TR201809103T4 - Fleksografik baskı kalıbı üretmek için metot ve fleksografik baskı kalıbı. - Google Patents
Fleksografik baskı kalıbı üretmek için metot ve fleksografik baskı kalıbı. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201809103T4 TR201809103T4 TR2018/09103T TR201809103T TR201809103T4 TR 201809103 T4 TR201809103 T4 TR 201809103T4 TR 2018/09103 T TR2018/09103 T TR 2018/09103T TR 201809103 T TR201809103 T TR 201809103T TR 201809103 T4 TR201809103 T4 TR 201809103T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- latex
- mass
- compound
- printing plate
- less
- Prior art date
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 79
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000004816 latex Substances 0.000 claims abstract description 64
- 229920000126 latex Polymers 0.000 claims abstract description 64
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 53
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 46
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims abstract description 30
- 238000001879 gelation Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 22
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims description 26
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 21
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 18
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 17
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 39
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 37
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 21
- -1 alkyl benzenesulfonate Chemical compound 0.000 description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 9
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 8
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 8
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 8
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 8
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 8
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 6
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 6
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 6
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 5
- 238000007647 flexography Methods 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 4
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 2
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007774 anilox coating Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical class CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010040007 Sense of oppression Diseases 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical class OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- OYQYHJRSHHYEIG-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;urea Chemical compound NC(N)=O.CCOC(N)=O OYQYHJRSHHYEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- CEPFHYCUZFQHSM-UHFFFAOYSA-N methyl 2-aminoethanesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)CCN CEPFHYCUZFQHSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 150000005673 monoalkenes Chemical class 0.000 description 1
- UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylethane-1,2-diamine Chemical class CCN(CC)CCN UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical class OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/04—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain a surface receptive to ink or other liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/003—Printing plates or foils; Materials therefor with ink abhesive means or abhesive forming means, such as abhesive siloxane or fluoro compounds, e.g. for dry lithographic printing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
- G03F7/405—Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D2518/00—Other type of polymers
- B05D2518/10—Silicon-containing polymers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Uzun süreli bir baskı işleminde dahi kalıp yüzeyi kontaminasyonunun önlenebileceği bir fleksografik baskı kalıbı imalat yöntemi temin edilir. Bir fleksografik baskı kalıbının imalatı için bir metodun karakterize edici özelliği, amino modifiye bir silikon bileşiği içeren bir sıvının, kütle olarak %50?den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir fleksografik baskı kalıbıyla temas ettirilmesidir. Adı geçen lateksin muhteviyatı, tercihen, baskı kalıbı reçinesi bileşimi içerisinde kütle olarak %30?dan daha az değildir, ve amino modifiye silikon bileşiğinin amino grubu eşdeğeri tercihen 500 g/mol?den daha az değildir.
Description
TARIFNAMEFLEKSOGRAFIK BASKI KALIBI URETMEK ICIN METOT
VE FLEKSOGRAF IK BASKI KALIBIMevcut bulus, bir fleksografik baski kalibi imalati için bir metotla vebir fleksografik baski kalibiyla ilgilidir.Arka Plan TeknigiÖrnegin Patent Doküinanlari 1 ila 3 içerisinde bahsedildigi gibi,
fleksografi için geleneksel fotosensitif reçine kaliplari pozlandirma,
indirine ve pozlandirma sonrasi adimlari vasitasiyla imal edilirler.
Fleksografi için fotosensitif reçine kalibinin kullanildigi bir baski
metodu, bir mürekkep tedarik etme rulosu kullanilarak düzgün
olmayan reçine kalibinin konveks yüzeyi üzerine mürekkebin tedarik
edildigi, ve ardindan reçine kalibiniii baski yapilacak nesneyle temas
ettirildigi, böylece konveks yüzeyin mürekkebinin baski yapilacak
nesne üzerine transfer edildigi bir metottur. Bu tür bir fleksografide,
reçine kalibinin konveks yüzeyinin bir omuz alanina mürekkebin
tutunmasi veya mürekkebin konkaV yüzeye nüfuz etmesi (bundan
böyle buna "kalip yüzeyi kontaminasyonu" olarak atfedilecektir), sik
olarak, uzun süreli baski islemi sirasinda ortaya çikar. Bunun bir
sonucu olarak, içkin desen alani olmayan bir alana bile baskiyapilabilir, bu ise baski kalitesinin kötülesmesine yol açar.
Özellikle de yakin geçmiste, fleksografinin yüksek dogrulukta baski
islemine uygulanmasi ilerleme kaydetinistir ve yüksek satir
sayilarinda bir yarim ton noktali baski islemi, renk ve konsantrasyon
derecelendirmesi olusturmak için çabuk yürütülmüstür. Bu durumda
yarim ton noktalar arasindaki araliklar daha az oldugu için, mürekkep,
baski kalibiiiin yariin ton noktalarinin konkavlari içerisine daha kolay
doldurulur. Mürekkep, baski kalibiniii konkavlari içerisinde önceden
belirlenmis veya daha fazla bir miktarda teplandiginda, noktalar
arasinda köprü olusturmak için, baski yapilacak nesneye transfer
edilir, bu da baski kalitesinin öiiemli ölçüde kötülesmesiylesonuçlanir.Fleksografinin karakteristiklerinden biri, sulu mürekkep, alkollü
mürekkep, solveiit tipi mürekkep veya UV mürekkep gibi, çesitli tipte
mürekkeplere uyum saglamasidir. Diger yandan, herhangi tipte bir
mürekkep kullanildiginda dahi, kalip yüzeyi kontaminasyonunun
önlenmesi için bir talep mevcuttur. Ozellikle de, solvent tipi mürekkep
veya UV mürekkep gibi, kalip malzemesi için yüksek permeabiliteye
sahip bir mürekkep kullanilsa dahi, kalip yüzeyi kontaniinasyonununönlenmesi gereklidir.Bir fleksografik baski kalibinin kalip yüzeyi kontamiiiasyonunun
önleniiiesine iliskin olarak zeten birçok metot önerilmistir. Ornegin,
Patent Doküinani 4, esasen polyester reçine içeren bir baski kalibi
üzerine firçayla sürme veya püskürtme yoluyla silikon yaginin, silikon
kauçugun, silikon vemigin veya florin bilesigiiiin tutundugu bir
teknigi açiklamaktadir. Kalip yüzeyi kontaminasyonu için baziönleyici etkilerin bu tür bir teknik sayesinde elde edilmesine ragmen,
noktalar arasinda dar araliklarin oldugu yüksek satir sayilarinda bir
yarim ton noktali baski isleminde kalip yüzeyi kontaminasyonuönlenemez. Süreklilik etkisi de yetersizdir.Patent Dokümani 5 içerisinde, bir sulu reçineden ve silikon bilesiginin
veya florin bilesiginin bir sulu emülsiyonundan olusan bir karisimiii
bir elastomer içeren bir baski kalibi üzerine uygulandigi bir metot
önerilmektedir. Ancak, modifiye edilmemis bir silikon bilesiginin
kullanimindan dolayi, kalip yüzeyi kontaminasyonunu `Önleme etkisi
yeterli degildir. Özellikle de, uzun süreli veya tekrarlamali bir baskida,
adi geçen etki hemen hemen hiç sürdürülemez, ve etkinin muhafazaedilmesi için, karisimin tekrar tekrar uygulanmasi gerekli olur.Patent Dokümani 6 içerisinde, hidrofilik polimer, stiren-butadien-
stiren blok kopolimeri, sivi butadien, foto-çapraz-baglama ajani ve
fotoinisiyatör içeren bir fleksografik baski kalibinin, modifiye edilmis
bir silikon bilesigi içeren bir çözeltiyle temas ettirilmesi için bir metot
önerilmektedir. Adi geçen bulusta, modifiye edilmis bir silikon
bilesiginin kullanimi sayesinde, kalip yüzeyi kontaminasyonunu
`Önleme etkisinde bir iyilesme elde edilir. Ancak, uzun süreli bir baski
isleminde, kalip yüzeyi kontaminasyonu ortaya çikar, ve özellikle de,
bir solvent tipi mürekkep veya UV mürekkep kullanildiginda, bunun
süreklilik etkisi yeterli olmaz. Adi geçen bulusta, ayrica, modifiye
edilmis bir silikon bilesiginin kalipla temas ettirilmesinden sonra, aktif
isiniii yayildigi bir metottan da bahsedilmekte olup, ancak sürekliliketkisi bu durumda da yetersizdir.
Patent Dokümani 7 içerisinde, blok kopolimer, foto-çapraz-baglama
ajani ve fotoiiiisiyatör içeren bir baski kalibi içerisine bir
organosilikon bilesiginin ilave edildigi bir metot açiklanniaktadir. Bu
metotta, silikon bir reçine bilesimi içerisine ilave edilir ve silikon
çözeltisinin kalip yüzeyiyle temas ettirildigi bir metoda kiyasla,
mükemmel bir süreklilik etkisi elde edilir. Ancak, organosilikon
bilesigi, tüm baski kalibi bilesimi içerisine yayilir, ve baski kalibi
yüzeyi üzerinde mevcut silikon miktari azdir. Bu yüzden, kritik 'Önem
tasiyan, mürekkebin neden oldugu tikanmayi 'Önleme etkisi yeterli
degildir. Reçine tabakasinin alt film üzerine tutunniasi da kötülesir ve
baski islemi sirasinda alt film ile reçine tabakasinin ayrilmasi gibi birciddi dezavantaj ortaya çikabilir.Patent Dokümani 1: Yayiiilaninis Japon Patent Basvurusu (JP-A) No.
171111/98Patent Dokümani 2: Yayinlanmis Japon Patent Basvurusu (JP-A) No.
88555/88Patent Dokümani 3: Yayinlanmis Japon Patent Basvurusu (JP-A) No.
134410/93Patent Dokümani 4: Yayinlaiimis Japon Pateiit Basvurusu (JP-A) No.
47805/76Patent Dokümaiii 5: Yayinlanmis Japon Patent Basvurusu (JP-A) No.
2002-292985Patent Dokümani 6: WO 2005/064413Patent Dokümani 7: WC 2007/ 1 16941
Mevcut bulusun ainaci, uzun bir zaman dilimi boyunca kalip yüzeyi
kontaininasyoiiunu önleyebilen bir baski kalibinin imalati için biryöntemin temin edilmesidir.Probleinin Çözümü için YolMevcut mucitler, bu tür bir amaca erismek için yogun arastirmalar
yapmislar, ve ainino modifiye bir silikon bilesigi içeren bir sivi, kütle
olarak %50”den daha az olinayan bir jelasyon derecesine sahip bir
lateks içeren bir fleksografik baski kalibiyla temas ettirildiginde,
burada 500 g/mol”den daha az olmayan amino grubu esdegerine sahip
bir amino modifiye silikon bilesigi kullanildiginda, yukarida
bahsedilen probleinin çözüldügünü bulmuslar, ve bunun üzerine
mevcut bulusu tamamlamislardir. Mevcut bulus, hein bir baski kalibi
bilesimi, hem de bir silikon bilesigi açisindan yürüttügümüz yogunarastirmalarin sonucunda yapilmistir.Bu yüzden, mevcut bulusu olusturan unsurlar asagidaki gibidir:(1) Bir fleksografik baski kalibinin imalati için bir inetot olup,
karakterize edici özelligi, ainino modifiye bir silikon bilesigi içeren bir
sivinin, kütle olarak %50”den daha az olinayan bir jelasyon derecesine
sahip bir lateks içeren bir fleksografik baski kalibiyla teinas
ettirilmesi, burada 500 g/mol°den daha az olmayan amino grubu
esdegerine sahip bir amino modifiye silikon bilesiginin
kullanilmasidir.(2) (1),e uygun imalat metodu olup, burada kütle olarak %50”dendaha az olmayan jelasyon derecesine sahip lateksin muhteviyati, bir
baski kalibi reçinesi bilesimi içerisinde kütle olarak %30”dan daha az
degildir.(3) (l)7e veya (2)”ye uygun imalat metodu olup, burada fleksografik
baski kalibi ayrica bir emülsiyonlastirici da içerir.(4) (3)”e uygun imalat metodu olup, burada emülsiyonlastirici, bir
anyonik sürfaktandir.(5) (1) ila (4)”e uygun imalat metodu olup, burada lateks, kütle olarak
%70,den daha az olinayan bir jelasyon derecesine sahiptir.(6) (1) ila (5),in imalat metotlarindan herhangi biriyle imal edilen bir
fleksografik baski kalibi.Bulusun AvantajlariMevcut bulusun imalat metoduyla hazirlanan fleksografik baski kalibi
içerisinde, solvent tipi bir mürekkebin kullanildigi uzun süreli bir
baski isleminde dahi kalip yüzeyi kontaminasyonu olusmaz ve yüksekkaliteli baski islemi uzun bir süre stabil bir sekilde yürütülebilir.Asagida, mevcut bulus, sadece, tercih edilen uygulama sekillerindegösterilecektir.Mevcut mucitler, hem bir baski kalibi reçinesi bilesimi, hem de bir
silikon bilesigi açisindan yaptiklari yogun arastirmalarin sonucunda,
kalip yüzeyi kontaminasyonu Önleme etkisinin mükemmel
sürdürülebildigi bir metot gelistirmislerdir. Böylece, bir baski kalibi
reçinesi bilesimi içerisine, kütle olarak %50”den daha az olmayan bir
jelasyon derecesine sahip bir lateks dahil edilmistir, ve bir silikonbilesigi olarak, amino grubu içeren bir bilesik kullanilmistir.
Ilk olarak, baski kalibini olusturan reçine bilesimi anlatilacaktir. Baski
kalibini olusturan reçine bilesiininin, kütle olarak %50°den daha az
olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateksi (A) esansiyel bir
bilesen olarak ihtiva etinesi ve ayrica fotopoliinerize edilebilir birbilesik (B) ve bir fotoinisiyatör (C) içermesi tercih edilir.Mevcut bulusta kullanilan baski kalibinin, kütle olarak %50°den daha
az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks (A) ihtiva etmesi
önemlidir. Lateks (A), tek bir lateks içerebilir veya birçok lateksin bir
karisimini içerebilir. Kütle olarak %50”den daha az olinayan bir
jelasyon derecesine sahip lateksin kullanilmasi sonucunda, kalip
yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin sürdürülebilirligi önemli
ölçüde iyilestirilir. Kütle olarak %70”den daha az olinayan bir
jelasyon derecesine sahip bir lateksin kullanilinasi tercih edilir. Buna
karsin, kütle olarak %50iden daha az olan bir jelasyon derecesine
sahip lateks kullanildiginda veya hiç lateks kullanilmadiginda, kalip
yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin sürdürülebilirligi önemliölçüde kötülesir.Mevcut bulusta, lateks (A)°nm jelasyon derecesi degeri, bunun toluen
içerisindeki çözünmezlik derecesiyle uyarilir. Spesifik olinak
gerekirse, yaklasik 3 g lateks çözeltisi, 100 nm kalinlikta, hassas
tartilinis bir PET film üzerine uygulanir, 100°C°de 1 saat kurutulur,
hassas tartilir, 25°C7de 48 saat bir toluen çözeltisi içerisine daldirilir,
110°C°de 2 saat kurutulur ve yeniden hassas tartilir, ardindan latekskati muhteviyatinda toluen içerisinde çözünmeyen maddenin kütle
fraksiyonu (birim: kütle %”si) hesaplanir ve elde edilen deger, mevcutbulusta lateksin jelasyon derecesi olarak kabul edilir.Mevcut bulusta kullanilacak lateks (A), yani belirli veya daha yüksek
bir seviyede jelasyon derecesine sahip bir lateks, geleneksel lateksler
arasindan uygun sekilde seçilebilir. Örnegin, bir polibutadien lateksi,
bir stiren-butadien kopolimer lateksi, bir akrilonitril-butadien
k0polimer lateksi, bir metil metakrilat-butadien k0polimer lateksi, ve
benzerleri kullanilabilir. Ayrica, bu lateksler (1net)akrilatla,
karboksiyle, ve benzerleriyle modifiye edilmis olabilirler. Burada,
jellesmis lateksler olarak çesitli sentetik lateksler ve dogal lateksler
piyasada mevcut olduklari için, aralarindan uygun olan biri, jellesmisbir lateks olarak seçilebilir.Mevcut bulusta kullanilan lateksin bir emülsiyonlastirici içermesi
tercih edilir. Bir emülsiyonlastirici, örnegin, bir molekül içerisinde
uzun Zincirli alkil grubu gibi bir hidrofobik gruba ve bir karboksilat
gibi bir hidrofilik gruba sahip bir bilesiktir ve bir emülsifiye etme
etkisi sergileyen bir bilesigi veya bir bilesimi gösterir.
Emülsiyonlastici olarak anyonik sürfaktan, iyonik olmayan sürfaktan,
katyonik sürfaktan, makroinoleküler sürfaktan veya bunlarin bir
karisimi kullanilabilir. Anyonik sürfaktanin örneklerine yüksek yag
asidi tuzu, alfa-olefin Sülfonat, alkil benzensülfonat, alkil sülfat tuzu,
alkil eter sülfat tuzu, metil taurinat ve sülfosüksinat dahildir. Iyonik
olmayan sürfaktan örneklerine yüksek alkolün etilen oksitle adüktü,
alkilfenolün etilen oksitle adüktü, yag asidinin etilen oksitle adüktü,
polihidrik alkol yag asidi esterinin etilen oksitle adüktü, yüksekalkilaminin etilen oksitle adüktü ve yag asidi amidinin etilen oksitleadüktü dahildir. Bir polietilen glikol tipi sürfaktan, örnegin
polipropilen glikolün etilen oksitle adüktü ve bir polihidrik alkol tipi
sürfaktan, örnegin gliserol yag asidi esteri, pentaeritritol yag asidi
esteri, sorbitol ve sorbitan yag asidi esteri, polihidrik alkol alkil ester
ve alkanolaminin yag asidi amidi de, iyonik olinayan sürfaktan
örnekleridir. Katyonik sürfaktan örneklerine açilaminoetil dietilamin
tuzu, N-alkil polialkilenpoliamin tuzu, yag asidi polietilenpoliamid
tuzu, dietilaminoetilamid tuzu, alkil trimetilamonyum tuzu, dialkil
dimetilamonyum tuzu ve alkil dimetilamonyum tuzu dahildir.
Makromoleküler sürfaktan örneklerine, bir molekül içerisinde bir
hidrofilik grup içeren akrilik reçine dahildir. Bu tür
em'ûlsiyonlastiricilar olarak, bunlarin bir türü tek basina veya bunlariniki veya daha fazla türü, birbirlerine karistirilarak kullanilabilir.Bir emülsiyonlastirici içeren lateksin kullanildigi bir kalip malzemesi,
su itme etkisini sürdürmede mükemmeldir ve uzun süreli baski
isleminden sonra dahi noktalar arasinda köprü olusturmayla hemen
hemen hiç sonuçlanmaz. Anyonik Sürfaktanin bir emülsiyonlastirici
olarak kullanildigi lateksi kullanan bir kalip malzemesi, özellikle de,
su itme etkisinin sürdürülmesinde mükemmeldir ve ayrica noktalararasinda köprü olusumunun önleninesi açisindan da mükemmeldir.Fotopolinierize edilebilir bilesik (B), isik yayina yoluyla poliinerize
etme ve çapraz baglama, böylelikle seklin muhafaza edilmesi için bir
baski kalibi içerisinde bir yoguii ag olusturma rolüne sahiptir.
Fotopolimerize edilebilir bir oligomer, mevcut bulusta kullanilan,
fotopolimerize edilebilir bilesik (B) olarak tercih edilir. Buradakullanilan bir foto polimerize edilebilir oligomer terimi, bir etilenik
doymamis grubun bir kon jüge dien esasli polimerin uç ve/veya yan
zincirine baglandigi ve sayi ortalamali moleküler agirligi 1,000 ila10,000 olan bir kon jüge dien esasli etilenik polimerdir.Konjüge dien esasli etilenik polimeri olusturan konjüge dien esasli
polimer, bir kon jüge dien doymamis bilesiginin bir homopolimerinden
veya bir konjüge dien doymamis bilesiginin ve monoetilenik
doymamis bir bilesigin bir k0polimerinden olusturulur. Bir konjüge
dien doymamis bilesiginin bu tür bir homopolimerinin veya bir
konjüge dien doymamis bilesiginin ve monoetilenik doymamis bir
bilesigin bu. tür bir kopolimerinin örneklerine bir butadien polimeri,
bir izopren polimeri, bir kloropren polimeri, bir stiren-kloropren
kopolimeri, bir akrilonitril-butadien kopolimeri, bir akrilonitril-
izopren kopolimeri, bir metil metakrilat-izopren kopolimeri, bir metil
metakrilat-kloropren kopolimeri, bir metil akrilat-butadien kopolimeri,
bir metil akrilat-izopren kopolimeri, bir metil akrilat-kloropren
k0polimeri, bir akrilonitril-butadien-stiren k0polimeri ve bir
akrilonitril-kloropren-stiren kopolimeri dahildir. Bunlarin arasindan,
kauçuk elastisitesi ve fotokürleiiebilirlik açisindan bir butadien
polimeri, bir izopren polimeri ve bir akrilonitril-butadien kopolimeri
tercih edilebilir, ve bir butadien polimeri ve bir izopren polimeriözellikle tercih edilebilir.Mevcut bulusun fotopolimerize edilebilir bilesigi açisindan, gerek
görüldügünde, genellikle kullanilan bir fotopolimerize edilebilir
bilesik, örnegin akrilat veya metakrilat, yukarida örneksellestirilmis
olanlara ilaveten, mevcut bulusun etkisi kötülesmeyecek ölçüdekullanilabilir.
Fotopolimerizasyon inisiyatörü (C), fotopoliinerize edilebilir bilesigin
fotopolimerizasyonu ve çapraz baglanma reaksiyonu için bir katalizör
olarak bir role sahiptir. Bir polimerize edilebilir karbon-karbon
doyinamis grubunun isik yayilmasi yoluyla polimerize edilmesini
saglayabilen herhangi bir bilesik mevcut bulusta fotopoliinerizasyon
inisiyatörü olarak kullanilabilirken, isik absorpsiyonuiiun neden
oldugu kendiliginden ayrisma veya hidrojen ekstraksiyonu yoluyla bir
kök olusturma islevi gören bir bilesik tercihen kullanilir. Spesifik
olarak, örnegin, benzoin alkil eterler, benzofenonlar, antrakinonlar,benziller, asetofenonlar, ve diasetiller kullanilabilir.Mevcut bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisinde,
kütle olarak %50°den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip
lateksin (A) birlesme miktari için belirli bir sinirlama olmamasina
ragmen, kütle olarak %30°dan daha az olniayan bir miktarin bilesim
içerisinde ihtiva edilmesi tercih edilir. Kütle olarak %30”dan daha az
olniayan bir miktarin bilesim içerisinde ihtiva edilmesinin bir sonucu
olarak, kalip yüzeyi koiitaminasyonunu önleme etkisi özellikle
mükeinmel olur. Kütle olarak %40°dan daha az olinayan bir miktarin
bilesim içerisinde ihtiva edilmesi daha fazla tercih edilir. Diger
yandan, lateksin birlesme miktarinin üst sinirinin kütle olarak
%70°den daha az olmasi tercih edilir. Ust siiiir kütle olarak %70°den
daha fazla oldugunda, fotopolinierizasyon çapraz baglanma
özelliginin kötülestigi görülür ve yüksek dogrulukta bir görüntüolusturma zorlasir.Mevcut bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisine, arzuedildiginde, yukarida bahsedilen üç komponent (A) ila (C)°ye ilave
olarak, istege bagli komponentler, ömegiii bir elastomer, bir hidrofilik
polimer, bir plastiklestirici ve/veya bir polimerizasyon inhibitör'û dahiledilebilir.Bir elastomer mevcut bulusun baski kalibiyla birlestirildiginde,
mevcut bulusun baski kalibinin pozlanmasindaii önce baski direnciiide
ve elle kullanma özelliginde iyilesmenin görüldügü bazi durumlar
mevcuttur. Bu tür bir etkiye sahip elastomer açisindan, bir konj'uge
dien esasli hidrokarbonun polimerizasyonu yoluyla hazirlanan bir
polimer, ve bir konjüge dien esasli hidrokarbonun bir monoolefin
esasli doymamis bilesikle polimerizasyonu yoluyla hazirlanan bir
kopolimer mevcuttur, ve bunlarin örneklerine butadien polimeri,
izopren polimeri, kloropren poliineri stiren-butadien kopolimeri,
süren-izopren kopolimeri, stiren-izopren-stiren kopolimeri, stiren-
kloropren kopolimeri, akrilonitril-butadien kopolimeri, akrilonitril-
izopren kopolimeri, inetil metakrilat-butadien kopolimeri, inetil
metakrilat-butadien k0polimeri, metil metakrilat-iZOpren kopolimeri
ve akrilonitril-izopren-stiren kopolimeri dahildir. Bu elastomerlerden
her biri tek basina kullanilabilir veya bunlardan ikisi veya daha fazlasibirlikte kullanilabilir.Bir hidrofilik polimer mevcut bulusun baski kalibiyla birlestiginde,
mevcut bulusun baski kalibinin indirilme özelligini iyilestirme
etkisinin görüldügü durum mevcut olabilir. Bu tür bir etkiyi saglayan
hidrofilik polimerlere tercihen -COOH, -COOM (M bir tek degerli, iki
degerli veya üç degerli metal iyonudur veya bir sübstitüe edilmis veya
edilmemis amonyum iyonudur), -OH, -NH2, -SO3H ve bir fosfat grubu
gibi bir hidrofilik gruba sahip polimerler, ve spesifik olarak
(met)akrilik asidin veya bunun tuzlarinin bir polimeri, (met)akrilik
asidin veya bunun tuzlarinin bir alkil (met)akrilatla bir kopolimeri,
(met)akrilik asidin veya bunun tuzlarinin stirenle bir kopolimeri,
(met)akrilik asidin veya bunun tuzlarinin vinil asetatla bir kopolimeri,
(met)akrilik asidin veya bunun tuzlarinin akrilonitrille bir kopolimeri,
poliviiiil alkol, karboksimetilselüloz, poliakrilamidler,
hidroksietilselüloz, polietilen oksitler, polietileniminler, bir -COOM
grubuna sahip poliüretanlar, bir -COOM grubuna sahip poliüre
üretanlar, bir -COOM grubuna sahip poliamid asit, ve bunlarin tuzlari
veya türevleri dahildir. Bunlar tek baslarina kullanilabilir veya iki
veya daha fazla polimer kombinasyon halinde kullanilabilir. Mevcut
bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisinde hidrofilik
polimerin birlesme kismi tercihen kütle olarak %20 veya daha azdir,
ve daha fazla tercihen %15 veya daha azdir. Hidrofilik poliinerin
birlesme miktari yukarida gösterilen üst siiiiri asarsa, üretilecek bir
baski kalibinin su direnci kötülesebilir ve su esasli mürekkep direncide kötülesebilir.Bir plastiklestirici inevcut bulusun baski kalibiyla birlestirildiginde,
mevcut bulusun baski kalibini olusturan bir reçine bilesiminin
akiskanligini iyilestirme etkisinin ve üretilecek bir baski orijinal
kalibinin sertligini ayarlama etkisinin elde edildigi bazi durumlar
mevcuttur. Bu tür etkileri saglayan plastiklestirici, tercihen, lateksle
(A) iyi uyum saglayan bir üründür, ve daha fazla tercihen, oda
sicakliginda sivi olan bir polien bilesigi veya oda sicakliginda sivi
olan bir ester bagina sahip bir bilesiktir. Oda sicakliginda sivi olan
polien bilesiginin `Örnekleri sivi polibutadien, poliizopren, ve bunlarinuç gruplarinin veya yan ziiicirlerinin modifikasyonundan elde edilen,
bunlarin inaleinize edilmis türevleri ve epoksidize edilmis türevleridir.
Oda sicakliginda sivi olan bir ester bagina sahip bilesigin örneklerine
ftalatlar, fosfatlar, sebakatlar, adipatlar ve moleküler agirligi 1,000 ila
3,000 olan polyesterler dahildir. Mevcut bulusun reçine bilesimi
içerisinde plastiklestiricinin birlesme orani tercihen kütle olarak %30
veya daha azdir ve daha fazla tercihen %20 veya daha azdir.
Plastiklestiricinin birlesme miktari yukarida gösterilen üst siniri
asarsa, bir baski kalibinin mekanik özellikleri ve solvent direnci büyükölçüde kötülesebilir, ve bu durum, baski kaliciligini kötülestirebilir.Polimerizasyon inhibitörü, mevcut bulusun baski kalibini olusturan bir
reçine bilesiminin termal stabilitesini arttirma etkisi gösterir. Mevcut
bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisinde, geleneksel
olarak bilinen polinierizasyon inhibitörleri kullanilabilir, ve bunlarin
örneklerine fenoller, hidrokinonlar ve katekoller dahildir. Mevcut
bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisinde
polimerizasyon inhibitörünün birlesme orani tercihen agirlik olarak%0.001 ila 3, ve daha fazla tercihen agirlik olarak %0.001 ila 2°dir.Ayrica, bir renklendirici, bir antioksidan, bir silikon bilesigi, bir florin
bilesigi ve benzerleri de, mevcut bulusun etkisi azalmadigi sürece,
yukarida bahsedilenlerden daha baska, istege bagli komponentlerolarak ilave edilebilirler.Mevcut bulusun reçine bilesimi, esansiyel bir bilesen olarak agirlik
olarak %50”den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir
lateks (A) ile birlesine yoluyla, ve arzu edildigi takdirde,fotopolimerize edilebilir bilesikle, fotoinisiyatörle ve istege bagli
bilesenle karistirma yoluyla hazirlanir. Bu islemde, karismayi
kolaylastirma amaciyla, arzu edildigi takdirde, toluen gibi bir organik
solvent ilave edilebilir. Ayrica, tam karistirmak amaciyla, bir
yogurucu kullanilarak bir isitma kosulu altinda koinponentlerin
tamamen yogurulmasi da arzu edilebilir. Isitma kosulu tercihen
yaklasik 50 ila yaklasik 110°C”dir. Ayrica, karistirma sirasinda ilave
edilen organik solvent ve komponentler içerisinde ihtiva edilen nem,tercihen, yogurma sonrasi, azaltilmis basinç altinda uzaklastirilir.Simdi, bir ainino modifiye silikon bilesigi anlatilacaktir.Mevcut bulusta kullanilan amino modifiye silikon bilesigi, bir
molekül içerisinde en az bir amino grubuna sahiptir. Ainino grubunun
konumu için belirli bir sinirlama yoktur ve bu konumun örneklerine uç
konumu ve yan zincir konumu dahildir. Amino grubu, çoklu
konuinlarda var olabilir. Ayrica, amino grubu haricinde bir islevsel
grup da ihtiva edilebilir. Amino modifiye bir silikonun
kullanilmasinin bir sonucu olarak, sadece, baslangiç asamasindaki
mürekkep itme etkisi mükemmel olmaz, bilakis ayrica, solvent tipi bir
mürekkebin kullanildigi kosul altinda dahi, etkinin çok mükemmel birsürdürülebilirlik özelligi mevcuttur.Bir ana zincir olarak dimetilsiloksana sahip silikon yagi gibi, modifiye
edici gruba sahip olmayan silikon bilesigi kullanildiginda, mürekkep
itme etkisi, kalipla temas etme baslangiç asamasinda zaten zayiftir, ve
ayrica, etki, baskinin baslangiç asamasinda tamamen kaybolur. Amino
grubuna sahip olmayan, ancak metakrilik grubu, karbinol grubu veyakarboksil grubu gibi bir islevsel gruba sahip olan bir modifiye edilmis
silikon bilesigi durumunda, mürekkep itme etkisinin modifiye edici
grubun mevcut olinadigi duruma kiyasla daha iyi olmasina ragmen,etki, uzun süreli baski islemi sirasinda azalir.Amino modifiye silikon bilesiginin amino grubu esdegeri 500
g/mol°den daha az degildir, ve bunun 500 g/mol ila 20,000 g/mol
araliginda olmasi tercih edilir, ve bunun 1,000 g/mol ila 10,000 g/mol
araliginda olmasi daha fazla tercih edilir. Amino grubu esdegerinin
500 g/mol”den daha az olinamasi saglandiginda, baslangiç asamasinda
mükeinmel bir mürekkep itme etkisi elde edilir. Diger yandan, amino
grubu esdegerinin 20,000 g/mol”den daha az olmasi saglandiginda,mürekkep itme etkisinin sürdürülebilirligi mükeinmel olur.Amino modifiye silikon bilesiginiii dinamik viskozitesi için belirli
sinirlama olmamasina ragmen, 20 ila 5,000 mmZ/saniye araligi tercih
edilir ve 40 ila 1,000 mmZ/saniye araligi daha fazla tercih edilir.
Dinamik Viskozitenin 20 mmz/saniye'nin altinda olmainasi
saglandiginda, mürekkep itme özelligi `Özellikle mükemmel olur.
Diger yandan, dinamik Viskozitenin 5,000 mm2/saniye°nin altinda
olmasi saglandiginda, dissolüsyon üzerine stabilite Özelliklemükeinmel olur.Mevcut bulusta kullanilabilen amino modifiyeli silikon bilesigi
açisindan, asagida gösterildigi gibi olan biri piyasada mevcuttur.
Böylece, bunuii örneklerine Shin-Etsu Chemical tarafindan imal
edilen KF859, KF393, KF860, KF880, KF8004, KF867, KF869,
KF861, KF877, X22-3939A, PAM-E, KF8010, X22-161A, KF8012,
KF8008, X22-16608-3, KF857, KF8001, KF862, X22-9l92 ve
KF858, ve Asahi Kasei-Wacker Silicone tarafindan imal edilen L652,
L653, L655, L656, WR1100, WR1200, WR1300, WR1600, WT1250
ve WT1650 dahildir. Bunlarin arasindan KF859, KF860, KF880, X22-
161A, KF8012, KFSOOl, L653 ve WT1250, islevsel grup esdegeri vedinamik viskozite açisindan özellikle tercih edilir.Mevcut bulusta, bir einülsiyon tipi, amino modifiye bir silikon bilesigi
de kullanilabilir. Örnegin, asagidaki ürünler piyasada mevcuttur.
Bunlarin örneklerine Shin-Etsu Chemical tarafindan imal edilen
PolonMF-l4, P010nMF-14D, PolonMF-14EC, PolonMF-29,
PolonMF-44 ve P010nMF-52, ve Asahi Kasei-Wacker Silicone
tarafindan imal edilen FlNlSH CT14E, FlNlSH CTISE, KP2601,
NP2609, TSZ403, SLJl316, SLJ1367, SLJ1358 ve SMK21011
dahildir.Amino modifiye silikon bilesigiyle bir baski kalibinin temas
ettirilmesi için bir metot açisindan, herhangi bir metot
uygulanabilecektir. Örnegin, bir islemden geçirme çözeltisinin, amino
modifiye silikon bilesigi organik solvent, su veya alkol, tercihen '1 ila
6 karbon(lar)a sahip bir alkol, daha fazla tercihen metanol, etanol,
veya izopropil alkol veya benzerleri içerisinde çözündürülerek veya
dagitilarak 'Önceden hazirlandigi, ve ardindan, pozlama adimindan
sonra uygun bir asamada, baski kalibinin bir islemden geçirme
çözeltisi içerisine daldirildigi veya islemden geçirme çözeltisinin
atomizör, püskürtücü veya firça kullanilarak kalip yüzeyi üzerine
uygulandigi bir metot mevcuttur. Bu tür bir islemden geçirme çözeltisi
içerisinde kullanilan silikon bilesiginin konsantrasyonu kütle olarak%0,05 ila kütle olarak %10 araligindadir. Gerek görüldügünde, amino
modifiye silikon bilesigini içeren çözeltiye, kaliba permeabiliteyi
kolaylastirmak için, gliserol veya alkil glikol eter gibi bir solventin
ilave edilmesi, veya amino modifiye silikonun dissolüsyon
stabilitesini iyilestirmek için, (formik asit veya asetik asit gibi) asidik
bilesigin, gliserolün, sürfaktaiiin ve benzerleriniii kullanilmasi da
mümkündür. Ayrica, bunlarla birlikte, bir silan kenetleiinie ajanininkullanilmasi da mümküiidür.Amiiio modifiye silikon bilesigi çözeltisi baski kalibiyla temas
ettirildikten sonra, 40°C°den daha az olmayan bir sicaklikta bir
kurutma/isitma isleminin yapilmasi tercih edilir. 50°C”den daha az
olmayan bir sicaklikta bir kurutma/isitma isleminin yapilmasi daha
fazla tercih edilir. Kurutma süresinin 5 dakikadan daha kisa olmaniasi
tercih edilir ve 10 dakikadan daha kisa olmaiiiasi daha fazla tercih
edilir. Isitma isleminin bu sekilde yürütülmesiniii bir sonucu olarak,
amino modifiye silikon bilesiginin baski kalibina yakin aderanskuvveti artar.Baski kalibinin aniiiio modifiye silikoiila temas ettirilmesi adiminin,
ana pozlama adimini izlemesi sartiyla, herhangi bir asamada temin
edilebilmesine ragmen, bu adimin indirme adimiiidan hemen sonra
gelmesi tercih edilir. Bu böyledir, çünkü geleneksel fleksografik oyma
adiminda, kurutma islemi indirme isleminden sonra yürütülür, ve bir
baski kalibi indirme isleminden sonra bir silikon çözeltisiyle temas
ettirildiginde, artik bir developer kurutma isleminin ve bir silikon
çözeltisini kurutma/isitma isleminin ayni anda yürütülmesi mümkünolur, böylelikle adimlar basitlestirilebilir.
Iç hat tipi bir otomatik indirme makinesinin kullanilmasi durumunda,
"indirme" ve "silikon çözeltisi püskürtme" islemlerinden olusan iki
adim tek bir cihaz içerisinde yürütülebilir. Indirme adimi sonrasinda
bir silikon bilesiginin bir çalkalama Çözeltisi içerisinde ihtiva edilmeside mümkündür.Bir baski kalibinin bir silikon çözeltisiyle temas ettirilmesi metodu
içiii bir diger 'örnek, bir amino modifiye silikon bilesiginin, bir
fotosensitif reçine kalibi içiii bir indirme adiminda kullanilan bir
developer ile karistirildigi bir metottur. Yukaridakinin yani sira,
developer genellikle anyonik sürfaktan, iyonik olmayan sürfaktan,
katyonik sürfaktan, köpük giderme ajani, alkali ajani, ve benzerlerini
içerir. Bunlara ilaveten, çesitli stabilizörler de, developer içerisinde
amino modifiye silikon bilesiginin stabilitesiniii iyilestirilmesi için,developerle birlestirilebilir.Mevcut bulusta, bir jellesmis lateks içeren bir baski kalibi, ainino
modifiye bir silikon bilesigiyle temas ettirilir, bunun üzerine kalip
yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin mükemmel sürdürülebilirligi
saglanir. Etki gösterme mekanizmasinin henüz tam anlasilamamasina
ragmen, amino modifiye silikon bilesigi ve jellesmis lateks arasindaki
bir etkilesimin ve/veya amino modifiye silikon bilesigi ve
einülsiyonlastirici arasindaki etkilesimin önemli bir rol
oynadiklari(0ynadig1) varsayilir. Jellesmis lateks üç boyutlu olarak
çapraz baglandigi için, amino modifiye silikon bilesiginin jellesmis
lateksin bir matrisi içerisine beslenmesi durumunda bir mürekkep
solvent jellesmis lateks içerisine nüfuz ettiginde dahi, jellesmislateksin hemen hemen hiç sismedigi, ve bunun bir sonucu olarak,
amino modifiye silikonun jellesmis lateksten hemen hemen hiç
ayrilmadigi, böylelikle kalip yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin
mükemmel sürdürülebilirliginin elde edildigi varsayilir. Ayrica, bir
anyonik sürfaktanin bir emülsiyonlastirici olarak kullanildigi, bir
lateksi kullanan bir kalip malzemesi içerisinde, su itme etkisinin
sürdürülebilirliginin özellikle mükemmel oldugu ve noktalar arasinda
köprü olusturmayi önlemenin de mükemmel oldugu görülmüstür.
Amino modifiye silikonun bir ainino grubu ile anyonik sürfaktanin bir
anyonik grubu arasindaki güçlü etkilesimin bir sonucu olarak, amino
modifiye silikonun hemen hemen hiç ayrilmadigi, böylelikle kalip
yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin mükeminelsürdürülebilirliginin elde edildigi varsayilir.Ayrica, mevcut bulusun baski kalibinin, önceki teknik
dokümanlarinda açiklanmamis bir avantajli etkiye sahip oldugu,
böylece baski kaliciliginin, ainino modifiye bir silikonla islemden
geçirilmemis baski kalibina kiyasla iyilestigi de bulunmustur.
Genellikle, jellesmis bir lateksin kullanildigi bir baski kalibi
içerisinde, lateksin partiküller formunda mevcut olmasi gerçeginden
dolayi, uzun süreli bir baski sirasinda bir aniloks rulosuyla ve baski
yapilacak bir nesneyle uzun süreli temas etme sonucunda ince
noktalarda çatlamalar ve asinmalar olusur, böylelikle baski kaliciligi
her zaman memnun edici olmaz. Yukarida açiklamanin tersine, amino
modifiye bir silikonun baski kalibiyla temas ettirilmesi durumunda,
uzun süreli baski isleminde dahi ince noktalarda çatlamalar ve
asinmalar hemen hemen hiç olusmaz, böylelikle baski kaliciligi
iyilestirilebilir. Bu etki gösterme mekanizmasinin henüz tamanlasilamamasina ragmen, buna, amino modifiye bir silikonla
islemden geçirme yoluyla kalip yüzeyinin asinina kuvvetinin
azalmasinin ve/veya kalibin mürekkep itme özelliginde bir
iyilesmeden dolayi bir mürekkep solventin kalibin iç alani içerisinenüfuz etmesinde azalmanin neden oldugu varsayilir.ÖrneklerMevcut bulus simdi asagidaki Orneklerin yardimiyla daha daaçiklaiiacaktir, ancak mevcut bulus bu Orneklerle sinirli degildir."Yüzey geriliminin belirlenmesi"Yüzey gerilimi, bir islanma geriliminin test edilmesi için (Kanto
Kagaku tarafindan imal edilen) bir karistirilmis çözelti kullanilarak
belirlenir. 20°C ve %60 bagi] nem (RH) atmosfer kosullari altinda, bir
islanma geriliminin test edilmesi için 226 mN/m, 25.4 mN/m, 27.3
mN/m, 30 mN/m, 31 mN/m, 32 mN/m, 33 mN/m, 34 mN/m, 35
mN/m, 36 mN/m, 37 mN/m, 38 mN/m, 39 mN/m ve 40mN/m
karistirilmis çözeltilerinin her birinden iki damla, bir baski kalibi
üzerine damlatilir ve bir pamuklu çubuk vasitasiyla yayma üzerine,
yayilan islanma çiplak gözle degerlendirilir. Sivi itildiginde
karistirilmis çözeltinin degeri, yüzey gerilimi olarak kabul edilir.
Yüzey gerilimi düsük oldugunda, mürekkep itme özelligi iyilesir ve
baski sirasinda mürekkebin neden oldugu tikanmayi önleme etkisiartar."Noktalar arasinda köprü Olusturmanin belirlenmesi"
Noktalar arasinda köprü olusturma, 800 LPI aniloks kullamlarak
(MCK tarafindan iinal edilen) bir fleksografik baski cihazi FPR 302
ile belirlenir. Bir mürekkep olarak, bir solvent mürekkep (ticari ismi:
Brightflex (DIC tarafindan iinal edilir)) kullanilir. Baski yapilacak bir
nesne olarak, bir kaplama kagidi (ticari ismi: Pearl Coat (Oji Paper
tarafindan iinal edilir)) kullanilir. Baski yapma islemi 50 m/dakika°lik
bir hizda yürütülür. Yukarida belirtilen kosullar altinda, bir 50-m
baski yapma islemi ilk olarak yürütülür ve baski yapilan bir numune
toplanir. Bundan sonra, bir 950-m baski yapma islemi yürütülür ve
toplamda 1000 m için baski yapma isleminden sonra bir numune
hazirlanir. Belirlenecek yarim ton noktalar 125, 150, 175 ve 200
LP1”da %1 ”lik, 5'lik, 10°luk ve 20”lik noktalardir, ve noktalar arasinda
köprü olusturma böylelikle tespit edilir. Noktalar arasinda köprü
olusuinu hic,` gözlemlenmediginde, yariin ton noktalarin uçlarinda
gözlemlendiginde, yarim ton noktalarin uçlarinin yakininda
gözlemlendiginde ve yariin ton noktalarin tüm yüzeyleri üzerinde
gözlemlendiginde, bu noktalar sirasiyla "A", "B", "C" ve "D" olarakbelirlenir."Baski kaliciliginin belirlenmesi"Baski kaliciligi, 800 LPI aniloks kullanilarak (MCK tarafindan imal
edilen) bir fleksografik baski cihazi FPR 302 ile belirlenir. Bir
mürekkep olarak, bir solvent mürekkep (ticari ismi: Brightflex (DIC
tarafindan imal edilir)) kullanilir. Baski yapilacak bir nesne olarak, bir
kaplama kagidi (ticari ismi: Pearl Coat (Oji Paper tarafindan imal
edilir)) kullanilir. Baski yapma islemi 50 n1/dakika”lik bir hizdayürütülür. Baski kaliciliginin belirleninesinin hizlandirilmasi
amaciyla, baski basinci, dogru degerden 0.02 m°lik bir degere
bastirma kosulu altinda yürütülür. 200 LPI”da %lslik yarim ton
noktalarda, çatlaklara veya asinmalara kadar baski kalitesi olusturulurve baski kalitesindeki kötülesme dikkate alinir ve tespit edilir."Sentetik Ornek 1"Kütle olarak 125 kisiin stiren-butadien lateksi (Nippon A&L
tarafindan iinal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40;
anyonik sürfaktan bir emülsiyonlastirici olarak kullanilir), lateks
olarak;kütle olarak 15 kisim oligobutadien akrilat (Kyoeisha Kagaku
tarafindan imal edilen ABU-3; moleküler agirlik: 2,700), kütle olarak
kisiin lauril metakrilat ve kütle olarak 10 kisim trimetilolpropan
triakrilat, fotopolimerize edilebilir bilesikler olarak;kütle olarak 1 kisim benzil dimetilketal, fotopolimerizasyon
inisiyatörü olarak ve kütle olarak 20 kisim PFT-3 (Kyoeisha Kagaku
tarafindan imal edilen bir üretanüre yapisina sahip, moleküler agirligi
yaklasik 20,000 olan bir bilesik; kati konsantrasyonu: %25), bir
hidrofilik polimer olarak, kütle olarak 0.1 kisim hidrokinon monometil
eter, bir polimerizasyon inhibitörü olarak ve kütle olarak 9 kisiin sivi
butadien kauçuk, bir plastiklestirici olarak,bir konteyner içerisinde kütle olarak 5 kisim toluenle birlikte
karistirilir ve 105°C”de bir basinçli yogurucu kullanilarak yogurulur,
ve bundan sonra, toluen ve su, vakuin içerisinde buradan uzaklastirilir,böylece bir reçine bilesimi l elde edilir."Sentetik Örnek 2"
Bir reçine bilesimi 2, kütle olarak 9] kisim butadien lateksinin
(Nippon Zeon tarafindan imal edilen LXl l lNF; kati konsantrasyonu:
%55; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle
olarak 125 kisim stiren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan
imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik
sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasiharicinde, Sentetik Ornek l°deki ayni metotla hazirlanir."Sentetik Örnek 3"Bir reçine bilesimi 3, kütle olarak 125 kisim NBR lateksinin (Nippon
A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-lO; kati konsantrasyonu:
%40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle
olarak 125 kisiin stiren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan
imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik
sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasiharicinde, Sentetik Ornek 1'deki ayni metotla hazirlanir."Sentetik Örnek 4"Bir reçine bilesimi 4, kütle olarak 7] kisim stiren-butadien lateksinin
(Nippon Zeon tarafindan imal edilen C4850; kati konsantrasyonu:
%70; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle
olarak 125 kisim stiren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan
imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik
sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasiharicinde, Sentetik Ornek l”deki ayni metotla hazirlanir.
"Sentetik Ornek 5"Bir reçine bilesimi 5, kütle olarak 100 kisim NBR lateksinin (Nippon
A&L tarafindan iinal edilen Cyatex NA-lOSS; kati konsantrasyonu:
%50; anyonik sürfaktan, bir einülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle
olarak 125 kisim süren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan
imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik
sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasiharicinde, Sentetik Ornek l°deki ayni metotla hazirlanir."Sentetik Ornek 6"Bir reçine bilesimi 6, kütle olarak 119 kisim NBR lateksinin (Nippon
Zeon tarafindan iinal edilen SX1503A; kati konsantrasyonu: %42;
anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle olarak
125 kisim süren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal
edilen Cyatex NA-11; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan,
bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasi haricinde,Sentetik Ornek 1°deki ayni metotla hazirlanir."Sentetik Örnek 7"Bir reçine bilesimi 7, kütle olarak 50 kisim butadien poliinerinin
(Japan Synthetic Rubber tarafindan imal edilen BR02; kati
konsantrasyonu: %100), kütle olarak 125 kisim süren-butadien
lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; katikonsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak
kullanilir) yerine kullanilmasi haricinde, Sentetik Ornek l”deki aynimetotla hazirlanir."Sentetik Örnek 8"Bir reçine bilesimi 8, kütle olarak 75 kisim süren-butadien lateksinin
(Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; kati
konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak
kullanilir) ve kütle olarak 20 kisim butadien polimerinin (Japan
Synthetic Rubber tarafindan imal edilen BROZ; kati konsantrasyonu:
%100) bir karisiminin, kütle olarak 125 kisim süren-butadien
lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-l 1; kati
konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak
kullanilir) yerine kullanilinasi haricinde, Sentetik Ornek l°deki aynimetotla hazirlanir."Sentetik Ornek 9"Bir reçine bilesimi 9, kütle olarak 25 kisim stiren-butadien lateksinin
(Nippon A&L tarafindaii imal edilen Cyatex NA-ll; kati
konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak
kullanilir) ve kütle olarak 40 kisim butadien poliinerinin (Japan
Synthetic Rubber tarafindan imal edilen BROZ; kati konsantrasyonu:
%100) bir karisiminin, kütle olarak 125 kisim süren-butadien
lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; kati
konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak
kullanilir) yerine kullanilmasi haricinde, Sentetik Ornek lideki aynimetotla hazirlanir.
"Örnek 1"Sentetik Ornek l”de elde edilen bir reçine bilesimi 1, bir polyester
esasli yapiskan tabakayla kaplanmis, 125 um”lik bir kalinliga sahip bir
polietilen tereftalat filinden olusan bir destek, ve polivinil alkol içeren
bir yapiskan olmayan tabakayla kaplanmis, 100 um°lik bir kalinliga
sahip bir polietilen tereftalat filmden olusan bir örtücü film arasinda
sandviç haline getirilir, böylece yapiskan tabaka ile yapiskan olinayan
tabaka, reçine bilesimiyle temas ederler, ve ardindan 1 dakika
boyunca 105°C”de ve 10 MPa°lik bir basinçta bir isiyla bastirma
makinesinde bastirilirlar, böylelikle 1.14 mm”lik bir kalinliga sahip bir
levha benzeri fotosensitif reçine kalibi elde edilir. Bu fotosensitif
reçine kalibi, ilk olarak, bir UV pozlama cihazi (Philips tarafindan
imal edilen lOR) kullanilarak destegin bulundugu taraftan 300
mJ/ciri2”lik bir toplam yüzey pozlama islemine tabi tulur ve ardindan
karsi taraf üzerindeki örtücü film uzaklastirilir, bunu bir negatif film
vasitasiyla 4,000 mJ/cm2”lik bir görüntü pozlama islemine tabi
tutulma takip eder. Ardindaii, kalip indirme islemi, bir yikama cihazi
(Toyobo tarafindan imal edilen CRS 600; 40°C°de %l°lik yikama
sabunu sulu çözeltisi) kullanilarak 7 dakika boyunca yürütülür
Bundan sonra, kalip yüzeyi üzerindeki su damlalari, bir su süzme
çubugu kullanilarak uzaklastirilir. Soiira, bir amino modifiye silikon
bilesiginin (Shin-Etsu Chemical tarafindan imal edilen KF859; amino
grubu esdegeri: 6,000 g/mol; dinamik viskozite: 60 mm2/saniye)
agirlik olarak %O.4”ünü içeren bir etanolik çözelti, kalibin üzerine, bir
püskürtücü kullanilarak püskürtülür. Bunun ardindan, kurutma islemi,
bir kurutucu kullanilarak 10 dakika boyunca 60°C,de yürütülür, vesonra pozlama sonrasi islemi (Philips tarafindan imal edilen lOR;4,000 mJ/cmz) yürütülür ve (5 dakika boyunca) bir sterilize edici
lambayla islemden geçirme yapilir, böylece hedeflenen baski kalibielde edilir. Belirlemenin sonucu, Tablo 17de gösterilir."Ornek 2"Örnek l”dekiy1e ayni belirleme, Sentetik Ornek 2”de hazirlanan reçine
bilesimi 2 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Örnek 3"Örnek 1'dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 3'de hazirlanan reçine
bilesimi 3 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l°degösterilir."Örnek 4"Örnek 1°dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 4°de hazirlanan reçine
bilesimi 4 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir.
"Kiyaslama Örnegi 1"
Ornek l”dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 5”de hazirlanan reçinebilesimi 5 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l°degösterilir.
"Kiyaslama Örnegi 2"Örnek l”dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 6”da hazirlanan reçine
bilesimi 6 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Kiyaslama Örnegi 3"Ornek l'dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 7sde hazirlanan reçine
bilesimi 7 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l°degösterilir."Örnek 5"Ornek 17dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 8°de hazirlanan reçine
bilesimi 8 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Ornek 6"Ornek l ”dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 9”da hazirlanan reçine
bilesimi 9 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Örnek 7" (Referans Ornek)Ornek l°dekiyle ayni belirleme, bir amino modifiye silikonun (Shin-Etsu Chemical tarafindan iinal edilen KF393; islevsel grup esdegeri:
350 g/mol; dinamik viskozite: 70 mmZ/saniye) bir silikon bilesigi
olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Ornek 8"Örnek l'dekiyle ayni belirleme, bir amiiio modifiye silikonun (Asai
Kasei-Wacker Silicone tarafindan imal edilen L656; islevsel grup
esdegeri: 800 g/mol; dinamik Viskozite: 25 mmZ/saniye) bir silikon
bilesigi olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu,Tablo 1 ”de gösterilir."Örnek 9"Ornek l°dekiyle ayni belirleme, bir amino modifiye silikonun (Shin-
Etsu Chemical tarafindan imal edilen KF880; islevsel grup esdegeri:
1,800 g/mol; dinamik viskozite: 650 minzlsaniye) bir silikon bilesigi
olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l°degösterilir."Kiyaslama Örnegi 4"Ornek l”dekiy1e ayni belirleme, bir karboksi modifiye silikonun
(Shin-Etsu Chemical tarafindan imal edilen X22-162C; islevsel grup
esdegeri: 2,300 g/mol; dinamik viskozite: 220 mmZ/saniye) bir silikon
bilesigi olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu,Tablo 1 ”de gösterilir."Kiyaslama Örnegi 5 "Ornek l”dekiyle ayni belirleme, bir metakril modifiye silikonun (Shin-
Etsu Chemical tarafindan imal edilen X22-164A; islevsel grup
esdegeri: 860 g/mol; dinamik Viskozite: 25 mmz/saniye) bir silikon
bilesigi olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu,Tablo 1 ”de gösterilir."Kiyaslama Örnegi 6"Örnek l”dekiyle ayni belirleme, bir modifiye edilmemis silikonun
(Shin-Etsu Chemical tarafindan imal edilen KF96-50CS; dinamik
Viskozite: 50 n1m2/saniye) bir silikon bilesigi olarak kullanilmasiharicinde yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”de gösterilir."Kiyaslama Örnegi 7"Bir silikon bilesigi bir baski kalibiyla temas ettirilmez. Ornek
1°dekiyle ayni belirleme, yukaridakiler haricinde yapilir. Belirleinenin
sonucu, Tablo 1°de gösterilir.Tablo I°den, amino modifiye bir bilesik, kütle olarak %50”den daha
az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir
fleksografik baski kalibiyla temas ettirildiginde, uzun süreli bir baski
isleminden sonra dahi noktalar arasinda bir köprü olusumuna neden
olmadigi görülebilir. Bunun tersine, Kiyaslama Örnekleri 1, 2 ve 3,de
gösterildigi gibi, düsük jelasyon derecesine sahip lateksin kullanildigi
veya lateksin kullanilmadigi bir baski kalibi içerisinde, baski islemisirasinda mürekkep itme etkisi önemli ölçüde azalmaz ve noktalararasinda köprü olusumu korkunç bir haldedir. Ayrica, Kiyaslama
Ornekleri 4”de, 5”de ve 6”da gösterildigi gibi, amino grubuna sahip
olmayan bir silikon bilesiginin kullanilmasi durumunda, uzun süreli
bir baski isleminde mürekkep itme etkisinin azalmasi dikkat çeker ve
noktalar arasinda köprü olusumu da kötülesir. Yukarida açiklanan
hususlar dikkate alindiginda, kütle olarak %50an daha az olmayan
bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir baski kalibi bir
amino modifiye silikon bilesigiyle temas ettirildiginde, su itme
etkisinin uzun süre mükemmel sürdürülebilecegi ve noktalar arasindaköprü olusumunun önlenebilecegi anlasilir.
33[Tablo 1] * bir Referans Örnegi gösterir
reçine yüzey noktalar baski
bilesimi gerilimi arasinda kaliciliginin
(mN/m) köprü belirlenmesi
olusturma
reçine kullanilan lateks silikon
bilesigi
bilesimi jelasyon lateks baskinin baskidan baskinin baskidan
numarasi derecesi inuhteviyati baslangiç sonra baslangiç sonra
(kütle (kütle %,si) asamasi asamasi
%,si)
Örnek 1 l 95 50 amino 25 25 A A >1000 in
modifiye
silikon
bilesigi
KF859
Örnek 2 2 86 50 amino 25 25 A A >1000 in
Mevcut bulusun imalat metoduna göre, mükemmel sürdürülebilirlige
sahip bir kalip yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisi, bir fleksografik
baski kalibina kazandirilabilir. Bunun bir sonucu olarak, uzun bir süre
stabil bir sekilde yüksek kaliteli bir baski isleminin yürütülmesi artikmümkündür ve bu olanak endüstriye büyük fayda saglar.
TARIFNAME IÇERISINDE ATIF YAPILAN REFERANSLARBasvuru sahibi tarafindan atif yapilan referanslara iliskin bu liste,
yalnizca okuyucunun yardimi içindir ve Avrupa Patent Belgesinin bir
kismini olusturmaz. Her ne kadar referanslarin derlenmesine büyük
önem verilmis olsa da, hatalar veya eksiklikler engelleneinemektedirve EPO bu baglamda hiçbir sorumluluk kabul etmemektedir.Tarifname içerisinde atifta bulunulan patent dökümanlari:. JP 10171111 A [0009] . JP 2002292985 A [0009]
. JP 63088555 A [0009] - WO 2005064413 A [0009]
. JP 5134410 A [0009] . WO 2007116941 A [0009]° .IP 51047805 A [0009]
Claims (6)
1. Bir fleksografik baski kalibinin imalati için bir metot olup, karakterize edici 'Özelligi, ainino modifiye bir silikon bilesigi içeren bir sivinin, kütle olarak %50°den daha az olinayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir fleksografik baski kalibiyla temas ettirilmesi, burada 500 g/mol”den daha az olmayan amino grubu esdegerine sahip bir ainino modifiye silikon bilesiginin kullanilmasidir.
2. Istem lse uygun imalat metodu olup, burada kütle olarak %50”den daha az olmayan jelasyon derecesine sahip lateksin muhteviyati, bir baski kalibi reçinesi bilesimi içerisinde kütle olarak %30sdan daha az degildir.
3. Istein l°e veya 2”ye uygun imalat metodu olup, burada fleksografik baski kalibi ayrica bir emülsiyonlastirici da içerir.
4. Istein 3°e uygun imalat inetodu olup, burada emülsiyonlastirici, bir anyonik sürfaktandir.
5. l”den 4”e kadar olan isteinlerden herhangi birine uygun imalat metodu olup, burada lateks, kütle olarak %70”den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahiptir.
6. l°den 5°e kadar olan istemlerden herhangi birine uygun imalat metotlarindan herhangi biriyle iinal edilen bir fleksografik baski
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009299107 | 2009-12-29 | ||
JP2010199647 | 2010-09-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TR201809103T4 true TR201809103T4 (tr) | 2018-07-23 |
Family
ID=44226490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TR2018/09103T TR201809103T4 (tr) | 2009-12-29 | 2010-12-24 | Fleksografik baskı kalıbı üretmek için metot ve fleksografik baskı kalıbı. |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9937524B2 (tr) |
EP (1) | EP2520440B1 (tr) |
JP (1) | JP5751492B2 (tr) |
CN (1) | CN102686410B (tr) |
ES (1) | ES2665942T3 (tr) |
PL (1) | PL2520440T3 (tr) |
TR (1) | TR201809103T4 (tr) |
WO (1) | WO2011081084A1 (tr) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103782236A (zh) * | 2011-09-09 | 2014-05-07 | 东洋纺株式会社 | 柔版印刷原版及水显影性感光性树脂层积板 |
CN105008998B (zh) * | 2013-03-28 | 2019-11-26 | 东洋纺株式会社 | 用于制造柔版印刷版的方法 |
JP2017138514A (ja) * | 2016-02-04 | 2017-08-10 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | 表面処理用組成物およびそれを用いたレジストパターンの表面処理方法 |
JP7028560B2 (ja) * | 2017-01-26 | 2022-03-02 | 旭化成株式会社 | フレキソ印刷版 |
US11975556B2 (en) | 2018-11-21 | 2024-05-07 | Toyobo Mc Corporation | Water-developable flexographic printing original plate |
CN112955820B (zh) * | 2018-11-21 | 2024-04-09 | 东洋纺Mc株式会社 | 水显影性柔性印刷原版 |
CN114929486B (zh) * | 2020-01-07 | 2023-12-15 | 东洋纺Mc株式会社 | 能激光雕刻的柔性印刷原版 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5914744B2 (ja) | 1974-10-22 | 1984-04-05 | 旭化成株式会社 | 地汚れの防止された印刷版の製造法 |
JPH07113767B2 (ja) | 1986-10-02 | 1995-12-06 | 旭化成工業株式会社 | 段ボ−ル印刷用感光性樹脂印刷版 |
JP3144870B2 (ja) * | 1991-02-15 | 2001-03-12 | 旭化成株式会社 | 感光性エラストマー組成物 |
US5726241A (en) * | 1994-01-19 | 1998-03-10 | Hexcel Corporation | Finishing oil for precursor for high performance carbon fibers and precursor |
JPH10171111A (ja) | 1996-12-13 | 1998-06-26 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 水現像性感光性樹脂組成物 |
JP3538574B2 (ja) * | 1999-09-27 | 2004-06-14 | 株式会社リンレイ | 可剥離性被覆組成物 |
AU2411702A (en) * | 2000-11-28 | 2002-06-11 | Asahi Chemical Ind | Improved water-developable photosensitive resin for flexography |
JP2002292985A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Sakata Corp | フレキソ凸版印刷方式における印刷物の汚れ防止方法 |
JP4439473B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2010-03-24 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 凸版印刷用水現像感光性樹脂版 |
US8486515B2 (en) * | 2005-12-26 | 2013-07-16 | Fuji Seal International, Inc. | Coating agent for plastic label, and plastic label |
JPWO2007116941A1 (ja) * | 2006-04-07 | 2009-08-20 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 |
-
2010
- 2010-12-24 JP JP2011547640A patent/JP5751492B2/ja active Active
- 2010-12-24 EP EP10840940.0A patent/EP2520440B1/en active Active
- 2010-12-24 ES ES10840940.0T patent/ES2665942T3/es active Active
- 2010-12-24 WO PCT/JP2010/073294 patent/WO2011081084A1/ja active Application Filing
- 2010-12-24 PL PL10840940T patent/PL2520440T3/pl unknown
- 2010-12-24 US US13/516,838 patent/US9937524B2/en active Active
- 2010-12-24 CN CN201080060105.6A patent/CN102686410B/zh active Active
- 2010-12-24 TR TR2018/09103T patent/TR201809103T4/tr unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9937524B2 (en) | 2018-04-10 |
EP2520440A1 (en) | 2012-11-07 |
CN102686410A (zh) | 2012-09-19 |
WO2011081084A1 (ja) | 2011-07-07 |
CN102686410B (zh) | 2016-08-10 |
EP2520440A4 (en) | 2014-04-09 |
JP5751492B2 (ja) | 2015-07-22 |
EP2520440B1 (en) | 2018-04-11 |
JPWO2011081084A1 (ja) | 2013-06-20 |
PL2520440T3 (pl) | 2018-09-28 |
ES2665942T3 (es) | 2018-04-30 |
US20120251834A1 (en) | 2012-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TR201809103T4 (tr) | Fleksografik baskı kalıbı üretmek için metot ve fleksografik baskı kalıbı. | |
TR201809750T4 (tr) | Fleksografik baskı levhası üretilmesine yönelik yöntem. | |
EP1743218B1 (en) | Photocurable compositions and flexographic printing plates comprising the same | |
JP4487208B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、それを用いた感光層および感光性樹脂印刷用原版 | |
JP6519700B2 (ja) | レタープレス輪転印刷用凸版印刷版 | |
WO2005031459A1 (ja) | 感光性フレキソ版用ブロック共重合体組成物 | |
JP2008250055A (ja) | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性樹脂印刷原版 | |
CN112955820B (zh) | 水显影性柔性印刷原版 | |
JP6631766B1 (ja) | 水現像性フレキソ印刷原版 | |
JP6732903B2 (ja) | 凸版印刷版の生成的製造方法 | |
JPWO2008120468A1 (ja) | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 | |
EP2141025B1 (en) | Method for production of photosensitive resin plate having concave-convex shape or letterpress printing plate, and printing surface treatment solution for use in the method | |
JP5197047B2 (ja) | 凸版印刷用感光性樹脂用保護膜 | |
JP2008058957A (ja) | 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂印刷用原版 | |
JP4487176B2 (ja) | 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂印刷用原版 | |
JP2010256860A (ja) | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物及びそれから得られる印刷用原版 | |
JPS6322305B2 (tr) | ||
KR101537408B1 (ko) | 잉크 조성물 | |
JP2006142757A (ja) | 標識板用感光性樹脂積層体 | |
JP2005148588A (ja) | 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂印刷用原版 | |
JP2008216842A (ja) | 感光性樹脂原版 |