TW201433768A - 熱處理爐 - Google Patents

Abstract

本發明係於一面自供氣管供給氣體一面進行熱處理對象物之熱處理之熱處理爐中，抑制熱處理區域中之溫度偏差。在藉由於爐體內部2之熱處理區域12中沿特定之搬送方向搬送熱處理對象物而對熱處理對象物15連續地進行熱處理的熱處理爐10中，於沿著搬送方向A之複數個位置，以與搬送方向正交之方式向爐體內部***供氣管4，並且作為供氣管，使用如下供氣管，其係封閉***至爐體內部之前端14a，於沿著周壁14b之長度方向之複數個位置設置用以向爐體內部噴出氣體之氣體噴出口24，且構成為自與前端相反側之開放端14c供給氣體，且於觀察***至爐體內部之複數個供氣管中之於搬送方向上互為相鄰之一對供氣管之情形時，一供氣管4a與另一供氣管4b自互為相反之兩側***至爐體內部。

Description

熱處理爐

本發明係關於一種例如於陶瓷電子零件之製造步驟等中使用之熱處理爐，詳細而言係關於一種一面自供氣管供給氣體(氛圍氣體)一面連續地對熱處理對象物進行熱處理之熱處理爐。

例如，積層陶瓷電容器等陶瓷電子零件通常係經過對未煅燒之陶瓷積層體(陶瓷成形體)進行熱處理以去除黏合劑的脫黏步驟以及其後進行正式煅燒的煅燒步驟等而製造，上述脫黏步驟或煅燒步驟係使用構成為能夠控制氛圍或溫度等之熱處理爐來實施。

關於此種熱處理爐，提出了如圖13所示之熱處理爐。該熱處理爐係一種煅燒爐，其沿爐體101之長度方向排列設置有多個輥103，藉由該等輥103之旋轉將被煅燒物M於煅燒室102內移送，其中輥103為中空筒狀，於其筒壁上形成有多個噴氣孔105，供氣源106連通連接於該等輥103之外部開放端103a。

於該熱處理爐中，氛圍氣體係自輥103之一側之端部、即外部開放端103a供給，因此，自存在於靠近外部開放端103a之位置之噴氣孔105供給之氣體與自距外部開放端103a較遠之噴氣孔105供給之氣體之間存在較大之溫度差。即，自靠近外部開放端103a之噴氣孔105供給之氣體之溫度較低，但由於輥103於燃燒室被加熱，故而自距外部開放端103a較遠之噴氣孔105供給之氣體之溫度變高。

其結果存在如下問題點：於煅燒室102內形成溫度分佈，而難以 實現均勻之煅燒，從而導致煅燒狀態產生不均。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開平6-3070號公報

本發明要解決上述問題，目的在於提供一種熱處理爐，其一面自供氣管供給氣體，一面對熱處理對象物連續地進行熱處理，熱處理區域之溫度偏差較少，可進行穩定之煅燒。

為了解決上述問題，本發明之熱處理爐之特徵在於：其係藉由於爐體內部之熱處理區域中沿特定之搬送方向熱處理對象物熱處理對象物搬送而對熱處理對象物連續地進行熱處理，且於沿著上述搬送方向之複數個位置，以與上述搬送方向正交之方式向爐體內部***供氣管，並且作為上述供氣管，使用如下供氣管，其係於沿著周壁之長度方向之複數個位置設置用以向上述爐體內部噴出氣體之氣體噴出口，且構成為自位於爐體外部之開放端供給氣體，且於觀察複數個上述供氣管中於搬送方向上互為相鄰之一對供氣管之情形時，一上述供氣管與另一上述供氣管自互為相反之兩側***至上述爐體內部。

再者，於本發明中，所謂供氣管以與熱處理對象物之搬送方向正交之方式***至爐體內部係如下概念，即，並不限於字面意義上供氣管以與熱處理對象物之搬送方向正交之方式***之情況，亦允許如於實際裝置中產生之***方向之偏差等。

又，於本發明之熱處理爐中，較佳為，於在沿著上述搬送方向之方向觀察之情形時，上述一供氣管之複數個上述氣體噴出口與上述另一供氣管之複數個上述氣體噴出口設置於相互對應且與上述搬送方 向平行之同一線上之位置。

在採用如於在沿著搬送方向之方向觀察之情形時氣體噴出口設置於相互對應之位置(即，位於與搬送方向平行之同一線上)之構成的情況下，自氣體噴出口噴出之氣體彼此會產生碰撞，因此，可將爐體內部之氛圍加以攪拌，從而抑制爐體內部之溫度偏差。

又，於本發明之熱處理爐中，亦可採用如下構成：於在沿著上述搬送方向之方向觀察之情形時，上述一供氣管之複數個上述氣體噴出口與上述另一供氣管之複數個上述氣體噴出口設置於不相互對應且並非與上述搬送方向平行之同一線上之位置。

在採用如於在沿著搬送方向之方向觀察之情形時氣體噴出口設置於不相互對應之位置(即，不位於與搬送方向平行之同一線上)的情況下，不會受到自設置於對應位置之氣體噴出口所噴出之氣體之影響，而可抑制爐體內部之溫度偏差。

再者，於本發明中，所謂一供氣管之氣體噴出口與另一供氣管之氣體噴出口設置於不相互對應之位置係指氣體噴出口不位於與搬送方向平行之同一線上，作為一例，可列舉如於搬送方向上相鄰之供氣管上呈鋸齒狀地配設有氣體噴出口之情形。再者，於在沿著搬送方向之方向觀察之情形時，氣體噴出口係構成為設置於相互對應之位置或構成為設置於不相互對應之位置，要基於氣體噴出口之間隔等來觀察哪種構成更能抑制爐體內部之溫度偏差，藉此而適當選擇。

又，較佳為，上述一對供氣管之上述氣體噴出口僅配設於如下區域，即，上述供氣管之位於上述爐體內部之區域中的位於與搬送方向正交之方向上較上述爐體內部之中央更靠裏側之部位的供氣管前端側區域。

在採用將氣體噴出口僅配設於供氣管之位於爐體內部之區域中的與搬送方向正交之方向上較上述爐體內部之中央更靠裏側的供氣管 前端側區域之構成的情況下，於所供給之氣體通過供氣管到達越過爐體內部中央之區域之前的過程中被充分加熱，使供給至爐體內部之氣體溫度升高，因此可抑制、防止爐體內部之溫度偏差。

又，本發明之另一熱處理爐之特徵在於：其係藉由於爐體內部之熱處理區域中沿特定之搬送方向搬送熱處理對象物而對熱處理對象物連續地進行熱處理，且軸心位於與上述搬送方向正交之同一線上之兩根供氣管自互為相反之兩側以於前端到達至與上述搬送方向正交之方向上之上述爐體內部之中央，且上述前端相互正對之態樣***至沿著上述搬送方向之複數個位置之各個位置，並且作為上述供氣管，使用如下供氣管，其係於沿著周壁之長度方向之複數個位置設置用以向上述爐體內部噴出氣體之氣體噴出口，且構成為自位於爐體外部之開放端供給氣體。

又，本發明之又一熱處理爐之特徵在於：其係藉由於爐體內部之熱處理區域中沿特定之搬送方向搬送熱處理對象物而對熱處理對象物連續地進行熱處理，且自沿著上述搬送方向之複數個位置之各個位置向上述爐體內部以與上述搬送方向正交且貫通上述爐體內部之方式而***有供氣管，並且作為上述供氣管，使用如下供氣管，其係兩端成為開放端，於中央部連通被阻斷，於沿著周壁之長度方向之複數個位置設置用以向上述爐體內部噴出氣體之氣體噴出口，且構成為自上述兩端之各個開放端供給之氣體經由上述氣體噴出口而向上述爐體內部供給。

如上所述，本發明之熱處理爐係於沿著搬送方向之複數個位置以與搬送方向正交之方式將供氣管***至爐體內部，作為上述供氣管係使用如下供氣管，其係於沿著周壁之長度方向之複數個位置設置用以向爐體內部噴出氣體之氣體噴出口，且構成為自位於爐體外部之開 放端供給氣體，且於觀察***至爐體內部之複數個供氣管中之於搬送方向上互為相鄰之一對供氣管之情形時，一供氣管與另一供氣管自互為相反之兩側***至爐體內部。因此，一供氣管係氣體溫度朝向前端側逐漸上升，另一供氣管則係氣體溫度朝向位於與上述一供氣管相反側之前端側逐漸上升。即，自一供氣管與另一供氣管供給之氣體於與熱處理對象物之搬送方向正交之方向上之溫度分佈成為相互對稱之關係，因此，藉由將其等混合，可使爐體內部之溫度偏差減小，從而可於穩定之氛圍中進行良好之熱處理。

又，於本發明之另一熱處理爐(本發明之第2熱處理爐)中，軸心位於與搬送方向正交之同一線上之兩根供氣管自互為相反之兩側以前端到達至與上述搬送方向正交之方向上之上述爐體內部之中央，且上述前端相互正對之態樣***至沿著上述搬送方向之複數個位置之各個位置。因此，自一側***之供氣管之氣體噴出口之位置與自另一側***之供氣管之氣體噴出口之位置成為點對稱關係，因此溫度分佈亦成為大致對稱之關係。而且，藉由將自該氣體噴出口噴出之氣體混合，而可使爐體內部之溫度偏差減小，從而於穩定之氛圍中進行良好之熱處理。

又，於本發明之又一熱處理爐(本發明之第3熱處理爐)係如下構成，即，自沿著搬送方向之複數個位置之各個位置向上述爐體內部以與搬送方向正交且貫通爐體內部之方式而***有供氣管，該供氣管之兩端成為開放端，於中央部連通被阻斷，於沿著周壁之長度方向之複數個位置設置用以向爐體內部噴出氣體之氣體噴出口，且構成為自兩端之各個開放端供給之氣體經由氣體噴出口而向爐體內部供給。因此，利用以貫通爐體內部之方式***之一根供氣管而可自兩側向爐體內部供給氣體，從而獲得如依照上述本發明之第2熱處理爐之作用效果。

1‧‧‧爐體

2‧‧‧爐體內部

3‧‧‧加熱構件(加熱器)

4‧‧‧供氣管

4a‧‧‧一對供氣管中之一供氣管

4b‧‧‧一對供氣管中之另一供氣管

4c、4d‧‧‧位於同一軸線上之兩根供氣管

6‧‧‧輥

7‧‧‧搬送機構

8‧‧‧隔板

10‧‧‧熱處理爐

10a‧‧‧比較用之熱處理爐

12‧‧‧熱處理區域

14a‧‧‧供氣管之前端

14b‧‧‧供氣管之周壁

14c‧‧‧供氣管之開放端

15‧‧‧熱處理對象物(收容有未煅燒之陶瓷成形體之匣盒)

24‧‧‧氣體噴出口

44‧‧‧兩端成為開放端之供氣管

44a‧‧‧兩端成為開放端之供氣管之開放端

44b‧‧‧兩端成為開放端之供氣管之周壁

44c‧‧‧兩端成為開放端之供氣管之中央部

101‧‧‧爐體

102‧‧‧煅燒室

103‧‧‧輥

103a‧‧‧外部開放端

105‧‧‧噴氣孔

106‧‧‧供氣源

A‧‧‧搬送方向

M‧‧‧被煅燒物

圖1係表示本發明之一實施形態(實施形態1)之熱處理爐之構成之側視剖面圖。

圖2係表示本發明之實施形態1之熱處理爐之構成之俯視剖面圖。

圖3係表示本發明之實施形態1之熱處理爐之構成之前視剖面圖。

圖4係模式性地表示本發明之實施形態1之熱處理爐之供氣管之配設態樣之圖。

圖5係模式性地表示比較用之熱處理爐中之供氣管之配設態樣之圖。

圖6係表示對實施形態1及比較用之熱處理爐進行查明所得之爐體內部之溫度偏差之圖。

圖7係模式性地表示本發明實施形態2之熱處理爐之供氣管之配設態樣之圖。

圖8係模式性地表示本發明實施形態3之熱處理爐之供氣管之配設態樣之圖。

圖9係模式性地表示本發明實施形態4之熱處理爐之供氣管之配設態樣之圖。

圖10係模式性地表示本發明實施形態5之熱處理爐之供氣管之配設態樣之圖。

圖11係模式性地表示本發明實施形態6之熱處理爐之供氣管之配設態樣之圖。

圖12係模式性地表示本發明實施形態7之熱處理爐之供氣管之配設態樣之圖。

圖13係模式性地表示先前之熱處理爐之構成之剖面圖。

以下，示出本發明之實施形態，進一步詳細說明本發明。

再者，於以下各實施形態中係以於製造陶瓷電子零件之情形時對未煅燒之陶瓷成形體進行熱處理時所用之熱處理爐為例來說明。

[實施形態1]

圖1係表示本發明之一實施形態(實施形態1)之熱處理爐10之構成之側剖面圖，圖2係其俯視剖面圖，圖3係前視剖面圖。

如圖1、2、3所示，該熱處理爐10於爐體1之內部(爐體內部)2具備：加熱構件(加熱器)3；供氣管4，其供給用以調整氛圍之氣體；及搬送機構7，其具備輥6等，用以將熱處理對象物(收容有未煅燒之陶瓷成形體之匣盒)15朝特定之搬送方向(圖1、2中由箭頭A表示之方向)進行搬送。

又，於爐體內部2，設置有發揮控制各區域之氣體量及溫度之功能之隔板8。

該熱處理爐10係構成為，藉由使複數個熱處理對象物15依序通過爐體內部2之熱處理區域12(沿箭頭A(圖1、2)之方向通過)而連續地進行熱處理。

而且，於該實施形態1之熱處理爐10中，如圖1、2、3所示，複數個供氣管4於沿著上述搬送方向A之複數個位置以與搬送方向A正交之方式***至爐體內部2。

而且，於觀察***至爐體內部2之複數個供氣管4中之搬送方向上互為相鄰之一對供氣管(例如圖2之4a、4b)之情形時，一供氣管4(4a)與另一供氣管4(4b)自互為相反之兩側***至爐體內部2。

而且，各供氣管4(4a、4b)係構成為，自任一爐壁側***至爐體內部2，前端側支持於另一爐壁，藉此而穩定地支持於爐體1。

再者，作為供氣管4通常使用由例如陶瓷或耐熱金屬等具備耐熱 性之材料構成者。

又，為了便於理解發明，圖4中模式性地表示著眼於一對供氣管4(4a、4b)之供氣管之配設態樣。

供氣管4(4a、4b)係構成為，如圖2、圖3、圖4等所示，***至爐體內部2之前端14a被封閉，且如圖3、圖4所示，於沿著周壁14b之長度方向之複數個位置設有用以向爐體內部2噴出氣體之氣體噴出口24，自位於與前端14a相反側之爐體1外部之開放端14c供給至供氣管4之氣體自氣體噴出口24向爐體內部2供給。

於實施形態1及以下各實施形態中，氣體噴出口24例如既可構成為向正下方噴出氣體，且亦可構成為以某種程度之角度向前後或左右噴出氣體。

存在如下情形：藉由適當地控制噴氣方向，而可高效率地進行氛圍之控制。

但於實施形態1及以下各實施形態中係以自氣體噴出口24向正下方噴出氣體之情形為例來說明。

又，於實施形態1中，作為供氣管4，使用於位於爐體內部2之區域沿著長度方向具備約20個氣體噴出口24之供氣管4。但對於噴氣口出口24之配設個數並無任何限制，可考慮熱處理爐之實際構造、或尺寸等各種條件來設定配設個數。

又，對於供氣管4之尺寸或具體形狀、進而配設間距或配設數量等亦無特別限制。

又，於實施形態1中，於一供氣管4(4a)與另一供氣管4(4b)中，於在沿著搬送方向A之方向觀察之情形時，氣體噴出口24係形成於相互對應之位置(即，以位於與搬送方向A平行之同一線上之方式形成)。

於如此構成之熱處理爐10之情形時，於互為相鄰之一對供氣管4(4a、4b)中，一供氣管4(4a)與另一供氣管4(4b)自互為相反之兩側插 入至爐體內部2，因此，自一側***至爐體內部2之一供氣管4(4a)係氣體之溫度朝向前端側逐漸上升，自相反側***至爐體內部2之另一供氣管4(4b)亦係氣體之溫度朝向與上述一供氣管4(4a)之情形相反側之前端側逐漸上升。其結果為，自一對供氣管4(4a、4b)供給之氣體於與搬送方向A正交之方向上之溫度分佈成為相互對稱之關係，因此，藉由將其等混合，可使爐體內部2之溫度偏差減小，從而可於穩定之氛圍中進行良好之熱處理。

再者，為了進行比較，如圖5模式性地所示，製作了全部供氣管自同一方向***至爐體內部2之熱處理爐、即相鄰之一對供氣管4(4a、4b)自同一方向***至爐體內部2之熱處理爐(比較用之熱處理爐)10a，連同上述實施形態1之熱處理爐10一起，查明爐體內部2之溫度之位置性偏差之大小。

再者，比較用之熱處理爐10a之其他條件與上述實施形態1之熱處理爐10之情形相同。

於查明爐體內部2之溫度之位置性偏差之大小時，於圖4及圖5中由符號1、2、3、4、5表示之5點位置，測定爐體內部2之溫度。

其結果可確認到，如圖6所示，於將供氣管4自同一方向***至爐體內部2之比較用之熱處理爐10a之情形時，爐體內部2之溫度偏差較大，相對於此，於將互為相鄰之一對供氣管4(4a、4b)中之一者與另一者自互為相反之兩側***至爐體內部2之實施形態1之熱處理爐10之情形時，爐體內部2之溫度偏差變小。

[實施形態2]

於該實施形態2中，說明構成與上述實施形態1之熱處理爐10不同之熱處理爐。

圖7係模式性地表示本發明之實施形態2之熱處理爐10之構成之圖。於該實施形態2之熱處理爐10中，作為供氣管4，使用如下長度之 供氣管4(4a、4b)：於觀察互為相鄰之一對供氣管4(4a、4b)之情形時一供氣管4(4a)及另一供氣管4(4b)自互為相反之兩側到達至爐體內部2之中央。

而且，構成為，形成於一供氣管4(4a)之氣體噴出口24與形成於另一供氣管4(4b)之氣體噴出口24之位置成為點對稱之關係。

因此，於該實施形態2之熱處理爐10之情形時，亦係自一供氣管與另一供氣管供給之氣體於與搬送方向A正交之方向上之溫度分佈成為相互對稱之關係，因此，可藉由將其等混合而使爐體內部之溫度分佈減小，從而抑制爐體內部之溫度偏差。

[實施形態3]

圖8係模式性地表示本發明之又一實施形態(實施形態3)之熱處理爐10之構成之圖。於該實施形態3中，作為供氣管4，使用如下長度之供氣管4(4a、4b)：於觀察互為相鄰之一對供氣管4(4a、4b)之情形時一供氣管4(4a)及另一供氣管4(4b)之長度較上述實施形態2中使用之供氣管4(4a、4b)更短，於自互為相反之兩側***至爐體內部2之情形時，不能到達爐體內部2之中央。

但於該實施形態3中亦係構成為，形成於供氣管4a之氣體噴出口24與形成於供氣管4b之氣體噴出口24之位置成為點對稱之關係。

因此，於該實施形態3之熱處理爐10之情形時，亦係自一供氣管4(4a)與另一供氣管4(4b)供給之氣體於與搬送方向A正交之方向上之溫度分佈成為相互對稱之關係，因此，可藉由將其等混合而使爐體內部之溫度分佈減小，從而抑制爐體內部之溫度偏差。

[實施形態4]

圖9係模式性地表示本發明之又一實施形態(實施形態4)之熱處理爐10之構成之圖。於該上述實施形態4中，作為供氣管4，使用如下之供氣管4(4a、4b)：作為觀察互為相鄰之一對供氣管4(4a、4b)之情形 時之一供氣管4(4a)及另一供氣管4(4b)，與上述實施形態1中使用之供氣管同樣地具有自爐體內部2之一端部至另一端部之長度，但氣體噴出口24之位置關係與實施形態1中使用之供氣管不同。

即，於實施形態4中，於一供氣管4(4a)與另一供氣管(4b)中，於在沿著搬送方向A之方向觀察之情形時，氣體噴出口24係形成於不相互對應之位置(即，以不位於與搬送方向A平行之同一線上之方式呈鋸齒狀地配設)。

於該實施形態4之熱處理爐10之情形時，於上述一對供氣管4(4a、4b)中，於在沿著搬送方向A之方向觀察之情形時，氣體噴出口24形成於不相互對應之位置，因此，自一供氣管4(4a)之氣體噴出口24噴出之氣體與自另一供氣管4(4b)之氣體噴出口24噴出之氣體不會相互干擾，因此能夠抑制爐體內部2之溫度偏差。

[實施形態5]

圖10係模式性地表示本發明之又一實施形態(實施形態5)之熱處理爐10之構成之圖。於該上述實施形態5中，作為供氣管4，使用如下之供氣管4(4a、4b)：作為觀察互為相鄰之一對供氣管4(4a、4b)之情形時之一供氣管4(4a)及另一供氣管4(4b)，與上述實施形態1中使用之供氣管同樣地具有自爐體內部2之一端部至另一端部之長度，但氣體噴出口24之位置關係與實施形態1中使用之供氣管不同。

即，於實施形態5中，一供氣管4(4a)與另一供氣管4(4b)之氣體噴出口24僅配設於如下區域，即，供氣管4(4a、4b)之位於爐體內部2之區域中的與搬送方向A正交之方向上較爐體內部2之中央更靠裏側的供氣管前端側區域。

於如此構成之實施形態5之熱處理爐10之情形時，氣體噴出口24僅配設於供氣管4(4a、4b)之位於爐體內部2之區域中的較爐體內部2之中央更靠裏側之區域，因此，所供給之氣體會於通過供氣管4(4a、 4b)而到達至越過爐體內部2之中央之區域之前之過程中被充分加熱，而可自僅配設於較中央更靠裏側之區域之氣體噴出口24向爐體內部2供給溫度已充分上升之氣體，從而能夠可靠地抑制、防止爐體內部2之溫度偏差。

[實施形態6]

圖11係模式性地表示本發明之又一實施形態(實施形態6)之熱處理爐10之構成之圖。

該上述實施形態6之熱處理爐10係位於與搬送方向A正交之同一軸線上之兩根(一對)供氣管4(4a、4b)自互為相反之兩側以前端14a到達至與搬送方向A正交之方向上之爐體內部2之中央，且前端14a彼此相互正對之態樣***至沿著搬送方向A之複數個位置之各個位置，且構成為自位於爐體外部之開放端14c供給氣體。

於如此構成之實施形態6之熱處理爐10之情形時，自一側***之供氣管4(4c)之氣體噴出口24之位置與自另一側***之供氣管4(4d)之氣體噴出口24之位置成為對稱關係，因此，爐體內部2之溫度分佈亦如上述般成為對稱關係，而可抑制、防止爐體內部2之溫度偏差。其結果為，可於穩定之氛圍中進行良好之熱處理。

[實施形態7]

圖12係模式性地表示本發明之又一實施形態(實施形態7)之熱處理爐10之構成之圖。

於該實施形態7中，自沿著搬送方向A之複數個位置之各個位置向爐體內部2以與搬送方向A正交且貫通爐體內部2之方式***有供氣管44。而且，作為該供氣管44，使用具有如下構成者，即，兩端成為開放端44a，於中央部44c連通被阻斷，於沿著中央部44c兩側之周壁44b之長度方向之複數個位置設置有用以向爐體內部2噴出氣體之氣體噴出口24。

而且，構成為，自供氣管44兩端之各開放端44a供給之氣體經由氣體噴出口24向爐體內部2供給。

於如此構成之實施形態7之熱處理爐10之情形時，利用以貫通爐體內部2之方式***之一根供氣管44，可自兩側之開放端44a向爐體內部2供給氣體，從而可獲得與實施形態6之熱處理爐相同之作用效果。

再者，本發明並不限定於上述實施形態，對於爐體內部之構造、搬送機構或加熱構件之具體構成等可於發明之範圍內添加各種應用或變化等。

1‧‧‧爐體

2‧‧‧爐體內部

3‧‧‧加熱構件(加熱器)

4‧‧‧供氣管

4a‧‧‧一對供氣管中之一供氣管

4b‧‧‧一對供氣管中之另一供氣管

6‧‧‧輥

7‧‧‧搬送機構

8‧‧‧隔板

10‧‧‧熱處理爐

12‧‧‧熱處理區域

15‧‧‧熱處理對象物(收容有未煅燒之陶瓷成形體之匣盒)

A‧‧‧搬送方向

Claims (6)

1. 一種熱處理爐，其特徵在於：其係藉由於爐體內部之熱處理區域中沿特定之搬送方向搬送熱處理對象物而對熱處理對象物連續地進行熱處理，且於沿著上述搬送方向之複數個位置，以與上述搬送方向正交之方式向爐體內部***有供氣管，並且作為上述供氣管，使用如下供氣管，其係於沿著周壁之長度方向之複數個位置設置用以向上述爐體內部噴出氣體之氣體噴出口，且構成為自位於爐體外部之開放端供給氣體，且於觀察複數個上述供氣管中之於搬送方向上互為相鄰之一對供氣管之情形時，一上述供氣管與另一上述供氣管自互為相反之兩側***至上述爐體內部。
2. 如請求項1之熱處理爐，其中於在沿著上述搬送方向之方向觀察之情形時，上述一供氣管之複數個上述氣體噴出口與上述另一供氣管之複數個上述氣體噴出口設置於相互對應且與上述搬送方向平行之同一線上之位置。
3. 如請求項1之熱處理爐，其中於在沿著上述搬送方向之方向觀察之情形時，上述一供氣管之複數個上述氣體噴出口與上述另一供氣管之複數個上述氣體噴出口設置於不相互對應且並非與上述搬送方向平行之同一線上之位置。
4. 如請求項1至3中任一項之熱處理爐，其中上述一對供氣管之上述氣體噴出口僅配設於如下區域，即，上述供氣管之位於上述爐體內部之區域中的位於與搬送方向正交之方向上較上述爐體內部之中央更靠裏側之部位的供氣管前端側區域。
5. 一種熱處理爐，其特徵在於：其係藉由於爐體內部之熱處理區 域中沿特定之搬送方向搬送熱處理對象物而對熱處理對象物連續地進行熱處理，且軸心位於與上述搬送方向正交之同一線上之兩根供氣管自互為相反之兩側以前端到達至與上述搬送方向正交之方向上之上述爐體內部之中央，且上述前端相互正對之態樣***至沿著上述搬送方向之複數個位置之各個位置，並且作為上述供氣管，使用如下供氣管，其係於沿著周壁之長度方向之複數個位置設置用以向上述爐體內部噴出氣體之氣體噴出口，且構成為自位於爐體外部之開放端供給氣體。
6. 一種熱處理爐，其特徵在於：其係藉由於爐體內部之熱處理區域中沿特定之搬送方向搬送熱處理對象物而對熱處理對象物連續地進行熱處理，且自沿著上述搬送方向之複數個位置之各個位置向上述爐體內部以與上述搬送方向正交且貫通上述爐體內部之方式而***有供氣管，並且作為上述供氣管，使用如下供氣管，其係兩端成為開放端，於中央部連通被阻斷，於沿著周壁之長度方向之複數個位置設置用以向上述爐體內部噴出氣體之氣體噴出口，且構成為自上述兩端之各個開放端供給之氣體經由上述氣體噴出口而向上述爐體內部供給。