TW201418127A - 用於移送基材的設備 - Google Patents

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Jin-Il Jeong
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Abstract

提供用於移送基材的設備。根據本發明的實施例之用於移送基材的設備包含：一基座；一第一移送磁鐵，該第一移送磁鐵安裝於該基座上；一工作台，該工作台在其頂面接收基材，該基材經配置從基座向上分離，並安裝在基座附近而可前後或上下移動；及一第二移送磁鐵，該第二移送磁鐵相對應於該第一移送磁鐵之位置安裝於該工作台上，並被配置為與該第一移送磁鐵相互作用，產生一磁力以移動該工作台。

Description

用於移送基材的設備
本發明係關於用於移送基材的設備。
像半導體晶片、印刷電路板及半導體模組之組件對於最終產品賦有重要的功能，組件的可靠性是非常重要的，也因此該等組件在裝運之前須受到嚴格的品質檢測。
同時，不僅半導體晶片及半導體模組，而印刷電路板也越來越多以高密度和在較小的厚度裡卻有更多數量的嵌入式晶片來製造。利用AFVI(自動最終目測)裝備來做高密度半導體晶片、半導體模組及印刷電路板表面的損壞、汙染、凹陷及汙點的外觀審查及偵測。
當印刷電路板用AFVI裝備檢測時，使用多種移送設備移送印刷電路板。在該等多種移送設備的一些實例中，以真空墊直接吸附及移送印刷電路板，或以軌道移送印刷電路板。
然而，就使用真空墊做為移送設備而言，如果真空墊被有機物質汙染，則印刷電路板可能也被汙染，並且如果真空墊的吸力電源出了問題，則印刷電路板可能會掉落，而 造成不能修補的產品損壞。
此外，就使用軌道作為移送設備而言，如果印刷電路板沒有被排出，則必須以手動排出該印刷電路板或再做一次，如此有可能會造成印刷電路板表面上的刮痕。
本發明之相關技術在韓國專利公開號10-2008-0113711(用於移送基材之單元及晶粒接著設備之單元；已在2008年12月31日公開)。
本發明提供用於移送基材的設備，該設備可最小化印刷電路板的汙染或損壞。
本發明一方面提供用於移送基材的設備包含：基座；第一移送磁鐵，該第一移送磁鐵安裝於基座上；工作台，該工作台在其頂面接收基材，該基材經配置從基座向上分離，並安裝在基座附近而可前後或上下移動；及第二移送磁鐵，該第二移送磁鐵相對應於第一移送磁鐵之位置安裝於工作台上，並被配置為與第一移送磁鐵相互作用，產生磁力以移動該工作台。
用於移送基台的設備也可包含位置對準單元，該位置對準單元被配置為調整工作台上之基材之位置，以對準在工作台之頂面接收之基材至參照位置。
位置對準單元也可包含：調整裝置，該調整裝置可活動地安裝在工作台上，並被配置為提供位置調整之外力給基材；及驅動器，該驅動器被配置為提供移動調整裝置之驅 動力。
驅動器可包含一對對準磁鐵，該對對準磁鐵分別安裝於調整裝置及工作台上，並藉由其相互作用產生磁力。
該對對準磁鐵至少有一個為電磁鐵。
調整裝置可包含：橫向調整裝置，該橫向調整裝置被配置為調整該基材之橫向位置；及縱向調整裝置，該縱向調整裝置被配置為調整該基材之縱向位置。
用於移送基材的設備也可包含參照架，該參照架安裝在工作台之頂面上，並被配置為提供參照位置，讓基材藉由位置對準單元定位。
參照架可包含：橫向參照架，該橫向參照架被配置為提供基材在橫向上之參照位置；及縱向參照架，該縱向參照架被配置為提供基材在縱向上之參照位置。
用於移送基材的設備也可包含吸引裝置，該吸引裝置被配置為提供對吸力空間之吸力。工作台可具有構成在其頂面之複數個吸力孔，以藉由吸力支撐基材，以及工作台可具有在其內部構成之吸力空間，該吸力空間連接於複數個吸力孔。
可提供複數個第二移送磁鐵，且複數個第二移送磁鐵可沿著該工作台底部面之任一側邊界而佈置於一列。可提供複數個第一移送磁鐵，且複數個第一移送磁鐵可佈置於複數個第二移送磁鐵的對側。
第一移送磁鐵及第二移送磁鐵至少有一個為電磁鐵。
10‧‧‧基材
100‧‧‧設備
110‧‧‧基座
120‧‧‧第一移送磁鐵
130‧‧‧工作台
132‧‧‧吸力孔
134‧‧‧吸力空間
140‧‧‧第二移送磁鐵
150‧‧‧位置對準單元
151‧‧‧調整裝置
152‧‧‧橫向調整裝置
153‧‧‧縱向調整裝置
154‧‧‧驅動器
155‧‧‧對準磁鐵
160‧‧‧參照架
162‧‧‧橫向參照架
164‧‧‧縱向參照架
170‧‧‧吸引裝置
第1圖係根據本發明的實施例中之用於移送基材的設備。
第2圖係根據本發明的實施例中之用於移送基材的設備之上視圖。
第3圖係根據本發明的實施例中之用於移送基材的設備之工作台底面的底視圖。
在下文中，根據本發明的實施例，用於移送基材的設備將參照隨附圖式做詳細描述。在參照隨附圖式來描述本發明時，任何相同或相應的元件將指派到相同的參照標號，且將不會被重複描述。
第1圖顯示根據本發明的實施例中之用於移送基材的設備100，及第2圖係根據本發明的實施例中之用於移送基材的設備100之上視圖。此外第3圖係根據本發明的實施例中之用於移送基材的設備100之工作台130底面的底視圖。
如第1圖至第3圖圖示，根據本實施例中之用於移送基材的設備100是可被安裝於例如AFVI(自動最終目測)裝備中，該AFVI裝備需要移送印刷電路板，且包含基座110、第一移送磁鐵120、工作台130、第二移送磁鐵140、位置對準單元150、調整裝置151、驅動器154、參照架160及吸引裝置170。
根據本實施例，當基材10被接收到工作台130上時，藉由使用磁力來移送工作台130，而基材10可穩定地移送及可防止任何基材10可能的污染或損壞。
在下文中，根據本實施例，用於移送基材之設備100之元件將會參照第1圖至第3圖而做詳細描述。
基座110係為對應用於移送基材之設備100的緊固單元之元件，如第1圖圖示，該基座110可具有安裝在其上表面之第一移送磁鐵120。
工作台130係為對應用於移送基座之設備100的移動單元之元件，如第1圖圖示，該工作台130經配置從基座110向上分離，並可安裝在基座110附近而可前後或上下移動。
即使沒有圖示，用於移送基座之設備100可具有移動工作台130之引導。舉例來說，用於移送基座之設備100可內建水平引導來引導前後方向的移動，以及垂直引導來引導上下方向的移動。
如第2圖圖示，工作台130在其頂面接收基材10。如第1圖及第2圖圖示，複數個吸力孔132可相對於基材10被接收的位置在一區域中形成，以及連接於複數個吸力孔132的吸力空間134可在工作台130內部形成。
吸力空間134連接於吸引裝置170(像是真空泵)，吸入空氣以提供負壓，經由吸力空間134及吸力孔132來提供吸力至基材10。
因此，藉由在工作台130裡形成吸力孔132及吸力空間134以及安裝吸引裝置170連結於其上，在工作台130 上接收的基材10可藉由吸引裝置170的吸力穩定地被支撐在工作台130上。
如第1圖圖示，第二移送磁鐵140根據第一移送磁鐵120的位置而安裝在工作台130上，以藉由與第一移送磁鐵120互動而產生之磁力(例如引力與斥力)來移動工作台130。
亦即，第二移送磁鐵140係為與第一移送磁鐵120互動之元件，而與第一移送磁鐵120一起做為用於移送基材之設備100的驅動單元，該第二移送磁鐵140可類似根據弗萊明左手定則來驅動電動馬達的原理，而使工作台130在基座110上做前後方向的移動。
電磁鐵的磁特性可根據電流方向和大小而有所改變，在這種情況下，該電磁鐵可用於第一移送磁鐵120。換句話說，第一移送磁鐵120的電磁可根據電流方向的變化而具有極性的變換，或根據電流大小的變化而改變磁場的大小。
如此，由於藉著使用電磁鐵為第一移送磁鐵120，該第一移送磁鐵120的極性方向可被反覆地改變，引力和斥力被反覆地施加到第二移送磁鐵140，該第二移送磁鐵140與第一移送磁鐵120相互作用，由於第一移送磁鐵120的極性改變，也因此具有第二移送磁鐵140安裝於其上的工作台130可以在基座110上做前後方向的移動。
此外，當第一移送磁鐵120與第二移送磁鐵140的極性彼此匹配時，可藉由調整施加於第一移送磁鐵120電流的大小來調整第一移送磁鐵的強度，並可變換藉由第一移送 磁鐵120與第二移送磁鐵140相互作用所產生的磁力大小。結果，具有第二移送磁鐵140安裝於其上的工作台130可以在基座110上做前後方向的移動。
永久磁鐵可被使用於第二移送磁鐵140，並應理解電磁鐵也可用於第二移送磁鐵140。
如第1圖及第3圖圖示，第一移送磁鐵120及第二移送磁鐵140可分別提供為複數個，且該複數個第二移送磁鐵140可沿著該工作台130底部面之任一側邊界而佈置於一列。此外，第一移送磁鐵120可安裝在基座110之頂面及第二移送磁鐵140的對側。
如第2圖圖示，位置對準單元150可調整基材10在工作台130上的位置，以對準在頂面上接收之基材10至參照位置。
藉由安裝位置對準單元150於工作台130上，當使用外部裝備開始在工作台130接收基材10時，定位基材10不需要過於精確，再者，基材10在工作台130上對準能夠比藉由外部裝備定位更精確。位置對準單元150可由調整裝置151及驅動器154構成。
如第2圖圖示，調整裝置151可活動地安裝在工作台130上以施加外力至基材10以調整位置。亦即，調整裝置151可線性活動地安裝在工作台130之頂面，並可將基材10在調整裝置151的移動方向上重新定位。
驅動器154可提供驅動力給調整裝置151以做調整裝置151的移動。舉例而言，如第2圖圖示，驅動器154可 由一對對準磁鐵155所構成，該對對準磁鐵155可分別安裝在調整裝置151及工作桌130上，並藉由其相互作用產生一個磁力(引力和斥力)。
在這個情況下，一對對準磁鐵155中至少有一個可為電磁鐵，並如上所述，對準磁鐵155的極性方向或大小可藉由調整提供給對準磁鐵155的電流而變換。因此，調整裝置151可移動工作台130及調整基材10的位置。
調整裝置151可由橫向調整裝置152及縱向調整裝置153所構成。亦即，如第2圖圖示，橫向調整裝置152可藉由橫向施加外力來使基材10橫向移動，而縱向調整裝置153可藉由縱向施加外力來使基材10縱向移動。
儘管有三個縱向調整裝置153安裝在本實施例中，但是橫向調整裝置152及縱向調整裝置153安裝的數量並不限制本實施例。
如第1圖及第2圖圖示，參照架160可安裝在工作台130之頂面，並提供藉由位置對準單元150為基材10定位的參照位置。因此，藉由使用參照架160而預先確定工作台130上之基材10的對準位置，則位置對準單元150不需要為了調整基材10至精確位置而過於精密地控制，而因此基材10可更簡單及更有效率地在正確的位置上接收。
參照架160可由橫向參照架162及縱向參照架164構成，該橫向參照架162提供基材10在橫向上之參照位置，該縱向參照架164提供基材10在縱向上之參照位置。
藉著使用橫向調整裝置152來橫向移動基材10(朝 第2圖的左方)，橫向參照架162作為橫向制動裝置，以避免基材10離開參照點以及更朝橫向移動(即移動到左方)。此外，藉著使用縱向調整裝置153來縱向移動基材10(朝第2圖的下方)，縱向參照架164作為縱向制動裝置，以避免基材10離開參照點以及更朝縱向移動(即移動到下方)。
儘管已描述本發明的一些實施例，但本領域具有通常知識者應理解本發明可為非常大量的變更及修改，不脫離本發明的技術概念和本發明的範圍都應定義於下列附加之申請專利範圍。
除了上述之實施例之外，許多其他的實施例也應理解被包含於本發明之申請專利範圍中。
100‧‧‧設備
110‧‧‧基座
120‧‧‧第一移送磁鐵
130‧‧‧工作台
132‧‧‧吸力孔
134‧‧‧吸力空間
140‧‧‧第二移送磁鐵
160‧‧‧參照架
162‧‧‧橫向參照架
164‧‧‧縱向參照架
170‧‧‧吸引裝置

Claims (11)

  1. 一種用於移送一基材的設備，包含：一基座；一第一移送磁鐵，該第一移送磁鐵安裝於該基座上；一工作台，該工作台在其頂面接收一基材，該基材經配置從基座向上分離，並安裝在該基座附近而可前後或上下移動；及一第二移送磁鐵，該第二移送磁鐵相對應於該第一移送磁鐵之一位置安裝於該工作台上，並被配置為與該第一移送磁鐵相互作用，產生一磁力以移動該工作台。
  2. 如請求項1所述之設備，進一步包含一位置對準單元，該位置對準單元被配置為調整該工作台上之該基材之一位置，以對準該在該工作台之該頂面上接收之基材至一參照位置。
  3. 如請求項2所述之設備，其中該位置對準單元包含：一調整裝置，該調整裝置可活動地安裝在該工作台上，並被配置為提供位置調整之一外力給該基材；及一驅動器，該驅動器被配置為提供移動該調整裝置之一驅動力。
  4. 如請求項3所述之設備，其中該驅動器包含一對對準磁鐵，該對對準磁鐵分別安裝於該調整裝置及該工作台上，並藉由其相互作用產生一磁力。
  5. 如請求項4所述之設備，其中該對對準磁鐵至少有一個為一電磁鐵。
  6. 如請求項3所述之設備，其中該調整裝置包含： 一橫向調整裝置，該橫向調整裝置被配置為調整該基材之一橫向位置；及一縱向調整裝置，該縱向調整裝置被配置為調整該基材之一縱向位置。
  7. 如請求項2所述之設備，進一步包含一參照架，該參照架安裝在該工作台之該頂面上，並被配置為提供一參照位置，讓該基材藉由該位置對準單元定位。
  8. 如請求項7所述之設備，其中該參照架包含：一橫向參照架，該橫向參照架被配置為提供該基材在橫向上之一參照位置；及一縱向參照架，該縱向參照架被配置為提供該基材在縱向上之一參照位置。
  9. 如請求項1所述之設備，進一步包含一吸引裝置，該吸引裝置被配置為提供對一吸力空間之一吸力，其中該工作台具有構成在其頂面之複數個吸力孔，以藉由該吸力支撐該基材，及其中該工作台具有在其內部構成之該吸力空間，該吸力空間連接於該複數個吸力孔。
  10. 如請求項1所述之設備，其中該第二移送磁鐵提供為複數個，且該複數個第二移送磁鐵可沿著該工作台底部面之任一側邊界而佈置於一列，及其中該第一移送磁鐵提供為複數個，且該複數個第一移送磁鐵可佈置於該複數個第二移送磁鐵之對側。
  11. 如請求項1所述之設備，其中該第一移送磁鐵及該第二 移送磁鐵至少有一個為一電磁鐵。
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