TH83149B - กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn - Google Patents

กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn

Info

Publication number
TH83149B
TH83149B TH601001271A TH0601001271A TH83149B TH 83149 B TH83149 B TH 83149B TH 601001271 A TH601001271 A TH 601001271A TH 0601001271 A TH0601001271 A TH 0601001271A TH 83149 B TH83149 B TH 83149B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
sicl4
metal
liquid
alloy containing
producing
Prior art date
Application number
TH601001271A
Other languages
English (en)
Other versions
TH83149A (th
Inventor
นายจาคโค ซิจเลม่า นายเดริค โรเบิร์ต
Original Assignee
บริษัท ยูมิคอร์
Filing date
Publication date
Application filed by บริษัท ยูมิคอร์ filed Critical บริษัท ยูมิคอร์
Publication of TH83149A publication Critical patent/TH83149A/th
Publication of TH83149B publication Critical patent/TH83149B/th

Links

Abstract

การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับการผลิตซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์เป็นวัสดุพื้นฐานสำหรับการผลิต ตัวอย่างเช่น เซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนที่เป็นผลึก SiCl4 ถูกเปลี่ยนให้เป็นโลหะ Si โดยการสัมผัสกับแก๊ส SiCl4 กับของเหลว Zn จากนั้น ได้ อัลลอยด์ที่มี Si และ Zn-คลอไรด์, ซึ่งถูกแยก จากนั้น อัลลอยด์ที่มี Si ถูกทำให้บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูง กว่าจุดเดือดของ Zn กระบวนการนี้ไม่ต้องการเทคโนโลยีที่ซับซ้อนและให้ SiCl4 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเมื่อถึง ผลิตภัณฑ์สุดท้าย, เนื่องจาก Zn เป็นสารทำปฏิกิริยาเคมีเพียงชนิดเดียว, ซึ่งสามารถได้ในคุณภาพที่ บริสุทธิ์สูงมาก ๆ และนำกลับไปทำกระบวนการใหม่อย่างต่อเนื่อง

Claims (1)

1. กระบวนการสำหรับการเปลี่ยน SiCl4 ให้เป็นโลหะ Si, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอน ของ - การสัมผัสแก๊ส SiCl4 กับวัฏภาคโลหะของเหลวที่มี Zn, ดังนั้น จึงได้วัฏภาคโลหะที่มี Si และ Zn-คลอไรด์; - การแยก Zn-คลอไรด์ที่ได้จากวัฏภาคโลหะที่มี Si; และ - การทำให้วัฏภาคโลหะที่มี Si บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูงกว่าจุดเดือดของ Zn, ดังนั้นจึงได้ Zn ที่เป็นไอและได้โลหะ Si, ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือว่าทำขั้นตอนการสัมผัส และการแยกในเครื่องปฏิกิริยาเดี่:
TH601001271A 2006-03-22 กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn TH83149B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH83149A TH83149A (th) 2007-02-22
TH83149B true TH83149B (th) 2007-02-22

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200700316A (en) Process for the production of si by reduction of sicl4 with liquid zn
EA200870558A1 (ru) Способы получения стержней поликристаллического кремния высокой степени чистоты с использованием металлического средства-основы
US9034292B2 (en) Method and apparatus for producing disilane through pyrolysis of monosilane
WO2006107020A1 (ja) 高純度無水塩化アルミニウム及びその製造方法
RU2011133919A (ru) Процесс получения поликристаллического кремния
WO2009143264A3 (en) Direct silicon or reactive metal casting
NO20121263A1 (no) Fremgangsmåte for å produsere disilan
JP5440556B2 (ja) 高純度トリアルキルガリウム及びその製法
WO2018074009A1 (ja) アンモニアを合成する方法、および、その装置
CA2828585C (en) Hydrogen production catalyst containing ni3si-based intermetallic compound, method for activating the catalyst, and hydrogen production method and device using the catalyst
TH83149B (th) กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn
JP5448067B2 (ja) 窒化ホウ素ナノチューブの製造方法
TH83149A (th) กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn
US3019087A (en) Purification of silane
JP2009126835A (ja) 高純度トリアルキルガリウム及びその製法
FR2983846B1 (fr) Procede de synthese ameliore de nanotubes de carbone sur multi-supports
JP2008050268A (ja) 高純度トリアルキルガリウム及びその製法
RU2155158C1 (ru) Способ получения моноизотопного кремния si28
UA93503C2 (ru) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ Si ПУТЕМ ВОССТАНОВЛЕНИЯ SiCl4 ЖИДКИМ Zn
JP2008081387A (ja) 高純度シリコンの製造方法
CA2686640A1 (en) Polycrystalline germanium-alloyed silicon and a method for the production thereof
JP4904032B2 (ja) 精製ボラジン化合物の製造方法
CN205133153U (zh) 一种生产氮化硅的***
JP5348186B2 (ja) 高純度トリアルキルガリウム及びその製法
Hatakeyama et al. Formation of Silicon from Shirasu Volcanic Ash Using Solar Furnace