：3、C.I.顏料紅83、C.I.顏料紅88、C.I.顏料紅90、C.I.顏料紅105、C.I.顏料紅112、C.I.顏料紅119、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅123、C.I.顏料紅144、C.I.顏料紅146、C.I.顏料紅149、C.I.顏料紅150、C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅166、C.I.顏料紅168、C.I.顏料紅169、C.I.顏料紅170、C.I.顏料紅171、C.I.顏料紅172、C.I.顏料紅175、C.I.顏料紅176、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅178、C.I.顏料紅179、C.I.顏料紅184、C.I.顏料紅185、C.I.顏料紅187、C.I.顏料紅188、C.I.顏料紅190、C.I.顏料紅200、C.I.顏料紅202、C.I.顏料紅206、C.I.顏料紅207、C.I.顏料紅208、C.I.顏料紅209、C.I.顏料紅210、C.I.顏料紅216、C.I.顏料紅220、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅226、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅246、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料紅264、C.I.顏料紅270、C.I.顏料紅272、C.I.顏料紅279等(以上為紅色顏料)，C.I.顏料綠(Pigment Green)7、C.I.顏料綠10、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37、C.I.顏料綠58等(以上為綠色顏料)，C.I.顏料紫(Pigment Violet)1、C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫23、C.I.顏料紫27、C.I.顏料紫32、C.I.顏料紫37、C.I.顏料紫42等(以上為紫色顏料)，C.I.顏料藍(Pigment Blue)1、C.I.顏料藍2、C.I.顏料藍15、 C.I.顏料藍15：1、C.I.顏料藍15：2、C.I.顏料藍15：3、C.I.顏料藍15：4、C.I.顏料藍15：6、C.I.顏料藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍64、C.I.顏料藍66、C.I.顏料藍79、C.I.顏料藍80等(以上為藍色顏料)，C.I.顏料黑(Pigment Black)1、C.I.顏料黑7等(以上為黑色顏料)

該些有機顏料可單獨使用或組合使用多種。

染料並無特別限制，可使用以前作為彩色濾波器用而公知的染料。

化學結構可使用：吡唑偶氮系、苯胺基偶氮系、三苯基甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、亞苄基系、氧雜菁系、吡唑并***偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亞胺系、噻噸系、酞菁系、苯并吡喃系、靛藍系、吡咯亞甲基系等的染料。另外，亦可使用該些染料的多聚物。

另外，染料有時可較佳地使用酸性染料及/或其衍生物。

除此以外，亦可有用地使用直接染料、鹼性染料、媒染染料、酸性媒染染料、偶氮染料、分散染料、油溶染料、食品染料及/或該等的衍生物等。

以下列舉酸性染料的具體例，但不限定於該些具體例。例如可列舉以下的染料及該些染料的衍生物。

酸性茜素紫(acid alizarin violet)N，酸性黑(acid black)1、酸性黑2、酸性黑24、酸性黑48， 酸性藍(acid blue)1、酸性藍7、酸性藍9、酸性藍15、酸性藍18、酸性藍23、酸性藍25、酸性藍27、酸性藍29、酸性藍40~45、酸性藍62、酸性藍70、酸性藍74、酸性藍80、酸性藍83、酸性藍86、酸性藍87、酸性藍90、酸性藍92、酸性藍103、酸性藍112、酸性藍113、酸性藍120、酸性藍129、酸性藍138、酸性藍147、酸性藍158、酸性藍171、酸性藍182、酸性藍192、酸性藍243、酸性藍324：1，酸性鉻紫(acid chrome violet)K，酸性品紅(acid fuchsin)；酸性綠(acid green)1、酸性綠3、酸性綠5、酸性綠9、酸性綠16、酸性綠25、酸性綠27、酸性綠50，酸性橙(acid orange)6、酸性橙7、酸性橙8、酸性橙10、酸性橙12、酸性橙50、酸性橙51、酸性橙52、酸性橙56、酸性橙63、酸性橙74、酸性橙95，酸性紅(acid red)1、酸性紅4、酸性紅8、酸性紅14、酸性紅17、酸性紅18、酸性紅26、酸性紅27、酸性紅29、酸性紅31、酸性紅34、酸性紅35、酸性紅37、酸性紅42、酸性紅44、酸性紅50、酸性紅51、酸性紅52、酸性紅57、酸性紅66、酸性紅73、酸性紅80、酸性紅87、酸性紅88、酸性紅91、酸性紅92、酸性紅94、酸性紅97、酸性紅103、酸性紅111、酸性紅114、酸性紅129、酸性紅133、酸性紅134、酸性紅138、酸性紅143、酸性紅145、酸性紅150、酸性紅151、酸性紅158、酸性紅176、酸性紅 183、酸性紅198、酸性紅211、酸性紅215、酸性紅216、酸性紅217、酸性紅249、酸性紅252、酸性紅257、酸性紅260、酸性紅266、酸性紅274，酸性紫(acid violet)6B、酸性紫7、酸性紫9、酸性紫17、酸性紫19，酸性黃(acid yellow)1、酸性黃3、酸性黃7、酸性黃9、酸性黃11、酸性黃17、酸性黃23、酸性黃25、酸性黃29、酸性黃34、酸性黃36、酸性黃42、酸性黃54、酸性黃72、酸性黃73、酸性黃76、酸性黃79、酸性黃98、酸性黃99、酸性黃111、酸性黃112、酸性黃114、酸性黃116、酸性黃184、酸性黃243，食物黃(Food Yellow)3

另外，所述以外的偶氮系、噻噸系、酞菁系的酸性染料亦較佳，亦可較佳地使用C.I.溶劑藍(Solvent Blue)44、C.I.溶劑藍(Solvent Blue)38；C.I.溶劑橙(Solvent orange)45；玫瑰紅(Rhodamine)B、玫瑰紅(Rhodamine)110等酸性染料及該些染料的衍生物。

其中，染料較佳為選自三芳基甲烷系、蒽醌系、甲亞胺系、亞苄基系、氧雜菁系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亞胺系、噻噸系、酞菁系、苯并吡喃系、靛藍系、吡唑偶氮系、苯胺基偶氮系、吡唑并***偶氮系、吡啶酮偶氮系、蒽吡啶酮系、吡咯亞甲基系中的著色劑。

進而，亦可將顏料與染料組合使用。

關於可用作著色劑的顏料的平均粒子尺寸及顏料的微細化方法，可參考日本專利特開2013-064993號公報的段落0080~段落0085的記載，將其內容併入至本申請案說明書中。

著色劑的較佳態樣較佳為含有選自紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑中的兩種以上的著色劑，更佳為含有紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑，較佳的具體例較佳為含有作為紅色顏料的C.I.顏料紅(Pigment Red)254、作為黃色顏料的C.I.顏料黃(Pigment Yellow)139、作為藍色顏料的C.I.顏料藍(Pigment Blue)15：6及作為紫色顏料的C.I.顏料紫(Pigment Violet)23。

於著色感放射線性組成物所含有的著色劑是將紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑組合而成的情形時，較佳為相對於著色劑總量，紅色著色劑的質量比為0.2~0.5，黃色著色劑的質量比為0.1~0.2，藍色著色劑的質量比為0.25~0.55，紫色著色劑的質量比為0.05~0.15。

另外，更佳為相對於著色劑總量，紅色著色劑的質量比為0.3~0.4，黃色著色劑的質量比為0.1~0.2，藍色著色劑的質量比為0.3~0.4，紫色著色劑的質量比為0.05~0.15。

相對於著色劑的總量，著色劑中的顏料的含量較佳為95質量%以上，更佳為97質量%以上，進而佳為99質量%以上。相對於著色劑的總量，著色劑中的顏料的含量的上限為100質量%以下。

本發明的組成物中，著色劑的含量較佳為組成物的總固體成分的20質量%~70質量%，更佳為25質量%~65質量%，進而佳為30質量%~60質量%。

於著色感放射線性組成物含有顏料的情形時，亦可將顏料視需要與顏料分散劑、有機溶劑、顏料衍生物及高分子化合物等其他成分等一起分散，製備顏料分散液，將所得的顏料分散液與視需要而添加的其他成分混合而製備。其他成分可使用與近紅外線吸收組成物中所用的材料(近紅外線吸收物質以外)相同的材料。

以下對顏料分散液的組成、顏料分散液的製備方法加以詳述。

顏料分散液的製備方法並無特別限制，分散的方法例如可藉由以下方式進行：將顏料與顏料分散劑等預先混合，利用均質機等預先分散，對所得的分散物使用利用氧化鋯珠等的珠分散機(例如葛慈曼(GETZMANN)公司製造的分散墊(Disper mat))等進行微分散。

<<顏料分散劑>>

可用於製備顏料分散液的顏料分散劑可列舉：高分子分散劑[例如聚醯胺-胺及其鹽、多羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福馬林縮合物]，及聚氧伸乙基烷基磷酸酯、聚氧伸乙基烷基胺、烷醇胺等界面活性劑，及顏料衍生物等。

高分子分散劑可根據其結構而進一步分類為直鏈狀高分子、 末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。

具有對顏料表面的固定部位的末端改質型高分子例如可列舉：日本專利特開平3-112992號公報、日本專利特表2003-533455號公報等中記載的於末端具有磷酸基的高分子、日本專利特開2002-273191號公報等中記載的於末端具有磺酸基的高分子、日本專利特開平9-77994號公報等中記載的具有有機色素的部分骨架或雜環的高分子等。另外，日本專利特開2007-277514號公報中記載的於高分子末端導入有2個以上的對顏料表面的固定部位(酸基、鹼性基、有機色素的部分骨架或雜環等)的高分子亦分散穩定性優異而較佳。

具有對顏料表面的固定部位的接枝型高分子例如可列舉：日本專利特開昭54-37082號公報、日本專利特表平8-507960號公報、日本專利特開2009-258668公報等中記載的聚(低級伸烷基亞胺)與聚酯的反應產物，日本專利特開平9-169821號公報等中記載的聚烯丙基胺與聚酯的反應產物，日本專利特開平10-339949號、日本專利特開2004-37986號公報等中記載的巨單體與氮原子單體的共聚物，日本專利特開2003-238837號公報、日本專利特開2008-9426號公報、日本專利特開2008-81732號公報等中記載的具有有機色素的部分骨架或雜環的接枝型高分子，日本專利特開2010-106268號公報等中記載的巨單體與含酸基的單體的共聚物等。

於藉由自由基聚合來製造具有對顏料表面的固定部位 的接枝型高分子時所用的巨單體可使用公知的巨單體，可列舉：東亞合成(股)製造的巨單體AA-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚甲基丙烯酸甲酯)、AS-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚苯乙烯)、AN-6S(末端基為甲基丙烯醯基的苯乙烯與丙烯腈的共聚物)、AB-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚丙烯酸丁酯)、大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造的普拉克賽爾(Placcel)FM5(甲基丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯5莫耳當量加成品)、FA10L(丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯10莫耳當量加成品)、及日本專利特開平2-272009號公報中記載的聚酯系巨單體等。該些巨單體中，尤其較佳為柔軟性且親溶劑性優異的聚酯系巨單體，日本專利特開平2-272009號公報中記載的聚酯系巨單體所表示的聚酯系巨單體亦較佳。

具有對顏料表面的固定部位的嵌段型高分子較佳為日本專利特開2003-49110號公報、日本專利特開2009-52010號公報等中記載的嵌段型高分子。

顏料分散劑亦可作為市售品而獲取，此種具體例可列舉：畢克化學(BYK Chemie)公司製造的「迪斯帕畢克(Disperbyk)-101(聚醯胺胺磷酸鹽)、迪斯帕畢克(Disperbyk)-107(羧酸酯)、迪斯帕畢克(Disperbyk)-110(含酸基的共聚物)、迪斯帕畢克(Disperbyk)-130(聚醯胺)、迪斯帕畢克(Disperbyk)-161、迪斯帕畢克(Disperbyk)-162、迪斯帕畢克(Disperbyk)-163、迪斯帕畢克(Disperbyk)-164、迪斯帕畢克(Disperbyk)-165、迪 斯帕畢克(Disperbyk)-166、迪斯帕畢克(Disperbyk)-170(高分子共聚物)」、「畢克(BYK)-P104、畢克(BYK)P105(高分子量不飽和多羧酸)」；埃夫卡(EFKA)公司製造「埃夫卡(EFKA)4047、埃夫卡(EFKA)4050~埃夫卡(EFKA)4010~埃夫卡(EFKA)4165(聚胺基甲酸酯系)、埃夫卡(EFKA)4330~埃夫卡(EFKA)4340(嵌段共聚物)、埃夫卡(EFKA)4400~埃夫卡(EFKA)4402(改質聚丙烯酸酯)、埃夫卡(EFKA)5010(聚酯醯胺)、埃夫卡(EFKA)5765(高分子量多羧酸鹽)、埃夫卡(EFKA)6220(脂肪酸聚酯)、埃夫卡(EFKA)6745(酞菁衍生物)、埃夫卡(EFKA)6750(偶氮顏料衍生物)」；味之素精密技術(Ajinomoto Fine-techno)公司製造的「阿吉斯帕(Ajisper)PB821、阿吉斯帕(Ajisper)PB822、阿吉斯帕(Ajisper)PB880、阿吉斯帕(Ajisper)PB881」；共榮社化學公司製造「弗洛蘭(Flowlen)TG-710(胺基甲酸酯寡聚物)」，「寶理弗洛(Polyflow)No.50E、寶理弗洛(Polyflow)No.300(丙烯酸系共聚物)」；楠本化成公司製造的「迪斯帕隆(Doisperlon)KS-860、迪斯帕隆(Doisperlon)873SN、迪斯帕隆(Doisperlon)874、迪斯帕隆(Doisperlon)#2150(脂肪族多元羧酸)、迪斯帕隆(Doisperlon)#7004(聚醚酯)、迪斯帕隆(Doisperlon)DA-703-50、迪斯帕隆(Doisperlon)DA-705、迪斯帕隆(Doisperlon)DA-725」；花王公司製造的「德莫耳(Demol)RN、德莫耳(Demol)N(萘磺酸福馬林縮聚物)、德莫耳(Demol)MS、德莫耳(Demol)C、德莫耳(Demol)SN-B(芳香族磺酸福 馬林縮聚物)」，「火莫格諾(Homogenol)L-18(高分子多羧酸)」，「愛慕根(Emulgen)920、愛慕根(Emulgen)930、愛慕根(Emulgen)935、愛慕根(Emulgen)985(聚氧伸乙基壬基苯基醚)」，「阿塞他命(Acetamin)86(硬脂基胺乙酸酯)」；日本路博潤(Lubrizol Japan)(股)製造的「索努帕斯(Solsperse)5000(酞菁衍生物)、索努帕斯(Solsperse)22000(偶氮顏料衍生物)、索努帕斯(Solsperse)13240(聚酯胺)、索努帕斯(Solsperse)3000、索努帕斯(Solsperse)17000、索努帕斯(Solsperse)27000(於末端部具有功能部的高分子)，索努帕斯(Solsperse)24000、索努帕斯(Solsperse)28000、索努帕斯(Solsperse)32000、索努帕斯(Solsperse)38500(接枝型高分子)」，日光化學公司製造的「尼克爾(Nikkol)T106(聚氧伸乙基去水山梨糖醇單油酸酯)、尼克爾(Nikkol)MYS-IEX(聚氧伸乙基單硬脂酸酯)」；川研精化(股)製造的海諾特(Hinoact)T-8000E等；信越化學工業(股)製造的有機矽氧烷聚合物KP341；裕商(股)製造的「W001：陽離子系界面活性劑」、聚氧伸乙基月桂基醚、聚氧伸乙基硬脂基醚、聚氧伸乙基油烯基醚、聚氧伸乙基辛基苯基醚、聚氧伸乙基壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、去水山梨糖醇脂肪酸酯等非離子系界面活性劑，「W004、W005、W017」等陰離子系界面活性劑；森下產業(股)製造的「埃夫卡(EFKA)-46、埃夫卡(EFKA)-47、埃夫卡(EFKA)-47EA、埃夫卡(EFKA)聚合物100、埃夫卡(EFKA)聚合物400、埃夫卡(EFKA)聚合 物401、埃夫卡(EFKA)聚合物450」；聖諾普科(Sannopco)(股)製造的「迪斯帕艾德(Disper-aid)6、迪斯帕艾德(Disper-aid)8、迪斯帕艾德(Disper-aid)15、迪斯帕艾德(Disper-aid)9100」等高分子分散劑，艾迪科(ADEKA)(股)製造的「艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L31、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F38、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L42、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L44、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L61、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L64、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F68、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L72、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P95、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F77、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P84、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F87、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P94、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L101、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P103、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F108、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L121、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P-123」；及三洋化成(股)製造的「伊奧奈特(Ionet)S-20」等。

顏料分散劑可單獨使用，亦可組合使用兩種以上。

相對於顏料100質量份，顏料分散液中的顏料分散劑的含量較佳為1質量份~80質量份，更佳為5質量份~70質量份，進而佳為10質量份~60質量份。

於使用高分子分散劑的情形時，相對於顏料100質量份，顏料分散劑的量以質量換算計而較佳為5份~100份的範圍，更佳為 10份~80份的範圍。

<<顏料衍生物>>

所謂顏料衍生物，是指具有以酸性基、鹼性基或鄰苯二甲醯亞胺甲基將有機顏料的一部分取代而成的結構的化合物。就分散性及分散穩定性的觀點而言，顏料衍生物較佳為含有具有酸性基或鹼性基的顏料衍生物。

用以構成顏料衍生物的有機顏料可列舉：二酮基吡咯并吡咯系顏料、偶氮系顏料、酞菁系顏料、蒽醌系顏料、喹吖啶酮系顏料、二噁嗪系顏料、紫環酮系顏料、苝系顏料、硫靛藍系顏料、異吲哚啉系顏料、異吲哚啉酮系顏料、喹酞酮系顏料、還原(threne)系顏料、金屬錯合物系顏料等。

顏料衍生物尤其較佳為喹啉系、苯并咪唑酮系及異吲哚啉系的顏料衍生物，更佳為喹啉系及苯并咪唑酮系的顏料衍生物。

相對於顏料的總質量，顏料分散液中的顏料衍生物的含量較佳為1質量%~50質量%，更佳為3質量%~30質量%。顏料衍生物可僅使用一種，亦可併用兩種以上。

另外，於併用顏料衍生物的情形時，相對於顏料100質量份，顏料衍生物的使用量以質量換算計而較佳為在1份~30份的範圍內，更佳為在3份~20份的範圍內，尤佳為在5份~15份的範圍內。

<<顏料分散液可含有的溶劑>>

顏料分散液較佳為含有溶劑。溶劑可使用上文所述的溶劑。 顏料分散液中的溶劑的含量較佳為40質量%~95質量%，更佳為70質量%~90質量%。

<<高分子化合物>>

可用於製備顏料分散液的高分子化合物例如可列舉：聚醯胺-胺及其鹽、多羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物(尤其較佳為含有羧酸基及於側鏈上含有聚合性基的(甲基)丙烯酸系共聚物)、萘磺酸福馬林縮合物等。此種高分子材料以吸附於顏料的表面、防止再凝聚的方式發揮作用，故較佳為具有對顏料表面的固定部位的末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子，例如可列舉：含有含雜環的單體及具有乙烯性不飽和鍵的聚合性寡聚物作為共聚物單元的接枝共聚物。

其他高分子材料進而可列舉：聚醯胺-胺磷酸鹽、高分子量不飽和多羧酸、聚醚酯、芳香族磺酸福馬林縮聚物、聚氧伸乙基壬基苯基醚、聚酯胺、聚氧伸乙基去水山梨糖醇單油酸酯、聚氧伸乙基單硬脂酸酯等。

該些高分子材料可單獨使用，亦可組合使用兩種以上。相對於顏料，顏料分散液中的高分子材料的含量較佳為20質量%~80質量%，更佳為30質量%~70質量%，進而佳為40質量%~60質量%。

繼而，作為應用本發明的紅外線感測器的例子，對攝像裝置加以說明。

圖2為攝像裝置的功能區塊圖。攝像裝置具備透鏡光學系統1、固體攝像元件10、信號處理部20、信號切換部30、控制部40、信號蓄積部50、發光控制部60、發出紅外光的發光元件的紅外LED 70(發光波長較佳為700nm~900nm，更佳為800nm~900nm)、圖像輸出部80及圖像輸出部81。再者，固體攝像元件10可使用上文所述的近紅外線感測器100。另外，關於固體攝像元件10及透鏡光學系統1以外的構成，亦可將其全部或其一部分形成於同一半導體基板上。關於攝像裝置的各構成，可參照日本專利特開2011-233983號公報的段落0032~段落0036，將其內容併入至本申請案說明書中。所述攝像裝置中，可組入具有固體攝像元件及所述近紅外線吸收濾波器的照相機模組。

<化合物>

本發明的化合物為本發明的組成物中說明的通式(1)所表示的化合物，較佳化合物亦相同。

本發明的化合物較佳為於氯仿溶液中於650nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長，更佳為於700nm~860nm內具有極大吸收波長，進而佳為於750nm~850nm內具有極大吸收波長。

本發明的化合物例如可較佳地用於形成將波長700nm以上且小於900nm的光遮蔽的近紅外線吸收濾波器等。另外，亦可用作電漿顯示器面板(Plasma Display Panel，PDP)或CCD等固體攝動元件用的近紅外線吸收濾波器、熱線遮蔽膜的光學濾波器、追 記型光碟(CD-R)或閃光熔融定影材料中的光熱轉換材料。另外，亦可用作安全油墨或不可見條碼油墨的資訊顯示材料。

<硬化性組成物>

本發明的硬化性組成物含有所述通式(1)所表示的化合物。通式(1)所表示的化合物與所述通式(1)所表示的化合物為相同含意，較佳範圍亦相同。

另外，本發明的硬化性組成物亦可含有所述近紅外線吸收組成物中說明的通式(1)所表示的化合物以外的其他成分，較佳為含有所述硬化性化合物。

<套組>

本發明是關於一種含有本發明的近紅外線吸收組成物、及所述紅外線透射濾波器所用的著色感放射線性組成物的套組。該等的詳細可參考所述記載，較佳範圍亦相同。

[實施例]

以下列舉實施例對本發明加以更具體說明。以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不偏離本發明的主旨，則可適當變更。因此，本發明的範圍不限定於以下所示的具體例。再者，只要無特別說明，則「%」及「份」為質量基準。

<化合物(A-1)的合成>

依照下述流程來合成化合物(A-1)。

[化43]

(化合物(A-1a)的合成)

將異二十醇(範鎖可(Fine oxocol)2000，日產化學工業(股)公司製造)20.0質量份、三乙胺(NEt₃)8.13質量份於乙酸乙酯40質量份中攪拌，於-10℃下滴加甲磺醯氯8.44質量份。滴加結束後，於30℃下反應2小時。藉由分液操作取出有機層，將溶劑減壓蒸餾去除，由此獲得淡黃色液體(A-1a0體)25.5質量份。

繼而，將4-氰基苯酚7.82質量份、碳酸鉀10.1質量份於二甲基乙醯胺(DMAc)25質量份中攪拌，添加所述合成的(A-1a0體)25.5質量份，於100℃下反應6小時。藉由分液操作來取出有機層，利用氫氧化鈉水溶液將有機層清洗後，將溶劑減壓蒸餾去除，由此獲得作為淡黃色液體的化合物(A-1a)25.8質量份。

¹H-核磁共振(Nuclear Magnetic Resonance，NMR)(CDCl₃)： δ 0.55-0.96(m,18H),0.96-2.10(m,21H),3.88(m,2H),6.93(d,2H),7.56(d,2H)

(A-1b的合成)

以所述合成的化合物(A-1a)13.1質量份作為原料，依照美國專利第5,969,154號說明書中記載的方法，合成二酮基吡咯并吡咯化合物(A-1b體)，獲得作為橙色固體的化合物(A-1b)7.33質量份。

¹-NMR(CDCl₃)：δ 0.55-0.96(m,36H),0.96-2.10(m,42H),3.95(m,4H),7.06(d,4H),8.30(d,4H),8.99(brs,2H)

(化合物(A-1d)的合成)

將化合物(A-1b)7.2質量份、2-(2-苯并噻唑基)乙腈3.42質量份於甲苯30質量份中攪拌，添加***10.0質量份並加熱回流5小時。藉由分液操作來取出有機層，利用碳酸氫鈉水溶液進行清洗後，將溶劑減壓蒸餾去除。

利用矽膠管柱層析儀(溶劑：氯仿)將所得的粗產物純化，進而使用氯仿/乙腈溶劑進行再結晶，由此獲得作為綠色固體的化合物(A-1d)5.73質量份。

¹H-NMR(CDCl₃)：δ 0.55-1.00(m,36H),1.00-2.10(m,42H),3.97(m,4H),7.11(d,4H),7.28(t,2H),7.43(t,2H),7.67-7.75(m,6H),7.80(d,2H),13.16(s,2H)

(化合物(A-1e0)的合成)

將4-溴苄基溴化物(東京化成(股)公司製造)100質量份 添加至脫水四氫呋喃787質量份中，冷卻至-78℃進行攪拌。於所述反應溶液中滴加溴化烯丙基鎂溶液(1M二***溶液，奧德里奇(ALDRICH)(股)公司製造)，於-78℃下攪拌1小時，進而於室溫下攪拌1小時。將蒸餾水920重量份滴加至反應溶液，藉由分液操作來取出有機層，以鹽水(Brine)進行清洗，以硫酸鎂進行脫水乾燥後，將溶劑蒸餾去除。

利用矽膠管柱層析儀(溶劑：己烷，Rf=0.47)將所得的粗產物純化，由此獲得(A-1e0)80.6質量份。

¹H-NMR(CDCl₃)：δ 2.34(q,2H),2.66(t,2H),5.00(dd,2H),5.81(m,1H),7.05(d,2H),7.39(d,2H)

(化合物(A-1e)的合成)

將鎂10.8質量份添加至脫水四氫呋喃112質量份中，於其反應液中滴加化合物(A-1e0)78.8質量份與脫水四氫呋喃235重量份的溶液，攪拌而製備格林納(Grignard)試劑。

將三丁氧基硼烷40.9重量份添加至脫水四氫呋喃79重量份中並冷卻至5℃。於該反應溶液中滴加所述格林納(Grignard)試劑。滴加結束後，加熱至55℃並攪拌1小時後，水浴冷卻至室溫為止。利用冰浴將濃鹽酸32.2質量份與水100質量份的混合溶劑冷卻，滴加所述反應溶液後，進而滴加庚烷800質量份。藉由分液操作而取出有機層，以水進行清洗，將溶劑蒸餾去除。

利用矽膠管柱層析儀(溶劑；己烷：乙酸乙酯=50：1，Rf=0.3(己烷：乙酸乙酯=5：1展開溶劑))將所得的粗產物純化。

利用庚烷使所得的純化物共沸，溶解於庚烷800質量份中並冷卻至0℃。於所述反應溶液中於0℃下滴加乙醇胺10.9重量份，由此結晶析出。滴加結束後於室溫下攪拌1小時後，將反應液過濾，由此獲得化合物(A-1e)42.8質量份。

¹H-NMR(CDCl₃)：δ 2.35(q,2H),2.66(t,2H),2.80(bs,2H),3.84(t,2H),4.10(bs,2H),4.95(dd,2H),5.03(dd,2H),5.87(m,2H),7.09(d,4H),7.30(d,4H)

(化合物(A-1)的合成)

將化合物(A-1e)2.53質量份、甲苯70質量份於40℃下攪拌，添加氯化鈦3.56質量份並反應30分鐘。添加化合物(A-1d)5.60質量份，於外接溫度130℃下加熱回流1小時。冷卻至室溫為止，添加甲醇80質量份使結晶析出，將其過濾分離。利用矽膠管柱層析儀(溶劑：氯仿)將所得的粗結晶純化後，進而使用甲苯/甲醇溶劑進行再結晶，由此獲得作為目標化合物的綠色結晶的化合物(A-1)3.87質量份。

圖3為表示化合物(A-1)於氯仿溶液中的分光特性的圖。化合物(A-1)的λmax於氯仿中為781nm。化合物(A-1)的莫耳吸收係數於氯仿中為2.17×10⁵dm³/mol．cm。

¹H-NMR(CDCl₃)：δ 0.55-1.01(m,36H),1.01-2.10(m,42H),3.81(m,4H),4.99(d,2H),5.05(d,2H),5.80-5.95(m,4H),6.43(m,8H),6.81-7.11(m,14H),7.11-7.22(m,8H),7.47(d,2H)

<化合物(A-2)及化合物(A-3)的合成>

依照下述流程來合成化合物(A-2)及化合物(A-3)。

(化合物(A-2)的合成)

將化合物(A-1)6.00質量份、硫代乙醇酸9.54質量份添加至甲苯36.0質量份並升溫至80℃。於反應液中添加二甲基2,2-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)(V-601)0.032質量份，於80℃下攪拌2小時。將反應液冷卻至室溫為止，減壓乾固並添加甲苯10質量份，滴加至甲醇120質量份中。將析出的結晶過濾，由此獲得化合物(A-2)6.86質量份。

圖4為表示化合物(A-2)於氯仿溶液中的分光特性的圖。化合物(A-2)的λmax於氯仿中為780nm。化合物(A-2)的莫耳吸收係數於氯仿中為2.08×10⁵dm³/mol．cm。

¹H-NMR(CDCl₃)：δ 0.55-1.01(m,36H),1.01-2.10(m,42H), 3.81(m,4H),4.99(d,2H),5.05(d,2H),5.80-5.95(m,4H),6.43(m,8H),6.81-7.11(m,14H),7.11-7.22(m,8H),7.47(d,2H)

(化合物(A-3)的合成)

於氯仿(不含乙醇，戊烯(amylene)添加品)60質量份中添加化合物(A-2)4.00質量份、甲基丙烯酸2-羥基乙酯0.99質量份、二甲基胺基吡啶0.93質量份，其後添加1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二醯亞胺鹽酸鹽1.18質量份，攪拌1小時。於反應液中添加1N鹽酸進行中和，添加蒸餾水，由此進行分液操作，利用蒸餾水來清洗所得的有機層，將溶劑蒸餾去除。於所得的固體中添加甲苯15質量份，滴加至甲醇200質量份中，於室溫下攪拌，由此結晶析出。對所得的結晶進行過濾，由此獲得化合物(A-3)3.9質量份。

化合物(A-3)的λmax於氯仿中為780nm。化合物(A-3)的莫耳吸收係數於氯仿中為2.05×10⁵dm³/mol．cm。

¹H-NMR(CDCl₃)：δδ 0.55-1.01(m,36H),1.01-2.10(m,42H),3.81(m,4H),5.5(d,4H),6.2(d,4H),6.43(m,8H),6.81-7.11(m,14H),7.11-7.22(m,8H),7.47(d,2H)

<化合物(A-4)及化合物(A-5)的合成>

(化合物(A-4a)、化合物(A-4b)、化合物(A-4d)及化合物(A-4f)的合成)

化合物(A-4a)是利用與化合物(A-1a)相同的方法來合成，化合物(A-4b)是利用與化合物(A-1b)相同的方法來合成，化 合物(A-4d)是利用與化合物(A-1d)相同的方法來合成，化合物(A-4f)是利用與化合物(A-1)相同的方法來合成。

(化合物(A-4)的合成)

將化合物(A-4f)30質量份、硫代乙醇酸28.3質量份添加至 甲苯300質量份中並升溫至80℃。於反應液中添加二甲基2,2-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)17.0質量份，於80℃下攪拌2小時。於反應液中進一步追加二甲基2,2-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)10.0質量份並攪拌2小時。將反應液冷卻至室溫為止，將反應液減壓乾固並添加甲苯150質量份，滴加至甲醇600質量份中。將析出的結晶過濾，由此獲得化合物(A-4)24.5質量份。

化合物(A-4)的λmax於氯仿中為781nm。化合物(A-4)的莫耳吸收係數於氯仿中為1.93×10⁵dm³/mol．cm。

(化合物(A-5)的合成)

於氯仿(不含乙醇，戊烯添加品)60質量份中添加A-4 6.00質量份、甲基丙烯酸2-羥基乙酯3.13質量份、二甲基胺基吡啶1.78質量份，其後添加1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二醯亞胺鹽酸鹽2.26質量份，攪拌1小時。於反應液中添加1N鹽酸進行中和，添加蒸餾水，由此進行分液操作，利用蒸餾水對所得的有機層進行清洗，將溶劑蒸餾去除。於所得的固體中添加甲苯60重量份，滴加至甲醇600質量份中，於室溫下攪拌，由此結晶析出。將所得的結晶過濾，由此獲得化合物(A-5)5.78質量份。

化合物(A-5)的λmax於氯仿中為781nm。化合物(A-5)的莫耳吸收係數於氯仿中為2.05×10⁵dm³/mol．cm。

[化47]

<化合物(A-6)的合成>

(化合物(A-6b)的合成)

將鈉1.2質量份添加至乙醇52.0質量份中，於0℃下冷卻攪拌。於該反應液中於0℃下緩慢地滴加A-6a 10.0質量份、溴乙酸乙酯7.7質量份。將反應溶液於氮氣環境下攪拌整夜。攪拌後，添加蒸餾水直至溴化鈉完全溶解為止，減壓而將乙醇減壓蒸餾去除。然後以二***進行分液操作，利用蒸餾水對經萃取的有機層進行清洗，利用硫酸鈉加以乾燥。將溶劑減壓蒸餾去除，由此獲得化合物(A-6b)10.7質量份。

(A-6c的合成)

將化合物(A-6b)10.7質量份、乙酸銨6.1質量份添加至乙酸中，於外接溫度130℃下加熱攪拌16小時。將反應溶液添加至400質量份的冷水中。將析出的結晶過濾，利用100質量份的水進行清洗。使用二氯甲烷對所得的粗產物進行再結晶，由此獲得化 合物(A-6c)8.8質量份。

(A-6d的合成)

將第三丁氧基鉀3.4質量份添加至2-甲基-2-丁醇30質量份中，於90℃下加熱攪拌。繼而，依序滴加化合物(A-6c)5.0質量份及對(1-癸氧基)苄腈3.1質量份，於外接溫度120℃下攪拌2小時。確認到反應結束後，添加蒸餾水15.0質量份及甲醇15.0質量份。將析出的結晶過濾，由此獲得化合物(A-6d)2.4質量份。

(化合物(A-6f)及化合物(A-6)的合成)

利用與化合物(A-1d)、化合物(A-1)的合成例相同的方法來合成化合物(A-6e)、化合物(A-6f)。

使用硫代蘋果酸代替硫代乙醇酸，且使用A-6f代替A-1，除此以外，利用與化合物(A-2)的合成例相同的方法來合成下述化合物(A-6)。

[化49]

<化合物(A-7)的合成>

以化合物(A-6e)及化合物(A-1e)作為原料，利用與化合物(A-1)的合成例相同的方法來合成化合物(A-7a)。繼而，利用與化合物(A-2)相同的方法來合成化合物(A-7)。

<化合物(A-8)及化合物(A-9)的合成>

[化51】

(化合物(A-8b)的合成)

依照WO2010/54058A1說明書中記載的方法進行合成，獲得化合物(A-8b)156質量份。

(化合物(A-8c)的合成)

將化合物(A-8b)10質量份、3-丁烯基溴8.8質量份、碳酸鉀9.9質量份添加至二甲基亞碸100質量份中，於50℃下攪拌5小時。反應結束後，對反應溶液添加乙酸乙酯進行分液操作，依序以1N鹽酸、蒸餾水、氯化鈉水溶液對經萃取的有機層進行清洗，利用硫酸鎂加以乾燥。將溶劑減壓蒸餾去除，由此獲得化合物(A-8c)10.5質量份。

(化合物(A-8d)的合成)

將化合物(A-8c)12.2質量份添加至25質量%氫氧化鉀水溶液120質量份中，將反應溶液加熱回流24小時。使用6N鹽酸及乙酸將所得的反應液中和至pH值6。將析出的結晶過濾，利用蒸餾水清洗並加以乾燥，由此獲得10.3質量份的化合物(A-8d)。

(化合物(A-8e)的合成)

添加丙二腈(malononitrile)23.7質量份、乙酸20.1質量份、甲醇197.7質量份，於0℃下冷卻攪拌。繼而，以內溫成為40℃以下的方式緩慢添加化合物(A-8d)70.1質量份。添加結束後，於 內溫30℃下攪拌2小時，冷卻至內溫10℃以下並攪拌30分鐘。將析出的結晶過濾，利用經冷卻的甲醇進行清洗，由此獲得化合物(A-8e)68.4質量份。

依照下述流程來合成化合物(A-8)及化合物(A-9)。

(化合物(A-8f)的合成)

除了原料使用化合物(A-8e)以外，利用與化合物(A-1d)的合成例相同的方法來合成化合物(A-8f)。

(化合物(A-8g)的合成)

除了原料使用化合物(A-8f)以外，利用與化合物(A-1)的合成例相同的方法來合成化合物(A-8g)。

(A-8的合成)

除了原料使用化合物(A-8g)以外，利用與化合物(A-2)的合成例相同的方法來合成化合物(A-8)。

(化合物(A-9)的合成)

除了原料使用化合物(A-8)、甲基丙烯酸-2-胺基-乙酯以外，利用與化合物(A-3)的合成例相同的方法來合成化合物(A-9)。

<化合物(A-10)的合成>

依照下述流程來合成化合物(A-10)。

(化合物(A-10a)的合成)

除了起始原料使用2-甲基丁醇以外，利用與化合物(A-1a0)、 化合物(A-1a)、化合物(A-1b)、化合物(A-1d)的合成例相同的方法來合成化合物(A-10a)。

(化合物(A-10)的合成)

將第三丁氧基鉀0.30質量份、化合物(A-10a)1.0質量份添加至二甲基亞碸14.0質量份中，於70℃下加熱攪拌。繼而，滴加4-氯甲基苯甲酸乙酯0.88質量份，於70℃下攪拌4小時。冷卻至室溫為止，添加1.5質量份的甲醇。利用30質量%氫氧化鈉水溶液1.6質量份將析出的結晶清洗。進而，加熱回流30分鐘，由此進行水解。繼而，添加14.0質量份的蒸餾水，添加1N乙酸15.0質量份，由此進行再沈澱，將析出的結晶過濾並以蒸餾水進行清洗，由此獲得化合物(A-10)0.6質量份。

<化合物(A-11)的合成>

除了使用4-溴-1-丁烯代替A-1e0以外，利用與A-1e及A-1相同的合成方法來合成化合物(A-11)。

<化合物(A-12)的合成>

(A-12a的合成)

除了使用硫代乙醇酸來代替硫代蘋果酸以外，利用與A-6相同的合成方法來合成化合物(A-12a)。

(化合物(A-12)的合成)

除了原料使用(A-12a)以外，利用與A-3相同的合成方法來合成化合物(A-12)。

<A-13的合成>

除了使用表氯醇來代替甲基丙烯酸2-羥基乙酯以外，利用與A-3相同的合成方法來合成化合物(A-13)。

[化57]

<近紅外線吸收組成物的製備>

<<實施例1的近紅外線吸收組成物>>

將下述成分混合，製備實施例1的近紅外線吸收組成物。

<<實施例2~實施例17的近紅外線吸收組成物>>

除了如下述表中記載般變更以外，與實施例1同樣地製備近 紅外線吸收組成物。

所述表中記載的記號表示下述化合物。再者，A-0~A-13 表示所述化合物(A-0)~化合物(A-13)。

B-1：賽克羅馬(Cyclomer)P(ACA)230AA(大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造)

B-2：EHPE3150(大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造)

B-3：卡亞拉得(KAYARAD)DPHA(日本化藥(股)製造)

B-4：下述結構的聚合物(Mw：13200，Mw/Mn：1.69)

D-1：豔佳固(IRGACURE)OXE01(巴斯夫(BASF)公司)製造)

E-1：均苯四甲酸酐(東京化成(股)製造)

E-2：理家德(Rikacid)MTA-15(新日本理化(股)製造)

F-1：環己酮

F-2：丙二醇單甲醚

<硬化膜的製作>

使用旋塗機(三笠(Mikasa)(股)公司製造)將各實施例中製備的近紅外線吸收組成物分別塗佈於玻璃基板上，形成塗膜。繼而，以該塗膜的乾燥膜厚成為0.6μm的方式，使用100℃的加 熱板進行120秒鐘加熱處理(預烘烤)。繼而，於200℃下進行5分鐘加熱，進行塗佈膜的硬化而形成硬化膜。

另外，對所得的硬化膜研究分光特性。圖5為表示使用實施例1的近紅外線吸收組成物的硬化膜的分光特性的圖。圖6為表示使用實施例2的近紅外線吸收組成物的硬化膜的分光特性的圖。

<耐溶劑性評價>

使所述製作的硬化膜於表1中記載的溶劑中浸漬5分鐘，比較浸漬前後的分光，由此根據下述式來評價耐溶劑性。分光是藉由日立高新技術(Hitachi High-technology)製造的分光器UV4100以865nm下的入射角度0°來測定吸光度。

式：(浸漬後的吸光度/浸漬前的吸光度)×100

A：所述式的值為95%以上

B：所述式的值為80%以上且小於95%

C：所述式的值為75%以上且小於80%

D：所述式的值小於75%

如由所述表1所表明，根據本發明得知，即便於浸漬於溶劑中的情形時，亦可獲得近紅外線吸收性色素不易溶出的硬化膜。尤其得知，於使用所述通式(1)所表示的化合物的情形時，效果良好。

另外，根據本發明得知，於將硬化性組成物製成硬化膜時， 可維持高的近紅外線遮蔽性。

另外，於實施例1中將聚合起始劑(D-1)變更為豔佳固(IRGACURE)OXE 02的情形時，可與實施例1同樣地獲得優異效果。

另外，即便於實施例1中將聚合性化合物(B-1)及聚合性化合物(B-3)變更為萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)DCP-A、卡亞拉得(KAYARAD)D-330、卡亞拉得(KAYARAD)D-320、卡亞拉得(KAYARAD)D-310或卡亞拉得(KAYARAD)DPHA的情形時，亦可與實施例1同樣地獲得優異效果。

如圖1所示，於矽基板上積層形成所述實施例1的紅外線吸收濾波器111及彩色濾波器，於不存在紅外線吸收濾波器111的區域上形成實驗例1~實驗例13的紅外線透射濾波器，獲得固體攝像元件。所得的固體攝像元件的可見光雜訊性能優異，畫質亦優異。再者，彩色濾波器是與日本專利特開2014-043556號公報的實施例同樣地製作。紅外線透射濾波器113是利用以下方法製作。

[分散樹脂1]

使用日本專利特開2009-69822號公報的段落0172及段落0173中記載的鹼可溶性樹脂-3作為分散樹脂1。

[分散樹脂2]

使用下述樹脂A作為分散樹脂2。

[化59]

樹脂A(重複單元之比為莫耳比，Mw：14000)

[分散劑1]

使用日本專利特開2009-69822號公報的段落0175中記載的分散劑-1作為分散劑1。

[顏料分散液B-1的製備]

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的混合液混合、分散3小時，製備顏料分散液B-1。

[顏料分散液B-2的製備]

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的混合液混合、分散3小時，製備顏料分散液B-2。

[顏料分散液B-3的製備]

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的混合液混合、分散3小時，製備顏料分散液B-3。

[顏料分散液B-4的製備]

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的混合液混合、分散3小時，製備顏料分散液B-4。

[顏料分散液B-5的製備]

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的混合液混合、分散3小時，製備顏料分散液B-5。

[顏料分散液B-6的製備]

使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造))將下述組成的混合液混合、分散3小時，製備顏料分散液B-6。

(實驗例1)

[著色感放射線性組成物(紅外線透射組成物)的製備]

將下述成分混合，製備實驗例1的著色感放射線性組成物(紅外線透射組成物)。

[化62]

(實驗例2~實驗例13)

於實驗例1的著色感放射線性組成物的製備時，將顏料分散液、鹼可溶性樹脂、聚合性化合物、光聚合起始劑、界面活性劑及有機溶劑變更為下述表3所示者及量(質量份)(顏料分散液中的各顏料的質量比參照所述表2。另外，表3中，無數值者是指未使用)，製備實驗例2~實驗例13的各著色感放射線性組成物。

以下示出該些實施例及比較例中使用的材料中上文未述者。

[化64]

．聚合性化合物4：新中村化學公司製造的U-6LPA(丙烯酸胺基甲酸酯)

．聚合性化合物5：日本化藥公司製造的PM-21(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基己酸酯酸式磷酸酯)

．光聚合起始劑3：巴斯夫(BASF)公司製造的豔佳固(IRGACURE)379

．光聚合起始劑4：日本專利特開2009-69822號公報的段落[0177]中記載的光聚合起始劑-1(肟系起始劑)

．有機溶劑2：乙酸-3-甲氧基丁酯

．鹼可溶性樹脂2：所述樹脂A

．鹼可溶性樹脂3：日本專利特開2009-69822號公報的段落 [0170]中記載的鹼可溶性樹脂-1(環氧丙烯酸酯樹脂)

使用所得的各著色感放射線性組成物來評價分光特性。將結果匯總示於表3中。

[分光特性]

將各著色感放射線性組成物旋塗於玻璃基板上，以後烘烤後的膜厚成為1.0μm的方式塗佈，於100℃下利用加熱板乾燥120秒鐘，經乾燥後，進而使用200℃的加熱板進行300秒鐘的加熱處理(後烘烤)。

利用紫外可見近紅外分光光度計U-4100(日立高新技術(Hitachi High-tech)製造)的分光光度計(ref.玻璃基板)對具有著色層的基板於波長300nm~1300nm的範圍內測定光透射率。

[紅外線透射濾波器的製作]

使用旋塗機將實驗例1~實驗例13的著色感放射線性組成物分別以乾燥後的膜厚成為1.0μm的方式塗佈於矽晶圓上，使用100℃的加熱板來進行120秒鐘加熱處理(預烘烤)。

繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，使用形成有1.4μm見方的正方形畫素圖案的光罩，自50mJ/cm²至750mJ/cm²以50mJ/cm²步進進行曝光，確定解析所述正方形畫素圖案的最適曝光量，以該最適曝光量進行曝光。

其後，將形成有經曝光的塗佈膜的矽晶圓載置於旋轉.噴淋顯影機(DW-30型，化學電子(Chemtronics)(股)製造)的水平旋轉台上，使用CD-2060(富士膠片電子材料(Fujifilm Electronics Materials)(股)製造)於23℃下進行60秒鐘覆液顯影，於矽晶圓上形成著色圖案。

以純水對形成有著色圖案的矽晶圓進行淋洗處理，其後進行噴霧乾燥。

進而，使用200℃的加熱板進行300秒鐘的加熱處理(後烘烤)，分別獲得作為實驗例1~實驗例13的紅外線透射濾波器的具有著色圖案的矽晶圓。

<評價>

(可見光雜訊性能)

使用紫外可見近紅外分光光度計U-4100(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造)的分光光度計(ref.玻璃基板)，求出如上所述般獲得的紅外線透射濾波器的厚度方向上的波長400nm~700nm的可見光區域內的平均光透射率t1、與波長825nm~1300nm的可見光區域內的平均光透射率t2之比(t1/t2=x)，根據以下評價基準進行評價。評分越高，表示來源於可見光成分的雜訊越少，性能越優異。

<評價基準>

5：x≦0.06

4：0.06<x≦0.65

3：0.065<x≦0.07

2：0.07<x≦0.08

1：0.08<x

(塗佈後延遲(Post Coating Delay，PCD)依存性)

於所述[紅外線透射濾波器的製作]中，對塗佈著色感放射線性組成物後立即進行曝光時的圖案尺寸(正方形畫素圖案的一邊)w1、及塗佈後72小時後進行曝光時的圖案尺寸(正方形畫素圖案的一邊)w2之差的絕對值(△w=| w2-w1 |)進行測定，根據以下評價基準進行評價。評分越高，表示對PCD的依存性越低，性能越優異。

<評價基準>

5：△w<0.01

4：0.01≦△w<0.03

3：0.03≦△w<0.05

2：0.05≦△w<0.10

1：0.10≦△w

得知，由實驗例1~實驗例9的著色感放射線性組成物所形成的紅外線透射濾波器為來源於可見光成分的雜訊更少的狀態，且可透射紅外線(特別是近紅外線)。

另外，藉由使用含有具有來源於所述式(ED1)所表示的化合物的重複單元的鹼可溶性樹脂、及肟化合物(光聚合起始劑)的至少任一種的著色感放射線性組成物所形成的實驗例1~實驗例9的紅外線透射濾波器的PCD依存性更優異，藉由使用含有所述兩者的著色感放射線性組成物所形成的實驗例1~實驗例9的紅外線透射濾波器成為PCD依存性更優異的結果。

另外，「波長400nm~750nm的範圍內的光透射率的最大值」為15%以下、「波長900nm~1300nm的範圍內的光透射率的最小值」為98%以上的實驗例1、實驗例2、實驗例7~實驗例9的紅外線透射濾波器成為可見光雜訊性能更優異的結果。

100‧‧‧近紅外線感測器

110‧‧‧固體攝像元件基板

111‧‧‧近紅外線吸收濾波器

112‧‧‧彩色濾波器

113‧‧‧紅外線透射濾波器

114‧‧‧區域

115‧‧‧微透鏡

116‧‧‧平坦化層

hv‧‧‧入射光

Claims (27)

1. 一種紅外線感測器，具有紅外線透射濾波器及近紅外線吸收濾波器，且藉由檢出波長700nm以上且小於900nm的光來檢出物體，並且所述近紅外線吸收濾波器含有在波長700nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長的近紅外線吸收物質。
2. 如申請專利範圍第1項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質為下述通式(1)所表示的化合物； 通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基；R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環狀結構；R⁴分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；其中，通式(1)滿足選自以下要件中的至少一個要件：選自R^1a、 R^1b及R⁴中的至少一個具有交聯基；以及選自R²及R³中的至少一個經由環狀結構基而具有交聯基。
3. 如申請專利範圍第2項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質滿足選自下述1)~3)的要件中的至少一個；1)所述通式(1)中，選自R^1a及R^1b中的至少一個經由具有芳香族性的環狀結構基而具有交聯基；2)所述通式(1)中，R²或R³經由具有芳香族性的環狀結構基而具有交聯基；3)所述通式(1)中，R⁴經由環狀結構基而具有交聯基。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質於一分子中具有2個以上的交聯基。
5. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的紅外線感測器，其中於所述交聯基為烯烴基或苯乙烯基的情形時，所述近紅外線吸收物質於一分子中具有3個以上的交聯基。
6. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質的R⁴表示(R^4A)₂B-；其中，R^4A分別獨立地表示原子或基團。
7. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質的R²及R³的其中一個為氰基，另一個為雜環基。
8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質為下述通式(2)~通式(4)的任一個 所表示的化合物； 通式(2)中，Z^1a及Z^1b分別獨立地表示形成芳基環或雜芳基環的原子組群；R^5a及R^5b分別獨立地表示碳數6~20的芳基、碳數4~20的雜芳基、碳數1~20的烷基、碳數1~20的烷氧基、碳數2~20的烷氧基羰基、羧基、胺甲醯基、鹵素原子或氰基的任一個；R^5a或R^5b與Z^1a或Z^1b亦可鍵結而形成縮合環；R²²及R²³分別獨立地表示氰基、碳數2~6的醯基、碳數2~6的烷氧基羰基、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基亞磺醯基或碳數3~20的含氮雜芳基，或者R²²及R²³鍵結而表示環狀酸性核；R²⁴表示氫原子、碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基、碳數3~20的雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R²⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情 形時，亦可與選自R^5a及R²²~R²⁴中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；通式(2)滿足選自以下要件中的至少一個要件：選自R^5a、R^5b及R²⁴中的至少一個具有交聯基；以及選自R²²及R²³中的至少一個經由所述碳數3~20的含氮雜芳基而具有交聯基； 通式(3)中，R^31a及R^31b分別獨立地表示碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基或碳數3~20的雜芳基；R³²表示氰基、碳數2~6的醯基、碳數2~6的烷氧基羰基、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基亞磺醯基或碳數3~10的含氮雜芳基；R⁶及R⁷分別獨立地表示氫原子、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基或碳數3~10的雜芳基，R⁶及R⁷亦可相互鍵結而形成環，所形成的環為碳數5~10的脂環、碳數6~10的芳基環或碳數3~10的雜芳基環；R⁸及R⁹分別獨立地表示碳數1~10的烷基、碳數1~10的烷氧基、碳數6~20的芳基或碳數3~10的雜芳基；X表示氧原子、硫原子、-NR-、-CRR'-或-CH=CH-，R及R'分別獨立地表示氫原子、碳數1~10的烷基或碳數6~10的芳基；選自R⁶~R⁹、 R^31a、R^31b及R³²中的至少一個具有交聯基； 通式(4)中，R^41a及R^41b表示互不相同的基團，且表示碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基或碳數3~20的雜芳基；R⁴²表示氰基、碳數1~6的醯基、碳數2~6的烷氧基羰基、碳數1~10的烷基、碳數6~10的芳基亞磺醯基或碳數3~10的含氮雜芳基；Z²分別獨立地表示與-C=N-一起形成含氮雜五員環或含氮雜六員環的原子組群；R⁴⁴表示氫原子、碳數1~20的烷基、碳數6~20的芳基、碳數4~20的雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與Z²所形成的含氮雜環形成共價鍵或配位鍵；選自R^41a、R^41b、R⁴²及R⁴⁴中的至少一個具有交聯基。
9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質為下述通式(5)所表示的化合物； 通式(5)中，L^1a、L^1b、L²及L³分別獨立地表示單鍵或二價連結基；R⁵分別獨立地表示氫原子或取代基；Z¹表示與-C=N-一起形成含氮雜五員環或含氮雜六員環的原子組群；K^1a、K^1b、K²及K³分別獨立地表示氫原子、氟原子或交聯基，至少一個表示交聯基；M表示硼原子、磷原子、矽原子或金屬原子；n分別獨立地表示1~3的整數；M與N的虛線的鍵表示配位鍵。
10. 如申請專利範圍第9項所述的紅外線感測器，其中所述近紅外線吸收物質滿足選自下述1A)~3A)的要件中的至少一個；1A)所述通式(5)中，選自L^1a及L^1b中的至少一個含有具有芳香族性的環狀結構基；2A)所述通式(5)中，L²含有芳香族烴基；3A)所述通式(5)中，L³具有含有芳香族性的環狀結構基。
11. 如申請專利範圍第9項所述的紅外線感測器，其中所述通 式(5)中，L^1a及L^1b分別獨立地表示單鍵或者碳數1~30的伸烷基、碳數6~20的伸芳基、碳數3~20的伸雜芳基、-O-、-S-、-C(=O)-或包含該些基團的組合的基團，L²分別獨立地表示單鍵或者碳數1~20的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的伸雜芳基、-O-、-S-、-C(=O)-或包含該些基團的組合的基團，L³分別獨立地表示單鍵或者碳數1~20的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的伸雜芳基、-O-、-S-、-C(=O)-或包含該些基團的組合的基團，R⁵由氰基或下述通式(6)的結構表示； 通式(6)中，L⁴表示單鍵或者-O-、-C(=O)-、亞磺醯基、碳數1~10的伸烷基、碳數6~18的伸芳基、碳數3~18的含氮伸雜芳基或包含該些基團的組合的基團，K⁴表示交聯基。
12. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的紅外線感測器，其中所述交聯基為選自(甲基)丙烯醯氧基、環氧基、氧雜環丁基、異氰酸基、羥基、胺基、羧基、硫醇基、烷氧基矽烷基、羥甲基、乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、磺基、苯乙烯基及馬來醯亞胺基中的一種以上。
13. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的紅外線感測器，其中所述交聯基為選自(甲基)丙烯醯氧基、乙烯基、環氧基及氧雜環丁基中的一種以上。
14. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的紅外線感測器，其中所述交聯基為選自下述通式(A-1)~通式(A-3)所表示的交聯基中的至少一種； 式(A-1)中，R¹⁵、R¹⁶及R¹⁷分別獨立地表示氫原子、碳數1~18的烷基、碳數1~18的烯基、碳數1~18的炔基、碳數3~18的環烷基、碳數3~18的環烯基、碳數3~18的環炔基或碳數6~18的芳基；式(A-2)中，R¹⁸、R¹⁹及R²⁰分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF₃；式(A-3)中，R²¹及R²²分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF₃，Q表示1或2。
15. 如申請專利範圍第14項所述的紅外線感測器，其中式(A-1)中，R¹⁶及R¹⁷表示氫原子，式(A-2)中，R¹⁹及R²⁰表示氫原子，式(A-3)中，R²¹及R²²表示氫原子。
16. 一種近紅外線吸收組成物，其是用於形成藉由檢出波長700nm以上且小於900nm的光來檢出物體的紅外線感測器的近紅外線吸收層，並且所述近紅外線吸收組成物含有在波長700nm以上且小於900nm的範圍內具有極大吸收波長的近紅外線吸收物質。
17. 如申請專利範圍第16項所述的近紅外線吸收組成物，其中所述近紅外線吸收物質為下述通式(1)所表示的化合物； 通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基；R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環狀結構；R⁴表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；其中，通式(1)滿足選自以下要件中的至少一個要件；選自R^1a、R^1b及R⁴中的至少 一個具有交聯基；以及選自R²及R³中的至少一個經由環狀結構基而具有交聯基；並且於所述交聯基為烯烴基或苯乙烯基的情形時，交聯基的合計為3以上。
18. 一種近紅外線吸收組成物，含有下述通式(1)所表示的化合物， 通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基；R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環狀結構；R⁴表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；其中，通式(1)滿足選自以下要件中的至少一個要件：選自R^1a、R^1b及R⁴中的至少一個具有交聯基；以及選自R²及R³中的至少一個經由環狀結構基而具有交聯基，並且於所述交聯基為烯烴基或苯乙烯基的情形 時，交聯基的合計為3以上。
19. 如申請專利範圍第16項或第18項所述的近紅外線吸收組成物，其更含有選自硬化性化合物、聚合起始劑、硬化劑及溶劑中的至少一種。
20. 如申請專利範圍第16項或第18項所述的近紅外線吸收組成物，其更含有與所述近紅外線吸收物質或通式(1)所表示的化合物不同的色素。
21. 一種硬化膜，其是使用如申請專利範圍第16項至第20項中任一項所述的近紅外線吸收組成物而成。
22. 一種近紅外線吸收濾波器，其是使用如申請專利範圍第16項至第20項中任一項所述的近紅外線吸收組成物而成。
23. 一種影像感測器，具有光電轉換元件、及位於所述光電轉換元件上的如申請專利範圍第22項所述的近紅外線吸收濾波器。
24. 一種照相機模組，具有固體攝像元件及如申請專利範圍第22項所述的近紅外線吸收濾波器。
25. 一種化合物，其由下述通式(1)所表示， 通式(1)中，R^1a及R^1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基；R²及R³分別獨立地表示氫原子或取代基，R²及R³亦可相互鍵結而形成環狀結構；R⁴表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-；R^4A~R^4D分別獨立地表示原子或基團；n表示2~4的整數，M表示n+1價的金屬原子；於R⁴表示(R^4A)₂B-、(R^4B)₂P-、(R^4C)₃Si-或(R^4D)_nM-的情形時，亦可與選自R^1a、R^1b及R³中的至少一個形成共價鍵或配位鍵；其中，通式(1)滿足選自以下要件中的至少一個要件：選自R^1a、R^1b及R⁴中的至少一個具有交聯基、以及選自R²及R³中的至少一個經由環狀結構基而具有交聯基；並且於所述交聯基為烯烴基或苯乙烯基的情形時，交聯基的合計為3以上。
26. 如申請專利範圍第25項所述的化合物，其中通式(1)中，R²及R³的其中一個為氰基，另一個表示具有雜環基的基團。
27. 如申請專利範圍第25項或第26項所述的化合物，其中所述交聯基為選自(甲基)丙烯醯氧基、環氧基、氧雜環丁基、異氰酸基、羥基、胺基、羧基、硫醇基、烷氧基矽烷基、羥甲基、乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、磺基、苯乙烯基及馬來醯亞胺基中的一種以上，於所述交聯基為乙烯基或苯乙烯基的情形時，交聯基的合計為3以上。