TW201411204A - 偏光板之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之偏光板之製造方法包含下述步驟：將具有形成於長條狀樹脂基材與樹脂基材一側上之聚乙烯醇系樹脂層的積層體延伸並染色，而在該樹脂基材上製作偏光膜的步驟；在該積層體的偏光膜側上積層光學機能薄膜，而製作光學機能薄膜積層體的步驟；及將該光學機能薄膜積層體的寬度方向端部切斷的步驟。該切斷片包含該樹脂基材、該偏光膜與該光學機能薄膜。

Description

偏光板之製造方法 發明領域
本發明涉及一種偏光板之製造方法。
發明背景
作為代表性影像顯示裝置的液晶顯示裝置上，因其影像的形成方式，而於液晶單元兩側上配置有偏光膜。作為偏光膜的製造方法，例如提議以下方法(例如日本專利特開2000-338329號公報)：將具有樹脂基材與聚乙烯醇(PVA)系樹脂層的積層體延伸，然後進行染色處理，從而獲得在樹脂基材上的偏光膜。根據該方法可獲得厚度薄的偏光膜，故有助於近年影像顯示裝置的薄型化而受到關注。
而且，通常會使上述偏光膜與其它光學機能薄膜(例如保護薄膜)積層作為偏光板使用。於此，會有將上述樹脂基材從偏光膜剝離的情況，而此時則有易發生樹脂基材剝離不良(例如斷裂)的問題。
發明概要
本發明係用以解決上述習知課題而成者，並提供具有優良的樹脂基材的剝離性的偏光板之製造方法。
本發明偏光板之製造方法包含下述步驟：將具有形成於長條狀樹脂基材與該樹脂基材一側上之聚乙烯醇系樹脂層的積層體延伸並染色，而在該樹脂基材上製作偏光膜的步驟；在該積層體的偏光膜側上積層光學機能薄膜，而製作光學機能薄膜積層體的步驟；及將光學機能薄膜積層體的寬度方向端部切斷的步驟。該切斷片包含該樹脂基材、該偏光膜與該光學機能薄膜。
本發明的一個實施形態中，上述方法包含於上述切斷後，將上述樹脂基材從上述光學機能薄膜積層體剝離的步驟。
本發明的一個實施形態中，上述積層體的延伸係自由端延伸。
本發明的一個實施形態中，上述積層體的延伸係水中延伸。
根據本發明的其它方面係提供一種偏光板。該偏光板係藉由上述製造方法而製得。
根據本發明，藉由將光學機能薄膜積層體的寬度方向端部切斷，可達成優良的樹脂基材的剝離性。其結果，可在維持高生產性的同時製造外觀優良的偏光板。
10‧‧‧積層體
11‧‧‧樹脂基材
12‧‧‧聚乙烯醇系樹脂層(偏光 膜)
12a‧‧‧端部
20‧‧‧長邊方向
30‧‧‧光學機能薄膜
100‧‧‧光學機能薄膜積層體
101‧‧‧方向端部
圖1為根據本發明的較佳實施形態之積層體的部 分截面圖。
圖2為說明本發明中切斷步驟的實例的示意圖，(a)為其透視圖，(b)為其截面圖。
具體實施方式
下文中，將描述本發明的較佳實施形態，但本發明不限於該等實施形態。
本發明的偏光板之製造方法包含下述步驟：將具有形成於長條狀樹脂基材與該樹脂基材一側上之聚乙烯醇系樹脂層的積層體延伸併染色，而在樹脂基材上製作偏光膜的步驟；在積層體的偏光膜側上積層光學機能薄膜，而製作光學機能薄膜積層體的步驟；及將光學機能薄膜積層體的寬度方向端部切斷的步驟。下文中，將描述各步驟。
A.偏光膜的製作步驟
A-1.積層體
圖1為根據本發明的較佳實施形態之積層體的部分截面圖。積層體10具有樹脂基材11與聚乙烯醇系樹脂層12。積層體10係藉由在長條狀樹脂基材11上形成聚乙烯醇系樹脂層12而製作。作為形成聚乙烯醇系樹脂層12的方法，可採用任何適當方法。宜藉由將含有聚乙烯醇系樹脂(下文中稱作「PVA系樹脂」)的塗佈液塗佈至樹脂基材11上並乾燥，而形成PVA系樹脂。
作為上述樹脂基材的形成材料，可採用任何適當的熱塑性樹脂。熱塑性樹脂例如可舉聚對苯二甲酸乙二酯 系樹脂之酯系樹脂、降冰片烯系樹脂之環烯系樹脂、聚丙烯等之烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、及該等共聚物樹脂等。其中，宜為降冰片烯系樹脂與非晶質聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。
在一個實施形態中，係適宜使用非晶質(未結晶化的)聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。其中，特別適宜使用非晶性(難結晶化的)聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。非晶性聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂的具體例可舉進一步含有間苯二甲酸作為二羧酸的共聚物、與進一步含有環己烷二甲醇作為二醇的共聚物。
當在後述延伸時採用水中延伸方式時，上述樹脂基材會吸收水，並和水起到塑化劑的機能從而可塑化。結果，可使延伸應力顯著降低，而可以高倍率地進行延伸，並且延伸性可比在空中延伸時更優良。結果，可製作具有優良光學特性的偏光膜。在一個實施形態中，樹脂基材的吸水率宜為0.2%以上，更宜為0.3%以上。同時，樹脂基材的吸水率宜為3.0%以下，更宜為1.0%以下。藉由使用該樹脂基材可防止在製造時尺寸穩定性顯著降低，而所製得的偏光膜的外觀劣化等不良之處。並且，還可防止在水中延伸時基材斷裂、PVA系樹脂層從樹脂基材剝離。此外，樹脂基材的吸水率可藉由例如將改性基導入構成材料中來調整。吸水率為依JIS K 7209為準所求得的值。
樹脂基材的玻璃化轉變溫度(Tg)宜為170℃以下。藉由使用該樹脂基材可在抑制PVA系樹脂層結晶的同 時充分地確保積層體的延伸性。此外，考慮到藉由水引起的樹脂基材的塑化與可順利進行水中延伸，玻璃化轉變溫度更宜為120℃以下。在一個實施形態中，樹脂基材的玻璃化轉變溫度宜為60℃以上。就由使用該樹脂基材可防止在塗佈．乾燥含有上述PVA系樹脂的塗佈液時樹脂基材變形(例如，發生凹凸、鬆弛或起皺)等不良之處，而能夠順利製作積層體。此外，還能夠在適當溫度(例如，60℃左右)下順利地進行PVA系樹脂層之延伸。其它實施形態中，只要在塗佈．乾燥含有PVA系樹脂的塗佈液石樹脂基材不變形，玻璃化轉變溫度亦可低於60℃。此外，樹脂基材的玻璃化轉變溫度可藉由例如將改性基導入構成材料中、使用結晶化材料來加熱做調整。玻璃化轉變溫度(Tg)係依JIS K 7121為準所求得的值。
樹脂基材延伸前的厚度宜為20μm~300μm，更宜為50μm~200μm。當厚度小於20μm時，可能難以形成PVA系樹脂層。當厚度超過300μm時，在例如水中延伸時，對於樹脂基材可能要花費長時間吸收水，而延伸時可能需要過大負荷。
作為形成上述PVA系樹脂層的PVA系樹脂，可採用任何適當樹脂。例如可舉聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而獲得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而獲得。PVA系樹脂的皂化度通常為85mol%~100mol%，宜為95.0mol%~99.95mol%，更宜為99.0mol%~99.93mol%。皂 化度可依JIS K 6726-1994為準而求得。藉由使用具有該皂化度的PVA系樹脂可得耐久性優良的偏光膜。當皂化度過高時，樹脂可能會凝膠化。
PVA系樹脂的平均聚合度可因應目的而適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000，宜為1200~4500，更宜為1500~4300。此外，平均聚合度可依JIS K 6726-1994為準而求得。
上述塗佈液代表性地係已使PVA系樹脂溶解於溶劑之溶液。溶劑例如可舉水、二甲亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯烷酮、各種二醇類、三羥甲基丙烷等的多元醇類、乙二胺、二亞乙基三胺等的胺類。該等可單獨或組合兩種以上使用。其中，宜為水。溶液中的PVA系樹脂濃度相對於100重量份溶劑宜為3重量份~20重量份。只要為該樹脂濃度，即可形成與樹脂基材密合的均勻塗膜。
塗佈液中亦可摻混添加劑。添加劑例如可舉塑化劑、表面活性劑等。塑化劑例如可舉乙二醇或甘油等多元醇。表面活性劑例如可舉非離子表面活性劑。該等可用於要更加提升所獲得的PVA系樹脂層的均一性、染色性或延伸性之目的。此外，添加劑例如可舉易接著成分。藉由使用易接著成分可使樹脂基材與PVA系樹脂層之密合性提升。其結果，可抑制PVA系樹脂層從基材剝離等之不良之處，而可順利進行後述的染色、水中延伸。此外，該實施形態中，在後述的切斷步驟中樹脂基材的剝離性改善的效 果可為顯著。
上述易接著成分例如可使用乙醯乙醯基改性的PVA等之改性的PVA。作為乙醯乙醯基改性的PVA，宜使用至少具有由以下一般式(I)表示的重複單元的聚合物。
上述式(I)中，n相對於l+m+n的比率(改性度)宜為1%~10%。
乙醯乙醯基改性的PVA的皂化度宜為97mol%以上。此外，乙醯乙醯基改性PVA的4重量%水溶液的pH宜為3.5~5.5。
改性的PVA宜添加成在上述塗佈液所含之PVA系樹脂整體的重量的3重量%以上，更宜為5重量%以上。另一方面，該改性的PVA的添加量宜為30重量%以下。
作為塗佈液的塗佈方法，可採用任何適當方法。例如可舉輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾式塗佈法、噴塗法及刮刀塗佈法(逗點塗佈法等)。
上述塗佈液的塗佈．乾燥溫度宜在50℃以上。
PVA系樹脂層延伸前的厚度宜為3μm~40μm，更宜為3μm~20μm。
於形成PVA系樹脂層前，可於樹脂基材施行表面處理(如電暈處理)，亦可於樹脂基材上形成易接著層。其中，宜形成易接著層(塗佈處理)。例如，作為形成易接著層的材料，例如可使用丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等，特別宜為聚乙烯醇系樹脂。聚乙烯醇系樹脂例如可舉聚乙烯醇樹脂及其改性物。聚乙烯醇樹脂的改性物可舉上述乙醯乙醯基改性的PVA。此外，易接著層的厚度宜設為0.05~1μm左右。藉由進行該處理可使樹脂基材與PVA系樹脂層之密合性提升。其結果，例如可抑制PVA系樹脂層從基材剝離等之不良之處，而可順利進行後述的染色、水中延伸。此外，該實施形態中，在後述的切斷步驟中樹脂基材的剝離性改進的效果可為顯著。
A-2.積層體的延伸
作為積層體的延伸方法，可採用任何適當方法。具體來說，可為固定端延伸亦可為自由端延伸，但宜採用自由端延伸。自由端延伸通常是指僅往一個方向延伸的延伸方法。當將積層體往一個方向延伸時，積層體會往相對於該延伸方向為略垂直的方向收縮，並將不抑制該收縮而進行延伸的方法稱作自由端延伸。
積層體的延伸方向可以適當設定。在一個實施形態中，係往長條狀積層體的長邊方向延伸。在這種情況下，代表性地係採用使積層體通過圓周速度不同的輥之間來進行延伸的方法。在其它實施形態中，係往長條狀積層體的寬度方向延伸。在這種情況下，代表性地係採用使用拉幅 延伸機來延伸的方法。
延伸方式無特別限制，可以為空中延伸方式，亦可以為水中延伸方式。其中，宜採用水中延伸模式。根據水中延伸方式，可在低於上述樹脂基材與PVA系樹脂層的玻璃化轉變溫度(代表性為80℃左右)的溫度下進行延伸，因此可在抑制PVA系樹脂層其結晶的同時高倍率地延伸。其結果，可製作具有優良光學特性的偏光膜。此外，當可順利進行水中延伸時，樹脂基材與PVA系樹脂層之密合性可為優良，而在後述的切斷步驟中樹脂基材的剝離性改進的效果可為顯著。
積層體的延伸可以在一個階段中進行，亦可以在多個階段中進行。當在多個階段中進行延伸時，例如可以組合上述自由端延伸與固定端延伸，亦可以組合上述水中延伸方式與空中延伸方式。並且，當在多個階段中進行延伸時，後述的積層體的延伸倍率(最大延伸倍率)為各階段的延伸倍率的乘積。
積層體的延伸溫度可因應樹脂基材的形成材料、延伸方式而設定為任何適當值。當採用空中延伸方式時，延伸溫度宜為樹脂基材的玻璃化轉變溫度(Tg)以上，更宜為樹脂基材的玻璃化轉變溫度(Tg)+10℃以上，特別宜為Tg+15℃以上。同時，積層體的延伸溫度宜為170℃以下。藉由在該溫度下進行延伸，可抑制PVA系樹脂結晶的快速進行，而可抑制由於結晶引起的不良之處(如妨礙由於進行延伸所致之PVA系樹脂層的定向)。
當採用水中延伸方式時，延伸浴的液溫宜為40℃~85℃，更宜為50℃~85℃。只要為該溫度，即可在抑制PVA系樹脂層溶解的同時高倍率地延伸。具體來說，如上所述，樹脂基材的玻璃化轉變溫度(Tg)以與PVA系樹脂層的形成之關係下，宜為60℃以上。在這種情況下，當延伸溫度不足40℃時，則存在即使考慮到由於水引起的樹脂基材塑化也不能順利進行延伸的可能性。另一方面，由於延伸浴的溫度越高溫，PVA系樹脂層的溶解性會提高，因此有無法獲得優良的光學特性之虞。積層體浸漬於延伸浴的浸漬時間宜為15秒~5分鐘。
當採用水中延伸方式時，宜使積層體浸漬於硼酸水溶液中而延伸(硼酸水中延伸)。藉由使用硼酸水溶液作為延伸浴，可賦予PVA系樹脂層耐受於延伸時施加之張力的剛性、與在水中不溶解之耐水性。具體來說，硼酸可在水溶液中產生四羥基硼酸陰離子，從而藉由PVA系樹脂與氫鍵而交聯。其結果，可賦予PVA系樹脂層剛性與耐水性而可順利地延伸，因此可製作具有優良光學特性的偏光膜。
上述硼酸水溶液宜藉由使硼酸及/或硼酸鹽在作為溶劑的水中溶解而獲得。硼酸濃度相對於100重量份水宜為1重量份~10重量份。藉由將硼酸濃度設為1重量份以上可有效抑制PVA系樹脂層的溶解，由此能夠製作具有更高特性的偏光膜。此外，除了硼酸或硼酸鹽，亦可使用將硼砂等的硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解在溶劑中而製得的水溶液。
當藉由後述的染色預先使PVA系樹脂層吸附有雙色性物質(代表性為碘)時，宜於上述延伸浴(硼酸水溶液)中摻混碘化物。藉由摻混碘化物可抑制已使PVA系樹脂層吸附的碘溶出。碘化物例如可舉碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫及碘化鈦等。其中，宜為碘化鉀。碘化物的濃度相對於100重量份水宜為0.05重量份~15重量份，更宜為0.5重量份~8重量份。
積層體的延伸倍率(最大延伸倍率)相對於積層體原長宜為5.0倍以上。上述的高延伸被倍率可藉由採用例如水中延伸方式(硼酸水中延伸)實現。此外，本說明書中「最大延伸倍率」是指積層體即將斷裂前的延伸倍率，另外確認積層體斷裂的延伸倍率，係比該值低0.2的值。
較佳實施形態中，係將上述積層體在高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸後，進行上述硼酸水中延伸及後述的染色。因為該空中延伸可作為對硼酸水中延伸為預備性或輔助性的延伸，所以在下文中稱作「空中輔助延伸」。
藉由組合空中輔助延伸時，有時可以更高的倍率延伸積層體。其結果，可製作具有更優良光學特性(如偏光度)的偏光膜。例如，當使用聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂作為上述樹脂基材時，比起僅於硼酸水中進行延伸，藉由組合空中輔助延伸與硼酸水中延伸，更可在抑制樹脂基材的定向的同時進行延伸。該樹脂基材因隨著其定向性的提高，其延伸張力會增加，因此會變得難以穩定地進行延伸、 或發生斷裂。因此，藉由抑制樹脂基材的定向的同時進行延伸，可以更高的倍率延伸積層體。
此外，藉由組合空中輔助延伸，可使PVA系樹脂的定向性提升，因此在硼酸水中延伸後亦可使PVA系樹脂的定向性提升。具體來說，預先藉由空中輔助延伸使PVA系樹脂的定向性提升，從而在進行硼酸水中延伸時PVA系樹脂可以容易地與硼酸交聯，並在硼酸呈節點的狀態下進行延伸，因此推定甚至在硼酸水中延伸後PVA系樹脂的定向性亦是高的。其結果，可製作具有優良光學特性(如偏光度)的偏光膜。
空中輔助延伸時的延伸被率宜為3.5倍以下。空中輔助延伸時的延伸溫度宜為PVA系樹脂的玻璃化轉變溫度以上。延伸溫度宜為95℃~150℃。此外，當組合空中輔助延伸與上述硼酸水中延伸時的最大延伸倍率相對於積層體的原長宜為5.0倍以上，更宜為5.5倍以上，並更宜為6.0倍以上。
A-3.染色
上述積層體的染色代表性的係藉由使PVA系樹脂層吸附雙色性物質(宜為碘)來進行。該吸附方法例如可舉使PVA系樹脂層(積層體)浸漬在含碘染色液中的方法、將該染色液塗佈至PVA系樹脂層的方法、或將該染色液塗佈在PVA系樹脂層上的方法。且宜為使積層體浸漬在染色液中的方法。這是因為碘可順利地吸附。
上述染色液宜為碘的水溶液。碘的摻混量相對於 100重量份水宜為0.1重量份~0.5重量份。為了可以提高碘對水的溶解度，宜將碘化物摻混於碘的水溶液中。碘化物的具體例如上所述。碘化物的摻混量相對於100重量份水宜為0.02重量份~20重量份，更宜為0.1重量份~10重量份。為了可以抑制PVA系樹脂的溶解，染色液染色時的液溫宜為20℃~50℃。當使PVA系樹脂層浸漬在染色液中時，為了可以確保PVA系樹脂層的透過率，浸漬時間宜為5秒~5分鐘。此外，可設定染色條件(濃度、液溫、浸漬時間)，以使最終獲得的偏光膜的偏光度或單體透過率可為預定範圍。在一個實施形態中，係設定浸漬時間以使所獲得的偏光膜的偏光度可以為99.98%以上。其它實施形態中，係設定浸漬時間以使所獲得的偏光膜的單體透過率可以為40%~44%。
染色處理可在任何適當時機進行。當進行上述水中延伸時，宜在水中延伸前進行。
A-4.任何其它處理
上述積層體除延伸、染色外，還可以適當進行用以將其PVA系樹脂層製成偏光膜的處理。用以製成偏光膜的處理例如可舉不溶化處理、交聯處理、洗滌處理及乾燥處理。此外，該等處理的次數、順序等並無特別限制。
上述不溶化處理代表性的係藉由將PVA系樹脂層浸漬在硼酸水溶液中而進行。藉由施行不溶化處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液的濃度相對於100重量份水宜為1重量份~4重量份。不溶化浴(硼酸水溶液) 的液溫宜為20℃~50℃。且不溶化處理宜在上述水中延伸或上述染色處理前進行。
上述交聯處理代表性的係藉由將PVA系樹脂層浸漬在硼酸水溶液中而進行。藉由施行交聯處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液的濃度相對於100重量份水宜為1重量份~5重量份。此外，當在上述染色處理後進行交聯處理時，宜進一步摻混碘化物。藉由摻混碘化物可抑制已使PVA系樹脂層吸附的碘溶出。碘化物的摻混量相對於100重量份水宜為1重量份~5重量份。碘化物的具體例為如上所述。交聯浴(硼酸水溶液)的液溫宜為20℃~60℃。且交聯處理宜在上述水中延伸前進行。較佳實施形態中，係依序進行染色處理、交聯處理及水中延伸。
上述洗滌處理代表性的係藉由將PVA系樹脂層浸漬在碘化鉀的水溶液中而進行。上述乾燥處理時的乾燥溫度宜為30℃~100℃。
A-5.偏光膜
上述偏光膜實質上為吸附定向有雙色性物質的PVA系樹脂膜。偏光膜的厚度代表性地為25μm以下，且宜為15μm以下，更宜為10μm以下，並更宜為7μm以下，特別宜為5μm以下。同時，偏光膜的厚度宜為0.5μm以上，更宜為1.5μm以上。偏光膜宜在波長380nm~780nm的任何波長下顯現吸收雙色性。偏光膜的單體透過率宜為40.0%以上，更宜為41.0%以上，並更宜為42.0%以上，特別宜為43.0%以上。偏光膜的偏光度宜為99.8%以上，更宜為99.9%以上，並更宜 為99.95%以上。
B.光學機能薄膜積層體的製作步驟
在上述積層體(PVA系樹脂層)施行上述各處理後，在積層體的偏光膜(PVA系樹脂層)側上積層光學機能薄膜。具體來說，係在上述積層體上將長條狀光學機能薄膜積層成對齊相互的長邊方向。光學機能薄膜的寬度係因應例如積層體偏光膜的寬度而設定，其可以大於偏光膜的寬度，亦可小於其，或大略相同。且宜設定為大於偏光膜的寬度。在這種情況下，宜以光學機能薄膜朝偏光膜的兩個寬度方向的外側伸出的方式進行積層。積層體(偏光膜)及光學機能薄膜的寬度可以設定為任何適當值。代表性的為500mm以上且2000mm以下，且宜為1000mm以上且2000mm以下。
光學機能薄膜可作為例如偏光膜的保護薄膜或相位差薄膜等發揮作用。
作為上述光學機能薄膜，可以採用任何適當的樹脂薄膜。作為光學機能薄膜的形成材料，例如可舉：三乙醯基纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂，降冰片烯系樹脂等之環烯系樹脂，聚乙烯、聚丙烯等之烯烴系樹脂，聚酯系樹脂，(甲基)丙烯酸系樹脂。此外，「(甲基)丙烯酸系樹脂」是指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。
光學機能薄膜的厚度代表性的為10μm~100μm。此外，光學機能薄膜可施行有各種表面處理。
光學機能薄膜的積層可使用任何適當的接著劑或黏合劑。較佳實施形態中，係在偏光膜表面塗佈接著劑 再貼合光學機能薄膜。接著劑可以為水系接著劑，亦可以為溶劑系接著劑。且宜使用水系接著劑。
作為上述水系接著劑，可採用任何適當的水系接著劑。宜使用含有PVA系樹脂的水系接著劑。水系接著劑所含的PVA系樹脂的平均聚合度從接著性的觀點宜為100~5000左右，更宜為1000~4000。而平均皂化度從接著性的觀點宜為85mol%~100mol%左右，更宜為90mol%~100mol%。
水系接著劑所含的PVA系樹脂宜含有乙醯乙醯基。這是因為可獲得優異PVA系樹脂層與披覆薄膜之密合性及優異耐久性。含乙醯乙醯基的PVA系樹脂可藉由例如以任意方法使PVA系樹脂與雙烯酮反應而獲得。含乙醯乙醯基的PVA系樹脂的乙醯乙醯基改性度代表性的為0.1mol%以上，且宜為0.1mol%~40mol%左右，更宜為1mol%~20mol%，特別宜為2mol%~7mol%。此外，乙醯乙醯基改性度為以NMR所測量的值。
水系接著劑的樹脂濃度宜為0.1重量%~15重量%，更宜為0.5重量%~10重量%。
接著劑塗佈時的厚度可設定為任何適當值。例如，以於加熱(乾燥)後可以獲得具有期望厚度的接著劑層的方式做設定。接著劑層的厚度宜為10nm~300nm，更宜為10nm~200nm，特別宜為20nm~150nm。
宜在光學機能薄膜積層後進行加熱。加熱溫度宜為50℃以上，更宜為55℃以上，並更宜為60℃以上，特別 宜為80℃以上。此外，於光學機能薄膜積層後進行的加熱亦可與對上述積層體的乾燥處理一併進行。並且，可以在後述的切斷步驟後進行加熱，但宜在切斷步驟前進行。這是因為可以更高精度地進行切斷。
C.切斷步驟
將上述光學機能薄膜積層體在其寬度方向的端部切斷(截斷)。經切斷的切斷片包含上述樹脂基材、偏光膜與光學機能薄膜。具體來說，係以偏光膜或光學機能薄膜的寬度方向為基準切斷端部。切斷寬度宜距離偏光膜或光學機能薄膜的端部3mm以上，更宜為5mm以上。只要為該切斷寬度，即可充分切除例如由於後述的捲曲所引起的接合不良部分。其結果，可達成具非常優良的剝離性的樹脂基材。同時，例如從成品率的觀點，切斷寬度宜距離偏光膜或光學機能薄膜的端部200mm以下。
作為光學機能薄膜積層體的切斷(截斷加工)方法，可採用任何適當的方法。例如，可以將長條狀光學機能薄膜積層體沿其長邊方向纏繞的同時切斷，亦可不纏繞而切斷。作為切斷手段，例如可舉圓刀或盤形刀等之切刀、雷射。此外，上述切刀宜藉由捲取或吸抽去除。
圖2為顯示切斷步驟的一例的概略圖，(a)為透視圖，(b)為截面圖。如圖2所示，光學機能薄膜積層體100具有往長邊方向20延伸的積層體10與光學機能薄膜30，並且光學機能薄膜30的寬度方向端部為分別朝向偏光膜12的寬度方向的外側伸出的伸出部。光學機能薄膜積層體100係被 以與積層體10的長邊方向(延伸方向)20大略平行地，切斷成寬度方向端部101與101。圖式例中，因為光學機能薄膜30的寬度被設定為大於偏光膜12的寬度，所以宜以偏光膜12的端部12a為基準設定上述切斷寬度。此外，與圖式例不同，當光學機能薄膜的寬度被設定為小於偏光膜的寬度時，宜以光學機能薄膜的端部為基準設定上述切斷寬度。
本發明的偏光板可藉由將上述光學機能薄膜積層體的寬度方向端部切斷(截斷)而獲得。
D.剝離步驟
上述切斷後，將樹脂基材從光學機能薄膜積層體剝離。根據本發明，藉由進行上述切斷可達成優良的樹脂基材的剝離性。其結果，可在維持高生產性的同時製造外觀優良的偏光板。具體來說，在積層體的寬度方向端部與光學機能薄膜之接合部分易發生接合不良(例如起皺)，且因該接合不良部分會引起樹脂基材的剝離不良(例如斷裂)。接合不良的一個可能因素為積層體的捲曲。捲曲係易於發生在積層體的寬度方向端部。捲曲的一個可能因素為例如進行延伸所引起的收縮。當延伸積層體時，由於PVA系樹脂層與樹脂基材間的收縮力會產生差，而因該收縮力的差會引起捲曲(通常，PVA系樹脂層的收縮力較大)。收縮方向通常係與延伸方向成略垂直方向，當將積層體沿長邊方向延伸(縱向延伸)時，可能與延伸方向略平行地在樹脂基材側上發生凸狀捲曲。同時，當將積層體沿寬度方向延伸(橫向延伸)時，具體來說，當在用拉幅延伸機的夾具保持積層體端部 並進行延伸時，在延伸後在夾具保持部附近會發生因對寬度方向外側施加張力所致之捲曲。因此，不論在縱向延伸或橫向延伸，在積層體的寬度方向端部都有發生捲曲的傾向。
實施例
下文中，將藉實施例具體說明本發明，但本發明不受該等實施例限制。此外，各特性的測量方法為如下所述。
1.厚度
用數位測微計(Anritsu Corporation製造，產品名稱：「KC-351C」)進行測量。
2.玻璃化轉變溫度(Tg)
依JIS K 7121為準進行測量。
[實施例1]
作為樹脂基材，係使用長條狀，並且具有0.60%吸水率與80℃的Tg之非晶質聚對苯二甲酸乙二酯(A-PET)薄膜(Mitsubishi Chemical Corporation製造，商品名：「NOVACLEAR」，厚度：100μm)。
將樹脂基材的一面進行電暈處理，並將含有90重量份聚乙烯醇(聚合度：4200，皂化度：99.2mol%)及10重量份乙醯乙醯基改性的PVA(聚合度：1200，乙醯乙醯基改性度：4.6%，皂化度：99.0mol%以上，The Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.製造，商品名：「GOHSEFIMER Z200」)的水溶液在60℃下塗佈至該電暈處理面上然後乾 燥，從而形成厚度為10μm的PVA系樹脂層，由此製作積層體。
將所得積層體在120℃的爐內在圓周速度不同的輥間，沿縱向(長邊方向)進行1.8倍的自由端單軸延伸(空中輔助延伸)。
接著，使積層體浸漬在液溫為30℃的不溶化浴(對100重量份水摻混4重量份硼酸而獲得的硼酸水溶液)中30秒(不溶化處理)。
接著，使其浸漬在液溫為30℃的染色浴(對100重量份水摻混0.2重量份碘與1.0重量份碘化鉀而獲得的碘水溶液)中60秒(染色處理)。
接著，使其浸漬在液溫為30℃的交聯浴(對100重量份水摻混3重量份碘化鉀與3重量份硼酸而獲得的硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。
此後，使積層體浸漬在液溫為70℃的硼酸水溶液(對100重量份水摻混4重量份硼酸與5重量份碘化鉀而獲得的水溶液)中的同時在圓周速度不同的輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸(水中延伸)。在此，係延伸至積層體即將斷裂前(最大延伸倍率為6.0倍)。
此後，使積層體浸漬在液溫為30℃的洗滌浴(對100重量份水摻混4重量份碘化鉀而獲得的水溶液)中(洗滌處理)。
然後，將PVA系樹脂水溶液(The Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.製造，商品名：「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」，樹脂濃度：3重量%) 塗佈至積層體的PVA系樹脂層表面，並將長條狀且比PVA系樹脂層的寬度寬的三乙醯基纖維素薄膜(Konica Minolta,Inc.製造，商品名：「KC4UY」，厚度：40μm)，貼合成其兩端部係往PVA系樹脂層的兩寬度方向的外側伸出，並在維持在60℃的爐內加熱5分鐘，由此而製作具厚度5μm之偏光膜的光學機能薄膜積層體(偏光板)。
此後，將光學機能薄膜積層體的寬度方向兩端部從偏光膜(PVA系樹脂層)的端部以10mm的間隔截斷。因此，而獲得偏光板。
[實施例2]
作為樹脂基材，係使用長條狀且130℃的Tg的降冰片烯系樹脂薄膜(JSR Corporation製造，商品名：「ARTON」，厚度：150μm)。
將具有2600聚合度與99.9%皂化度的聚乙烯醇(PVA)樹脂(The Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.製造，商品名：「GOHSENOL(註冊商標)NH-26」)的水溶液在80℃下塗佈至樹脂基材的一面上然後乾燥，從而形成厚度為7μm的PVA系樹脂層，由此製作積層體。
將所得積層體在140℃加熱下用拉幅裝置藉由自由端單軸往寬度方向以4.5倍的延伸倍率進行延伸。延伸處理後的PVA系樹脂層厚度為3μm(空中延伸)。
接著，使其浸漬在液溫為30℃的染色浴(對100重量份水摻混0.5重量份碘與3.5重量份碘化鉀而獲得的碘水溶液)中60秒(染色處理)。
接著，使其浸漬在液溫為60℃的交聯浴(對100重量份水摻混5重量份碘化鉀與5重量份硼酸而獲得的硼酸水溶液)中60秒(交聯處理)。
此後，使積層體浸漬在洗滌浴(對100重量份水摻混3重量份碘化鉀而獲得的水溶液)中後，用60℃的暖風使其乾燥(洗滌.乾燥處理)。
然後，將PVA系樹脂水溶液(The Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.製造，商品名：「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」，樹脂濃度：3重量%)塗佈至積層體的PVA系樹脂層表面，並將長條狀且比PVA系樹脂層的寬度寬的降冰片烯系樹脂薄膜(JSR Corporation製造，商品名：「ARTON」，厚度：35μm)，貼合成其兩端部係往PVA系樹脂層的兩寬度方向的外側伸出，並在維持在80℃的爐內加熱5分鐘，由此製作具厚度為3μm之偏光膜的光學機能薄膜積層體(偏光板)。
此後，將光學機能薄膜積層體的寬度方向兩端部從偏光膜(PVA系樹脂層)的端部以10mm的間隔截斷。因此，而獲得偏光板。
[比較例1]
除了不截斷寬度方向兩端部以外，以與實施例1相同的方式製作偏光板。
[比較例2]
除了不截斷寬度方向兩端部以外，以與實施例2相同的方式製作偏光板。
將樹脂基材沿長邊方向從以各實施例及比較例中獲得的偏光板剝離，從而評價其剝離性。表1係顯示評價結果。此外，剝離性的評價標準如下。
(剝離性)
○：可不斷裂進行連續剝離。
×：發生剝離不良(斷裂等)。
各實施例中樹脂基材剝離性優良，相對於此，各比較例中則發生剝離不良。該剝離不良係由於在寬度方向端部的貼合不良所引起。
產業上的可利用性
本發明的偏光板適用於液晶電視、液晶顯示器、可攜式電話、數位相機、攝影機、可攜式遊戲機、汽車導航系統、影印機、印表機、傳真機、時鐘及微波爐等的液晶面板、有機EL元件的防反射膜。
10‧‧‧積層體
11‧‧‧樹脂基材
12‧‧‧聚乙烯醇系樹脂層(偏光膜)
12a‧‧‧端部
20‧‧‧長邊方向
30‧‧‧光學機能薄膜
100‧‧‧光學機能薄膜積層體
101‧‧‧方向端部

Claims (5)

  1. 一種偏光板之製造方法，包含下述步驟：將具有形成於長條狀樹脂基材與該樹脂基材一側上之聚乙烯醇系樹脂層的積層體延伸並染色，而在該樹脂基材上製作偏光膜的步驟；在該積層體的偏光膜側上積層光學機能薄膜，而製作光學機能薄膜積層體的步驟；及將該光學機能薄膜積層體的寬度方向端部切斷的步驟；且該切斷片包含該樹脂基材、該偏光膜與該光學機能薄膜。
  2. 如請求項1之偏光板之製造方法，其包含在前述切斷後，將前述樹脂基材從前述光學機能薄膜積層體剝離的步驟。
  3. 如請求項1或2之偏光板之製造方法，其中前述積層體的延伸係自由端延伸。
  4. 如請求項1至3項中任一項之偏光板之製造方法，其中前述積層體的延伸係水中延伸。
  5. 一種偏光板，係藉由如請求項1至4項中任一項之偏光板之製造方法而製得。
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