TW200833162A - Optoelectronic device and method of fabricating optoelectronic device - Google Patents

Optoelectronic device and method of fabricating optoelectronic device Download PDF

Info

Publication number
TW200833162A
TW200833162A TW097100803A TW97100803A TW200833162A TW 200833162 A TW200833162 A TW 200833162A TW 097100803 A TW097100803 A TW 097100803A TW 97100803 A TW97100803 A TW 97100803A TW 200833162 A TW200833162 A TW 200833162A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
electrode
electronic
photovoltaic device
substrate
Prior art date
Application number
TW097100803A
Other languages
English (en)
Inventor
Ralph Paetzold
Joachim Wecker
Original Assignee
Osram Opto Semiconductors Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osram Opto Semiconductors Gmbh filed Critical Osram Opto Semiconductors Gmbh
Publication of TW200833162A publication Critical patent/TW200833162A/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/129Chiplets
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/17Passive-matrix OLED displays
    • H10K59/179Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/13Active-matrix OLED [AMOLED] displays comprising photosensors that control luminance
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/805Electrodes
    • H10K59/8051Anodes
    • H10K59/80517Multilayers, e.g. transparent multilayers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

200833162 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種光電裝置,其具有一種包括有機材料 之層堆疊,此層堆疊具有一用來發出電磁輻射之活性區。 本發明亦涉及一種光電裝置的製造方法。 本專利申請案主張德國專利申請案10 2〇〇7 〇〇1 742 3 之優先權,其已揭示的整個內容在此一倂作爲參考。 【先前技術】 上述形式的光電裝置稱爲有機發光二極體(OLED)。此 種光電裝置特別是可用作螢幕(電視機、PC螢幕、汽車用的 顯示器、行動電話用的顯示器、觸控銀幕顯示器等)。其它 的應用領域可包括一般照明,特別是大面積的空間照明。 【發明內容】 本發明之目的是提供一種光電裝置及光電裝置之製造 方法,藉此能以簡單的方式來使該光電裝置達成一種緊密 的構造。 上述目的藉由申請專利範圍獨立項的特徵來達成。本 發明有利的其它形式描述在申請專利範圍各附屬項中。 依據本發明的第一式樣,本發明之特徵爲一種光電裝 置’其具有··一包括有機材料之層堆疊,其具有一用來發 出電磁輻射之活性區;以及一電子單元,其中該層堆疊和 該電子單元配置在一共同的基板上。 因此,可有利地共同使用該基板作爲載體材料,以用 於該包括有機材料之層堆疊以及用於該電子單元中。此種 200833162 構造之特徵是一種特別高的積體密度且因此可使一使用者 感覺有特殊的友善性。 依據一較佳的實施形式,該電子單元具有一控制單元 以控制及/或調整該層堆疊。此外,該電子單元可由一控制 及/或調整該層堆疊用的控制單元所構成。 依據另一較佳的實施形式,該電子單元具有一保護單 元以保護該層堆疊。該電子單元較佳是由該保護單元所構 成。例如,該保護單元可以是一種極化成截止方向的二極 ( 體,特別是一種齊納(Zener)二極體,其與該層堆疊並聯, 以使電壓過高現象受到抑制。 此外,該電子單兀可具有一種測定單元或監視單元, 以測定或監視電磁輻射。例如,該測定單元或監視單元可 以是一種感測器,其例如可測得環境之輻射或溫度。依據 所測得的値,則可藉由該控制單元來進行事後調整且所發 出的輻射之強度可依據所需來調整。 在一有利的實施形式中,層堆疊具有第一電極且該電 / i 子單元具有第二電極,以及至少第一電極和至少第二電極 導電性地互相耦接’即,這些電極特別是在電性上互相連 接。這樣所具有的優點是:層堆疊和電子單元所構成的光 電裝置之在共同基板上所製成的複合物之內部中可使層堆 疊在電性上與該電子單元相耦接。 在另一有利的實施形式中,該光電裝置具有一保護 層,其配置成使該電子單元的至少一部份配置在基板和該 保護層之間。這樣所具有的優點是:該電子單元不需藉由 **6- 200833162 特定的保護層來形成特定的包封。反之,該層堆疊和該電 子單元可藉由唯一的保護層使至少一部份被包封著。這樣 特別是亦可使該層堆疊和電子單元形成一種長時間穩定的 複合物,此時特別是可成本有利地製成該共同的保護層。 在另一有利的實施形式中,該基板及/或保護層具有一 種形式穩定的材料。因此,層堆疊和電子單元可在機械上 穩定地互相耦接著。 當基板及/或該保護層具有玻璃或塑料箔或金屬箔時亦 是有利的。亦可使用一種層堆疊,其層是由不同的材料構 成,例如,各層可由不同的塑料及/或金屬所構成,特別是 可由金屬氧化物,金屬氮化物或金屬氮氧化物所構成。以 此種方式,則可成本有利地形成該基板及/或保護層。玻璃 之特徵特別是一種對光電裝置之良好的適應力。 此外,當該基板及/或保護層具有一種材料且該材料可 透過由該活性區所發出的電磁輻射時是有利的。因此,由 該活性區所發出的電磁輻射可到達該光電裝置之外部的〜 區域中,此一區域中該光電裝置可受到保護。 另一較佳的實施方式在於,第一電極及/或第二電極具 有至少一層,此層包括導電性的氧化物及/或金屬。 當至少一第一電極及/或第二電極具有一種層序列,且 該層序列之至少一第一層具有導電性的氧化物以及一第二 層具有一種金屬時亦是有利的。這樣所具有的優點是:第 一電極及/或第二電極既可用於該層堆疊且亦可用於該電子 單元,其中該層堆疊具有一種發出電磁輻射用的活性區。 200833162 此外,較佳爲該金屬係從由銅、鋁、銀和鉻所構成的 群組(group)中所選取。這些金屬所具有的優點是一種小的 電阻値。此外,上述材料可使第二層特別良好地黏合至第 一層之一種導電性的氧化物上。因此,可在第一層和第二 層之間達成一種穩定的導電性及機械性的耦合。 又,當至少一第一電極導電性地與多個第二電極相耦 合時是有利的。因此,可藉由第一和第二電極來構成複雜 的電子電路結構。 在另一有利的實施形式中,相鄰的多個第二電極至少 一部份相互之間具有一種大約1 0 0微米至3 0 0微米之距離。 這樣可使該電子單元微小化地形成在該光電裝置中,且因 此可以省空間的方式來形成該電子單元。 在另一有利的實施形式中,該光電裝置具有多個層堆 疊,其可形成一種大面積的光電裝置。 在另一有利的實施形式中,該電子單元包括多個電子 次(s u b)單元,其在空間中互相隔開而配置著。該電子控制 單元特別是包括多個電子次控制單元。這樣可使各電子次 控制單元分佈在基板上,基板上配置著層堆疊和該電子控 制單元。於是,特別是可經由整個光電裝置而均勻地發出 電磁輻射。 在另一有利的實施形式中,可經由一電子次控制單元 來分別控制一組層堆疊。因此,用來控制及/或調整該層堆 疊的個別的次控制單元可分別用來控制或調整一部份數量 的層堆疊。於是,可使電力負載良好地分佈在不同的電子 200833162 次控制單元上。 在另一有利的實施形式中,該光電裝置具有唯一的外 部電性導線’其導電性地與電子單兀相親合’這樣可藉由 唯一的外部電性導線以經由電子單兀’特別是經由電子控 制單元,將該光電裝置連接至一外部的電流及/或電壓供應 源,於是可容易地安裝該光電裝置。特別是可防止:多條 外部的電性導線必須延伸至該光電裝置。 在另一有利的實施形式中,該光電裝置具有一輻射感 ' 測器,其在電性上是與該電子控制單兀相親合,使該幅射 感測器之一信號可發送至該電子控制單元,且須配置該輻 射感測器,使該層堆疊之用來發出電磁輻射的活性區可依 據該輻射感測器之信號來控制。於是,該層堆疊所發出的 電磁輻射可達成一種穩定的位準。此外,這樣可在該光電 裝置的內部中以積體方式來形成該輻射感測器,這顯示出 一種特別省空間且成本有利的解法。 ^ 依據本發明的第二式樣,本發明提供一種光電裝置的 〇 、 製造方法,其包括以下的步驟:製備一基板,施加第一層 於該基板上,其中第一層具有一導電的氧化物,於第一層 上施加一種具有金屬的第二層,在形成至少一第一電極和 一第二電極的情況下剝除第一層的一部份及/或第二層的一 部份’以及施加一種層堆疊的一活性區於第一電極的第二 層上’且電子構件施加在第二電極的第二層上,使電子構 件導電性地與第二電極相耦接。於是,在製造該含有一有 機材料的層堆疊以及該電子單元時可將不同的步驟互相組 -9- 200833162 合。這樣可成本特別有利地製造一種光電裝置。 在光電裝置之製造方法的一有利的實施形式中,在將 該層堆疊之活性區施加在第一電極的第二層上以及將電子 構件施加在第二電極的第二層上時的此步驟中,首先將電 子構件施加在第二電極的第二層上,且然後將該層堆疊之 活性區施加在第一電極之第二層上。於是,只有在該活性 區可受到保護使不受外界所影響時,才可施加該層堆疊之 活性區。 ^ 在光電裝置之製造方法的一有利的實施形式中,電子 構件藉由厚層技術而施加在第二電極之第二層上。厚層技 術之方法特別是指成本有利且已證實之方法,其用來將電 子構件施加在基板上或層上。 此外,當在施加第一層於基板上且施加第二層於第一 層上之間的步驟中以另一步驟將第一層之一些部份剝除時 是有利的。因此’較佳是具有導電氧化物之第一層可有利 地在下一步驟之前即已被處理。 [ — 在上述方法之另一有利的實施形式中,在施加一層堆 疊之活性區於第一電極之第二層上且施加電子構件於第二 電極之第二層上的步驟之後,在下一步驟中製備一外部的 電性導線以及使該外部之電性導線可與該電子單元(特別是 電子控制單元)導電性地相耦接。於是,可以特別簡單的方 式而以唯一的外部導線來形成光電裝置。 在上述方法之另一有利的實施形式中,在施加一層堆 疊之活性區於第一電極之第二層上且施加電子構件於第二 -10- 200833162 電極之第二層上的步驟之後,在下一步驟中以一保護層使 該電子單元之至少一部份改變形式以形成一種包封。於 是’該電子單元可受到保護而不受外界所影響。 本發明有利的形式以下將依據圖式來詳述。 【實施方式】 相同構造或功能的元件在各圖中以相同的參考符號來 表示。所示的各元件及其相互間的大小比例基本上未按比 例來繪出。反之,個別的元件,例如,層、構件、組件和 { 區域爲了更容易看見及/或爲了更容易了解而予以加粗或放 大。 第1圖中顯示一種光電裝置之實施例。 光電裝置具有一種層堆疊10,其包括一用來發出電磁 輻射之活性區1 2,此活性區1 2包含一種有機材料。此活性 區12可具備有機聚合物、有機微聚合物、有機單體、有機 之小的非聚合分子(“小分子,,)或上述物質的組合。活性區1 2 之適當的材料以及各材料的配置和結構化已爲此行的專家 所知悉’此處因此不再詳述。活性區12中可藉由電子和電 洞的再組合來產生具有個別波長或波長範圍的電磁輻射。 於是’在觀看者中可激發一種單色的、多彩色的及/或混合 彩色的發光印象。 第一電極1 4、1 6是與該活性區1 2相鄰而配置著。特別 是第一電極1 4、1 6可以平面形式來形成或使一部份區域被 結構化。第一電極1 4在第1圖中是配置在該活性區1 2下方 且較佳是構成陽極,於是可用作電洞誘導元件。第一電極 -11- 200833162 14具有第一層141和第二層142,其中第一電極14之第二 層142對應於第一電極14之第一層141。 第一電極14之第一層141特別是以導電之氧化物來形 成。第一電極14之第一層141形成透明的導電氧化物 (Transparent Conductive Oxide,TCO)時特別有利。 透明的導電氧化物是透明的導電材料,通常是金屬氧 化物,例如,氧化鋅、氧化錫、氧化鎘、氧化鈦、氧化銦 或特別佳時是銦錫氧化物(IT0)。除了二元的金屬氧化合物 1' (例如,Zn〇、Sn〇2、In2〇3)之外,亦包括三元的金屬氧化物, 修!1$口,ZmSnCU、CdSnCh、ZnSn〇3、Mgliu〇4、Galn〇3、Zn2ln2〇5 或 In4Sn3〇12或不同的透明之導電氧化物之混合物亦屬於 TC0所形成之群組(group)。此外,TC◦之成份未必與化學 計量上的成份相同而是亦可P或η摻雜。 第一電極1 4之第二層1 4 2較佳是包括鉻或銅。 第1圖中配置在活性區1 2上方的另一第一電極1 6較佳 是構成陰極且因此是用來誘導電子的元件。此一電極的材
(I 料特別是鋁、鋇、銦、銀、金、鎂、鈣或鋰以及上述各金 屬之化合物、組合和合金時是有利的。 上述光電裝置另外具有一電子單元,其在本實施例中 由電子控制單元20所構成,以用來控制及/或調整該層堆疊 10。電子控制單元20具有第二電極24,26’其與電子構件 22相接觸。第二電極24在第1圖中配置在電子構件22下 方。第二電極24具有第一層241和第二層242。第一層241 形成時的方式是與第一電極14之第一層141者相同’且第 -12- 200833162 二電極24之第二層242形成時的方式是與第一電極14之第 二層142者相同。第1圖中配置在電子構件22上方之另一 第二電極26形成時的方式是與該層堆疊1 〇之活性區1 2上 方之另一第一電極16者相同。 電子控制單元20亦可以是一種電子電路之一部份。電 子控制單元20特別是可爲一種積體電路(ic)或電路用之一 種主動式或被動式電子模組或一種主動式或被動式電子構 件。 、 層堆疊10和電子控制單元20配置在一共同的基板30 上。當此基板3 0具有玻璃時特別有利。另一方式是,此基 板30亦可包括石英、塑料箔、金屬、金屬箔、矽晶圓或其 它任意之適當的基板材料。另一方式是,基板30亦可具有 一種積層或一種由多個層所構成的層序列。於此,至少一 層可具有玻璃或由玻璃所構成。特別是在由層序列所形成 的基板3 0中至少一層可具有玻璃,此層上配置著層堆疊1 0 和電子控制單元20。此外,該基板30亦可具有塑料。 上述光電裝置若以OLED構成且因此特別是構成所謂” 底部發射器”,即,活性區1 2中所發出的電磁輻射經由基板 30而發出,則該基板30對該活性區1 2中所產生的電磁輻 射之至少一部份可有利地具有一種透明度。在上述之底部 發射器組態中,第一電極14和第二電極24對該活性區1 2 中所產生的電磁輻射之至少一部份亦可有利地具有一種透 明度。 一第二電極26在第1圖中配置在電子構件22上方。第 -13- 200833162 二電極26可構成陰極且因此用作電子誘導元件。 上述光電裝置可另外具有一保護層40,其須與該基板 30相耦合,使層堆疊1 〇和電子控制單元20及所屬的電極 14、16、24、26和活性區12以及電子構件22可受到保護 使不濕氣及/或具氧化性的物質(例如,氧)所影響。該包封 可有利地包括一層或多個層,其中該包封之保護層40較佳 是具有平面層、位障層、可吸收水及/或氧的層、化合物層 或上述各種層的組合。 此外,上述光電裝置可具有光電元件,其在電磁輻射 的發射方向中配置在活性區之後。一種循環(circular)極化 器特別是可配置在該基板30之外側上(在底部發射器時)或 配置在該保護層40上方(在頂部發射器時),這樣可有利地 防止:由外部入射至該光電裝置中且例如可在電極1 4、1 6、 24、26上反射的光又由該光電裝置中發出。 上述之光電裝置可另外具有一外部的電性導線50,其 在電性上與該電子控制單元20相耦接。該外部的電性導線 5 0在本實施形式中形成唯一的外部導線,其用來使該光電 裝置在電性上與其它的電子控制單元及/或一電流及/或一 電壓供應源相耦接。另一方式是,該光電裝置亦可具有多 條外部的電性導線。 第2圖顯示光電裝置之一部份已斷開的俯視圖。 此光電裝置具有多個第一電極14、16和多個第二電極 24、26。爲了清楚之故,第一電極14、16和第二電極24只 顯示一部份且另一電極26未顯示。第一電極1 4和第二電極 -14- 200833162 24較佳是配置在一共同平面中。另一第一電極16較佳是配 置在一與該共同平面不同的平面中。 本實施形式中,電子單元具有一輻射感測器5 2和一電 子控制單元20。電子控制單元20包括多個電子次(sub)控制 單元20a、20b、20c、20d,其分佈在該基板30上。電子次 (sub)控制單元20a、20b、20c、20d在本實施形式中配置在 基板3 0之角隅區中,但亦可以另一方式而配置在基板3 0 之其它區域中,此時較佳是配置在基板30之邊緣區域中, ^ 這樣可使光電裝置達成一種均勻的亮度。 第一電極1 4和第二電極24導電性地互相連接。第一電 極1 4較佳是形成在該層堆疊1 0之活性區1 2之下方且以互 相平行而配置的導電軌的形式來形成,另一第一電極1 6形 成在該層堆疊10之活性區12之上方且以垂直於第一電極 1 4而平行延伸地配置的導電軌來形成。層堆疊1 〇之活性區 1 2配置在第一電極1 4和另一第一電極1 6之間。 須形成且配置電子次(sub)控制單元20a、20b、20c、20d, ί I 使每一電子次控制單元20a、20b、20c、20d都可控制由具 有活性區1 2之層堆疊1 0所形成的群組1 1。這例如顯示在 第2圖之與電子次(sub)控制單元20b有關的右上方中。 各相鄰的第二電極24相互之間分別具有一距離D。此 距離D較佳是大約1〇〇微米至300微米,其中此距離D被 視爲中央至中央的距離,使此距離D可稱爲相鄰的第二電 極24的柵格(raster)。由於此距離D大約是1〇〇微米至300 微米,則一方面可使電子控制單元20微小化,且另一方面 -15- 200833162 可使相鄰的第二電極24容易地達成電性上的接觸。以相對 應的方式,則未圖示的其它相鄰的第二電極26之間分別具 有距離D。 輻射感測器52經由一感測器連接線54而與電子控制單 元20在電性上相耦合。該輻射感測器52之信號56可經由 該感測器連接線54而到達該電子控制單元20,特別是到達 電子次控制單元20b。 藉由電子控制單元20,則可對該輻射感測器52之信號 5 6進行評估。若藉由該輻射感測器5 2來偵測該用來控制及 /或調整上述層堆疊10之電子控制單元20,使由該層堆疊 1 0之活性區1 2所發出的電磁輻射不足夠,則可藉由電流或 電壓來控制的調整以控制該層堆疊1 0之活性層1 2,以便由 此層堆疊1 0再發出一種足夠大的電磁輻射。 像第1、2圖所示的光電裝置由於上述的優點而可達成 高的經濟效益以及由於有效地節省材料而達成低的成本。 上述光電裝置特別適合用在緊密式省空間之平面造型的顯 示器及/或照明裝置中。 藉由在g亥共同的基板30上形成該層堆疊1〇和電子單 元,則特別是可省空間地形成該光電裝置。電子單元由於 該電子單元20和該層堆疊1〇之共用的保護層4〇而不需個 別的外殼。此光電裝置之操控特別是可藉由該共用的基板 30、共用的保護層40和共用的唯一之外部電性導線5〇之形 成而很簡易地來達成。 此外’第3圖顯示上述光電裝置之製造方法之流程圖。 -16- 200833162 此方法開始於步驟s 8。 的 時 層 實 施 第 除 14 10 單 加 施 電 術 步驟S 1 0中,須製備該基板3 0。此製備可包括此行 專家在製造光電裝置時已知的各步驟。 步驟S12中,第一層141、241施加在基板30上,此 第一層14 1、24 1具有一種導電性的氧化物。施加第一 141、241時較佳是藉由微影術來達成。在本方法的另一 施形式中,第一層141、241亦施加在已製備的基板30上 在下一可選擇的(optinal)步驟S14中,將第一層141 f 241之一部份剝除。 在下一步驟S16中,將具有金屬的第二層142、242 加在第一層141、241上,這較佳是藉由微影術來達成。 二層142、242特別是可藉由黏合促進劑而在機械上與第 層1 4 1、24 1相耦接。該黏合促進劑較佳是鉻或鉬。 在步驟S 1 8中,藉由第一層1 4 1、24 1之一部份被剝 及/或第二層142、242之一部份被剝除而形成第一電極 和第二電極24。因此,較佳是形成該光電裝置之層堆疊
C I 之形式以及形成電子單元之佈局,特別是形成電子控制 元之電路之佈局。 下一步驟S20中,在第一電極14之第二層142上施 該層堆疊10之活性區12,且在第二電極之第二層242上 加電子構件22。須施加該電子構件22,使電子構件22導 性地與第二電極24相耦接。 施加電子構件22時較佳是以厚層技術來達成,此技 可特別簡易地以成本有利的方式來進行。 -17-
200833162 當電子構件22首先施加在第二電極24之第二層 上且隨後將該層堆疊1 〇之活性區1 2施加在第一電極 第二層1 42上時特別有利。因此,該層堆疊1 〇之活性 可在本方法的此一時點時施加至第一電極1 4之第二層 上,此一時點短暫地在施加該保護層4 0 (請參閱步驟 之前,這樣可使該活性區1 2受到保護使不受濕氣或其 界所影響。 在下一步驟S22中,須製備該外部的電性導線50 外部的電性導線50導電性地與電子單元(特別是電子 單元;20)相耦接。因此,該光電裝置可特別簡易地設: 的外部導線。電子單元和層堆疊1 〇之間的電性連接 第一電極14、16和第二電極24、26之適當的耦接來 在下一步驟S24中,電子單元至少一部份藉由該 4 0來轉變形式,該保護層較佳是包括一種塑料,特 括環氧樹脂。於是,電子單元可受到保護使不受外 饗,且可達成一種穩定的固定作用。另一方式是, 疊1 〇或其一部份可藉由該保護層4〇來改變形式。 在下一步驟S26中,此一光電裝置的製造方法即 本發明當然不限於依據各實施例中所作的描: 之,本發明包含每一新的特徵和各特徵的每一種組 別包S各申SR專利範圍或不同實施例之個別特徵 稹組合,當相關的特徵或相關的組合本身未明顯地 各申請專利範圍中或各實施例中時亦屬本發明。 • 242 14之 區12 \ 142 S24) 它外 且該 控制 唯一 藉由 成。 :護層 丨是包 -所影 :層堆 吉束。 。反 、,特 :每一 ί示在 -18- 200833162 【圖式簡單說明】 第1圖光電裝置之切面圖。 第2圖光電裝置之一部份已斷開的俯視圖。 第3圖光電裝置之製造方法的流程圖。 【主要元件符號說明】 10 層 堆 疊 11 層 堆 疊 所 形 成 的 群 組 12 活 性 區 14, 16 第 一 電 極 20 電 子 控 制 單 元 2 0 a ^ -20d 電 子 次 控 制 單 元 22 電 子 構 件 24, 26 第 二 電 極 30 基 板 40 保 護 層 50 導 線 52 感 測 器 54 感 測 器 連 接 線 56 感 測 器 之 信 141 第 電 極 之 第 —^ 層 142 第 -—" 電 極 之 第 二 層 241 第 二 電 極 之 第 一 層 242 第 二 電 極 之 第 二 層 D 相 鄰 的 第 二 電 極 之 間的距離 -19-

Claims (1)

  1. 200833162 十、申請專利範圍: 1. 一種光電裝置(60),具有: -一包括有機材料之層堆疊(10),其具有一用來發出電磁 輻射之活性區(12);以及 -一電子單元, 其中該層堆疊(10)和該電子單元配置在一共同基板(30) 上。 2. 如申請專利範圍第1項之光電裝置(6〇),其中該電子單元 Γ 具有一控制單元(20),以控制及/或調整該層堆疊(1〇)。 3·如申請專利範圍第1或2項之光電裝置(60),其中該電子 單元具有一保護層,以保護該層堆疊(10)。 4.如申請專利範圍第1至3項中任一項之光電裝置(6 0 ),其 中該電子單元具有一測定單元或監視單元,以測定或監 視該電磁輻射。 5 ·如申請專利範圍第1至4項中任一項之光電裝置(6 0 ),其 中該層堆疊(10)具有第一電極(14,16)且該電子單元具有 \ / 第二電極(24,26),第一電極(14,16)中至少一個和第二 電極(24,26)中至少一個導電性地互相耦接。 6·如申請專利範圍第1至5項中任一項之光電裝置(60),其 中具有一保護層(40),其配置成使該電子單元至少一部份 配置在基板(30)和該保護層(40)之間。 7 .如申請專利範圍第6項之光電裝置(6 0 ),其中該基板(3 〇) 及/或該保護層(40)具有一形式穩定的材料。 8·如申請專利範圍第6或7項之光電裝置(6〇),其中該基板 -20- 200833162 (30)及/或該保護層(40)具有玻璃。 9.如申請專利範圍第6至8項中任一項之光電裝置(60),其 中該基板(30)及/或該保護層(40)具有一種材料,其可透過 該活性區(12)所發出的電磁輻射。 10. 如申請專利範圍第5至9項中任一項之光電裝置(60),其 中第一電極(14,16)之一及/或第二電極(24,26)之一具有 至少一層(141,142,241,242),其包括一導電之氧化物 及/或金屬。 11. 如申請專利範圍第1〇項之光電裝置(60),其中第一電極 (14,16)之至少一個及/或第二電極(24,26)之一個具有層 序列,其至少第一層(141,241)具有一導電之氧化物,且 第二層(142,242)具有金屬。 12. 如申請專利範圍第10或11項之光電裝置(60),其中金屬 係從由銅、銘、銀和鉻所組成的群組中選取。 13. 如申請專利範圍第5至12項中任一項之光電裝置(60), 其中第一電極(14,16)之至少一個是與多個第二電極(24 ,26)導電性地相耦接著。 14. 如申請專利範圍第13項之光電裝置(60),其中相鄰的多 個第二電極(24,26)之間至少一部份分別具有一種100 μιη 至3 0 0 μ m的距離(D )。 15·如申請專利範圍第1至14項中任一項之光電裝置(60), 其具有多個層堆疊(10)。 16·如申請專利範圍第2至15項中任一項之光電裝置(60), 其中電子控制單元(20)包括多個電子次控制單元(20a, -21- 200833162 20b,20c,20d),其在空間中互相隔開而配置著。 17. 如申請專利範圍第16項之光電裝置(60),其中一群組(11) 的層堆疊(10)分別可藉由電子次控制單元(20a, 20b,20c, 20d)之一來控制。 18. 如申請專利範圍第1至17項中任一項之光電裝置(60), 其中此光電裝置(60)具有唯一的外部電性導線(50),其導 電性地與該電子單元相耦接。。 19. 如申請專利範圍第2、4項及其相關之項之光電裝置(60) I ,其中此光電裝置(60)具有一輻射感測器(52),其在電性 上與該電子控制單元(20)相耦接,使該輻射感測器(52)之 一信號(56)可發出至該電子控制單元(20),且須配置該輻 射感測器(52),使該層堆疊(10)之發出電磁輻射用之活性 區(12)可由該輻射感測器(52)之信號(56)來控制。 20. —種光電裝置(60)之製造方法,包括以下各步驟: -製備一基板(30), -施加第一層(141,241)至該基板上,其中第一層(141,241) ί I I 具有一導電之氧化物, -施加一種具有金屬的第二層(142, 242)至第一層(141,241) 上, -在形成至少一第一電極(14)和一第二電極(24)之情況下 ,將第一層(141,241)之一部份及/或第二層(142,242) 之一部份剝除, -施加一種層堆疊(10)之一活性區(12)至第一電極(14)之 第二層(142)上,且施加電子構件(22)至第二電極(24)之 -22- 200833162 第二層(242)上,使電子構件(22)導電性地與第二電極(24) 相耦接。 2 1 .如申請專利範圍第20項之製造方法,其中在施加該層堆 疊(10)之活性區(12)至第一電極(14)之第二層(142)上且 施加電子構件(2 2)至第二電極(24)之第二層(24 2)上時之 此一步驟中,首先將電子構件(22)施加至第二電極(24) 之第二層(242)上且隨後將該層堆疊(10)之活性區(12)施 加至第一電極(14)之第二層(142)上。 ^ 22.如申請專利範圍第20或21項之製造方法,其中該電子構 件(22)藉由厚層技術而施加在第二電極(24)之第二層 (242)上。 23. 如申請專利範圍第20至22項中任一項之製造方法,其中 在施加第一層(141,241)至基板上且施加第二層(142, 242) 至第一層(1 4 1,24 1)上之間的另一步驟中: -剝除第一層(1 4 1,2 4 1)之一部份。 24. 如申請專利範圍第20至23項中任一項之製造方法,其中 I 在施加該層序列(10)之活性區(12)至第一電極(14)之第二 層(142)上且施加電子構件(22)至第二電極(24)之第二層 (242)上之後的下一步驟中: -製備一外部之電性導線(50),以及 -使該導線(50)導電性地與該電子單元相耦接。 25. 如申請專利範圍第20至24項中任一項之製造方法,其中 在施加該層序列(10)之活性區(12)至第一電極(14)之第二 層(142)上且施加電子構件(22)至第二電極(24)之第二層 -23- 200833162 (242)上之後的下一步驟中: -以一種保護層(40)使該電子單元(20)之至少一部份改變 形式而形成一種包封。
    -24-
TW097100803A 2007-01-11 2008-01-09 Optoelectronic device and method of fabricating optoelectronic device TW200833162A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102007001742A DE102007001742A1 (de) 2007-01-11 2007-01-11 Optoelektronische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW200833162A true TW200833162A (en) 2008-08-01

Family

ID=39415390

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW097100803A TW200833162A (en) 2007-01-11 2008-01-09 Optoelectronic device and method of fabricating optoelectronic device

Country Status (3)

Country Link
DE (1) DE102007001742A1 (zh)
TW (1) TW200833162A (zh)
WO (1) WO2008083671A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI469020B (zh) * 2008-08-06 2015-01-11 Wacom Co Ltd Position detection device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101887904B (zh) * 2009-05-15 2013-02-06 上海天马微电子有限公司 集成触摸屏的有机发光二极管显示器

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1154268A (ja) * 1997-08-08 1999-02-26 Sanyo Electric Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置
JP2001130048A (ja) * 1999-11-08 2001-05-15 Canon Inc 発光装置およびそれを用いた露光装置、記録装置
JP2002072963A (ja) * 2000-06-12 2002-03-12 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光モジュールおよびその駆動方法並びに光センサ
US6582980B2 (en) * 2001-01-30 2003-06-24 Eastman Kodak Company System for integrating digital control with common substrate display devices
JP4831874B2 (ja) * 2001-02-26 2011-12-07 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及び電子機器
US7483001B2 (en) * 2001-11-21 2009-01-27 Seiko Epson Corporation Active matrix substrate, electro-optical device, and electronic device
JP3865245B2 (ja) * 2003-03-12 2007-01-10 富士電機ホールディングス株式会社 有機elディスプレイの製造方法および製造装置
JP2005011793A (ja) * 2003-05-29 2005-01-13 Sony Corp 積層構造の製造方法および積層構造、表示素子ならびに表示装置
US20060264143A1 (en) * 2003-12-08 2006-11-23 Ritdisplay Corporation Fabricating method of an organic electroluminescent device having solar cells
DE10359881A1 (de) * 2003-12-12 2005-07-14 Samsung SDI Co., Ltd., Suwon OLED-Bauelement und Aktiv-Matrix-Display auf Basis von OLED-Bauelementen und Verfahren zum Steuern derselben
DE102004002587B4 (de) * 2004-01-16 2006-06-01 Novaled Gmbh Bildelement für eine Aktiv-Matrix-Anzeige
WO2005089288A2 (en) * 2004-03-15 2005-09-29 Fuji Electric Holdings Co., Ltd. Driver and drive method for organic bistable electrical device and organic led display
TWI302644B (en) * 2004-09-29 2008-11-01 Seiko Epson Corp Electro-optical device, image forming apparatus, and image reader
US7645478B2 (en) * 2005-03-31 2010-01-12 3M Innovative Properties Company Methods of making displays
JP2006330469A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp 有機エレクトロルミネッセンス表示装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI469020B (zh) * 2008-08-06 2015-01-11 Wacom Co Ltd Position detection device

Also Published As

Publication number Publication date
DE102007001742A1 (de) 2008-07-17
WO2008083671A1 (de) 2008-07-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11095763B2 (en) Light-emitting device having multiple curved regions
JP2020004739A (ja) 発光装置の作製方法
JP5794915B2 (ja) ビーム放射装置およびビーム放射装置を製造する方法
KR101548400B1 (ko) 유기 발광 다이오드,접촉 장치 및 유기 발광 다이오드의 제조 방법
TWI438888B (zh) 具載體基板與複數發光半導體元件之光電模組及其製造方法
JP2010541224A (ja) オプトエレクトロニクス半導体チップ、オプトエレクトロニクスコンポーネント、およびオプトエレクトロニクスコンポーネントの製造方法
KR20150038667A (ko) 광전자 반도체 컴포넌트
TW200418341A (en) Dual panel type organic electroluminescent device and method of fabricating the same
US20110186866A1 (en) Optoelectronic device array
CN103081575B (zh) 在电路板上的光源装置和具有多个光源装置的光源设备
TW201117439A (en) Optoelectronic module
JP5881926B2 (ja) オプトエレクトロニクスデバイス及び該オプトエレクトロニクスデバイスを製造するための方法
TW200833162A (en) Optoelectronic device and method of fabricating optoelectronic device
KR20150004919A (ko) 전자 컴포넌트 및 전자 컴포넌트를 생산하기 위한 방법
KR20150143405A (ko) 유기 발광 다이오드(oled) 디바이스의 전기적 연결
KR101486844B1 (ko) 복사 방출 장치 및 복사 방출 장치의 제조 방법
KR20160055142A (ko) 복사선 방출 장치 및 그 제조 방법
CN1802049A (zh) 发光装置及其制造方法
US9502685B2 (en) Organic EL element including EL layer and insulating layer between electrodes
JP2008172058A (ja) フォトカプラ