TW201224173A - Aluminium productor and method for making same - Google Patents

Description

201224173六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 ⑽01] 本發明涉及一種鋁製品及其製備方法。 【先前技術】 [0002]鋁及鋁合金因其質輕以及優良的機械加工性能，使得鋁 及鋁合金被廣泛地應用於各種家用電器、汽車、電子產 品的外殼。 [0003] 〇 [0004] 為了獲得較好的外觀效果，通常藉由陽極氧化、電泳塗 裝、喷漆等表面裝飾處理於鋁或銘合金產品表面形成某 種顏色的裝飾層然，經上述處理獲得的.裂飾片的、 通常是固定不變的，缺乏變化和多樣性。:隨著消費水準 的提高’這種外觀已經不能滿足消費者對這此產。 觀追求。 的外 【發明内容】 有鑒於此，有必要提供一種顏色多變、具有較佳擎飾 果的紹製品。 效 〇 [0005] [0006] 另外，有必要提供一種上述鋁叙品的製傷方法。 一種鋁製品，包括鋁基體及形成於該鋁基體上的無色透 明真空鍍膜層，該鋁基體包括經電化學腐蝕形成的多孔 表面，該多孔表面分佈有多個奈米孔，該真空鍍 成於該多孔表面上。 [〇〇〇7] —種銘製品的製備方法，包括如下步驟： [0008] 提供鋁基體； 099142272 表單編號A0101 第3頁/共1〇頁 201224173 [0009] 電化學腐蝕處理，以使該鋁基體形成多孔表面，該多孔 表面分佈有多個奈米孔； [0010] 真空鍍膜處理，以於該多孔表面形成一層無色透明的真 空鍍膜層。 [0011] 相較於習知技術，上述铭製品先藉由陽極電化學腐钮處 理於該鋁基體上形成多孔表面，再藉由真空鍍膜方法於 該多孔表面形成該無色透明的真空鍍膜層。由於多孔表 面分佈有所述奈米孔，使該真空鍍膜層於不同的位置具 有不同的厚度，即真空鍍膜層於所述奈米孔處的厚度大 於未形成奈米孔處的厚度。於光的照射下，不同厚度的 真空鍍膜層對光線的反射與折射的光程差不同，因此不 同位置處的真空鍍膜層可形成不同顏色的干涉光，使得 同一鋁製品表面呈現多種顏色，具有較佳的裝飾效果。 該鋁製品的製備方法工藝簡單。 【實施方式】 [0012] 請參閱圖1，本發明較佳實施例的鋁製品100包括鋁基體 10及形成於鋁基體10上的一層無色透明的真空鍍膜層30 0 [0013] 鋁基體1 0的材料為純鋁或鋁合金。 [0014] 鋁基體10包括多孔表面12，該多孔表面12上分佈有多個 奈米孔122。所述奈米孔122的孔徑範圍為10〜300nm，較 佳為30〜lOOnm。奈米孔122的深度分佈在10~120nm範圍 内，較佳為20~80nm。所述奈米孔122可藉由電化學腐蝕 形成。 099142272 表單編號A0101 第4頁/共10頁 0992073424-0

201224173 LUUlbJ Ο ' [0016] Ο [0017] [0018] [0019] 該真空鍍膜層30形成於鋁基體10的多孔表面12上。由於 多孔表面分佈有所述奈米孔122，使真空鍍膜層30於不同 的位置具有不同的厚度。真空鍍膜層30可以由金屬、金 屬氧化物或非金屬氧化物形成，其中金屬可以為鈦、鉻 、鋁、鋅及锆等，金屬氧化物可以為鈦、鉻、鋁、鋅及 鍅的氧化物，非金屬氧化物可以為二氧化矽。當真空鍍 膜層30由所述金屬形成時，其厚度於10~150nm範圍内， 其厚度為150nm以下時，真空鍍膜層30接近無色透明，超 過15Onm時，真空鍍膜層30自身的顏色於肉眼觀察下開始 變得較為明顯。當真空鍍膜層30由所述金屬氧化物或非 金屬氧化物形成時，其厚度於50nm至2；«m範圍内。 上述鋁製品100於形成該真空鍍膜層30前，具有多孔表面 12的鋁基體10為鋁材原色。當多孔表面12形成該真空鍍 膜層30後，由於多孔表面12分佈有所述奈米孔122，使真 空鍍膜層30於不同的位置具有不同的厚度，即真空鍍膜 層30於奈米孔122處的厚度大於未形成奈米孔122處的厚 度。於光的照射下，不同厚度的真空鍍膜層30對光線的 反射與折射的光程差不同，因此不同位置處的真空鍍膜 層30可形成不同顏色的干涉光，使得同一鋁製品100表面 呈現多種顏色。 上述鋁製品100的製備方法，包括如下步驟： 首先，提供該鋁基體10。 對鋁基體10進行預處理。預處理包括對鋁基體10除油及 化學拋光。其中，所述除油步驟可以用丙酮清洗大約5分 099142272 表單編號Α0101 第5頁/共10頁 0992073424-0 201224173 鐘後’於乙醇中超聲振動大約3Omin，然後用水清洗。所 述化學拋光所用拋光液可以用體積比為3 : 1 : 1的鱗酸（ 濃度為85wt%)、硝酸和水的混合溶液，拋光時拋光液溫 度在70〜80°C之間’拋光時間大約為5分鐘。 [0020] 對經上述預處理的鋁基體進行陽極電化學腐蚀處理， 以於銘基體10上形成所述多孔表面12。陽極電化學腐姓 的條件為·銘基體1 0作為陽極，欽板作陰極，電解液為 含品質濃度為0. 5%的氫氣酸和〇. 5mol/L硫酸的水溶液， 電解液溫度為室溫，pH值小於2，電解電壓為1 〇〜2 5 V， :........... . . .. 、 ·：；. 電解時間為30~10〇min ’電解過程中可對電解液進行磁 力攪拌。經上述陽極電化學腐蝕處理形成的多孔表面12 形成所述多個奈米孔122。 _]對經陽極電化學__基龍進行真空鑛膜處理以 於所述多孔表面12形成該無色透明的真空鍍膜層30。該 真工鍵膜方/ir可採用機鍵、蒸鍵或離子鑛。該步驟具體 工藝可採射目應方法的常規錄膜工藝鑛膜過程中藉由 控制鍍膜時間來_真空朗層綱厚度在上述範圍内 ，以保證該真空錢媒層㈣&色透明。 [0022] 099142272 上祕品：製傷方法於形成無色透明的真空鍍膜層30 前，先藉由陽極電彳 化學腐蝕處理於鋁基體10表面形成太 米多孔結構’使得不π ^ 卞不冋位置處的真空鍍膜層30具有不同 的厚度’因而不同仿罢占 置處的真空鑛膜層30能產生不同顏 色的干涉光，使得间 Π —鉬製品呈現多種顏色，具有較佳 的裝飾效果。該叙_ α 的製備方法工藝簡單。 【圖式簡單說明】 表單編號Α0101 w。 0992073424-0 第6頁/共10頁 201224173 LUU创 圖1為本發明較佳實施例的鋁製品的剖視示意圖。 【主要元件符號說明】 [0024] 鋁製品：100 [0025] 鋁基體：10 [0026] 多孔表面：12 [0027] 奈米孔：122 [0028] 真空鍍膜層：30

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099142272 表單編號A0101 第7頁/共10頁 0992073424-0

Claims (1)

1. 201224173 七、申請專利範圍： -種紹製品，包括4g基體及形成於該喊體上的無色透明 真空鍵膜層，其改良在於：該！s基體包括經電化學腐兹形 成的多孔表面’該多孔表面分佈有多個奈米孔，該真空錢 膜層形成於該多孔表面上。 如申請專利範圍第1項所述之紹製品’其中所述奈米孔的 孔後為10〜300niB。 如申請專·圍第丨項所述之製品，其中所述奈米孔 的孔控為30〜l〇〇nm。 如申請專利範圍第1項所述之_品，其中所述真空鑛膜 層由金屬形成》 ' 如申請專·項所述之崎品，其中所述金屬為欽 、鉻、銘、鋅及結中的一種。 .如申請專利範圍第4項所述之紹製品，其中所述真空鐘膜 層的厚度為50〜ΙδΟηπ^ ' •如申請專利範圍第】項所述之_品，其中所述真空鍍膜 層由鉻、銘、鋅祕的氧化物中的_種形成，或者由二氧 化矽形成。 ’如申請專利範圍第1項所述之紹製品，其中所述真空鑛膜 層的厚度為5〇nm至2以m。 種鋁製品的製備方法，包括如下步驟： 提供鋁基體； 陽極電化學職處理，以使触絲形成多孔表面，該多 孔表面分佈有多個奈米孔； 真空錢膜處理 以於該多孔表面形成—層無色透明的真空 099142272 表單編號A0101 第8頁/共10頁 0992073424-0 201224173 鍍膜層。 10 . 如申請專利範圍第9項所述之鋁製品的製備方法，其中所 述真空鍍膜為蒸鍍、濺鍍及離子鍍中的一種。 11 . 如申請專利範圍第9項所述之鋁製品的製備方法，其中所 述陽極電化學腐钱是以該銘基體作為陽極，鈦板作陰極， 電解液為含品質濃度為0. 5%的氫氟酸和0. 5mol/L硫酸的 水溶液，電解液溫度為室溫，pH值小於2，電解電壓為 10〜25V，電解時間為30〜lOOmin。 12 . 〇 如申請專利範圍第9項所述之鋁製品的製備方法，其中所 述鋁製品的製備方法還包括於所述陽極電化學腐蝕前，對 鋁基體進行預處理的步驟，該預處理包括對鋁基體除油及 化學拋光。 099142272 表單編號A0101 第9頁/共10頁 0992073424-0