TW201439579A - 抗反射膜及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種於寬頻帶中具有優異之反射特性(低反射性)且不僅來自正面方向而且來自斜向之入射光之反射色相亦無色差的抗反射膜。本發明之抗反射膜具有基材、與自基材側起依序之中折射率層、高折射率層及低折射率層。於本發明中，於使用波長580 nm下之振幅反射率圖之複平面進行抗反射膜之反射特性之光學設計時，以使連結高折射率層之積層軌跡之起點A與終點B之線段AB與振幅反射率圖之實數軸交叉的方式，對基材、中折射率層、高折射率層及低折射率層之折射率及/或厚度進行設計。

Description

抗反射膜及其製造方法
本發明係關於一種抗反射膜及其製造方法。更詳細而言，本發明係關於一種包含乾式製程與濕式製程之抗反射膜之製造方法及利用此種製造方法所獲得之抗反射膜。
自先前以來，為了防止外界光映入CRT(Cathode-Ray Tube，陰極射線管)、液晶顯示裝置、電漿顯示面板等顯示器畫面，而廣泛使用配置於顯示器畫面之表面之抗反射膜。作為抗反射膜，已知例如具有包含中折射率材料之層、包含高折射率材料之層及包含低折射率材料之層的多層膜。已知藉由使用上述多層膜而可獲得較高之抗反射性能(於寬頻帶中反射率較低)。抗反射膜之抗反射性能通常係以視感反射率Y(%)進行評價，該視感反射率越低，抗反射性能越優異。然而，若欲降低視感反射率，則存在反射色相易產生色差之問題。尤其是如下情況較多：即便可抑制正面方向之入射光之反射色相之色差，斜向之入射光之反射色相亦會產生色差。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利特開平11-204065號公報
專利文獻2：日本專利5249054號
本發明係為了解決上述先前之課題而完成者，其目的在於提供一種於寬頻帶中具有優異之反射特性(低反射性)且不僅來自正面方向而且來自斜向之入射光之反射色相亦無色差的抗反射膜。
本發明之抗反射膜具有基材、與自該基材側起依序之中折射率層、高折射率層及低折射率層，於使用波長580nm下之振幅反射率圖之複平面進行該抗反射膜之反射特性之光學設計時，以使連結該高折射率層之積層軌跡之起點A與終點B之線段AB與該振幅反射率圖之實數軸交叉的方式，對該基材、該中折射率層、該高折射率層及該低折射率層之折射率及/或厚度進行設計。
於一實施形態中，以使上述線段AB與上述實數軸交叉且該線段AB與該實數軸所成之角度θ成為65°≦θ≦90°的方式，對上述基材、上述中折射率層、上述高折射率層及上述低折射率層之折射率及/或厚度進行設計。
於一實施形態中，於使用上述振幅反射率圖之複平面進行上述抗反射膜之反射特性之光學設計時，以使於波長範圍涵蓋550nm~700nm之光學設計之任一者中上述線段AB均與上述實數軸交叉的方式，對上述基材、上述中折射率層、上述高折射率層及上述低折射率層之折射率及/或厚度進行設計。
於一實施形態中，上述中折射率層為單一層。於一實施形態中，上述高折射率層之厚度為50nm以下。
於一實施形態中，上述中折射率層具有自上述基材側起依序配置之另一高折射率層與另一低折射率層之積層構造。
本發明之另一態樣係提供一種附抗反射膜之偏光板。該附抗反射膜之偏光板包含上述抗反射膜。
本發明之進而另一態樣係提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝 置包含上述抗反射膜或上述附抗反射膜之偏光板。
根據本發明，於使用波長580nm下之振幅反射率圖之複平面進行抗反射膜之反射特性之光學設計時，以使連結高折射率層之積層軌跡之起點A與終點B之線段AB與振幅反射率圖之實數軸交叉的方式，對各層之折射率及/或厚度進行設計，藉此可實現於寬頻帶中具有優異之反射特性(低反射性)且不僅來自正面方向而且來自斜向之入射光之反射色相亦無色差的抗反射膜。進而，上述光學設計具有綜合性，因此無需對每個製品進行試誤而研究各層之厚度及/或折射率，可極一般地且容易地進行反射特性及反射色相之最佳化。
10‧‧‧基材
20‧‧‧中折射率層
21‧‧‧另一高折射率層
22‧‧‧另一低折射率層
30‧‧‧密接層
40‧‧‧高折射率層
50‧‧‧低折射率層
100‧‧‧抗反射膜
101‧‧‧抗反射膜
圖1A係本發明之一實施形態之抗反射膜之概略剖面圖。
圖1B係本發明之另一實施形態之抗反射膜之概略剖面圖。
圖2A係用以說明寬頻帶之抗反射膜(中折射率層/高折射率層/低折射率層)之一光學設計之概念的振幅反射率圖。
圖2B係用以說明寬頻帶之抗反射膜(中折射率層/高折射率層/低折射率層)之另一光學設計之概念的振幅反射率圖。
圖3係對使振幅反射率圖中之線段AB與實數軸之交叉角度θ變化之光學設計與藉由該設計實際所獲得之對來自斜向之入射光之反射色相的關係進行比較而進行說明的圖。
圖4係對使振幅反射率圖中之線段AB與實數軸之交叉角度θ變化之光學設計與藉由該設計實際所獲得之對來自斜向之入射光之反射色相的關係進行比較而進行說明的圖。
圖5係對使振幅反射率圖中之線段AB與實數軸之交叉角度θ變化之光學設計與藉由該設計實際所獲得之對來自斜向之入射光之反射色相的關係進行比較而進行說明的圖。
圖6係針對使用振幅反射率圖之2個光學設計，對使設計波長變化之情形時之線段AB與實數軸之關係之變化進行比較而進行說明的圖。
以下參照圖式說明本發明之較佳之實施形態，但本發明並不限定於該等實施形態。再者，為了易於觀察，圖式中之各層等之長度、厚度等與實際之縮小比例並不相同。
A.抗反射膜之整體構成
圖1A係本發明之一實施形態之抗反射膜之概略剖面圖。抗反射膜100具有基材10、與自基材10側起依序之中折射率層20、視需要之密接層30、高折射率層40及低折射率層50。於本實施形態中，中折射率層20為單一層。圖1B係本發明之另一實施形態之抗反射膜之概略剖面圖。於本實施形態中，中折射率層20係被替換為於光學上與圖1A所示之單一層等效之積層構造。具體而言，抗反射膜101具有基材10、與自基材10側起依序之另一高折射率層21、另一低折射率層22、高折射率層40及低折射率層50。於本說明書中，為方便起見，有時將另一高折射率層21與另一低折射率層22之積層構造稱為中折射率層。於該實施形態中，視需要亦可於基材10與另一高折射率層21之間配置密接層30。再者，於圖1A及圖1B之任一實施形態中，只要不會損及抗反射膜整體之光學特性且可提高鄰接之層之間之密接性，則密接層30之配置位置並無限定。於下文說明構成本發明之抗反射膜之各層之詳細內容。
於本發明中，於使用波長580nm下之振幅反射率圖之複平面進行抗反射膜之反射特性之光學設計時，以使連結高折射率層之積層軌跡之起點A與終點B之線段AB與振幅反射率圖之實數軸交叉的方式，對基材10、中折射率層20、高折射率層40及低折射率層50之折射率及/或厚度進行設計。以下詳細地進行說明。寬頻帶之抗反射膜之光學設計可使用如圖2A或圖2B所示之稱為振幅反射率圖(Reflectance Amplitude Diagram)之複平面而進行。例如具有如圖2A或圖2B所示之折射率之關係的積層體之積層軌跡及其反射率可以下述方式求出：(1)首先，於橫軸(Re實數軸)之負方向上標出各層之相當於作為折射率(n)固有值之反射率{-(n-1)/(n+1)，0}的點。具體而言，繪製基材層之點NS{-(nS-1)/(nS+1)，0}、最初之層(於本發明中為中折射率層)之點N1{-(n1-1)/(n1+1)，0}、第二層(於本發明中為高折射率層)之點N2{-(n2-1)/(n2+1)，0}及第三層(於本發明中為低折射率層)之點N3{-(n3-1)/(n3+1)，0}4點；(2)將基材層之折射率之點NS作為起始點，並將最初之層之折射率之點N1作為支點，沿順時針方向繪製圓。此時，圓弧之大小(圓弧之角度)對應於膜厚，光學膜厚λ/4相當於半圓；(3)其次，將最初之層之終點作為起始點，並將第二層之折射率之點N2作為支點，沿順時針方向繪製圓；(4)以相同之方式將第二層之終點作為起始點，並將第三層之折射率之點N3作為支點，沿順時針方向繪製圓；(5)最終點與座標(0，0)之距離相當於反射率。該距離越短，越成為具有優異之反射特性(低反射性)之抗反射膜。上述設計程序中之「支點」嚴密地說並非圓之中心，但為方便起見，藉由繪製可由各折射率簡便地算出之點(例如NS、N1、N2、N3)進行設計並無任何問題。此處，所謂積層軌跡，係將計算自積層體之基材至空氣界面之各位置上之振幅反射率所得者繪製於複平面上者，意指該位置上之各自之反射率。因此，使例如圖2A或圖2B之左上部所示之積層體如箭頭所指示般移動時之各位置上之反射率之變化成為積層軌跡。光之波長越短則積層軌跡移動得越大，光之波長越長則軌跡移動得越小，因此若波長不同，則積層軌跡分別發生變化，最終之反射率亦變得不同。因此，寬頻帶之低反射設計之要點在於：使該最終之反射率於設計波長之580nm附近之儘可能多之波長區域中成為接近(0，0)之狀態。再者，實際可測得之反射率為距離(0，0)之距離之平方，但於設計中概念上將該距離理 解為反射率並無任何妨礙。於本發明中，如上所述，以使連結高折射率層之積層軌跡之起點A與終點B之線段AB與振幅反射率圖之實數軸交叉的方式，對基材、中折射率層、高折射率層及低折射率層之折射率及/或厚度進行設計。即，進行如下光學設計：如於圖2A或圖2B中，連結最初之層(中折射率層)之終點(即第二層(高折射率層)之起始點)A與高折射率層之終點B之線段AB與振幅反射率圖之實數軸交叉。藉由進行如將最終點與座標(0，0)之距離維持為較小且線段AB與振幅反射率圖之實數軸交叉的光學設計，可獲得實現優異之反射特性且正面方向及斜向上之任意入射光之反射色相均無色差的抗反射膜。更詳細而言，於在設計波長之580nm下高折射率層之積層軌跡相對於實數軸之對稱性較高之情形時，580nm附近之波長全體均易獲取相同之軌跡，可將反射率維持為較低。其結果於寬頻帶之波長下反射率變低，即便斜向之入射光之反射色相亦易維持中性之色相。進而，上述光學設計具有綜合性，因此無需對每個製品進行試誤而研究各層之厚度及/或折射率。即，於具有基材/中折射率層/高折射率層/低折射率層之構成之寬頻帶之抗反射膜之實質上所有之組合中，藉由使用該光學設計，可實現具有優異之反射特性與反射色相之抗反射膜。其結果可極一般地且容易地進行反射特性及反射色相之最佳化。又，藉由以如圖2B所示般使中折射率層之積層軌跡之終點A位於實數軸之上側的方式進行設計，而可使高折射率層之厚度變得非常薄。再者，於本發明之抗反射膜之說明中，不同於圖2A或圖2B之一般性說明之記法，中折射率層、高折射率層及低折射率層之折射率係分別以nM、nH及nL表示。又，基材之折射率nS、中折射率層之折射率nM及高折射率層之折射率nH具有nH>nM>nS之關係。
關於具有基材/中折射率層/高折射率層/低折射率層之構成之抗反射膜(圖1A之實施形態)，已如上所述般進行了說明，關於具有基材/另 一高折射率層/另一低折射率層/高折射率層/低折射率層之構成之抗反射膜(圖1B之實施形態)，亦可進行相同之光學設計。具體而言，只要將另一低折射率層之積層軌跡之終點設為線段AB之起點A即可。
於一實施形態中，以使線段AB與實數軸交叉且該線段AB與該實數軸所成之角度θ較佳為成為65°≦θ≦90°的方式，對基材10、中折射率層20、高折射率層40及低折射率層50之折射率及/或厚度進行設計。角度θ更佳為70°~90°，進而較佳為75°~90°。藉由將角度θ設為上述範圍，可獲得具有更優異之反射色相之抗反射膜。該光學設計亦可以與上述相同之方式實現反射特性及反射色相之綜合性且一般性之最佳化。參照實際之光學設計具體地進行說明。圖3~圖5分別揭示使角度θ變化之光學設計與藉由該設計實際所獲得之對來自斜向之入射光之反射色相的關係。進而，圖3及圖4分別一併揭示線段AB未與實數軸交叉之光學設計與藉由該設計實際所獲得之對來自斜向之入射光之反射色相的關係。於圖3中，將角度θ設計為88.6°之抗反射膜(光學設計I)於入射角度為5°、20°、40°之任一情形時均可獲得中性且優異之反射色相。將角度θ設計為68.4°之抗反射膜(光學設計II)於入射角度為5°、20°之情形時可獲得中性且優異之反射色相，但於入射角度為40°之情形時產生並非所期望之色差。線段AB未與實數軸交叉之設計之抗反射膜(光學設計III)於任一入射角度之情形時均可確認到明顯之色差。圖4及圖5亦明確地表示出相同之傾向。再者，角度θ意指線段AB與實數軸所成之角度中之銳角。又，如參照圖2B所說明般，若以如光學設計I及IV般使中折射率層之積層軌跡之終點位於實數軸之上側的方式進行設計，則可使高折射率層之厚度變得非常薄。
於一實施形態中，於使用上述振幅反射率圖之複平面進行抗反射膜之反射特性之光學設計時，以使於波長範圍涵蓋550nm~700nm之光學設計之任一者中線段AB均與實數軸交叉的方式對基材10、中折射 率層20、高折射率層40及低折射率層50之折射率及/或厚度進行設計。複平面於可見光區域之各波長下其積層軌跡成為不同者，但通常於視感之感度被認為是最高之580nm之波長下進行光學設計。與如上述般以580nm下線段AB與實數軸之交叉角度為指標進行設計同樣地，以使於各波長下之積層軌跡之任一者中線段AB均與實數軸交叉的方式進行光學設計，藉此亦可獲得於各波長下具有優異之反射特性之抗反射膜。因此，藉由進行如於波長涵蓋550nm~700nm之範圍內線段AB與實數軸交叉之光學設計，而可獲得於寬頻帶之波長區域中具有優異之反射特性之抗反射膜。該光學設計亦與上述同樣地具有綜合性及一般性，因此無需對每個製品進行試誤而研究各層之厚度及/或折射率，於技術上非常有意義。
再者，於中折射率層20為單一層之實施形態(圖1A之實施形態)中，藉由使用振幅反射率圖之複平面進行光學設計，而可使高折射率層之厚度與先前相比明顯變薄。例如可使高折射率層之厚度成為50nm以下。已知高折射率層代表性地係藉由Nb2O5等金屬氧化物之濺鍍所形成，但此種濺鍍速度非常慢。因此，藉由使高折射率層之厚度變薄，可大幅提高抗反射膜整體之生產效率。
抗反射膜之垂直入射之反射色相於CIE-Lab表色系統中，較佳為0≦a*≦15、-20≦b*≦0，更佳為0≦a*≦10、-15≦b*≦0。根據本發明，藉由使用上述光學設計使各層之折射率及/或厚度最佳化，而可獲得具有接近中性之優異之反射色相的抗反射膜。再者，於本說明書中，所謂「垂直入射」，於測定上意指5°鏡面反射。垂直入射與5°鏡面反射實質上可當作同一者處理。
抗反射膜之視感反射率Y越低越佳，較佳為1.0%以下，更佳為0.7%以下，進而較佳為0.5%以下。如上所述，根據本發明，多層抗反射膜可兼具較低之視感反射率(優異之抗反射特性)與色差較小之接近中性 之反射色相(優異之反射色相)。
以下，對構成抗反射膜之各層詳細地進行說明。
A-1.基材
只要可獲得本發明之效果，則基材10可由任意之適當之樹脂膜構成。具體而言，基材10可為具有透明性之樹脂膜。作為構成膜之樹脂之具體例，可列舉：聚烯烴系樹脂(例如聚乙烯、聚丙烯)、聚酯系樹脂(例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、聚醯胺系樹脂(例如尼龍-6、尼龍-66)、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚乙烯醇樹脂、乙烯-乙烯醇樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、(甲基)丙烯腈樹脂、纖維素系樹脂(例如三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、賽璐吩)。基材可為單一層，亦可為複數之樹脂膜之積層體，亦可為樹脂膜(單一層或積層體)與下述硬塗層之積層體。基材(實質上為用以形成基材之組合物)可含有任意之適當之添加劑。作為添加劑之具體例，可列舉：抗靜電劑、紫外線吸收劑、塑化劑、潤滑劑、著色劑、抗氧化劑、阻燃劑。再者，構成基材之材料於業界眾所周知，因此省略詳細之說明。
基材10於一實施形態中可作為硬塗層發揮功能。即，基材10如上所述，可為樹脂膜(單一層或積層體)與以下說明之硬塗層之積層體，亦可單獨由該硬塗層構成基材。於基材係由樹脂膜與硬塗層之積層體所構成之情形時，硬塗層可與中折射率層20鄰接地配置。硬塗層為任意之適當之電離放射線硬化型樹脂之硬化層。作為電離放射線(ionizing radiation)，例如可列舉：紫外線、可見光、紅外線、電子束。較佳為紫外線，因此，電離放射線硬化型樹脂較佳為紫外線硬化型樹脂。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉：(甲基)丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。例如作為(甲基)丙烯酸系樹脂之代表例，可列舉藉由紫外線使含有(甲基)丙烯醯氧基之多官能性單體硬化所得之硬化物(聚合 物)。多官能性單體可單獨使用，亦可組合複數種使用。多官能性單體中可添加任意之適當之光聚合起始劑。再者，構成硬塗層之材料於業界眾所周知，因此省略詳細之說明。
硬塗層中可分散有任意之適當之無機或有機微粒子。微粒子之粒徑例如為0.01μm~3μm。或者可於硬塗層之表面形成凹凸形狀。藉由採用上述構成，而可賦予通常稱為抗眩(antiglare)之光擴散性功能。作為分散於硬塗層中之微粒子，就折射率、穩定性、耐熱性等觀點而言，可較佳地使用氧化矽(SiO2)。進而，硬塗層(實質上為用以形成硬塗層之組合物)可含有任意之適當之添加劑。作為添加劑之具體例，可列舉：調平劑、填充劑、分散劑、塑化劑、紫外線吸收劑、界面活性劑、抗氧化劑、觸變劑。
硬塗層具有於鉛筆硬度試驗中較佳為H以上、更佳為3H以上之硬度。鉛筆硬度試驗可依據JIS K 5400進行測定。
基材10之厚度可根據目的、基材之構成等而適當地設定。於基材係以樹脂膜之單一層或積層體之形式構成之情形時，厚度例如為10μm~200μm。於基材包含硬塗層之情形或單獨由硬塗層構成之情形時，硬塗層之厚度例如為1μm~50μm。
基材10之折射率(於基材具有積層構造之情形時為與中折射率層鄰接之層之折射率)較佳為1.45~1.65，更佳為1.50~1.60。若為上述折射率，則可擴大用以滿足上述所說明之光學設計之中折射率層之設計之範圍。再者，於本說明書中，「折射率」只要未特別言及，則係指於溫度25℃、波長λ=580nm下之依據JIS K 7105進行測定所得之折射率。
A-2.中折射率層 A-2-1.作為單一層之中折射率層
於一實施形態中，中折射率層20例如為如圖1A所示之單一層。於上述實施形態中，中折射率層20代表性地包含黏合劑樹脂與分散於該 黏合劑樹脂中之無機微粒子。黏合劑樹脂代表性地為電離放射線硬化型樹脂，更具體而言為紫外線硬化型樹脂。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉：(甲基)丙烯酸酯樹脂(環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、丙烯醯基(甲基)丙烯酸酯、醚(甲基)丙烯酸酯)等自由基聚合型單體或低聚物等。構成丙烯酸酯樹脂之單體成分(前驅物)之分子量較佳為200~700。作為構成(甲基)丙烯酸酯樹脂之單體成分(前驅物)之具體例，可列舉：季戊四醇三丙烯酸酯(PETA：分子量298)、新戊二醇二丙烯酸酯(NPGDA：分子量212)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA：分子量632)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA：分子量578)、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA：分子量296)。視需要亦可添加起始劑。作為起始劑，例如可列舉：UV自由基產生劑(Ciba Specialty Chemicals公司製造之Irgacure 907、Irgacure 127、Irgacure 192等)、過氧化苯甲醯。上述黏合劑樹脂除上述電離放射線硬化型樹脂以外亦可含有其他樹脂成分。其他樹脂成分可為電離放射線硬化型樹脂，亦可為熱固性樹脂，亦可為熱塑性樹脂。作為其他樹脂成分之代表例，可列舉：脂肪族系(例如聚烯烴)樹脂、胺基甲酸酯系樹脂。於使用其他樹脂成分之情形時，對其種類或調配量進行調整以使所獲得之中折射率層之折射率可使上述光學設計良好地進行。
黏合劑樹脂之折射率較佳為1.40~1.60。
黏合劑樹脂之調配量相對於所形成之中折射率層100重量份，較佳為10重量份~80重量份，更佳為20重量份~70重量份。
無機微粒子例如可由金屬氧化物所構成。作為金屬氧化物之具體例，可列舉：氧化鋯(zirconia)(折射率：2.19)、氧化鋁(折射率：1.56~2.62)、氧化鈦(折射率：2.49~2.74)、氧化矽(折射率：1.25~1.46)。該等金屬氧化物由於對光之吸收較少且具有電離放射線硬化型樹脂或熱塑性樹脂等有機化合物難以顯現之折射率，因此易調整折射率，結 果可以塗覆之方式形成具有如可良好地進行上述光學設計之折射率之中折射率層。尤佳之無機化合物為氧化鋯及氧化鈦。其原因在於：折射率及與黏合劑樹脂之分散性適當，因此可形成具有所期望之折射率及分散構造之中折射率層。
無機微粒子之折射率較佳為1.60以上，更佳為1.70~2.80，尤佳為2.00~2.80。若為上述範圍，則可形成具有所期望之折射率之中折射率層。
無機微粒子之平均粒徑較佳為1nm~100nm，更佳為10nm~80nm，進而較佳為20nm~70nm。如此，藉由使用平均粒徑小於光之波長之無機微粒子，而於無機微粒子與黏合劑樹脂之間不會產生幾何光學性之反射、折射、散射，從而可獲得於光學上均勻之中折射率層。
無機微粒子較佳為與黏合劑樹脂之分散性良好。於本說明書中，所謂「分散性良好」，係指塗佈將黏合劑樹脂、無機微粒子(及視需要之少量之UV起始劑)及揮發溶劑進行混合所得之塗佈液並乾燥去除溶劑所獲得之塗膜為透明。
於一實施形態中，無機微粒子係經表面改質。藉由進行表面改質，可使無機微粒子良好地分散於黏合劑樹脂中。作為表面改質方法，只要可獲得本發明之效果，則可採用任意之適當之方法。代表性而言，表面改質係藉由在無機微粒子之表面塗佈表面改質劑而形成表面改質劑層而進行。作為較佳之表面改質劑之具體例，可列舉：矽烷系偶合劑、鈦酸酯系偶合劑等偶合劑，脂肪酸系界面活性劑等界面活性劑。藉由使用上述表面改質劑，可提高黏合劑樹脂與無機微粒子之潤濕性，使黏合劑樹脂與無機微粒子之界面穩定化，使無機微粒子良好地分散於黏合劑樹脂中。於另一實施形態中，無機微粒子可不進行表面改質而使用。
無機微粒子之調配量相對於所形成之中折射率層100重量份，較 佳為10重量份~90重量份，更佳為20重量份~80重量份。若無機微粒子之調配量過多，則存在所獲得之抗反射膜之機械特性變得不充分之情況。又，需於光學設計上增大高折射率層之厚度、生產性變得不充分之情況較多。若調配量過少，則存在無法獲得所期望之視感反射率之情況。
中折射率層20之厚度較佳為40nm~140nm，更佳為50nm~120nm。若為上述厚度，則可實現所期望之光學膜厚。
中折射率層20之折射率較佳為1.67~1.78，更佳為1.70~1.78。對於先前之抗反射膜，若欲於寬頻帶中實現低反射性，則於低折射率層之折射率為1.47且高折射率層之折射率為2.33之情形時，需將中折射率層之折射率設定為1.9左右，但根據本發明，即便為上述折射率亦可實現所期望之光學特性。其結果可藉由就機械特性(硬度)之觀點而言不大能提高折射率之樹脂基底之組合物之塗佈及硬化形成中折射率層，可較大地有助於生產性之提高及成本之降低。
A-2-2.具有積層構造之中折射率層
於另一實施形態中，中折射率層例如如圖1B所示般，具有自基材10側起依序配置有另一高折射率層21與另一低折射率層22之積層構造。如上所述，可以於振幅反射率圖中使經過另一高折射率層之另一低折射率層之終點與中折射率層之積層軌跡之終點成為同一位置的方式，對另一高折射率層及另一低折射率層之厚度及/或折射率進行設定。關於另一高折射率層之具體之構成材料等，可參照後述A-4項中之高折射率層40之說明。關於另一低折射率層之具體之構成材料等，可參照後述A-5項中之低折射率層50之說明。例如藉由將另一高折射率層及另一低折射率層之光學膜厚分別設計為λ/8附近，可實現於光學上與中折射率層等效之積層構造。再者，所謂光學膜厚，係折射率與厚度之積，以相對於對象波長(此處為580nm)之比表示。
A-3.密接層
密接層30係為了提高鄰接之層之間(於圖1A之實施形態中為中折射率層20與高折射率層40)之密接性而可設置之任意之層。密接層例如可由矽(silicon)構成。密接層之厚度例如為2nm~5nm。再者，如上所述，只要可提高鄰接之層之間之密接性，則密接層之形成位置並不限定於圖示例。
A-4.高折射率層
高折射率層40藉由與低折射率層50組合使用，而可利用各自之折射率之差異，使抗反射膜高效率地防止光之反射。高折射率層40可較佳地與低折射率層50鄰接地配置。進而，高折射率層40可較佳地配置於低折射率層50之基材側。若為上述構成，則可效率非常高地防止光之反射。
高折射率層40之厚度於一實施形態(例如圖3之光學設計I及圖4之光學設計IV)中較佳為10nm~50nm，於另一實施形態(例如圖5之光學設計VII)中較佳為70nm~120nm。
高折射率層40之折射率較佳為2.00~2.60，更佳為2.10~2.45。若為上述折射率，則可確保與低折射率層之所期望之折射率差，可高效率地防止光之反射。
高折射率層40於波長580nm下之光學膜厚於一實施形態(例如圖3之光學設計I及圖4之光學設計IV)中較佳為λ/32~λ/4左右，於另一實施形態(例如圖5之光學設計VII)中較佳為λ/4~λ/2左右。
作為構成高折射率層40之材料，只要可獲得上述所期望之特性，則可使用任意之適當之材料。作為上述材料，可代表性地列舉金屬氧化物及金屬氮化物。作為金屬氧化物之具體例，可列舉：氧化鈦(TiO2)、銦/錫氧化物(ITO)、氧化鈮(Nb2O5)、氧化釔(Y2O3)、氧化銦(In2O3)、氧化錫(SnO2)、氧化鋯(ZrO2)、氧化鉿(HfO2)、氧化銻(Sb2O3)、氧化鉭 (Ta2O5)、氧化鋅(ZnO)、氧化鎢(WO3)。作為金屬氮化物之具體例，可列舉：氮化矽(Si3N4)。較佳為氧化鈮(Nb2O5)、氧化鈦(TiO2)。其原因在於：折射率適當，且濺鍍速度較慢，因此藉由本發明之薄膜化之效果變得顯著。
A-5.低折射率層
低折射率層50如上所述，藉由與高折射率層40組合使用，而可利用各自之折射率之差異，使抗反射膜高效率地防止光之反射。低折射率層50可較佳地與高折射率層40鄰接地配置。進而，低折射率層50可較佳地配置於高折射率層40之與基材側相反之側。若為上述構成，則可效率非常高地防止光之反射。
低折射率層50之厚度較佳為70nm~120nm，更佳為80nm~115nm。若為上述厚度，則可實現所期望之光學膜厚。
低折射率層50之折射率較佳為1.35~1.55，更佳為1.40~1.50。若為上述折射率，則可確保與高折射率層之所期望之折射率差，可高效率地防止光之反射。
低折射率層50於波長580nm下之光學膜厚就相當於一般之低反射層之方面而言，為λ/4左右。
作為構成低折射率層50之材料，只要可獲得上述所期望之特性，則可使用任意之適當之材料。作為上述材料，可代表性地列舉金屬氧化物及金屬氟化物。作為金屬氧化物之具體例，可列舉氧化矽(SiO2)。作為金屬氟化物之具體例，可列舉：氟化鎂、氟氧化矽。就折射率之觀點而言，較佳為氟化鎂、氟氧化矽，就易製造性、機械強度、耐濕性等觀點而言，較佳為氧化矽，若綜合考慮各種特性，則較佳為氧化矽。
B.抗反射膜之製造方法
以下說明本發明之抗反射膜之製造方法之一例。
B-1.基材之準備
首先，準備基材10。基材10可使用由包含如上述A-1項記載之樹脂之組合物所形成之樹脂膜，亦可使用市售之樹脂膜。作為樹脂膜之形成方法，可採用任意之適當之方法。作為具體例，可列舉：擠壓、溶液流延法。於使用樹脂膜之積層體作為基材之情形時，例如可藉由共擠壓形成基材。
於基材包含硬塗層之情形時，例如於上述樹脂膜上形成硬塗層。作為於基材上形成硬塗層之方法，可採用任意之適當之方法。作為具體例，可列舉：輥式塗佈、模具塗佈、氣刀塗佈、刮刀塗佈、旋轉塗佈、反向塗佈、凹版塗佈等塗佈法，或凹版印刷、網版印刷、平版印刷、噴墨印刷等印刷法。於單獨由硬塗層構成基材之情形時，只要自所形成之樹脂膜/硬塗層之積層體將樹脂膜剝離即可。
B-2.中折射率層之形成
其次，於以B-1項之方式準備之基材10上形成中折射率層20。於一實施形態中，於基材上塗佈如上述A-2-1項記載之包含黏合劑樹脂與無機微粒子之中折射率層形成用組合物(塗佈液)。為了提高塗佈液之塗佈性，可使用溶劑。作為溶劑，可使用能夠使黏合劑樹脂及無機微粒子良好地分散之任意之適當溶劑。作為塗佈方法，可採用任意之適當方法。作為塗佈方法之具體例，可列舉如上述B-1項記載者。其次，使所塗佈之中折射率層形成用組合物硬化。於使用如上述A-2-1項記載之黏合劑樹脂之情形時，硬化係藉由照射電離放射線而進行。於使用紫外線作為電離放射線之情形時，其累積光量較佳為200mJ~400mJ。視需要亦可於照射電離放射線之前及/或之後進行加熱處理。加熱溫度及加熱時間可根據目的等而適當地設定。如此，於本發明之製造方法之一實施形態中，藉由濕式製程(塗佈及硬化)形成中折射率層20。於另一實施形態中，亦可將另一高折射率層與另一低折射率層之 積層構造作為中折射率層，以後述B-4及B-5項之方式形成。
B-3.密接層之形成
其次，視需要於以B-2項之方式形成之中折射率層20上形成密接層30。密接層30代表性地係藉由乾式製程形成。作為乾式製程之具體例，可列舉：PVD(Physical Vapor Deposition，物理氣相沈積)法、CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法。作為PVD法，可列舉：真空蒸鍍法、反應性蒸鍍法、離子束輔助法、濺鍍法、離子鍍著法。作為CVD法，可列舉電漿CVD法。於進行線內處理之情形時，可較佳地使用濺鍍法。密接層30例如藉由矽(silicon)之濺鍍而形成。再者，如上所述，密接層為任意，亦可省略。又，於形成密接層之情形時，只要可提高鄰接之層之間之密接性，則其形成位置並不限定於圖示例。
B-4.高折射率層之形成
其次，於中折射率層20上、或於形成有密接層之情形時於密接層30上形成高折射率層40。高折射率層40代表性地係藉由乾式製程形成。於一實施形態中，高折射率層40係藉由金屬氧化物(例如Nb2O5)或金屬氮化物之濺鍍而形成。於另一實施形態中，高折射率層40係藉由一面導入氧氣使金屬氧化一面進行濺鍍而形成。於本發明中，由於高折射率層之厚度非常小，故而重要的是膜厚控制，但藉由適當之濺鍍可應對。
B-5.低折射率層之形成
最後，於以B-4項之方式形成之高折射率層40上形成低折射率層50。低折射率層50於一實施形態中係藉由乾式製程而形成，例如藉由金屬氧化物(例如SiO2)之濺鍍而形成。低折射率層50於另一實施形態中係藉由濕式製程而形成，例如藉由塗佈以聚矽氧烷為主成分之低折射率材料而形成。又，亦可針對所期望之膜厚，進行濺鍍直至中途，其 以後進行塗佈，藉此形成低折射率層。
視需要亦可於低折射率層上以薄至無損光學特性之程度之膜(1nm~10nm左右)之形式設置防污層。防污層根據形成材料，可利用乾式製程而形成，亦可利用濕式製程而形成。
以上述方式可製作抗反射膜。
C.抗反射膜之用途
本發明之抗反射膜可較佳地用於防止外界光映入CRT、液晶顯示裝置、電漿顯示面板等圖像顯示裝置中。本發明之抗反射膜可作為單獨之光學構件而使用，亦可以與其他光學構件成為一整體之形式提供。例如可使之貼合於偏光板上而以附抗反射膜之偏光板之形式提供。上述附抗反射膜之偏光板可較佳地用作例如液晶顯示裝置之視認側偏光板。
[實施例]
以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。實施例中之試驗及評價方法如下所述。又，只要無特別說明，則實施例中之「%」為重量基準。
<光學特性之評價>
為了截斷背面反射率而將所獲得之抗反射膜經由黏著劑貼合於黑色丙烯酸板(Mitsubishi Rayon公司製造，厚度2.0mm)上，製成測定樣品。對上述測定樣品，使用分光光度計U4100(Hitachi High-Technologies公司製造)，測定5°鏡面反射之可見光區域之反射率、對來自20°方向之入射光之反射率及對來自40°方向之入射光之反射率。由所獲得之反射率之光譜計算並求出C光源2度視野中之視感反射率(Y(%))及L*a*b*表色系統之色相a*及b*。
<實施例1>
使用波長580nm下之振幅反射率圖之複平面而進行具有基材/中 折射率層/高折射率層/低折射率層之構成之抗反射膜之反射特性之光學設計。此時，以如圖2所示般使連結高折射率層之積層軌跡之起點A與終點B之線段AB與振幅反射率圖之實數軸交叉的方式，對基材、中折射率層、高折射率層及低折射率層之折射率及厚度進行設定。具體而言，以下述程序製作抗反射膜。
使用附硬塗層(折射率：1.53)之三乙醯纖維素(TAC)膜作為基材。另一方面，製備如下塗佈液(中折射率層形成用組合物)：利用MIBK(Methyl Isobutyl Ketone，甲基異丁基酮)將含有全部固形物成分之約70%之氧化鋯粒子(平均粒徑40nm，折射率2.19)之樹脂組合物(JSR公司製造，商品名「Opstar KZ系列」)稀釋成3%。使用棒式塗佈機將該塗佈液塗佈於上述基材上，於60℃下乾燥1分鐘後，照射累積光量300mJ之紫外線，而形成中折射率層(折射率：1.76，厚度：104nm)。其次，藉由濺鍍Nb2O5，而於中折射率層上形成高折射率層(折射率：2.33，厚度：19nm)。進而，藉由濺鍍SiO2，而於高折射率層上形成低折射率層(折射率：1.47，厚度：108nm)。如此製作抗反射膜。將結果示於表1。再者，表1中亦表示線段AB與振幅反射率圖之實數軸之交叉角度。
<實施例2~5及比較例1~2>
以表1所示之構成製作抗反射膜。將所獲得之抗反射膜供於上述光學特性之評價。將結果示於表1。
<實施例6>
針對中折射率層具有另一高折射率層/另一低折射率層之積層構造的形態之抗反射膜，即具有基材/另一高折射率層/另一低折射率層/高折射率層/低折射率層之構成之抗反射膜，以與實施例1相同之方式進行光學設計。此時，依據圖2，以使連結高折射率層之積層軌跡之起點A與終點B之線段AB與振幅反射率圖之實數軸交叉的方式，對基材、另一高折射率層、另一低折射率層、高折射率層及低折射率層之折射率及厚度進行設定。具體而言，以下述程序製作抗反射膜。
使用附硬塗層(折射率：1.53)之三乙醯纖維素(TAC)膜作為基材。其次，藉由濺鍍Nb2O5，而於基材上形成另一高折射率層(折射率：2.33，厚度：14nm)。繼而，藉由濺鍍SiO2，而於另一高折射率層上形成另一低折射率層(折射率：1.47，厚度：49nm)。進而，藉由濺鍍Nb2O5，而於另一低折射率層上形成高折射率層(折射率：2.33，厚度：26nm)。最後，藉由濺鍍SiO2，而於高折射率層上形成低折射率層(折射率：1.47，厚度：115nm)。如此製作抗反射膜。將結果示於表2。再者，表2中亦表示線段AB與振幅反射率圖之實數軸之交叉角度。
<實施例7~10及比較例3>
以表2所示之構成製作抗反射膜。將所獲得之抗反射膜供於上述光學特性之評價。將結果示於表2。
再者，於各實施例及比較例中，線段AB與振幅反射率圖之實數軸之交叉及交叉角度係藉由使中折射率層(於實施例6~10及比較例3中為另一高折射率層與另一低折射率層)、高折射率層及低折射率層之厚度發生變化而進行控制，但由圖2可明確，可改變各層之折射率，亦可組合改變各層之折射率與厚度。
<實施例11>
於580nm下進行與實施例1相同之光學設計。進而，將設計波長變更為550nm、650nm及700nm而進行光學設計。將各設計波長下之振幅反射率圖與後述實施例12之結果一併示於圖6。
<實施例12>
於580nm下進行與實施例2相同之光學設計。進而，將設計波長變更為550nm、650nm及700nm而進行光學設計。將各設計波長下之振幅反射率圖與實施例11之結果一併示於圖6。
<評價>
如表1及表2所明示般，於使用波長580nm下之振幅反射率圖之複平面進行抗反射膜之反射特性之光學設計時，以使連結高折射率層之積層軌跡之起點A與終點B之線段AB與振幅反射率圖之實數軸交叉的方式，對各層之折射率及/或厚度(此處為厚度)進行設計，藉此可獲得實現優異之反射特性且正面方向及斜向上之任意入射光之反射色相均無色差的抗反射膜。進而，得知於線段AB與實數軸之交叉角度θ成為75°以上之實施例中，可顯著改善來自斜向之入射光之反射色相。並且，若將實施例11與12進行比較，則可明確，藉由使580nm下之交叉角度θ最佳化，可獲得擔保寬頻帶之波長區域中線段AB與實數軸之交叉而具有優異之反射特性的抗反射膜。
[產業上之可利用性]
本發明之抗反射膜可較佳地用於防止外界光映入CRT、液晶顯示裝置、電漿顯示面板等圖像顯示裝置中。
10‧‧‧基材
20‧‧‧中折射率層
30‧‧‧密接層
40‧‧‧高折射率層
50‧‧‧低折射率層
100‧‧‧抗反射膜

Claims (8)

  1. 一種抗反射膜，其係具有基材、與自該基材側起依序之中折射率層、高折射率層及低折射率層者，且於使用波長580nm下之振幅反射率圖之複平面進行該抗反射膜之反射特性之光學設計時，以使連結該高折射率層之積層軌跡之起點A與終點B之線段AB與該振幅反射率圖之實數軸交叉的方式，對該基材、該中折射率層、該高折射率層及該低折射率層之折射率及/或厚度進行設計。
  2. 如請求項1之抗反射膜，其中以使上述線段AB與上述實數軸交叉且該線段AB與該實數軸所成之角度θ成為65°≦θ≦90°的方式，對上述基材、上述中折射率層、上述高折射率層及上述低折射率層之折射率及/或厚度進行設計。
  3. 如請求項1之抗反射膜，其中於使用上述振幅反射率圖之複平面進行上述抗反射膜之反射特性之光學設計時，以使於波長範圍涵蓋550nm~700nm之光學設計之任一者中上述線段AB均與上述實數軸交叉的方式，對上述基材、上述中折射率層、上述高折射率層及上述低折射率層之折射率及/或厚度進行設計。
  4. 如請求項1之抗反射膜，其中上述中折射率層為單一層。
  5. 如請求項4之抗反射膜，其中上述高折射率層之厚度為50nm以下。
  6. 如請求項1之抗反射膜，其中上述中折射率層具有自上述基材側起依序配置之另一高折射率層與另一低折射率層之積層構造。
  7. 一種附抗反射膜之偏光板，其包含如請求項1之抗反射膜。
  8. 一種圖像顯示裝置，其包含如請求項1之抗反射膜或如請求項7之附抗反射膜之偏光板。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016152691A1 (ja) 2015-03-20 2016-09-29 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
JP6907435B2 (ja) * 2015-03-20 2021-07-21 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
JP6907436B2 (ja) * 2015-03-20 2021-07-21 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
EP3203274B1 (en) * 2016-02-04 2023-04-05 Essilor International Ophthalmic lens comprising a thin antireflective coating with a very low reflection in the visible
JP6094917B1 (ja) * 2016-06-07 2017-03-15 紘一 勝又 反射防止膜を最適設計する方法及び太陽光発電装置
KR101926960B1 (ko) * 2017-02-10 2018-12-07 주식회사 케이씨씨 저반사 코팅 유리
JP7349235B2 (ja) 2017-10-10 2023-09-22 株式会社ダイセル 反射防止フィルム
JP2021012224A (ja) * 2017-10-27 2021-02-04 株式会社ニコン 光学素子、光学系、及び、光学装置
EP3759530A1 (en) * 2018-03-02 2021-01-06 Corning Incorporated Anti-reflective coatings and articles and methods of forming the same
JP2020060657A (ja) 2018-10-09 2020-04-16 日東電工株式会社 反射防止ガラス
JP6956909B2 (ja) * 2020-03-23 2021-11-02 デクセリアルズ株式会社 光学積層体および物品

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3432225A (en) * 1964-05-04 1969-03-11 Optical Coating Laboratory Inc Antireflection coating and assembly having synthesized layer of index of refraction
US3712711A (en) * 1969-01-10 1973-01-23 Itek Corp Triple-layer anti-reflection coating design
JPS5122828A (ja) 1974-08-21 1976-02-23 Tokyo Juki Industrial Co Ltd Kaikobyobojozai
JPH0660961B2 (ja) * 1987-11-17 1994-08-10 株式会社トプコン 広帯域反射防止膜
US6074730A (en) * 1997-12-31 2000-06-13 The Boc Group, Inc. Broad-band antireflection coating having four sputtered layers
JPH11204065A (ja) 1998-01-16 1999-07-30 Sony Corp 低反射膜、および、低反射膜を用いた表示パネル
JP2001281415A (ja) * 2000-03-31 2001-10-10 Sony Corp 反射防止フィルタ及びその製造方法
US6589657B2 (en) * 2001-08-31 2003-07-08 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Anti-reflection coatings and associated methods
JP4174344B2 (ja) * 2002-03-15 2008-10-29 日東電工株式会社 反射防止フィルム、その製造方法、光学素子および画像表示装置
JP5271575B2 (ja) * 2007-03-20 2013-08-21 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
JP5503935B2 (ja) * 2009-09-30 2014-05-28 富士フイルム株式会社 ハードコートフィルム、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置

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