TW201305060A - 新穎化合物半導體及其應用 - Google Patents
新穎化合物半導體及其應用 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201305060A TW201305060A TW101117049A TW101117049A TW201305060A TW 201305060 A TW201305060 A TW 201305060A TW 101117049 A TW101117049 A TW 101117049A TW 101117049 A TW101117049 A TW 101117049A TW 201305060 A TW201305060 A TW 201305060A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- compound semiconductor
- present
- chemical formula
- thermoelectric conversion
- heat treatment
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 68
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 36
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 24
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005679 Peltier effect Effects 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B19/00—Selenium; Tellurium; Compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G51/00—Compounds of cobalt
- C01G51/006—Compounds containing, besides cobalt, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B19/00—Selenium; Tellurium; Compounds thereof
- C01B19/002—Compounds containing, besides selenium or tellurium, more than one other element, with -O- and -OH not being considered as anions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G15/00—Compounds of gallium, indium or thallium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G30/00—Compounds of antimony
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G51/00—Compounds of cobalt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L31/0264—Inorganic materials
- H01L31/032—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N10/00—Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
- H10N10/80—Constructional details
- H10N10/85—Thermoelectric active materials
- H10N10/851—Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions
- H10N10/853—Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions comprising arsenic, antimony or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/50—Solid solutions
- C01P2002/52—Solid solutions containing elements as dopants
- C01P2002/54—Solid solutions containing elements as dopants one element only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
Abstract
本發明係有關於一種應用於太陽能電池或作為熱電材料之新穎化合物半導體以及其應用。該化合物半導體以下列化學式表示:InxCo4Sb12-n-zQ'nSez,其中,Q係至少一選自O及S所組成之群組,0<x≦0.5,0<n≦2且0≦z<2。
Description
本發明係主張2011年5月13日於韓國智慧財產局提出韓國專利申請號No.10-2011-0045348、2011年5月13日於韓國智慧財產局提出韓國專利申請號No.10-2011-0045349、2011年5月25日於韓國智慧財產局提出韓國專利申請號No.10-2011-0049609、2012年5月11日於韓國智慧財產局提出韓國專利申請號No.10-2012-0050259之優先權,其所揭露之內容均併入本發明中以供參酌。
本發明關於一種新穎化合物半導體、其製備方法、以及其應用,該新穎化合物半導體係應用於太陽能電池或作為熱電材料。
化合物半導體並非僅由單一元素,例如矽或鍺所構成,而是一種化合物由兩個或以上種類的元素結合而成半導體。多種化合物半導體已開發並應用於許多領域。例如,化合物半導體藉由帕耳帖效應(Peltier effect)應用於熱電轉換裝置、發光裝置例如藉由光電轉換效應應用於發光二極體以及雷射二極體、太陽能電池、或其類似者。
其中,該熱電轉換裝置可應用於製造熱電轉換發電、熱電轉換冷卻或其類似者。於此,該熱電轉換發電時,藉由施予一溫度差於該熱電轉換裝置以產生熱電動勢使熱能轉換為電能。
該熱電轉換裝置的能量轉換效率係根據ZT,ZT為該熱電轉換材料的效能指標。於此,ZT係根據席貝克係數(Seebeck coefficient)、導電係數、熱傳導係數及其類似者。
詳細的說,ZT的平方正比於席貝克係數(Seebeck coefficient)及導電係數,而與熱傳導係數成反比。因此,為促進該熱電轉換裝置的能量轉換效率,亟需開發一種具有高席貝克係數(Seebeck coefficient)、高導電係數或低熱傳導係數的熱電轉換材料。
同時,由於太陽能電池不需要太陽輻射以外的能源而符合環保的需求,因此成為作為替代性未來能源的熱門研究對象。太陽能電池可廣義地分類成:使用單一元素矽的矽太陽能電池、使用化合物半導體的化合物半導體太陽能電池、以及至少兩個具有相異能帶間隙的太陽能電池堆疊之堆疊式太陽能電池。
其中,化合物半導體太陽能電池將化合物半導體用於一吸收太陽輻射並產生電子電洞對的光吸收層,可特別利用III-V族半導體化合物如GaAs、InP、GaAlAs以及GaInAs、II-V族半導體化合物如Cds、CdTe以及ZnS、以及在I-III-VI族中以CuInSe2表示之化合物半導體。
太陽能電池的光吸收層需要具備優異的長期發電以及光學穩定性、高光電轉換效率、並容易藉由組成物改變或參雜以控制該能帶間隙或導電性。此外,像是製造成本以及產率等條件亦應符合實際的利用。然而,許多傳統的化合物半導體無法一次滿足上述所有需求。
本發明旨在解決先前技術的問題,因此本發明的目的在於提供一種新穎的化合物半導體材料、其製備方法、以及利用其之熱電轉換裝置或太陽能電池,該化合物半導體材料可以各種不同的方式利用於熱電轉換裝置、太陽能電池、或諸如此類等的熱電轉換材料中。
本發明之其他目的及優點可透過以下描述而了解,並藉由本發明之實施例變得明確。此外,應了解的是,本發明之其他目的及優點可透過申請專利範圍的定義及其組合加以實施。
於一態樣中,在反覆研究化合物半導體之後,本發明之發明人成功的合成一種化合物半導體,係由化學式1表示,並且發現該化合物可用於熱電轉換裝置中的熱電轉換材料,或是太陽能電池中的光吸收層。
[化學式1]InxCo4Sb12-n-zQ'nSez
於化學式1中,Q'係至少一選自由O及S所組成之群組,0<x0.5,0<n2,以及0z<2。
於化學式1中,0<x0.4為較佳。
於化學式1中,0<x0.25亦為較佳。
於化學式1中,0<n1為較佳。
於化學式1中,0<n0.5為更佳。
於化學式1中,0z<1.5亦為較佳。
另一方面,本發明更提供了一種化合物半導體之製造方法,包括:形成一混合物包括In、Co、以及Sb,以及至少一選自由O、S、及其氧化物所組成之群組;以及熱處理該混合物以製備上述之化合物半導體。
於形成混合物之步驟中,該混合物較佳更包括Se。
熱處理之步驟係較佳於400℃至800℃進行。
熱處理之步驟較佳包括至少兩階段之熱處理。
另一方面,本發明亦提供一種包括上述化合物半導體之熱電轉換裝置。
另一方面,本發明亦提供一種包括上述化合物半導體之太陽能電池。
根據本發明所揭露之內容,提供一種新穎化合物半導體。
於一方面,該新穎化合物半導體可取代傳統化合物半導體,或者可當作傳統化合物半導體之外的另一個材料。
又於另一方面,由於該化合物半導體具有良好的熱電轉換效能,可應用於熱電轉換裝置。特別是根據本發明之化合物半導體,由於其熱傳導係數改善,也因此具有改善的熱電效能指標ZT值。因此,本發明之化合物半導體可用以當作熱電轉換裝置中的熱電轉換材料。
此外,另一方面,該化合物半導體可用於太陽能電池。特別是,本發明之化合物半導體可用於太陽能電池中的光吸收層。
再者,於本發明另一方面,該化合物半導體由於能夠選擇性的使IR通過,因此可做為IR視窗或IR探測器、磁性裝置、記憶體或類似物。
在此,本發明較佳實施例將配合所附圖式,加以詳細說明如下。於說明前,本說明書及申請專利範圍所使用之字詞不囿於一般及字典上之字義,而應依照發明者對本發明之技術態樣之意義及概念作最佳解釋。
因此,在此所作之描述僅用以解釋較佳實施例,而非用以限制本發明,故在不悖離本發明之精神下可進行各種修飾與變更。
本發明提供一種新穎化合物半導體如下述化學式1所示。
[化學式1]InxCo4Sb12-n-zQ'nSez
於化學式1中,Q'係至少一選自由O及S所組成之群組,0<x0.5,0<n2,以及0<z2。
於化學式1中,0<x0.4為較佳。
於化學式1中,0<x0.25亦為較佳。
於化學式1中,0<n1為較佳。
於化學式1中,0<n0.5為更佳。
於化學式1中,0z<1.5亦為較佳。
同時,該化學式1所示之化合物半導體可部分的包括次相,且該次相的數量可依據熱處理條件而改變。
上述化合物半導體之製備係藉由形成混合物,包括In、Co、以及Sb,以及至少一選自以及至少一選自由O、S及其氧化物所組成之群組;以及熱處理混合物。
於形成混合物之步驟中,混合物較佳更包括Se。
同時,用於混合物形成階段的每一材料可為粉末狀,然而本發明並未對於材料的形式有特別的限制。
較佳為,該熱處理步驟可在真空中或在像是Ar、He、以及N2等部分包含氫或不包含氫的氣體中進行。
此時,該熱處理溫度可為400℃至800℃。較佳為,該熱處理溫度可為450℃至700℃。更佳為,該熱處理溫度可為500℃至650℃。
換句話說,該熱處理步驟可包括至少兩個熱處理階段。舉例來說,於第一溫度下對得自於上述混合物形成步驟(亦即所謂的材料之混合步驟)中的該混合物進行一第一熱處理,以及在第二溫度下對該混合物進行一第二熱處理。
在此,一些熱處理階段可進行於該混合物形成步驟執行期間,在該混合物形成步驟中,將材料進行混合。
例如,該熱處理步驟可包括三個熱處理階段,包括第一熱處理階段、第二熱處理階段以及第三熱處理(燒結)階段。
此外,第一熱處理階段可於400℃至600℃的溫度範圍內進行,且該第二熱處理階段以及第三熱處理階段可於600℃至800℃的溫度範圍內進行。該第一熱處理階段可於混合物形
成階段中進行,且該第二以及第三熱處理階段可於混合物形成階段之後依序進行。
根據本發明之熱電轉換裝置可包括上述之化合物半導體。換句話說,根據本發明之化合物半導體可作為熱電轉換材料用於熱電轉換裝置。特別是,根據本發明之化合物半導體有高ZT值,為該熱電轉換材料的效能指標。此外,由於該化合物半導體具有低熱傳導係數、高席貝克係數、以及高導電係數,其具有優異的熱電轉換效能。因此,根據本發明之化合物半導體可取代傳統熱電轉換材料,或者於熱電轉換裝置中,當作傳統熱電轉換材料外的額外熱電轉換材料。
此外,根據本發明之太陽能電池可包括上述之化合物半導體。換句話說,根據本發明之化合物半導體可用於太陽能電池中,特別是該太陽能電池的光吸收層。
太陽能電池之構造為前表面透明電極、緩衝層、光吸收層、後表面透明電極、以及基板,自太陽輻射入射的一側依序層疊。位於最底部的基板可由玻璃構成,且可藉由沉積金屬,例如Mo,以完整形成該後表面透明電極。
接著,根據本發明之化合物半導體可藉由電子束沉積法、溶膠-凝膠法、或PLD(脈衝雷射沉積法)層壓於後表面透明電極上以形成光吸收層。在該光吸收層上,可存在一緩衝層,其係用來緩衝在作為該前表面透明電極以及該光吸收層之ZnO層之間的晶格常數與能帶間隙上的差異。該緩衝層可藉由CBD(化學沈浸沈積)或其類似方法,沉積如Cds
的材料以形成之。爾後,藉由濺鍍或類似方式,將例如ZnO層或ZnO與ITO層壓層形成於該緩衝層上以作為前表面透明電極。
根據本發明之太陽能電池可以各種不同的方式進行修飾。舉例來說,製造堆疊式太陽能電池,其中層壓本發明之化合物半導體作為光吸收層。此外,如上所述之該層壓的太陽能電池可為一利用矽或其他已知化合物半導體之太陽能電池。
此外,可改變根據本發明之化合物半導體之能帶間隙,並且層壓複數個具有不同能帶間隙之化合物半導體作為光吸收層之太陽能電池。根據本發明之化合物半導體之能帶間隙可藉由改變其中化合物的組成比例,尤其是Te,以調整之。
此外,根據本發明之化合物半導體,由於能夠選擇性的使IR通過,因此可做為IR視窗或IR探測器。
接下來將詳細針對本發明之示範例進行描述。本發明之示範例可為多種形式,且其範圍不僅限於下述之示範例。本發明之示範例係為了使熟悉本技術領域者,得以根據本發明詳細解釋而據以實施。
準備0.1727 g的In、1.3121 g的Co、8.0929 g的Sb、0.2375 g的Se、以及0.1449 g的Co3O4作為反應物,並且利用研缽混合之。上述混合材料置於矽管且真空密封之,接著於650℃
加熱36小時。溫度上升至650℃的時間為1小時又30分,得到In0.25Co4Sb11O0.5Se0.5之粉末。
上述製備的部分材料組成物係形成一具有10 mm直徑、厚度為1 mm的圓盤。之後,利用CIP(冷均壓)對其施予200 MPa的壓力。接著,將獲得的結果置於石英管並且真空燒結12小時。
關於該燒結的圓盤,其熱傳導係數藉由LFA457(Netzsch,Inc.)於預設溫度間隔下進行測量。測量結果如圖1,示範例結果所示。
準備In、Co以及Sb作為反應物,並且利用研缽混合之,以形成包含顆粒形式之In0.25Co4Sb12組成物之混合物。在H2(1.94%)與N2氣體、500℃環境下,加熱該混合物15分鐘。溫度上升至500℃的時間為1小時又30分。
上述的混合材料置於矽管且真空密封之,接著於650℃加熱36小時。溫度上升至650℃的時間為1小時又30分,並得到In0.25Co4Sb12粉末。
上述製備的部分材料組成物係形成一具有10 mm直徑、厚度為1 mm的圓盤。之後,利用CIP(冷均壓)對其施予200 MPa的壓力。接著,將獲得的結果置於石英管並且真空燒結12小時。關於該燒結的圓盤,其熱傳導係數(κ)藉由LFA457(Netzsch,Inc.)於預設溫度間隔下進行測量。測量結果如圖1,比較例結果所示。
結果如圖1所示,可發現相較於本發明比較例之化合物半導體In0.25Co4Sb12,根據本發明實施例之化合物半導體In0.25Co4Sb11O0.5Se0.5,在整個溫度測量區域中具有非常低的熱傳導係數(κ)。
此外,熱電效能指標之ZT值以下述方式表示:ZT=σS2T/κ
在此,σ表示導電係數、S表示席貝克係數、T表示溫度、以及κ表示熱傳導係數。
根據本發明之化合物半導體,由於其熱傳導係數低,可具有改善之ZT值。因此,根據本發明之該化合物半導體可視為具有優異熱電轉換且因此利於作為一種熱電轉換材料。
本發明已如上述詳細描述之。然而,應了解本發明之詳細說明以及於實施例所揭露之範例僅係為了方便說明而舉例而已,熟知本技術領域者,只要不背離本發明之精神及範圍,皆可依據本發明所揭露進行各種修改或修飾。
本發明可搭配圖示以及說明書與實施例,一起說明此發明以更加了解本發明之內容。
圖1係根據本發明之示範例以及比較例之化合物半導體溫度改變得到的熱傳導係數圖示。
Claims (10)
- 一種化合物半導體,由下列化學式1表示:[化學式1]InxCo4Sb12-n-zQ'nSez;其中,化學式1中,Q'係為至少一選自O以及S所組成之群組,0<x0.5,0<n2,以及0z<2。
- 如申請專利範圍第1項所述之化合物半導體,其中,化學式1中,0<x0.4。
- 如申請專利範圍第1項所述之化合物半導體,其中,化學式1中,0<n1。
- 如申請專利範圍第1項所述之化合物半導體,其中,化學式1中,0z<1.5。
- 一種化合物半導體之製備方法,包括:形成一混合物包括In、Co、以及Sb,以及至少一選自由O、S及其氧化物所組成之群組;以及熱處理該混合物以製備如申請專利範圍第1項所述之化合物半導體。
- 如申請專利範圍第5項所述之化合物半導體之製備方法,其中,該混合物更包括Se。
- 如申請專利範圍第5項所述之化合物半導體之製備方法,其中,該熱處理之步驟係於400℃至800℃進行。
- 如申請專利範圍第5項所述之化合物半導體之製備方法,其中該熱處理之步驟包括至少兩階段之熱處理。
- 一種熱電轉換裝置,其包括上述申請專利範圍第1項至第4項任一項所述之化合物半導體。
- 一種太陽能電池,其包括上述申請專利範圍第1項至第4項任一項所述之化合物半導體。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20110045349 | 2011-05-13 | ||
KR20110045348 | 2011-05-13 | ||
KR20110049609 | 2011-05-25 | ||
KR1020120050259A KR101380945B1 (ko) | 2011-05-13 | 2012-05-11 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201305060A true TW201305060A (zh) | 2013-02-01 |
TWI469930B TWI469930B (zh) | 2015-01-21 |
Family
ID=47177144
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW101117049A TWI469930B (zh) | 2011-05-13 | 2012-05-14 | 新穎化合物半導體及其應用 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8496856B2 (zh) |
EP (1) | EP2708502B1 (zh) |
JP (1) | JP5767395B2 (zh) |
KR (1) | KR101380945B1 (zh) |
CN (1) | CN103502143B (zh) |
TW (1) | TWI469930B (zh) |
WO (1) | WO2012157905A1 (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI465399B (zh) * | 2011-05-13 | 2014-12-21 | Lg Chemical Ltd | 新穎化合物半導體及其應用 |
TWI469933B (zh) * | 2011-05-13 | 2015-01-21 | Lg Chemical Ltd | 新穎化合物半導體及其應用 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6467740B2 (ja) * | 2016-11-22 | 2019-02-13 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 熱電変換素子およびその製造方法 |
KR102003352B1 (ko) | 2017-03-15 | 2019-07-23 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02199006A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-08-07 | Agency Of Ind Science & Technol | 1/2/5の組成を有する多元系金属カルコゲナイド |
JP2003173826A (ja) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 半導体電極の作製方法、並びにそれを用いた光電変換素子 |
JP4625905B2 (ja) * | 2003-12-05 | 2011-02-02 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 不均一反応を用いた低サイズ分布および蛍光性半導体ナノ粒子の低温合成法 |
US7462217B2 (en) * | 2003-12-08 | 2008-12-09 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method of preparation for the high performance thermoelectric material indium-cobalt-antimony |
EP1735846A2 (en) * | 2004-04-14 | 2006-12-27 | E.I.Du pont de nemours and company | High performance thermoelectric materials and their method of preparation |
US7648552B2 (en) * | 2004-07-23 | 2010-01-19 | Gm Global Technology Operations, Inc. | Filled skutterudites for advanced thermoelectric applications |
JP5055747B2 (ja) * | 2004-11-10 | 2012-10-24 | 大日本印刷株式会社 | 金属酸化物膜の製造方法 |
EP1938343A4 (en) * | 2005-10-17 | 2010-07-28 | Agency Science Tech & Res | NEW PHASE CHANGE MATERIAL |
AU2007217870B2 (en) * | 2006-02-16 | 2011-07-21 | Brigham Young University | Preparation of uniform nanoparticles of ultra-high purity metal oxides, mixed metal oxides, metals, and metal alloys |
KR100910173B1 (ko) * | 2007-09-10 | 2009-07-30 | 충주대학교 산학협력단 | CoSb3 스커테루다이트계 열전재료 및 그 제조방법 |
JP5749437B2 (ja) * | 2008-01-23 | 2015-07-15 | 古河機械金属株式会社 | 熱電変換材料および熱電変換モジュール |
JP2009253301A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Samsung Electronics Co Ltd | ジカルコゲナイド熱電材料 |
KR20090110090A (ko) * | 2008-04-17 | 2009-10-21 | 엘지전자 주식회사 | 초음파를 이용한 인듐 셀레나이드 나노화합물의 제조방법및 이를 포함하는 화합물 반도체 태양전지 |
EP2319082B1 (en) * | 2008-08-29 | 2017-11-15 | LG Chem, Ltd. | New compound semiconductor and producing method thereof, and solar cell and thermoelectric conversion element using the same |
CN101397612B (zh) * | 2008-10-21 | 2011-05-25 | 同济大学 | 一种方钴矿基热电块体材料的制备方法 |
EP2432841A1 (en) * | 2009-05-21 | 2012-03-28 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Copper tin sulfide and copper zinc tin sulfide ink compositions |
KR101042574B1 (ko) * | 2009-08-11 | 2011-06-20 | 충주대학교 산학협력단 | In-Co-Ni-Sb 계 스커테루다이트 열전재료 및 그 제조방법 |
KR101042575B1 (ko) * | 2009-08-11 | 2011-06-20 | 충주대학교 산학협력단 | In-Co-Fe-Sb 계 스커테루다이트 열전재료 및 그 제조방법 |
WO2012157916A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
EP2708498B1 (en) * | 2011-05-13 | 2017-08-16 | LG Chem, Ltd. | Novel compound semiconductor and usage for same |
-
2012
- 2012-05-11 WO PCT/KR2012/003727 patent/WO2012157905A1/ko active Application Filing
- 2012-05-11 KR KR1020120050259A patent/KR101380945B1/ko active IP Right Grant
- 2012-05-11 CN CN201280020543.9A patent/CN103502143B/zh active Active
- 2012-05-11 EP EP12786138.3A patent/EP2708502B1/en active Active
- 2012-05-11 JP JP2014503613A patent/JP5767395B2/ja active Active
- 2012-05-14 TW TW101117049A patent/TWI469930B/zh active
- 2012-09-14 US US13/617,010 patent/US8496856B2/en active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI465399B (zh) * | 2011-05-13 | 2014-12-21 | Lg Chemical Ltd | 新穎化合物半導體及其應用 |
TWI469933B (zh) * | 2011-05-13 | 2015-01-21 | Lg Chemical Ltd | 新穎化合物半導體及其應用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012157905A1 (ko) | 2012-11-22 |
EP2708502A1 (en) | 2014-03-19 |
CN103502143B (zh) | 2016-01-20 |
KR101380945B1 (ko) | 2014-04-01 |
US8496856B2 (en) | 2013-07-30 |
EP2708502B1 (en) | 2017-07-26 |
CN103502143A (zh) | 2014-01-08 |
TWI469930B (zh) | 2015-01-21 |
EP2708502A4 (en) | 2015-03-18 |
KR20120127302A (ko) | 2012-11-21 |
JP2014516901A (ja) | 2014-07-17 |
JP5767395B2 (ja) | 2015-08-19 |
US20130009107A1 (en) | 2013-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI469928B (zh) | 新穎化合物半導體及其應用 | |
TWI465399B (zh) | 新穎化合物半導體及其應用 | |
JP5774131B2 (ja) | 新規な化合物半導体及びその活用 | |
TWI480226B (zh) | 新穎的化合物半導體及其應用 | |
TWI469927B (zh) | 新穎化合物半導體及其應用 | |
TWI469929B (zh) | 新穎的化合物半導體及其應用 | |
TWI469930B (zh) | 新穎化合物半導體及其應用 | |
TWI469931B (zh) | 新穎化合物半導體及其應用 | |
TWI469925B (zh) | 新穎的化合物半導體及其應用 | |
TWI467788B (zh) | 新穎化合物半導體及其應用 | |
TWI457287B (zh) | 新穎的化合物半導體及其應用 |