TW201400561A - 硬塗層組成物及高折射率抗結塊層形成組成物 - Google Patents

硬塗層組成物及高折射率抗結塊層形成組成物 Download PDF

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Koichi Imamura
Ryuhei Kanzaki
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Abstract

本發明係提供一種硬塗層組成物，用於形成具有高可見度及良好硬度、同時亦具有延伸性的硬塗層。本發明係提供一種技術，可在不對可見度帶來不良影響之下，有效防止樹脂薄膜等層狀物間的結塊現象。本發明係提供一種塗料組成物，其係包含以下之硬塗層組成物：(A)具有2或在此以上的丙烯酸酯基的酚醛清漆型丙烯酸酯，及(B)於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構的含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯化合物，且其相對於100質量份之硬塗層組成物中所含樹脂成分，係含有60~85質量份之酚醛清漆型丙烯酸酯(A)及15~30質量份之(甲基)丙烯酸酯(B)。

Description

硬塗層組成物及高折射率抗結塊層形成組成物 發明領域
本發明係有關於一種硬塗層組成物，其提供具有高可見度(visibility)及良好硬度並兼具延展性的硬塗層。本發明又有關於高折射率抗結塊層形成組成物、經由塗佈該高折射率抗結塊層形成組成物而獲得的抗結塊薄膜，以及於該抗結塊薄膜至少一側的表面上形成有透明導電層的透明導電性積層體。
發明背景
液晶顯示裝置(液晶顯示器)，具有薄型、輕量、低耗電力等優點，使用於電腦、文書處理機、電視、行動電話、行動資訊終端機器等各種領域。而且在此等液晶顯示裝置中，具有經由壓觸畫面上的顯示來操作機器的機構，即所謂觸控面板，正急速地普及。這樣的觸控面板，由於其優良的操作性，廣泛使用在例如智慧型手機等行動電話、平板電腦、行動資訊終端機器、銀行ATM、自動販賣機、行動資訊終端(PDA)、影印機、傳真機、遊樂器、設置於博物館及百貨公司等設施的導引顯示裝置、汽車導航、多媒體資訊站(設置於便利商店的多機能終端機)、火車 監控裝置等。
在觸控面板中，一般而言，通常使用具有設置於透明基材上之透明導電層的透明導電性積層體。透明導電層的形成，一般係使用銦-錫氧化物(ITO)等。
作為構成具有透明導電層的基材薄膜，由透明度及價格等觀點，多使用PET薄膜、聚碳酸酯薄膜等薄膜。而在此等基材薄膜中，以提升耐擦傷性及耐久性等為目的，會設置透明硬塗層。但另一方面，因著在透明基材薄膜上設置透明硬塗層，會有產生干渉紋的問題。該干渉紋的產生，亦會導致可見度的降低。
干渉紋的產生，有賴於透明基材薄膜與透明硬塗層之間的折射率差、以及透明硬塗層之膜厚極微小的不平整。此種干渉紋的產生，理論上可藉由將透明硬塗層膜厚的不平整完全消除而予以解決。然而這種方法，以現有技術而言是不切實際的，是實施上極為困難的方法。
作為防止產生干涉紋的其他方法，可列舉如將透明基材薄膜折射率與透明硬塗層折射率的折射率差縮小的方法。在此種方式中，以往係採取藉由將高折射率金屬氧化物等高折射率劑含納於透明硬塗層中以提高透明硬塗層之折射率，使其接近透明基材薄膜之折射率的方式。例如，在日本專利公開案特開2009-265590號公報(專利文獻1)中，記載一種藉由將氧化鋯、氧化鈦、ITO、ATO、ZnO、氧化錫、銻酸鋅等金屬氧化物微粒子作為高折射率劑而混合於硬塗層劑中、以調整硬塗層折射率的方法。然而，由 於將金屬氧化物等高折射率劑含納於透明硬塗層中，故有硬塗層之延伸性及耐撓曲性變差的問題。
在日本專利公開案特開2002-241527號公報(專利文獻2)中，記載有關於一種可見度優良之具透明硬塗層的薄膜。而於該專利文獻2中有高折射率層之相關敘述。該專利文獻2中的高折射率層，係經由蒸鍍或濺鍍ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2、ITO等金屬氧化物而形成，或是經由將該等金屬氧化物之微粒子分散於黏結劑樹脂中而形成(第[0007]段等)。
在日本專利公開案特開2003-055607號公報(專利文獻3)中，記載有關於一種層狀形成於透明基材本體上且無明顯干渉紋的塗層材料。該塗層材料的特徵在於藉由混合微粒子及/或色素來調整減幅係數。在此，作為微粒子，可列舉各種金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物；而作為色素可列舉偶氮系顏料、酞青素系顏料、蒽醌系顏料、喹吖酮系顏料、二烷系顏料、喹啉黃系顏料(第[0021]段等)。
該等專利文獻1~3揭示了防止干渉紋生成而提升可見度的方法。然而，就該等專利文獻1~3均使用金屬氧化物等高折射率劑等此點，與本發明係發明結構即為相異。
在日本專利公開案特開2007-292883號公報(專利文獻4)中，記載有關於一種特徵在高折射率硬塗層含有溴系樹脂的光學積層體(請求項1等)。並記載該光學積層體在光學特性、耐光性、硬質性能等方面有所改善。相對而 言，本發明就硬塗層的高折射率化方面並未使用溴系樹脂，故與該發明係發明構成即為不同。
日本專利公開案特開2008-239673號公報(專利文獻5)記載了一種透明交聯薄膜，係乙烯酯組成物、及包含具多官能丙烯酸酯及茀骨架之(甲基)丙烯酸酯的組成物予以硬化、交聯而成者(請求項1)。而該透明交聯薄膜的特徵在於表面硬度優良且無干渉紋。然而在該專利文獻5中，係以薄膜厚度50μm的條件進行試驗。在硬塗層的領域中，這樣的薄膜厚度與一般所用之膜厚相較是非常高的。因此，就成本面而言殊為不利。而且，由該專利文獻5記載之組成所獲得的交聯薄膜，其抑制干渉紋生成的效果，並未達到目前所需的水準。
先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：特開2009-265590號公報
專利文獻2：特開2002-241527號公報
專利文獻3：特開2003-055607號公報
專利文獻4：特開2007-292883號公報
專利文獻5：特開2008-239673號公報
發明概要
本發明係以解決上述習知技術之問題點作為目的。更具體而言，本發明之目的在於提供一種硬塗層組成 物，其用於形成具有高可見度及良好硬度並兼具延伸性的硬塗層。再者，本發明亦提供一種技術，能夠在不對可見度帶來不良影響下，有效防止樹脂薄膜等層狀物間之附著等缺陷(即結塊現象)。
本發明係提供一種硬塗層組成物從而解決上述課題，該硬塗層組成物包含：(A)酚醛清漆型丙烯酸酯，其具有2或在此以上的丙烯酸酯基；及(B)含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯，其於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構，該硬塗層組成物，係相對於100質量份之硬塗層組成物中所含樹脂成分，而包含酚醛清漆型丙烯酸酯(A)60~85質量份、及(甲基)丙烯酸酯(B)15~30質量份。
上述酚醛清漆型丙烯酸酯(A)，較佳係以下式(I)表示的化合物：
式(I)中，R1為H或CH2OH，R2為H或OH，n為2~5，m為0~5。
又上述(甲基)丙烯酸酯(B)，較佳係折射率在1.56~1.64範圍內的含芳香族基之(甲基)丙烯酸酯。
又上述硬塗層組成物，係ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2及銦-錫氧化物之總含量為組成物中0.0001質量%以下者較佳。
再者，上述硬塗層組成物，除了成分(A)及(B)之外，亦可進一步包含成分(C)，其為具有2或在此以上之(甲基)丙烯酸酯基的含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯，此時，係宜相對於100質量份之硬塗層組成物中所含樹脂成分，包含酚醛清漆型丙烯酸酯(A)40~70質量份、(甲基)丙烯酸酯(B)10~30質量份、及含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)15~40質量份。
又，上述含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)，較佳係以下式(II)表示之化合物：
式(II)中，R3係各自獨立為H或CH3；R4為-A-OC(O)CR=CH2；A係各自獨立為-OCH2CH2-、-OCH2CH2CH2-、-OCH(CH3)CH2-或-OCH2CH(CH3)-；R係各自獨立為H或CH3。
又，本發明亦提供一種硬塗膜，具有：透明高分子基材；及硬塗層，其係藉由將如請求項第1至6任一項之硬塗層組成物塗佈於基材上而形成者，且該硬塗層係具有1.565~1.620之折射率。
上述硬塗層之厚度較佳為0.05~10μm。
上述硬塗膜，係具以下特徵者較佳：基材為厚度20~300μm之PET薄膜，在20℃拉伸速度5mm/秒之條件下將硬塗膜以MD方向拉伸15%時，上述硬塗層不產生裂痕。
上述硬塗膜，具以下特徵者亦較佳：基材為厚度30~200μm之聚碳酸酯薄膜，在25℃及60度/秒之條件下將硬塗膜彎折180°時，上述硬塗層及基材均不產生裂痕。
又，本發明亦提供一種透明導電性積層體，其係於上述硬塗膜的至少一側的面上形成有透明導電層者。上述透明導電層較佳係含氧化銦之晶質層、且透明導電層之厚度為5~50nm。
又，上述硬塗層及透明導電層間存在有金屬氧化物層、且金屬氧化物層厚度為0.5~5.0nm的態樣亦屬較佳。
本發明又亦提供一種具有上述透明導電性積層體的觸控面板。
本發明亦提供一種高折射率抗結塊層形成組成物，藉此解決上述課題，該組成物包含第1成分及第2成分，第1成分係含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物，第2成分係含有：(A)酚醛清漆型丙烯酸酯，其具有2或在此以上的丙烯酸酯基，及(B)含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯，其於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構，且相對於100質量份之第2成分，係含有酚醛清漆型丙烯酸酯(A)60~85質量份、及(甲基)丙烯酸酯(B)15~30質量份，且該組成物中：第1成分SP(solubility parameter，溶解度參數)值(SP1)及第2成分SP值(SP2)的差△SP在1~4之範圍內；組成物中所含第1成分及第2成分的質量比，係第1成分：第2成分=0.5：99.5~20：80；該高折射率抗結塊層形成組成物塗佈後，第1成分及第2成分產生層分離，而於表面形成具有微細凹凸的抗結塊層。
上述酚醛清漆型丙烯酸酯(A)係宜為以下式(I)表示的化合物：[化3]
(式(I)中，R1為H或CH2OH，R2為H或OH，n為2~5，m為0~5)。
又，上述(甲基)丙烯酸酯(B)宜為折射率在1.56~1.64範圍內的含芳香族基之(甲基)丙烯酸酯。
上述高折射率抗結塊層形成組成物宜為ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2及銦-錫氧化物的總含量為組成物中之0.0001質量%以下者。
本發明又亦提供一種抗結塊薄膜，具有透明高分子基材，及抗結塊層，其係經由在基材上塗佈上述高折射率抗結塊層形成組成物而形成者，其中該抗結塊層具有1.565~1.620之折射率，且該抗結塊層之算術平均粗度(Ra)為0.001~0.09μm，十點平均粗度(Rz)為0.01~0.5μm。
上述抗結塊層的厚度較佳為0.05~10μm。
作為上述抗結塊薄膜之一較佳態樣，可舉例如具以下特徵者：基材為厚度20~300μm之PET薄膜， 抗結塊薄膜為在20℃、拉伸速度5m/分的條件下將薄膜以MD方向拉伸15%時抗結塊層不產生裂痕者。
作為上述抗結塊薄膜之另一較佳態樣，可舉例如具以下特徵者：基材為厚度30~200μm之聚碳酸酯薄膜，抗結塊薄膜為在25℃及60度/秒的條件下彎折180°彎折時在抗結塊層及基材任一者中均未產生裂痕者。
上述抗結塊薄膜係宜為全光穿透率88%以上、且霧度值2%以下者。
本發明進一步亦提供一種透明導電性積層體，其係於上述抗結塊薄膜之至少一側的表面上形成有透明導電層。
上述透明導電層係含氧化銦之晶質層、且透明導電層之厚度為5~50nm者較佳。
上述抗結塊層及透明導電層之間宜存在有金屬氧化物層，且金屬氧化物層之厚度為0.5~5.0nm者。
本發明又亦提供一種具有上述透明導電性積層體的觸控面板。
本發明之硬塗層組成物係提供一種設置於透明高分子基材上的透明硬塗層。而由本發明之硬塗層組成物所形成的透明硬塗層，其特徵在於具有良好硬度並兼具高可見度及延伸性。由本發明之硬塗層組成物所形成的透明硬塗層係具有高折射率之特徵。故而有以下優勢：本發明 的透明硬塗層即便設置於PET薄膜或聚碳酸酯薄膜等高折射率基材薄膜上，仍不會產生干渉紋。
本發明之硬塗層組成物更具有以下特徵：即便不含金屬氧化物等高折射率劑，其折射率仍為高。因此，所得之透明硬塗層具有除了硬度及折射率高以外還具有高延伸性的特徵。再者，在提高折射率時，除了成分(A)及(B)外，還可混合具有2或在此以上之(甲基)丙烯酸酯基的含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯作為成份(C)。在混合有成分(C)的情況下，可將折射率設得更高。
透過使用本發明之硬塗層組成物，會有以下優點：可提供一種即便在PET薄膜或聚碳酸酯薄膜等高折射率基材薄膜上形成透明硬塗層，仍具有高可見度及良好硬度並兼具延伸性的硬塗層。
本發明之抗結塊層形成組成物，僅藉著塗佈於基材上並視需要使其乾燥後予以光硬化，即可提供一種具表面凹凸之樹脂層的抗結塊層。所得之抗結塊薄膜具有高硬度而不易刮傷。又，由於不使用平均粒徑大於0.5μm之粒狀物，而有不減損可見度及光學特性等優點。塗佈本發明之抗結塊層形成組成物而獲得之抗結塊薄膜，可發揮即使多片重疊亦不產生結塊現象(例如層間附著)的功效。又具有即便將所得之抗結塊薄膜保存為卷狀物仍不會發生結塊現象(例如，由卷狀物剝離的困難性)的優點。
就本發明而言，除了上述抑制結塊現象的效果外，亦具有「所得之抗結塊層具高折射率亦有優良延伸性」 之特徵。而有能夠透過該特徵一併抑制干渉紋的發生、達到極高可見度的優點。
圖1係顯示使用實施例E1之硬塗層組成物所得硬塗層於波長400~800nm之範圍內的穿透光譜(穿透率(%))圖。
圖2係顯示使用比較例E10之硬塗層組成物所得硬塗層於波長400~800nm之範圍內的穿透光譜(穿透率(%))圖。
圖3係顯示使用實施例F1之硬塗層組成物所得硬塗層於波長400~800nm之範圍內的穿透光譜(穿透率(%))圖。
較佳實施例之詳細說明
硬塗層組成物
本發明之硬塗層組成物係包含：(A)具有2或在此以上的丙烯酸酯基的酚醛清漆型丙烯酸酯，及(B)於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構的含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯化合物。且相對於上述硬塗層組成物中所含樹脂成分100質量份，係包含40~90質量份酚醛清漆型丙烯酸酯(A)及10~30質量份(甲基)丙烯酸酯(B)。
(A)具有2或在此以上的丙烯酸酯基，酚醛清漆型丙烯酸酯
本發明之硬塗層組成物，包含(A)具有2或在此以上的 丙烯酸酯基的酚醛清漆型丙烯酸酯。透過在硬塗層組成物包含酚醛清漆型丙烯酸酯(A)，所得之硬塗層係成為透明且具高硬度的高折射率層。從而，可有效企止干渉紋的發生。
酚醛清漆型丙烯酸酯(A)係宜為以下式(I)表示之酚醛清漆型丙烯酸酯：
式(I)中，R1為H或CH2OH，R2為H或OH，n為2~5，m為0~5。上述式(I)中，n為2~4而m為0~3者較佳；n為2~4而m為0~1者更佳。
酚醛清漆型丙烯酸酯(A)的重量平均分子量係400~2500為宜、450~2000較佳。又，酚醛清漆型丙烯酸酯(A)的羥基價數，係100~180mgKOH/g為宜、120~160mgKOH/g較佳。
本說明書中，各成分之重量平均分子量係可經由凝膠滲透層析法測得。關於重量平均分子量之測定，係可使用HLC-8220GPC(TOSOH公司製)等高速GPC裝置等。使用HLC-8220GPC(TOSOH公司製)之重量平均分子量具體測 定條件係例如以下態樣：秤量2g的試驗樣本，在真空乾燥機內作40℃ 2小時之處理而去除水分後，以THF溶液稀釋為0.2%之濃度，以管柱注入量：10μl、流速：0.35ml/min之條件進行測定。
上述酚醛清漆型丙烯酸酯(A)，係以相對於硬塗層組成物中所含樹脂成分100質量份而包含60~85質量份作為條件。酚醛清漆型丙烯酸酯(A)的量不滿60質量份時、及酚醛清漆型丙烯酸酯(A)的量超過85質量份時，無論何者所得之硬塗層都有硬度變低的不良狀況。
(B)於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構的含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯化合物
本發明之硬塗層組成物係包含(B)於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構的含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯。該(甲基)丙烯酸酯(B)宜為黏度低於300mPa.s且折射率在1.56~1.64之範圍內者。
成分(B)之(甲基)丙烯酸酯由於在分子中含1~2mol碳數2或3環氧烷結構，故得以將成分(B)的黏度設在低於300mPa.s。又，於成分(B)之(甲基)丙烯酸酯中，由於在分子中含1~2mol碳數2或3環氧烷結構，所得之硬塗層之延伸性故而有所提升。在此「碳數2或3環氧烷結構」可列舉如環氧乙烷結構、環氧丙烷結構。
成分(B)之(甲基)丙烯酸酯又亦以具有芳香族基為特徵。成分(B)之(甲基)丙烯酸酯由於具芳香族基，故而可達成高折射率，例如1.56~1.64之範圍的折射率。
可適於作為本發明成分(B)的含芳香族基之(甲基)丙烯酸酯，係可舉例如，於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構的伸烷基氧化酚(甲基)丙烯酸酯、伸烷基氧化鄰苯基酚(甲基)丙烯酸酯、伸烷基氧化間苯基酚(甲基)丙烯酸酯、伸烷基氧化對苯基酚(甲基)丙烯酸酯、伸烷基氧化異丙苯酚(甲基)丙烯酸酯等。此等之中，由具有高折射率此點來看，具2個芳香族基的(甲基)丙烯酸酯係較佳的。
成分(B)的折射率，可依據JIS K0062之方法，藉由阿貝折射計來測定。
成分(B)的黏度宜低於300mPa.s。當成分(B)的黏度超過300mPa.s時，會有組成物的硬化反應性變差、所得硬塗層之硬度變低的問題。成分(B)的黏度較佳為1~300mPa.s之範圍，1~200mPa.s之範圍尤佳。
成分(B)黏度的測定，可藉由B型黏度計(TVB-22L東機產業公司製)來測定。作為B型黏度計，可舉例如TVB-22L(東機產業公司製)等。
成分(B)係以重量平均分子量為150~600之範圍內者為宜，而200~400之範圍內者較佳。
本發明之中，係以相對於100質量份之硬塗層組成物中所含樹脂成分而包含15~30質量份成分(B)為條件。透過讓上述(甲基)丙烯酸酯(B)以上述質量範圍包含在硬塗層組成物中，有讓所得硬塗層呈高硬度且高折射率的優點。當成分(B)的量低於15質量份、及成分(B)的量超過30質量份時，無論何者均有所得硬塗層硬度變低的不良狀況。
(C)其具有2或在此以上之(甲基)丙烯酸酯基，含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯
作為本發明之硬塗層組成物之一態樣，可舉如除了上述成分(A)及(B)外更包含具有2或在此以上之(甲基)丙烯酸酯基的含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)的態樣。由於含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)具有高折射率，故有所得硬塗層之折射率可設定較高的優點。
作為含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)的較佳範例，可舉如下式(II)表示的丙烯酸酯單體：
(式(II)中，R3係各自獨立為H或CH3，R4為-A-OC(O)CR=CH2，A係各自獨立為-OCH2CH2-、-OCH2CH2CH2-、-OCH(CH3)CH2-或-OCH2CH(CH3)-，R係各自獨立為H或CH3)。
含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)的更佳範例，係可舉如以下式(II)-1表示的丙烯酸酯單體。
[化6]
[上述式(II)-1中，各R表示氫原子或甲基，m及n係各自獨立表示1~5的整數)。
亦可使用市售商品作為含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)。市售的含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)，可舉例如由新中村化學工業(股)販售的NK酯系列、由大阪燃氣化學(股)販市售的OGSOL EA系列等。
又，作為以上述式(II)-1表示的市售丙烯酸酯單體，可舉例如由大阪燃氣化學(株)販售的OGSOL EA-0200(各R為氫原子，m+n=2)、EA-0500(各R為氫原子，m+n=5)、EA-1000(各R為氫原子，m+n=10)、EA-F5003(各R為氫原子，低黏度型)、EA-F5503(各R為氫原子，低黏度型)等。
當成分(C)包含於硬塗層塗料組成物中時，各個成分係相對於100質量份之硬塗層組成物中所含樹脂成分而為包含40~70質量份酚醛清漆型丙烯酸酯(A)、10~30質量份(甲基)丙烯酸酯(B)及15~40質量份含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)。
當成分(C)之含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯包含於硬塗層塗料組成物時，必須相對於100質量份之硬塗層組成 物中所含樹脂成分，而含有40~70質量份酚醛清漆型丙烯酸酯(A)。酚醛清漆型丙烯酸酯(A)的量未滿40質量份時、及酚醛清漆型丙烯酸酯(A)的量超過70質量份時，無論何者均有所得硬塗層硬度變低的不良狀況。
當成分(C)的含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯被包含於硬塗層塗料組成物中時，必須相對於100質量份之硬塗層組成物中所含樹脂成分，而含有10~30質量份之成分(B)的(甲基)丙烯酸酯。藉著讓上述(甲基)丙烯酸酯(B)以上述質量範圍包含於硬塗層組成物中，會有所得之硬塗層呈高硬度及高折射率的優點。成分(B)的量較10質量份更低時、及成分(B)的量超過30質量份時，何者均會有所得之硬塗層硬度變低的不良情況。
當成分(C)的含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯包含於硬塗層塗料組成物中時，成分(C)係以「相對於100質量份之硬塗層組成物所含樹脂成分而含15~40質量份」為條件。成分(C)的量超過40質量份時，可能會讓所得之硬塗層硬度變低。
其他的(甲基)丙烯酸酯類
本發明之硬塗層組成物，除了上述成分(A)與(B)及視需要的成分(C)以外，亦可含有其他(甲基)丙烯酸酯類。這種(甲基)丙烯酸酯類，例如可舉多官能(甲基)丙烯酸酯單體及/或寡聚物化合物。此等多官能(甲基)丙烯酸酯單體及/或寡聚物化合物有下述優點：可藉著硬塗層組成物塗覆後的活性能量線之照射，讓基於(甲基)丙烯醯之反應的硬化反應發 生，而獲得具有高硬度的硬塗層。
多官能(甲基)丙烯酸酯單體及/或寡聚物化合物，係宜具有3個以上(甲基)丙烯醯。透過具有3個以上(甲基)丙烯醯，會有在活性能量線照射後獲得具有高硬度之硬塗層的優點。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯單體及/或寡聚物化合物之具體例，可舉例如羥丙基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質二丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯、二新戊四醇五丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三(丙烯醯氧乙基)三聚異氰酸酯、二三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯、二新戊四醇六丙烯酸酯、及其等之寡聚物等。此等單體或寡聚物，可單獨使用1種、亦可混合2種以上使用。
當硬塗層組成物含有其他的(甲基)丙烯酸酯類時，宜相對於100質量份之硬塗層組成物所含樹脂成分，而為1~30質量份之範圍，並以1~25質量份之範圍較佳。
光聚合起始劑等
本發明之硬塗層組成物宜含有光聚合起始劑。藉著光聚合起始劑的存在，樹脂成分經由紫外線等活性能量線的照射會聚合良好。作為光聚合起始劑之實例，可舉例如烷基苯酮系光聚合起始劑、醯膦氧化物系光聚合起始劑、二茂鈦系光聚合起始劑、肟酯系聚合起始劑等。作為烷基苯酮系光聚合起始劑，例如2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、1-羥基-環己基-苯基-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮、 1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙-1-酮、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙酮基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙-1-酮、2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-嗎啉基丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1,2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]-1-丁酮等。作為醯膦氧化物系光聚合起始劑，可舉例如2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物等。作為二茂鈦系光聚合起始劑，可舉例如雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。作為肟酯系聚合起始劑，例如1.2-辛二酮、1-[4-(苯硫基)-、2-(O-苯甲醯基肟)]、乙醇酮、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-、1-(0-乙醯肟)、氧苯基醋酸、2-[2-氧基-2-苯基乙醯氧基乙氧基]乙基酯，2-(2-羥基乙氧基)乙基酯等。該等光聚合起始劑，可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
上述光聚合起始劑中，較佳係使用2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮、1-羥基-環己基-苯基-酮、2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-嗎啉基丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1及2、2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮等。
光聚合起始劑的適宜用量，係相對於100質量份之上述成分(A)、(B)、視需要之成分(C)及其他(甲基)丙烯酸酯類(此等合稱為「樹脂成分」)為0.01~20質量份、較佳係1~10質量份。
本發明所用之硬塗層組成物中亦可含有溶劑。溶 劑並無特別限定，可考量組成物中所含成分、所塗覆之基材的種類、及組成物的塗覆方法等而適當選擇。可用溶劑的具體例方面，可舉例如甲苯、二甲苯等芳香族系溶劑；甲乙酮、丙酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮系溶劑；二乙基醚、異丙基醚、四氫呋喃、二烷、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、丙二醇單甲基醚、苯甲醚、苯***等醚系溶劑；醋酸乙基、醋酸丁基、醋酸異丙基、乙二醇二乙酸酯等酯系溶劑；二甲基甲醯胺、二乙基甲醯胺、N-甲基四氫吡咯酮等醯胺系溶劑；甲氧乙醇、乙氧乙醇、丁氧乙醇等賽璐蘇(cellsolve)系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇等醇系溶劑；二氯甲烷、氯仿等鹵素系溶劑等等。該等溶劑可單獨使用、抑或併用2種以上。該等溶劑之中，較佳係使用酯系溶劑、醚系溶劑、醇系溶劑及酮系溶劑。
本發明之硬塗層組成物，可視需要而添加各種添加劑。作為此類添加劑，可列舉抗靜電劑、塑化劑、界面活性劑、抗氧化劑等常用的添加劑。
本發明之硬塗層組成物具有下述特徵：藉由上述組成，即便不含ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2或銦-錫氧化物等金屬氧化物所構成之高折射率劑等，仍可形成具有高折射率的硬塗層。因此，本發明之硬塗層組成物，宜不含有選自於由ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2及銦-錫氧化物所構成之群組的金屬氧化物等高折射率劑。詳言之，上述硬塗層組成物，ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2及銦-錫 氧化物的總含量係佔組成物中0.0001質量%以下為宜。蓋因當金屬氧化物等之高折射率劑存在於硬塗層中時，與僅有樹脂成分之層相較，通常其延伸性及耐撓曲性會較差。
硬塗膜
本發明進一步亦提供一種使用上述硬塗層組成物而形成的硬塗膜。該硬塗膜係具有透明高分子基材及硬塗層，其中該硬塗層係藉由將上述硬塗層組成物塗佈於基材而形成者。故而本發明中的硬塗層，特徵在於具有1.565~1.620之高折射率。
本發明之硬塗膜中，宜使用PET薄膜或聚碳酸酯薄膜為透明高分子基材。蓋因PET薄膜及聚碳酸酯薄膜由薄膜強度及高透明性且低廉等觀點來看，適合用於作為構成觸控面板的具透明導電層之薄膜的基材薄膜之故。另一方面，此等薄膜，通常具有1.5以上之高折射率。由於該等薄膜之折射率，高於一般用來構成硬塗膜之樹脂成分的折射率，因此與硬塗層的折射率差會較大，而會有干渉紋的發生頻率高的問題。
在此所謂干渉紋，是在由透明薄膜及透明塗層等構成的多層體中，由於在各界面反射的光相互干渉而產生的虹彩狀反射。該干渉紋尤其在3波長發光型螢光燈的照射下會明顯呈現。3波長發光型螢光燈是一種特徵在於特定波長之發光強度高的螢光燈，且該特定波長係特徵為可清楚鮮明觀察物品的波長。
本發明之硬塗層組成物，特徵在於可形成具有高 折射率之硬塗層。因此，具有即便在PET薄膜或聚碳酸酯薄膜等透明基材薄膜上形成透明硬塗層也不會產生干渉紋的特徵。
另外，本發明之硬塗層組成物，亦可塗覆在上述PET薄膜或聚碳酸酯薄膜以外的基材薄膜。這種基材薄膜，係可舉例如三醋酸纖維素(TAC)薄膜、二乙炔纖維素薄膜、乙酸酯丁酸酯纖維素薄膜、聚醚碸薄膜、聚丙烯酸系樹脂薄膜、聚胺甲酸乙酯系樹脂薄膜、聚酯薄膜、聚碸薄膜、聚醚薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚醚酮薄膜、(甲基)丙烯腈薄膜等。
透明高分子基材的厚度，可因應用途而適當選擇，惟一般約使用20~300μm。
硬塗層係經由在透明高分子基材上塗佈上述硬塗層組成物而形成。硬塗層組成物的塗佈方法，可因應硬塗層組成物及塗覆步驟的狀況而適當選擇，例如可藉由下述方法塗佈：浸塗法、氣刀塗佈法、簾塗佈法、輥塗法、線棒塗佈法、凹版塗塗法或擠塑塗佈法(美國專利第2681294號說明書)等。
硬塗層的厚度並無特定限制，可考量種種因素而適當設計。例如，可依獲得0.01~20μm之硬塗層的方式來塗佈硬塗層組成物。
藉著將由塗料組成物之塗佈而獲得之塗膜加以硬化，而形成硬塗層。該硬化可藉由使用會發射所需波長之活性能量線的光源來照射而實施。作為照射之活性能量 線，例如可使用曝光量0.1~1.5J/cm2的光，並以0.3~1.5J/cm2的光為宜。且該照射光的波長雖無特別限定，但可使用例如具有360nm以下之波長的照射光等。這種光可使用高壓水銀燈、超高壓水銀燈等而獲得。
本發明之硬塗膜，特徵在於即便不使用高折射率劑，仍可達成硬塗層之折射率為1.565~1.620的高折射率。硬塗層之折射率，例如，可使用阿貝折射計並依JIS K7142來測定。
本發明之硬塗膜，宜為全光穿透率85%以上者，而90%以上尤佳。又，本發明之硬塗膜，宜為霧度2%以下者，而1%以下尤佳。
本發明中，由於即便不含ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2等高折射率劑仍可達高折射率化，故並不需要含有此等高折射率劑。從而可達成如上述之高全光穿透率及低霧度值。
全光穿透率(Tt(%))，係測量朝向硬塗膜之入射光強度(T0)及穿透硬塗膜之全穿透光強度(T1)、並依下式求得。
霧度係依JIS K7105，而以下式算出。
[數2]
H：霧度(濁度值)(%)
Td：擴散透光率(%)
Tt：全光穿透率(%)
全光穿透率及霧度值的測定，係可藉由例如霧度計(SUGA試驗機公司製)來測定。
使用本發明之硬塗層組成物所形成的硬塗層，除了具有高硬度及折射率外，具有高延伸性亦為其特徵。因此，本發明之硬塗膜，可適用於例如構成觸控面板等之具有透明導電層之薄膜的調製。
在配備觸控面板的智慧型手機等行動電話、平板電腦、行動資訊終端機器等之中，機器的小型、薄型化及輕量化係為強烈需求。因此，在構成觸控面板電極之部材中，也需要基材薄膜的薄型化。另一方面，由於使基材薄膜的厚度變薄，當在基材薄膜設置硬塗層時，會有薄膜反捲或翹曲產生的缺陷發生頻度變高而作業性、生產性降低的問題。此等缺陷，咸認關係到硬塗層與基材薄膜間物理性質(例如熱收縮率，熱膨張率等)之差異。由於本發明之硬塗膜具有高延伸性，故會有對各種基材翹曲較小的傾向。
本發明之硬塗膜中，可視用途而將透明導電層、及藉光學干渉來控制反射率的光學干渉層視需要以適當的順序組合應用。該等透明導電層、光學干渉層及硬塗層的積層順序，只要能視用途而達成所欲展現之功能即可，並 無特別限定。其等之積層順序在作為例如觸控面板用基板而使用的情況時，若以透明導電層為A、光學干渉層為B、作為本發明目標的硬塗層為C、透明高分子基材為D、本發明目標以外的硬塗層為E，則可作成例如A/B/C/D/E、A/B/C/D/C、A/B/B/C/D/E、A/B/B/C/D/C、A/C/D/E/B、A/C/D/C/B、A/C/D/E/B/B、A/C/D/C/B/B等。
先前所述之光學干渉層，係指藉由適當組合高折射率層與低折射率層來防止或控制反射光的層。光學干渉層係由至少一層高折射率層與至少一層低折射率層所構成。亦可使高折射率層與低折射率層的組合單位為二個以上。當光學干渉層為一層高折射率層與一層低折射率層所構成時，光學干渉層的膜厚宜為30nm~150nm，較佳為50nm~150nm。光學干渉層可藉由濕式法、乾式法之任何方法而形成。例如可適用濕式法如刮刀塗佈機、棒塗佈機、凹版式輥塗機、簾塗佈機、刮刀式塗佈機、旋塗機等、噴塗法、浸塗法等；乾式法如濺鍍法、真空蒸鍍法、離子電鍍法等PVD法或印刷法、CVD法等。
構成觸控面板等之透明導電性積層體，一般而言是具有透明導電層的薄膜。該透明導電層並無特別限制，惟含氧化銦之晶質層，更具體而言是ITO(銦-錫氧化物)及IZO(銦-鋅氧化物)等以銦為主成分的晶質層係適宜使用的。作為透明導電層的形成方法，有濺鍍法、真空蒸鍍法、離子電鍍法等PVD法或塗佈法、印刷法、CVD法，惟以PVD法或CVD法為宜。
經由實施為了設置透明導電層的該等加工處理，會對具硬塗層之基材薄膜帶來局部負擔，因此會有透明導電性積層體之透明導電層、硬塗層及基材薄膜之間熱收縮率、熱膨張率差異導致的薄膜皺紋產生。使用本發明之硬塗層組成物而設置的硬塗層，特徵在於具有高可見度及良好的硬度，並兼具高延伸性。由於所得之硬塗層具有高延伸性，故即便在因設置透明導電層之階段的加熱等而讓基材薄膜局部熱膨張的情況下，硬塗層仍會良好地順應，結果有薄膜皺紋等缺陷不會產生的優點。
硬塗層的延伸性方面，更具體可舉例為：在硬塗膜是以厚度20~300μm之PET薄膜作為塗覆形成高折射率抗結塊層組成物的透明高分子基材的情況下，將該硬塗膜於20℃且拉伸速度5mm/秒的條件下往MD方向拉伸15%時，硬塗層不產生裂痕狀態。在此，作為硬塗層的膜厚條件，可舉例如0.05~10μm。
一般而言，高分子基材薄膜的製造，係經由雙軸延伸法製作：將熔融狀態的樹脂基材，一邊捲取為卷狀，一邊朝縱向(捲方向：MD方向)與横向(TD方向：與MD方向垂直的方向)2方向拉伸，製造厚度均勻的薄膜。該製造方法中，在MD方向會有大量應力殘留。因此，所得薄膜，尤其在MD方向上，會容易發生熱膨張、熱收縮。好處是可藉由進行將所得之硬塗膜朝MD方向(高分子基材薄膜製造時的捲取方向)予以拉伸的試驗，來有效檢驗裂痕(薄膜破裂)等的發生。
又，當構成硬塗膜之透明高分子基材為聚碳酸酯薄膜時，可藉由檢驗硬塗膜之耐撓曲性，而評估所形成之硬塗層的延伸性能。聚碳酸酯為耐熱性及耐衝撃性等物理性能優良的材料，但另一方面，尤其在膜厚很薄的聚碳酸酯薄膜的情況下，會因彎折等應力而產生裂痕(破裂)。當使用這種膜厚很薄的聚碳酸酯薄膜作為基材薄膜時，若該基材薄膜上所形成的硬塗層延伸性高，則藉由設置硬塗層，就可能會防止基材薄膜裂痕的發生。由本發明之硬塗層組成物所形成的硬塗層，具有高延伸性。因此，對使用膜厚很薄的聚碳酸酯作為基材薄膜的硬塗膜而言，會有可提升對彎曲應力之韌性的優點。更具體而言，可舉例如：在硬塗膜是以厚度30~200μm之聚碳酸酯薄膜作為塗覆硬塗層組成物的透明高分子基材的情況下，即便將該硬塗膜以25℃及60度/秒之條件彎折180°時，硬塗層及基材何者均不產生裂痕狀態。在此，作為硬塗層的膜厚條件，可舉例如0.05~10μm。
使用本發明之硬塗層組成物所形成的硬塗層，特徵在於具有良好的硬度，並兼具高可見度及延伸性。由本發明之硬塗層組成物所形成的透明硬塗層，特徵在於具有高折射率。因此，本發明之透明硬塗層有即便設置在PET薄膜或聚碳酸酯薄膜等高折射率的基材薄膜上時仍不會產生干渉紋的優點。本發明之硬塗層可適用於特別是構成觸控面板電極之具透明導電層的薄膜中。
高折射率抗結塊層形成組成物
本發明之高折射率抗結塊層形成組成物，係包含第1成分及第2成分。上述第1成分為含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物。上述第2成分係包含：(A)具有2或在此以上的丙烯酸酯基的酚醛清漆型丙烯酸酯，及(B)於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構的含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯。其次，條件是相對於100質量份之第2成分，係包含60~85質量份酚醛清漆型丙烯酸酯(A)及15~30質量份(甲基)丙烯酸酯(B)。再者，條件是上述第1成分之SP值(SP1)及第2成分之SP值(SP2)的差值△SP在1~4的範圍內，且組成物中所含第1成分及第2成分的質量比為第1成分：第2成分=0.5：99.5~20：80。該高折射率抗結塊層形成組成物，特徵在於：經塗覆後，第1成分及第2成分產生層分離，而形成表面具微細凹凸的抗結塊層。
第1成分
第1成分係使用含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物。含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物，係可舉例如：對於(甲基)丙烯醯單體與其他具乙烯性不飽和雙鍵之單體共聚而成的樹脂、使(甲基)丙烯醯單體與其他具有乙烯性不飽和雙鍵及環氧基之單體發生反應而成的樹脂、(甲基)丙烯醯單體與其他具乙烯性不飽和雙鍵及異氰酸酯基之單體發生反應而成樹脂等，附加具有丙烯酸或環氧丙基丙烯酸酯等不飽和雙鍵並具有其他官能基之成分而作成者等。此等含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物可單獨使用1種，抑或混合2種以上使用。該含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物，重量平均分子量宜為 2,000~100,000，而5,000~50,000較佳。
第2成分
第2成分包含：(A)具有2或在此以上的丙烯酸酯基之酚醛清漆型丙烯酸酯，及(B)於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構的含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯。
以下，詳述關於各成分(A)及(B)。
(A)具有2或在此以上的丙烯酸酯基，酚醛清漆型丙烯酸酯
該成分(A)為與硬塗層塗料組成物之成分(A)相同、具有2或在此以上的丙烯酸酯基之酚醛清漆型丙烯酸酯，故略過不記。
上述酚醛清漆型丙烯酸酯(A)作為條件的是，相對於100質量份之第2成分，係以60~85質量份被含納。酚醛清漆型丙烯酸酯(A)的量不滿60質量份時，及酚醛清漆型丙烯酸酯(A)的量超過85質量份時，無論何者均有所得之抗結塊層硬度偏低的缺陷。
(B)於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構，含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯化合物
該成分(B)係與硬塗層塗料組成物之成分(B)相同，為於分子中具有1~2mol碳數2或3之環氧烷結構的含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯化合物，故略過不記。
本發明中，作為條件的是，在高折射率抗結塊層 形成組成物中，相對於所包含第2成分100質量份，成分(B)含量為15~30質量份。藉由讓上述(甲基)丙烯酸酯(B)以上述質量範圍包含於高折射率抗結塊層形成組成物中，會有所得之抗結塊層呈高硬度及高折射率的優點。當成分(B)的量低於15質量份時，及成分(B)的量超過30質量份時，無論何者均有所得之抗結塊層硬度偏低的缺陷。
其他(甲基)丙烯酸酯類
本發明之高折射率抗結塊層形成組成物中，第2成分除了上述成分(A)及(B)外，亦可包含其他(甲基)丙烯酸酯類。該(甲基)丙烯酸酯類係與硬塗層塗料組成物所記載之「其他(甲基)丙烯酸酯類」相同，故予省略。
當高折射率抗結塊層形成組成物所含第2成分包含其他(甲基)丙烯酸酯類時，其宜相對於高折射率抗結塊層形成組成物所含第2成分100質量份而為1~30質量份之範圍，並以1~25質量份之範圍較佳。
高折射率抗結塊層形成組成物
上述高折射率抗結塊層形成組成物，係藉由混合第1成分及第2成分、以及視需要的溶劑、光聚合起始劑、觸媒、光增感劑等添加劑而調製。本發明之高折射率抗結塊層形成組成物中，第1成分與第2成分的比率係第1成分：第2成分=0.5：99.5~20：80。該比率較佳係第1成分：第2成分=1：99~20：80，而1：99~15：85更佳。
上述高折射率抗結塊層形成組成物，係因第1成分及第2成分各別的SP值的差而導致相分離。經由該相分 離，會形成表面有微細凹凸的抗結塊層。本發明中，作為條件的是，第1成分之SP值與第2成分之SP值的差值(△SP)係在1~4的範圍內。咸認當第1成分之SP值與第2成分之SP值的差值為1以上時，彼此間樹脂相溶性低，故而在抗結塊層形成組成物塗佈後會導致第1成分與第2成分的相分離。上述△SP，係於2.0~3.5的範圍內更佳。
所謂SP值，係solubility parameter(溶解性參數)的縮寫，為一種溶解性的度量。SP值係數值越大表示極性越高，反之，數值越小表示極性越低。
例如，可經由下述方法來實測SP值[參考文獻：SUH, CLARKE, J.P.S.A-1, 5, 1671~1681(1967))。
測定溫度：20℃
試樣：於100ml燒杯中秤量0.5g樹脂，使用移液吸管加入良溶劑10ml，以電磁攪拌器溶解。
溶劑：良溶劑...二烷、丙酮等
貧溶劑...正己烷、離子交換水等
濁點測定：使用50ml滴定管滴定貧溶劑，產生混濁時即為滴定量。
樹脂的SP值δ係由下式得出。
[數3]δ=(Vml 1/2 δ ml+Vmh 1/2 δ mh)/(Vml 1/2+Vmh 1/2)
Vi：溶劑的莫耳體積(ml/mol)
φi：濁點時各溶劑的體積分率
δi：溶劑的SP值
ml：低SP貧溶劑混合系
mh：高SP貧溶劑混合系
本發明之高折射率抗結塊層形成組成物，除了上述第1成分及第2成分以外，亦可進一步包含各種溶劑、光聚合起始劑、添加劑等成分。
在第1成分及第2成分為上述組合的情況下，適宜的有機溶劑可舉例如，甲乙酮、丙酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇等醇系溶劑；苯甲醚、苯***、丙二醇單甲基醚、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚等醚系溶劑等等。此等溶劑可單獨使用1種，亦可混合2種以上之有機溶劑而使用。在使用溶劑時，相對於第1成分及第2成分的總量(其等合稱為「樹脂成分」)100質量份，可加入例如1~9900質量份，並宜為10~900質量份。
上述高折射率抗結塊層形成組成物，宜含有光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，可舉例如2-羥基-2甲基-1 苯基-丙-1-酮、1-羥基-環己基-苯基-酮、2-甲基-1-[4-(甲基硫)苯基]-2-嗎啉基丙-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮等。光聚合起始劑的適宜用量，係相對於100質量份之上述樹脂成分而為0.01~20質量份，較佳係1~10質量份。
上述高折射率抗結塊層形成組成物，視需要亦可包含抗靜電劑、可塑劑、界面活性劑、抗氧化劑及紫外線吸收劑等常用的添加劑。使用該等添加劑時，宜相對於100質量份之樹脂成分為0.01~20質量份，較佳係1~10質量份。
高折射率抗結塊層形成組成物，特徵在於：藉由使用如上述之第1成分及第2成分，即便不含樹脂粒子等，亦可形成具有凹凸的樹脂層。因此，上述抗結塊層形成組成物，宜不含樹脂粒子。惟上述抗結塊層形成組成物，視需要亦可含至少一種以上的無機粒子或有機粒子、或者其等之複合物。該等粒子，並不為了特別使表面形成凹凸之目的而添加，而是為了控制相分離或析出、以形成更均勻微細凹凸而添加。該等粒子的粒徑，係平均粒徑為0.5μm以下，且宜為0.01~0.3μm。若超過0.5μm，則透明性會有所降低。
作為無機粒子的例子，可舉例為選自於由下列所構成之群組中至少1種類者：氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、沸石、雲母、合成雲母、氧化鈣、氧化鋯、氧化鋅、氟化鎂、膨潤石、合成膨潤石、蛭石、ITO(氧化銦/氧化錫)、ATO(氧化銻/氧化錫)、氧化錫、氧化銦及氧化銻。
作為有機粒子的例子，可舉例為選自於由下列所構成之群組中至少1種類者：壓克力、烯烴、聚醚、聚酯、胺甲酸乙酯、聚酯、聚矽氧、聚矽烷、聚醯亞胺及氟粒子。
藉由塗覆上述高折射率抗結塊層形成組成物並接著使其硬化，可形成表面具有微細凹凸的抗結塊層。抗結塊層形成組成物的塗覆方法，係可舉例如：浸塗法、氣刀塗佈法、簾塗佈法、輥塗法、線棒塗佈法、凹版塗佈法或擠製塗佈法等。抗結塊層的厚度，可舉例如0.01~20μm之厚度的態樣。
塗覆了高折射率抗結塊層形成組成物後，藉由照光可使其相分離及硬化。照射的光可使用例如曝光量0.1~3.5J/cm2的光，並以0.5~1.5J/cm2的光為宜。又，該照射光的波長雖無特別限定，但可使用例如具360nm以下波長的照射光等。這種光可使用高壓水銀燈、超高壓水銀燈等而獲得。經由如此照光，會讓相分離及硬化發生。
抗結塊薄膜
本發明進一步亦提供一種使用上述高折射率抗結塊層形成組成物而形成的抗結塊薄膜。該抗結塊薄膜具有透明高分子基材及抗結塊層，且該抗結塊層係藉由將上述高折射率抗結塊層形成組成物塗覆於基材而形成者。從而本發明之抗結塊層，除了具有優良的抗結塊性能外，具有1.565~1.620這樣的高折射率亦為其特徵。
本發明之抗結塊薄膜中，宜使用PET薄膜或聚碳酸酯薄膜作為透明高分子基材。這是因為PET薄膜及聚碳酸 酯薄膜由薄膜強度及高透明性且低廉等觀點來看，適合用於作為構成觸控面板的具透明導電層之薄膜的基材薄膜之故。另一方面，此等薄膜，通常具有1.5以上之高折射率。由於該等薄膜之折射率，高於一般用來構成抗結塊薄膜之樹脂成分的折射率，因此與抗結塊層的折射率差會較大，而會有干渉紋的發生頻率高的問題。
在此所謂干渉紋，是在由透明薄膜及透明塗層等構成的多層體中，由於在各界面反射的光相互干渉而產生的虹彩狀反射。該干渉紋尤其在3波長發光型螢光燈的照射下會明顯呈現。3波長發光型螢光燈是一種特徵在於特定波長之發光強度高的螢光燈，且該特定波長係特徵為可清楚鮮明觀察物品的波長。
本發明之高折射率抗結塊層形成組成物，特徵在於可形成具有高折射率之抗結塊層。因此，具有即便在PET薄膜或聚碳酸酯薄膜等透明基材薄膜上形成抗結塊層也不會產生干渉紋的特徵。
另外，本發明之形成高折射率抗結塊層，亦可塗覆在上述PET薄膜或聚碳酸酯薄膜以外的基材薄膜。這種基材薄膜，係可舉例如三醋酸纖維素(TAC)薄膜、二乙炔纖維素薄膜、乙酸酯丁酸酯纖維素薄膜、聚醚碸薄膜、聚丙烯酸系樹脂薄膜、聚胺甲酸乙酯系樹脂薄膜、聚酯薄膜、聚碸薄膜、聚醚薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚醚酮薄膜、(甲基)丙烯腈薄膜等。
透明高分子基材的厚度，可因應用途而適當選 擇，惟一般約使用20~300μm。
由本發明之高折射率抗結塊層形成組成物所形成的抗結塊層，特徵在於具有微細凹凸。該抗結塊層表面粗度曲線之算術平均粗度(Ra)，宜低於0.1μm，並以0.001~0.09μm較佳、0.002~0.08μm尤佳。在此粗度曲線之算術平均粗度(Ra)，係JIS B 0601-2001中規範的參數。當抗結塊層表面粗度曲線之算術平均粗度(Ra)為0.1μm以上，恐有產生反光點、塗膜白化等問題發生的可能。Ra值若低於前述特定之適當範圍，則會發生結塊現象故而不宜。另外JIS B 0601-2001為日本工業標準規範，係依據ISO 4288之規範。
粗度曲線之算術平均粗度(Ra)是指，從粗度曲線沿其平均線方向僅取樣標準長度，在以該取樣區域的平均線方向為X軸、縱倍率方向為Y軸、並以y=f(x)表示粗度曲線時，將下式求得之值以微米(μm)表示者。
由本發明之高折射率抗結塊層形成組成物所形成的抗結塊層，Rz宜為0.5μm以下。在此Rz係指粗度曲線的十點平均粗度，是JIS B0601-2001中規範的參數。Rz為0.3μm以下更佳，0.2μm以下尤佳。下限以0.01μm為宜。
由本發明之高折射率抗結塊層形成組成物所形 成的抗結塊層，其表面的粗度曲線之算術平均粗度(Ra)及十點平均粗度(Rz)，可使用例如小坂研究所公司製的高精度微細形狀測定器，或基恩士(KEYENCE)(股)公司製的彩色3D雷射顯微鏡等，依據JIS B 0601-2001測定。
由本發明之高折射率抗結塊層形成組成物所形成的抗結塊層，由於具有不規則的微細緻密凹凸形狀，故能發揮優良的抗結塊性。本發明的抗結塊層，又具有「不致降低例如由液晶模組等光源所顯示影像的鮮明性」的優點。尤其，近年來高精細液晶顯示裝置中，從液晶發出之光線距變得更細。因此，為了維持影像鮮明性，必須要有更微細的緻密凹凸形狀。本發明中的抗結塊層即有以下優點：具有微細的緻密凹凸形狀，但不會造成對比度降低、輝度降低等影像鮮明性的減損。
本發明之抗結塊層，特徵在於即便不使用高折射率劑，仍可達成硬塗層之折射率為1.565~1.620的高折射率。抗結塊層之折射率，例如，可使用阿貝折射計並依JIS K7142來測定。
本發明之抗結塊薄膜，宜為全光穿透率85%以上者，而90%以上尤佳。又，本發明之抗結塊薄膜，宜為霧度2%以下者，而1%以下尤佳。
本發明中，由於即便不含ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2等高折射率劑仍可達高折射率化，故並不需要含有此等高折射率劑。從而可達成如上述之高全光穿透率及低霧度值。詳言之，上述高折射率抗結塊層形成組成物，ZnO、 TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2及銦-錫氧化物的總含量係佔組成物中0.0001質量%以下為宜。蓋因當金屬氧化物等之高折射率劑存在於抗結塊層中時，與僅有樹脂成分之層相較，通常其延伸性及耐撓曲性會較差。
全光穿透率(Tt(%))，係測量朝向抗結塊薄膜之入射光強度(T0)、及穿透抗結塊薄膜之全穿透光強度(T1)，並依下式求得。
霧度係依JIS K7105，而以下式算出。
H：霧度(濁度值)(%)
Td：擴散透光率(%)
Tt：全光穿透率(%)
全光穿透率及霧度值的測定，係可藉由例如霧度計(SUGA試驗機公司製)來測定。
使用本發明之高折射率抗結塊層形成組成物所形成的硬塗層，除了具有高硬度及折射率外，具有高延伸性亦為其特徵。因此，本發明之抗結塊薄膜，可適用於例如構成觸控面板等之具有透明導電層之薄膜的調製。
在配備觸控面板的智慧型手機等行動電話、平板 電腦、行動資訊終端機器等之中，機器的小型、薄型化及輕量化係為強烈需求。因此，在構成觸控面板電極之部材中，也需要基材薄膜的薄型化。另一方面，由於使基材薄膜的厚度變薄，當在基材薄膜設置抗結塊層時，會有薄膜反捲或翹曲產生的缺陷發生頻度變高而作業性、生產性降低的問題。此等缺陷，咸認關係到抗結塊層與基材薄膜間物理性質(例如熱收縮率，熱膨張率等)之差異。由於本發明之抗結塊薄膜具有高延伸性，故會有對各種基材翹曲較小的傾向。
本發明之抗結塊薄膜中，可視用途而將透明導電層、及藉光學干渉來控制反射率的光學干渉層視需要以適當的順序組合應用。該等透明導電層、光學干渉層及抗結塊層的積層順序，只要能視用途而達成所欲展現之功能即可，並無特別限定。其等之積層順序在作為例如觸控面板用基板而使用的情況時，若以透明導電層為A、光學干渉層為B、作為本發明目標的抗結塊層為C、透明高分子基材為D、本發明目標以外的抗結塊層為E，則可作成例如A/B/C/D/E、A/B/C/D/C、A/B/B/C/D/E、A/B/B/C/D/C、A/C/D/E/B、A/C/D/C/B、A/C/D/E/B/B、A/C/D/C/B/B等。
先前所述之光學干渉層，係指藉由適當組合高折射率層與低折射率層來防止或控制反射光的層。光學干渉層係由至少一層高折射率層與至少一層低折射率層所構成。亦可使高折射率層與低折射率層的組合單位為二個以上。當光學干渉層為一層高折射率層與一層低折射率層所 構成時，光學干渉層的膜厚宜為30nm~150nm，較佳為50nm~150nm。光學干渉層可藉由濕式法、乾式法之任何方法而形成。例如可適用濕式法如刮刀塗佈機、棒塗佈機、凹版式輥塗機、簾塗佈機、刮刀式塗佈機、旋塗機等、噴塗法、浸塗法等；乾式法如濺鍍法、真空蒸鍍法、離子電鍍法等PVD法或印刷法、CVD法等。
構成觸控面板等之透明導電性積層體，一般而言是具有透明導電層的薄膜。該透明導電層並無特別限制，惟含氧化銦之晶質層，更具體而言是ITO(銦-錫氧化物)及IZO(銦-鋅氧化物)等以銦為主成分的晶質層係適宜使用的。作為透明導電層的形成方法，有濺鍍法、真空蒸鍍法、離子電鍍法等PVD法或塗佈法、印刷法、CVD法，惟以PVD法或CVD法為宜。
經由實施為了設置透明導電層的該等加工處理，會對具抗結塊層之基材薄膜帶來局部負擔，因此會有透明導電性積層體之透明導電層、抗結塊層及基材薄膜之間熱收縮率、熱膨張率差異導致的薄膜皺紋產生。使用本發明之高折射率抗結塊層形成組成物而設置的抗結塊層，特徵在於具有高可見度及良好的硬度，並兼具高延伸性。由於所得之抗結塊層具有高延伸性，故即便在因設置透明導電層之階段的加熱等而讓基材薄膜局部熱膨張的情況下，抗結塊層仍會良好地順應，結果有薄膜皺紋等缺陷不會產生的優點。
抗結塊層的延伸性方面，更具體可舉例為：在抗 結塊薄膜是以厚度20~300μm之PET薄膜作為塗覆高折射率抗結塊層形成組成物的透明高分子基材的情況下，將該抗結塊薄膜於20℃且拉伸速度5mm/秒的條件下往MD方向拉伸15%時，抗結塊層不產生裂痕的狀態。在此，作為抗結塊層的膜厚條件，可舉例如0.05~10μm。
一般而言，高分子基材薄膜的製造，係經由雙軸延伸法製作：將熔融狀態的樹脂基材，一邊捲取為卷狀，一邊朝縱向(捲方向：MD方向)與横向(TD方向：與MD方向垂直的方向)2方向拉伸，製造厚度均勻的薄膜。該製造方法中，在MD方向會有大量應力殘留。因此，所得薄膜，尤其在MD方向上，會容易發生熱膨張、熱收縮。好處是可藉由進行將所得之抗結塊薄膜朝MD方向(高分子基材薄膜製造時的捲取方向)予以拉伸的試驗，來有效檢驗裂痕(薄膜破裂)等的發生。
又，當構成抗結塊薄膜之透明高分子基材為聚碳酸酯薄膜時，可藉由檢驗抗結塊薄膜之耐撓曲性，而評估所形成之抗結塊層的延伸性能。聚碳酸酯為耐熱性及耐衝撃性等物理性能優良的材料，但另一方面，尤其在膜厚很薄的聚碳酸酯薄膜的情況下，會因彎折等應力而產生裂痕(破裂)。當使用這種膜厚很薄的聚碳酸酯薄膜作為基材薄膜時，若該基材薄膜上所形成的抗結塊層延伸性高，則藉由設置抗結塊層，就可能會防止基材薄膜裂痕的發生。由本發明之抗結塊層組成物所形成的抗結塊層，具有高延伸性。因此，對使用膜厚很薄的聚碳酸酯作為基材薄膜的抗 結塊薄膜而言，會有可提升對彎曲應力之韌性的優點。更具體而言，可舉例如：在抗結塊薄膜是以厚度30~200μm之聚碳酸酯薄膜作為塗覆抗結塊層組成物的透明高分子基材的情況下，即便將該抗結塊薄膜以25℃及60度/秒之條件彎折180°時，抗結塊層及基材何者均不產生裂痕狀態。在此，作為抗結塊層的膜厚條件，可舉例如0.05~10μm。
使用本發明之高折射率抗結塊層形成組成物所形成的抗結塊層，特徵在於具有良好的抗結塊性能及硬度，並兼具高可見度及延伸性。由本發明之高折射率抗結塊層形成組成物所形成的抗結塊層，特徵在於具有高折射率。因此，本發明之抗結塊層有即便設置在PET薄膜或聚碳酸酯薄膜等高折射率的基材薄膜上時仍不會產生干渉紋的優點。本發明之抗結塊層可適用於特別是構成觸控面板電極之具透明導電層的薄膜中。
實施例
由以下的實施例更具體說明本發明，但本發明不受其限制。實施例中，「份」及「%」若無特別指明則以質量為基準。
製造例1 酚醛清漆型丙烯酸酯(1)之製造
在配有攪拌裝置、溫度計、滴定漏斗及回流裝置的反應裝置中，混合酚醛清漆樹脂(重量平均分子量700~900，環氧基當量150~200)150g及環氧氯丙烷550g，在100℃、100~200mg的減壓條件下將48.5%的氫氧化鈉水溶液110g費時2小時滴入。反應結束後，將溫度冷卻至室溫，中和過 剩的氫氧化鈉水溶液，減壓加熱將過剩的環氧氯丙烷去除後，將生成物溶解於甲基異丁基酮中，以水洗過濾去除副生成鹽，獲得酚醛清漆型之環氧樹脂溶液。
相對於所得酚醛清漆型之環氧樹脂的固成分100重量份，加入對甲氧苯酚1000ppm、三苯基膦2000ppm，在100℃下滴入丙烯酸，使其反應至酸價為1mgKOH/g以下，獲得酚醛清漆型環氧基丙烯酸酯(1)。
所得之酚醛清漆型環氧基丙烯酸酯(1)，其重量平均分子量為950，羥基價為140mgKOH/g，折射率為1.572。又，SP值為12.7。
製造例2 酚醛清漆型丙烯酸酯(2)之製造
在配有攪拌裝置、溫度計、滴定漏斗及回流裝置的反應裝置中，混合酚醛清漆樹脂(重量平均分子量900~1100，環氧基當量150~200)150g及環氧氯丙烷550g，在100℃、100~200mg的減壓條件下，將48.5%氫氧化鈉水溶液110g費時2小時滴入。反應結束後，將溫度冷卻至室溫，中和過剩的氫氧化鈉水溶液，減壓加熱將過剩的環氧氯丙烷去除後，將生成物溶解於甲基異丁基酮中，以水洗過濾去除副生成鹽，獲得酚醛清漆型之環氧樹脂溶液。
相對於所得酚醛清漆型之環氧樹脂的固成分100重量份，加入對甲氧苯酚1000ppm，三苯基膦2000ppm，在100℃下滴入丙烯酸，使其反應至酸價為1mgKOH/g以下，獲得酚醛清漆型環氧基丙烯酸酯(2)。
所得之酚醛清漆型環氧基丙烯酸酯(2)，其重量平均分 子量為1200，羥基價為137mgKOH/g，折射率為1.571。又，SP值為12.6。
實施例E1
使用製造例1所得之酚醛清漆型環氧基丙烯酸酯(1)作為成分(A)，使用乙氧基化鄰苯基酚丙烯酸酯(分子中具有1mol乙氧基結構的丙烯酸酯，25℃時黏度130mPa.s，折射率1.577)作為成分(B)，調製硬塗層組成物。將表1所示原料，以表1所示固成分質量依次混合、攪拌，獲得硬塗層組成物。
另外，成分(B)之乙氧基化鄰苯基酚丙烯酸酯之黏度測定，係採集成分(B)之乙氧基化鄰苯基酚丙烯酸酯100ml於玻璃容器中，作為試驗試樣，溫度調整至20℃後，使用B型黏度計(TVB-22L東機產業公司製)及M1Rotor，在60rpm的回轉速度下測定。
又，成分(B)之折射率，係依據JIS K0062之方法，使用阿貝折射率計測定。
將所得之硬塗層組成物，滴在帝人杜邦製188μm光學用PET薄膜(KEFW)上，使用棒塗佈機# 12塗佈。
塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有PET薄膜及膜厚6.5μm之硬塗層的硬塗膜。
又，將所得之硬塗層組成物，滴在帝人化成製100μm光學用PC薄膜(PURE-ACE)上，使用棒塗佈機# 9塗佈。
塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有聚碳酸酯薄膜及膜厚5.0μm之硬塗層的硬塗膜。
實施例E2~E5
將成分(A)的種類及量變更為如表1所記載者、並使用新戊四醇三丙烯酸酯作為其他(甲基)丙烯酸酯類，除此之外，以和實施例E1相同方式調製硬塗層組成物。使用所得之硬塗層組成物，以和實施例E1相同方式獲得2種硬塗膜。
比較例E1~E5、E9
依表2所示配方，以和實施例相同方式調製硬塗層組成物。使用所得之硬塗層組成物，以和實施例E1相同方式獲得2種硬塗膜。
比較例E6、E10
依表2所示配方，以和實施例相同方式調製硬塗層組成物。
將所得之硬塗層組成物，滴在帝人杜邦製188μm光學用PET薄膜(KEFW)上，使用棒塗佈機# 13塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有PET薄膜及膜厚6.5μm之硬塗層的硬塗膜。
又，將所得之硬塗層組成物，滴在帝人化成製100μm光學用PC薄膜(PURE-ACE)上，使用棒塗佈機# 10塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有聚碳酸酯薄膜及膜厚5.0μm之 硬塗層的硬塗膜。
比較例E7、E11
依表2所示配方，以和實施例相同方式調製硬塗層組成物。
將所得之硬塗層組成物，滴在帝人杜邦製188μm光學用PET薄膜(KEFW)上，使用棒塗佈機# 16塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有PET薄膜及膜厚6.5μm之硬塗層的硬塗膜。
又，將所得之硬塗層組成物，滴在帝人化成製100μm光學用PC薄膜(PURE-ACE)上，使用棒塗佈機# 12塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有聚碳酸酯薄膜及膜厚5.0μm之硬塗層的硬塗膜。
比較例E8、E12、E13
依表2所示配方，以和實施例相同方式調製硬塗層組成物。
將所得之硬塗層組成物，滴在帝人杜邦製188μm光學用PET薄膜(KEFW)上，使用棒塗佈機# 20塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線。在使用比較例E12之硬塗層組成物的情況下，獲得具有PET薄膜及膜厚6.5μm之硬塗層的硬塗膜。另一方面，在使用比較例E8及E13之硬塗層組成物的情況下，塗料組成物未能硬化，無法設置硬塗層。
又，將所得之硬塗層組成物，滴在帝人化成製100μm光學用PC薄膜(PURE-ACE)上，使用棒塗佈機# 14塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線。在使用比較例E12之硬塗層組成物的情況下，獲得具有聚碳酸酯薄膜及膜厚5.0μm之硬塗層的硬塗膜。另一方面，在使用比較例E8及E13之硬塗層組成物的情況下，塗料組成物未能硬化，無法設置硬塗層。
實施例E1-E6
使用實施例E1所得之硬塗膜，進一步在該硬化樹脂層上，以濺鍍法形成ITO層(使用氧化銦及氧化錫係重量比95：5之組成、充填密度98%的氧化銦-氧化錫靶材)，製作透明導電性積層體成為可動電極基板。所形成之ITO層的膜厚約30nm，製膜後的表面電阻值約150Ω/□。所得透明導電性積層體未觀察到干渉紋。
對上述實施例E1~E5及比較例E1~E13所得之硬塗膜進行下列評價。評價結果顯示於表1及2。
折射率的測定
使用阿貝折射計(ATAGO公司製2T 測定範圍 nD=1.3~1.7)依下述方法測定。
將中間液(單溴萘等)以滴管在主菱鏡上滴下1滴，放置測定試樣。以滴管滴下1滴中間液於試樣上，關上副菱鏡。在此，係以中間液層不混入空氣為條件。
使燈光入射至副菱鏡，一邊由目鏡觀測一邊旋轉測定旋鈕，使折射視野的明暗區會合於交點，將分割視野的值 讀至小數點以下4位，測定折射率。
硬度的評價
使用鉛筆劃線塗膜硬度試驗機(東洋精機製作所製 型式P 加壓荷重100g~1kg)作測定。
使用三菱UNI製 鉛筆劃線值試驗用鉛筆(經日本塗料檢査協會檢驗完成者)，以研磨紙(3M P-1000)將其調整為筆芯尖端為平滑圓形剖面。將試樣放置於測定台後，固定鉛筆以使劃線角度為45°，在荷重750g的條件下進行試驗。每次試驗均使筆芯呈平滑，移動試驗位置重覆進行5次試驗。
依據下述評價基準，目視確認塗膜表面是否出現凹痕。
例如在使用2H鉛筆的試驗時，當1條凹痕也沒有出現時，評判為2H。
當出現1~2條凹痕時，將鉛筆硬度下降1級進行評價，下降1級而1條凹痕也沒有出現時，判斷硬度評價為中間區域(H~2H等)。
當出現3條以上凹痕時，評判為H以下，同樣地實施下降1級的評價。
另外，實施例及比較例之硬塗膜的調製中，所用PET薄膜的硬度為HB~F，聚碳酸酯(PC)薄膜的硬度為5B~4B。
因此，在具有PET薄膜及硬塗層的硬塗膜中，若硬度為H以上，則硬度提高了2級以上，可判斷硬塗層具有充分的硬度。
又，在具有聚碳酸酯薄膜及硬塗層的硬塗膜，若硬度 為3B以上，則硬度提高了2級以上，可判斷硬塗層具有充分的硬度。
延伸性的評價
使用萬能試驗機(島津製作所製 AG-1S)進行測定。
將試驗試樣切取為10mm×150mm，將試樣以縱向為拉伸方向夾於測定機器的上下夾頭。在室溫(20℃)條件下，求出將試料樣本以2cm/sec的速度拉伸時不出現破斷、裂痕的延伸率。
耐撓曲試驗方法
將試料調整為50mm×50mm，進行將試料彎折180°時的評價。依據下述評價基準，以目視進行。
○：塗膜、基材均未出現裂痕。
△：可確認僅塗膜出現裂痕。
×：可確認塗膜、基材均出現裂痕。
干渉紋評價方法
干渉紋(外觀評價)
將試驗片於100×100mm的黑色壓克力板上使用光學薄膜用黏著劑貼合以使塗佈面為表面。在從座台式3波長螢光燈(TWINBARD製 SLH-399型)之螢光管垂直向下10cm的距離處設置試樣，進行目視觀察，對於評價結果為○以上的試樣，進一步實施在太陽光下的目視觀察，依據下述評價基準作評判。
◎：在3波長螢光燈下或太陽光下均未見干渉紋(干渉模樣)。
○：在3波長螢光燈下未見干涉紋(干渉模樣)，但在太陽光下略微可見。
△：略微可見干渉紋(干渉模樣)。
×：明顯可見干渉紋(干渉模樣)。
干渉紋(穿透光譜振幅)
以紫外可見分光光度計(島津製作所製UV-2450)測定試驗片的光線穿透率，對於500~750nm範圍內的穿透率振幅，依據下述評價基準作評判。
○：穿透率最大值與最小值的差低於0.5%
△：穿透率最大值與最小值的差為0.5%以上、低於1.0%
×：穿透率最大值與最小值的差為1.0%以上
表1
表2
上述表1、表2中， I-184表示：1-羥基環己基苯基酮，光聚合起始劑
雙酚A EO改質二丙烯酸酯表示：東亞合成公司製，ARONIX M-211B，雙酚A EO(2mol)改質二丙烯酸酯
高折射率填料1表示：氧化鋯 ZRMIBK30WT%(氧化鋯，CIK奈米科技公司製)
高折射率填料2表示：氧化鈦 TiMIBK15WT%(氧化鈦，CIK奈米科技公司製)
雙官能胺甲酸乙酯丙烯酸酯表示：NV100：CN-9893(Sartomer公司製)。
具有使用實施例之硬塗層組成物所形成之硬塗層的硬塗膜，無論者何均未出現干渉紋，且具有高折射率及良好的硬度。而且所得之硬塗膜，亦有高延伸性及耐撓曲性。
比較例E1及E2，是成分(B)的量在本發明範圍外的例子。此等情況下，無論何者，都有所得薄膜硬度偏低的缺陷。
比較例E3，是使用具雙酚A骨架之二丙烯酸酯替代成分(A的例子。在該比較例E3中，所得薄膜之折射率變低，並可確認出現干渉紋。又，有硬度變低的缺陷。
比較例E4，是使用丙烯醯嗎福啉替代成分(B)的例子。該比較例E4亦為所得薄膜之折射率變低，並可確認出現干渉紋。又，延伸性亦差。
比較例E5~E8，是使用作為高折射率劑的氧化氧化鋯或 氧化鈦來替代成分(A)及(B)的例子。該等比較例中，硬度雖為良好，但延伸性大為降低。另外比較例E8之組成物無法硬化。
比較例E9~E13，是以提供硬塗層延伸性為目的而使用2官能胺甲酸乙酯丙烯酸酯的例子。該等比較例中，雖也有延伸性有所提升的例子，但硬度及折射率的平衡變差。另外比較例E13的組成物無法硬化。
比較例E5~E13的硬塗層組成物中，含有高折射率填料。藉由含有高折射率填料，所得硬塗層的折射率整體確實變高了。但另一方面，該等比較例所得之硬塗層，無論何者均辨識出干渉紋。該等比較例中辨識出干渉紋的理由，咸認是由於一方面形成硬塗層之樹脂成分的折射率低、另一方面該樹脂成分中混入了折射率高之高折射率填料的狀態。因此，認為是即便硬塗層的折射率整體變高，但低折射率之樹脂成分帶來不良影響，故仍無法獲得優良的干渉紋抑制效果。
又，從該等實施例及比較例的結果，亦可知由本發明所獲得之硬塗層係可達到優良的干渉紋抑制效果。
圖1係表示使用實施例E1之硬塗層組成物所得硬塗層在波長400~800nm範圍之穿透光譜(穿透率(%))的圖式。而圖2係表示使用比較例E10之硬塗層組成物所得硬塗層在波長400~800nm範圍之穿透光譜(穿透率(%))的圖式。如該圖1及2的穿透光譜所示，可知使用本發明之硬塗層組成物所得之硬塗層，穿透光譜中振幅非常小，可見光波長 範圍中光學性波動很小。另一方面，可知使用比較例E10之硬塗層組成物所得硬塗層，穿透光譜中振幅很大，可見光波長範圍中光學性波動大。從該等穿透光譜結果，亦可確實理解本發明的技術功效。
實施例F1
使用製造例1所得之酚醛清漆型環氧基丙烯酸酯(1)作為成分(A)，使用乙氧基化鄰苯基酚丙烯酸酯(分子中具有1mol乙氧基結構的丙烯酸酯，25℃時黏度130mPa.s，折射率1.577)作為成分(B)，使用OGSOL EA-0200(下式(II)-1中各R為氫原子且m+n=2的含茀骨架之丙烯酸酯，大阪燃氣化學公司製)作為成分(C)，調製硬塗層組成物。
將表1所示之原料，以表1所示之固成分質量依序混合、攪拌，獲得硬塗層組成物。
另外，成分(B)之乙氧基化鄰苯基酚丙烯酸酯之黏度測定，係採集成分(B)之乙氧基化鄰苯基酚丙烯酸酯100ml於玻璃容器中，作為試驗試樣，溫度調整至20℃後，使用B型黏度計(TVB-22L 東機產業公司製)及M1Rotor，在60rpm 的回轉速度下測定。
又，成分(B)之折射率，係依據JIS K0062之方法，使用阿貝折射率計測定。
將所得之硬塗層組成物，滴在帝人杜邦製188μm光學用PET薄膜(KEFW)上，使用棒塗佈機# 12塗佈。
塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有PET薄膜及膜厚6.5μm之硬塗層的硬塗膜。
又，將所得之硬塗層組成物，滴在帝人化成製100μm光學用PC薄膜(PURE-ACE)上，使用棒塗佈機# 9塗佈。
塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有聚碳酸酯薄膜及膜厚5.0μm之硬塗層的硬塗膜。
實施例F2~F4
將成分(A)之種類及量變更為如表3所記載者、並使用新戊四醇三丙烯酸酯作為其他(甲基)丙烯酸酯類，除此之外，以和實施例1相同方式調製硬塗層組成物。使用所得之硬塗層組成物，以和實施例1相同方式獲得2種硬塗膜。
另外，實施例F4中，係使用OGSOL EA-F5503(大阪燃氣化學公司製)作為成分(C)。
比較例F1及F2
依表4所示配方，以和實施例相同方式調製硬塗層組成物。使用所得之硬塗層組成物，以和實施例F1相同方式獲 得2種硬塗膜。
實施例F5
使用實施例F1所得之硬塗膜，進一步在該硬化樹脂層上，以濺鍍法形成ITO層(使用氧化銦及氧化錫係重量比95：5之組成、充填密度98%的氧化銦-氧化錫靶材)，製作透明導電性積層體成為可動電極基板。所形成之ITO層的膜厚約30nm，製膜後的表面電阻值約150Ω/□。所得透明導電性積層體未觀察到干渉紋。
對上述實施例F1~F4及比較例F1及F2所得硬塗膜，以和實施例E6相同方式進行評價。評價結果顯示於表3及表4。
上述表3、表4中，I-184表示：1-羥基環己基苯基酮，光聚合起始劑。
具有使用實施例F1~F4之硬塗層組成物所形成之硬塗層的硬塗膜，無論者何均未出現干渉紋，且具有高折射率及良好的硬度。而且所得之硬塗膜，亦有高延伸性及耐撓曲性。
比較例F1，是成分(A)及成分(C)的量低於本發明之範圍的例子。該比較例F1中，薄膜的延伸性及耐撓曲性不佳。
比較例F2，是成分(A)的量低於本發明之範圍，而成分(C)的量超過本發明之範圍的例子。該比較例F2中，有所得薄膜硬度變低的缺陷。
從該等實施例及比較例的結果，亦可知由本發明所得之硬塗層係可達成優良干渉紋抑制效果。
圖3係表示使用實施例F1之硬塗層組成物所得硬塗層在波長400~800nm範圍之穿透光譜(穿透率(%))的圖式。如圖3的穿透光譜所示，可知使用本發明之硬塗層組成物所得之硬塗層，穿透光譜中振幅非常小，可見光波長範圍中光學性波動很小。從該穿透光譜結果，亦可確實理解本發明的技術功效。
製造例3 含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物(I)的製造
將由甲基丙烯酸異莰酯187.2g、甲基丙烯酸甲酯2.8g、及甲基丙烯酸10.0g所構成的混合物加以混合。於配備有攪拌葉、氮導入管、冷卻管及滴定漏斗的1000ml反應容器內 且在氮氣環境下加溫至110℃的丙二醇單甲基醚360g中，將該混合物同時與含有2.0g三級丁基過氧基-2-乙基己酸酯的丙二醇單甲基醚80.0g溶液費時3小時等速滴定，之後在110℃下反應1小時。
其後，滴入含有0.2g三級丁基過氧基-2-乙基己酸酯的丙二醇單甲基醚17g溶液，在110℃下反應30分鐘。
加入包含1.5g溴化四丁基銨與0.1g氫醌之6g的丙二醇單甲基醚溶液至該反應溶液中，一邊打入空氣氣泡，一邊再歷時1小時滴入4-羥丁基丙烯酸酯環氧丙基醚24.4g與丙二醇單甲基醚5.0g的溶液，之後使其再反應5小時。
獲得數量平均分子量5500、重量平均分子量(Mw)18000的含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物。該樹脂係SP值：9.7、Tg：92℃。
實施例G1
使用製造例3所得之含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物(I)作為第1成分。使用製造例1所得之酚醛清漆型環氧基丙烯酸酯(1)作為第2成分的成分(A)，使用乙氧基化鄰苯基酚丙烯酸酯(分子中具有1mol乙氧基結構的丙烯酸酯，25℃時黏度130mPa.s，折射率1.577，SP值10.6)作為成分(B)，調製抗結塊層形成組成物。將表1所示的原料，以表5所示之固成分質量依序混合、攪拌，獲得抗結塊層形成組成物。
另外，成分(B)之乙氧基化鄰苯基酚丙烯酸酯之黏度測定，係採集成分(B)之乙氧基化鄰苯基酚丙烯酸酯100ml於玻璃容器中，作為試驗試樣，溫度調整至20℃後， 使用B型黏度計(TVB-22L 東機產業公司製)及M1Rotor，在60rpm的回轉速度下測定。
又，成分(B)之折射率，係依據JIS K0062之方法，使用阿貝折射率計測定。
另外，第2成分的SP值，係將第2成分所含成分(A)、成分(B)及其他成分等各成分的SP值，以含量為基準，依重量平均而求得。
將所得之抗結塊層形成組成物，滴在帝人杜邦製188μm光學用PET薄膜(KEFW)上，使用棒塗佈機# 12塗佈。
塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有PET薄膜及膜厚6.5μm之抗結塊層的抗結塊薄膜。
又，將所得之抗結塊層形成組成物，滴在帝人化成製100μm光學用PC薄膜(PURE-ACE)上，使用棒塗佈機# 9塗佈。
塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有聚碳酸酯薄膜及膜厚5.0μm之抗結塊層的抗結塊薄膜。
實施例G2~G5
將成分(A)的種類及量變更為如表5所記載者、並使用新戊四醇三丙烯酸酯(SP值：12.7)作為第2成份所含之其他(甲基)丙烯酸酯類，除此之外，以和實施例G1相同方式調製抗結塊層形成組成物。使用所得之抗結塊層形成組成物，以和實施例G1相同方式獲得2種抗結塊薄膜。
比較例G1~G5，G9
依表6所示配方，以和實施例相同方式調製抗結塊層形成組成物。使用所得之抗結塊層形成組成物，以和實施例G1相同方式獲得2種抗結塊薄膜。
比較例G6、G10
依表6所示配方，以和實施例G1相同方式調製抗結塊層形成組成物。
將所得之抗結塊層形成組成物，滴在帝人杜邦製188μm光學用PET薄膜(KEFW)上，使用棒塗佈機# 13塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有PET薄膜及膜厚6.5μm之抗結塊層的抗結塊薄膜。
又，將所得之抗結塊層形成組成物，滴在帝人化成製100μm光學用PC薄膜(PURE-ACE)上，使用棒塗佈機# 10塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有聚碳酸酯薄膜及膜厚5.0μm之抗結塊層的抗結塊薄膜。
比較例G7、G11
依表6所示配方，以和實施例G1相同方式調製抗結塊層形成組成物。
將所得之抗結塊層形成組成物，滴在帝人杜邦製188μm光學用PET薄膜(KEFW)上，使用棒塗佈機# 16塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有PET薄膜及膜厚6.5μm之 抗結塊層的抗結塊薄膜。
又，將所得之抗結塊層形成組成物，滴在帝人化成製100μm光學用PC薄膜(PURE-ACE)上，使用棒塗佈機# 12塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線，獲得具有聚碳酸酯薄膜及膜厚5.0μm之抗結塊層的抗結塊薄膜。
比較例G8、G12、G13
依表6所示配方，以和實施例G1相同方式調製抗結塊層形成組成物。
將所得之抗結塊層形成組成物，滴在帝人杜邦製188μm光學用PET薄膜(KEFW)上，使用棒塗佈機# 20塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線。在使用比較例G12之抗結塊層形成組成物的情況下，獲得具有PET薄膜及膜厚6.5μm之抗結塊層的抗結塊薄膜。另一方面，在使用比較例G8及G13之抗結塊層形成組成物的情況下，塗料組成物未能硬化，無法設置抗結塊層。
又，將所得之抗結塊層形成組成物，滴在帝人化成製100μm光學用PC薄膜(PURE-ACE)上，使用棒塗佈機# 14塗佈。塗佈後，在70℃下乾燥1分鐘，以紫外線照射機(Fusion製)照射350mJ的紫外線。在使用比較例G12之抗結塊層形成組成物的情況下，獲得具有聚碳酸酯薄膜及膜厚5.0μm之抗結塊層的抗結塊薄膜。另一方面，在使用比較例G8及G13之抗結塊層形成組成物的情況下，塗料組成物未能硬化， 無法設置抗結塊層。
實施例G6
使用實施例G1所得之抗結塊薄膜，進一步在該硬化樹脂層上，以濺鍍法形成ITO層(使用氧化銦及氧化錫係重量比95：5之組成、充填密度98%的氧化銦-氧化錫靶材)，製作透明導電性積層體成為可動電極基板。所形成之ITO層的膜厚約30nm，製膜後的表面電阻值約150Ω/□。所得透明導電性積層體未觀察到干渉紋。
對上述實施例G1~G5及比較例G1~G13所得之抗結塊薄膜進行與實施例E1相同的評價。又，亦對抗結塊(AB)性能以下述記載方式評價。評價結果顯示於表5及表6。
抗結塊(AB)性能的評價
將實施例及比較例所得之抗結塊薄膜，切取2×5cm的大小，將塗佈面重疊在PET薄膜(未塗覆易接著層)面上，以玻璃板夾住，在200gf/cm2條件下，於室溫放置24小時。之後依下述基準目視評價結塊現象(AB性)。
○：具抗結塊性
×：無抗結塊性
表5
上述表5、表6中，I-184：1-羥基環己基苯基酮，光聚合起始劑
雙酚A EO改質二丙烯酸酯：東亞合成公司製，ARONIX M-211B，雙酚A EO(2mol)改質二丙烯酸酯，SP值11.3
丙烯醯嗎福啉：SP值11.9
雙官能胺甲酸乙酯丙烯酸酯：NV100：CN-9893(Sartomer公司製)，SP值11.1
高折射率填料1：氧化鋯ZRMIBK30WT%(氧化鋯，CIK奈米科技公司製)
高折射率填料2：氧化鈦TiMIBK15WT%(氧化鈦，CIK奈米科技公司製)。
具有使用實施例之抗結塊層形成組成物所形成之抗結塊層的抗結塊薄膜，無論何者均具有良好的抗結塊性能，無干渉紋產生，且具有高折射率及良好的硬度。再者所得之抗結塊薄膜，亦有高延伸性及耐撓曲性。
比較例G1及G2，係成分(B)的量在本發明範圍外的例子。此種情況下，無論何者都有所得薄膜硬度變低的缺陷。
比較例G3，係使用具雙酚A骨架之二丙烯酸酯替代成分(A)的例子。該比較例G3中，所得薄膜之折射率變低，且確認有干渉紋出現。又，有硬度變低的缺陷。
比較例G4，係使用丙烯醯嗎福啉替代成分(B)的例子。該比較例G4亦然，所得薄膜折射率變低，且確認有干渉紋出現。又，延伸性亦不佳。
比較例G5~G8係使用，高折射率劑的氧化鋯或氧化 鈦，以替代使用成分(A)及(B)的例子。該等比較例中，硬度雖為良好，但抗結塊性及延伸性大為降低。另外比較例G8的組成物無法硬化。
比較例G9~G13，是以提供抗結塊層延伸性為目的而使用雙官能胺甲酸乙酯丙烯酸酯的例子。該等比較例中，抗結塊性不佳，又，雖也有延伸性有所提升的例子，但硬度及折射率的平衡變差。另外比較例G13的組成物無法硬化。
比較例G5~G13的抗結塊層形成組成物中，係含有高折射率填料。藉由含有高折射率填料，所得抗結塊層的折射率整體確實變高了。但另一方面，該等比較例所得之抗結塊層，無論何者均辨識出干渉紋。該等比較例中辨識出干渉紋的理由，咸認是由於一方面形成抗結塊層之樹脂成分的折射率低、另一方面該樹脂成分中混入了折射率高之高折射率填料的狀態之故。因此，認為即便抗結塊層的折射率整體變高，但低折射率之樹脂成分帶來不良影響，故仍無法獲得優良的干渉紋抑制效果。
產業上可利用性
由本發明之硬塗層組成物所形成的透明硬塗層，特徵在於具有良好的硬度、且同時兼具高可見度及延伸性。由本發明之硬塗層組成物所形成的透明硬塗層，特徵在於具有高折射率。因此具有以下優點：即便將本發明之透明硬塗層設置於PET薄膜或聚碳酸酯薄膜等折射率高的基材薄膜上，也不會出現干渉紋，並可達到高延伸性。
由本發明之抗結塊層形成組成物所形成的抗結 塊層，特徵在於具有優良的抗結塊性能、且同時兼具良好的硬度、高可見度及延伸性。由本發明之抗結塊層形成組成物所形成之抗結塊層，更以高折射率為特徵。因此亦具有以下優點：即便將本發明之抗結塊層設置於PET薄膜或聚碳酸酯薄膜等折射率高的基材薄膜上，也不會出現干渉紋。

Claims (27)

  1. 一種硬塗層組成物，包含：(A)酚醛清漆型丙烯酸酯，其具有2或在此以上的丙烯酸酯基；及(B)含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯，其於分子中具有1~2mol之碳數2或3之環氧烷結構，相對於硬塗層組成物中所含樹脂成分100質量份，酚醛清漆型丙烯酸酯(A)含60~85質量份、及(甲基)丙烯酸酯(B)含15~30質量份。
  2. 如請求項1之硬塗層組成物，其中前述酚醛清漆型丙烯酸酯(A)係以下式(I)表示： [式(I)中，R1為H或CH2OH；R2為H或OH；n為2~5；m為0~5]。
  3. 如請求項1或2之硬塗層組成物，其中前述(甲基)丙烯酸酯(B)係折射率在1.56~1.64範圍內的含芳香族基之(甲基)丙烯酸酯。
  4. 如請求項1之硬塗層組成物，其係於成分(A)及(B)之外，更包含：(C)含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯，其具有2或在此以上之(甲基)丙烯酸酯基，相對於硬塗層組成物中所含樹脂成分100質量份，酚醛清漆型丙烯酸酯含(A)40~70質量份、(甲基)丙烯酸酯(B)含10~30質量份、及含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)含15~40質量份。
  5. 如請求項4之硬塗層組成物，其中前述含茀骨架之(甲基)丙烯酸酯(C)係以下式(II)表示： [式(II)中，R3係各自獨立為H或CH3；R4為-A-OC(O)CR=CH2；A係各自獨立為-OCH2CH2-、-OCH2CH2CH2-、-OCH(CH3)CH2-或-OCH2CH(CH3)-；R係各自獨立為H或CH3]。
  6. 如請求項1至5中任一項之硬塗層組成物，其中ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2及銦-錫氧化物之總含量為組成物中0.0001質量%以下。
  7. 一種硬塗膜，具有：透明高分子基材；及硬塗層，其係藉由將如請求項1至6中任一項之硬塗層組成物塗佈於基材上而形成者，且該硬塗層具有1.565~1.620之折射率。
  8. 如請求項7之硬塗膜，其中前述硬塗層之厚度為0.05~10μm。
  9. 如請求項7或8之硬塗膜，其中前述基材係厚度20~300μm之PET薄膜，且於20℃拉伸速度5mm/秒之條件下，將硬塗膜以MD方向(機器方向)拉伸15%時，前述硬塗層未產生裂痕。
  10. 如請求項7或8之硬塗膜，其中前述基材係厚度30~200μm之聚碳酸酯薄膜，且該硬塗膜於25℃及60度/秒之條件下彎折180°時，前述硬塗層及基材任一者均未產生裂痕。
  11. 一種透明導電性積層體，係於如請求項7至10中任一項之硬塗膜的至少一側的面上形成有透明導電層的透明導電性積層體。
  12. 如請求項11之透明導電性積層體，其中前述透明導電層為含氧化銦的晶質層，且透明導電層的厚度為5~50nm。
  13. 如請求項11或12之透明導電性積層體，其中於前述硬塗層及透明導電層之間存在有金屬氧化物層，且該金屬氧化物層的厚度為0.5~5.0nm。
  14. 一種觸控面板，具有如請求項11至13中任一項之透明導電性積層體。
  15. 一種高折射率抗結塊層形成組成物，包含第1成分及第2成分，其中：第1成分係含不飽和雙鍵之丙烯醯共聚物，第2成分係含有：(A)酚醛清漆型丙烯酸酯，其具有2或在此以上的丙烯酸酯基，及(B)含芳香族基之單或聚(甲基)丙烯酸酯，其於分子中具有1~2mol之碳數2或3之環氧烷結構，且相對於第2成分100質量份，酚醛清漆型丙烯酸酯(A)含60~85質量份、及(甲基)丙烯酸酯(B)含15~30質量份，並且該組成物中：第1成分SP值(SP1)及第2成分SP值(SP2)的差△SP在1~4之範圍內；組成物中所含第1成分及第2成分的質量比，係第1成分：第2成分=0.5：99.5~20：80；以及該高折射率抗結塊層形成組成物塗佈後，第1成分及第2成分產生層分離，而於表面形成具有微細凹凸的抗結塊層。
  16. 如請求項15之高折射率抗結塊層形成組成物，其中前述酚醛清漆型丙烯酸酯(A)係以下式(I)表示：[化10] [式(I)中，R1為H或CH2OH，R2為H或OH，n為2~5，m為0~5。
  17. 如請求項15或16之高折射率抗結塊層形成組成物，其中前述(甲基)丙烯酸酯(B)係折射率在1.56~1.64範圍內的含芳香族基之(甲基)丙烯酸酯。
  18. 如請求項15至17中任一項之高折射率抗結塊層形成組成物，其中ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2及銦-錫氧化物的總含量為組成物中之0.0001質量%以下。
  19. 一種抗結塊薄膜，具有：透明高分子基材，及抗結塊層，其係經由在基材上塗佈如請求項15至18中任一項之高折射率抗結塊層形成組成物而形成者，其中該抗結塊層具有1.565~1.620之折射率，且該抗結塊層之算術平均粗度(Ra)為0.001~0.09μm、十點平均粗度(Rz)為0.01~0.5μm。
  20. 如請求項19之抗結塊薄膜，其中前述抗結塊層之厚度為0.05~10μm。
  21. 如請求項19或20之抗結塊薄膜，其中該基材為厚度 20~300μm之PET薄膜，該抗結塊薄膜係在20℃、拉伸速度5m/分的條件下將薄膜以MD方向拉伸15%時，於抗結塊層不產生裂痕。
  22. 如請求項19或20之抗結塊薄膜，其中該基材為厚度30~200μm之聚碳酸酯薄膜，且該抗結塊薄膜係，在25℃及60度/秒的條件下彎折180°彎折時，抗結塊層及基材任一者均未產生裂痕。
  23. 如請求項19至22中任一項之抗結塊薄膜，其中前述抗結塊薄膜係全光穿透率88%以上且霧度值2%以下之抗結塊薄膜。
  24. 一種透明導電性積層體，係於如請求項19至13中任一項之抗結塊薄膜之至少一側的表面上形成有透明導電層。
  25. 如請求項24之透明導電性積層體，其中前述透明導電層為含有氧化銦的晶質層，且透明導電層的厚度為5~50nm。
  26. 如請求項24或25之透明導電性積層體，其中於前述抗結塊層及透明導電層之間存在有金屬氧化物層，且該金屬氧化物層之厚度為0.5~5.0nm。
  27. 一種觸控面板，具有如請求項24至26中任一項之透明導電性積層體。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI702415B (zh) * 2015-07-17 2020-08-21 日商大日本印刷股份有限公司 光學構件用積層體及影像顯示裝置

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101868665B1 (ko) * 2011-08-11 2018-07-17 오사카 가스 케미칼 가부시키가이샤 플루오렌 골격을 갖는 다관능성 (메트)아크릴레이트 및 그의 경화성 조성물
WO2013146483A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 帝人株式会社 透明導電性積層体
JP5490954B1 (ja) 2013-09-30 2014-05-14 日本ビー・ケミカル株式会社 導電性積層体およびそれを用いるタッチパネル
JP5490955B1 (ja) 2013-09-30 2014-05-14 帝人株式会社 導電性積層体およびそれを用いるタッチパネル
JP6547481B2 (ja) * 2015-07-17 2019-07-24 大日本印刷株式会社 有機エレクトロルミネッセンス積層体
US11021007B1 (en) 2016-03-30 2021-06-01 Nippon Paint Automotive Coatings Co., Ltd. Laminated film for molded decoration
JP6609695B2 (ja) * 2016-04-28 2019-11-20 富士フイルム株式会社 タッチセンサー用導電シート、タッチセンサー用積層体、タッチセンサー、タッチパネル
EP3447544B1 (en) * 2016-07-28 2020-09-02 LG Chem, Ltd. Optical film for polarizer protection, and polarizing plate and image display device comprising same
US11550080B2 (en) 2016-10-07 2023-01-10 Nippon Paint Automotive Coatings Co., Ltd. Optical laminated member

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03191352A (ja) 1989-12-15 1991-08-21 W R Grace & Co 感光性樹脂組成物
JPH0493367A (ja) * 1990-08-10 1992-03-26 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光硬化性被覆剤
JP2002241527A (ja) 2001-02-14 2002-08-28 Oike Ind Co Ltd 透明ハードコート層保有フイルム
JP2003055607A (ja) 2001-08-10 2003-02-26 Bridgestone Corp 透明基材及びそのコート材
JP3846790B2 (ja) * 2002-08-30 2006-11-15 本田技研工業株式会社 シートの位置検出装置
JP5129802B2 (ja) * 2003-04-22 2013-01-30 大阪瓦斯株式会社 フルオレン系組成物及びその成形体
US20060251848A1 (en) * 2005-05-09 2006-11-09 Armstrong Sean E Optical information storage medium possessing a multilayer coating
JP2007292883A (ja) * 2006-04-21 2007-11-08 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体
JP2008239673A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Toray Ind Inc 透明架橋フィルム
CN101631809B (zh) * 2007-05-23 2012-09-05 Dic株式会社 含氟酚醛清漆型树脂、氟系表面活性剂、氟系表面活性剂组合物以及树脂组合物
JP2009265590A (ja) 2008-04-28 2009-11-12 Katsuichi Kaneko 干渉縞のないハードコートフィルム
JP2010191370A (ja) * 2009-02-20 2010-09-02 Nippon Bee Chemical Co Ltd 防眩性コーティング組成物、防眩フィルムおよびその製造方法
WO2013035265A1 (ja) * 2011-09-06 2013-03-14 株式会社豊田自動織機 硬化型コーティング剤組成物
JP5490954B1 (ja) * 2013-09-30 2014-05-14 日本ビー・ケミカル株式会社 導電性積層体およびそれを用いるタッチパネル

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI702415B (zh) * 2015-07-17 2020-08-21 日商大日本印刷股份有限公司 光學構件用積層體及影像顯示裝置
TWI739523B (zh) * 2015-07-17 2021-09-11 日商大日本印刷股份有限公司 光學構件用積層體及影像顯示裝置

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