TH25071A - Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma - Google Patents
Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasmaInfo
- Publication number
- TH25071A TH25071A TH9501000234A TH9501000234A TH25071A TH 25071 A TH25071 A TH 25071A TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 25071 A TH25071 A TH 25071A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- temperature
- sensitive
- vapor
- container
- coating
- Prior art date
Links
Abstract
การพอกผิวเคลือบด้านในบาง ๆ ภายในภาชนะพลาสติก หรือโลหะด้วยการใช้พลาสมา สามารถดำเนินการให้ลุล่วงด้วยการใช้สารอนินทรีย์เฉื่อยที่ไม่ละลาย เช่น ซิลิกา หรือโลหะออกไซด์ที่ไม่ละลายหรือ ด้วยการใช้ของผสมของสาร เช่น โลหะ โลหะออกไซด์ เกลือโลหะ และคาร์บอน หรืออนุมูลอินทรีย์เพื่อสร้างโครงผลึกยึดหยุ่น หรือด้วยการใช้ชั้นที่แตกต่างกันของโครงผลึกเหล่านั้น วิทยาการนี้เกี่ยวข้องกับ การจัดวางตำแหน่งของภาชนะภายในบริเวณปิดสุญญากาศ การวางอุปกรณ์กำเนิดไอ ซึ่งบรรจุด้วยวัสดุอนินทรีย์เฉื่อยขององค์ประกอบด้านในภาชนะที่กำหนดไว้ก่อน การสร้างไอของวัสดุที่กล่าวแล้ว การสร้างพลาสมาของไอที่กล่าวแล้ว และการพอกผิวเคลือบบางของวัสดุที่กล่าวแล้ว บนบริเวณที่กำหนดไว้ก่อนของผิวด้านในของภาชนะที่กล่าวแล้ว ที่ซึ่งอนุภาคของผิวเคลือบที่กล่าวแล้ว ซึ่งมีอุณหภูมิสูง สามารถซึมเข้าไปในผิวที่กล่าวแล้ว เนื่องจากพลังงานความร้อนของอนุภาคเหล่านั้น แต่ไม่ทำให้อุณหภูมิที่ผิวทั้งหมดเพิ่มสูงขึ้น เนื่องด้วยการไหลของมวลน้อย ๆ Applying a thin layer of inner coating inside a plastic container Or metal with the use of plasma This can be achieved with the use of inert inert inorganic substances such as insoluble silica or metal oxides, or By using a mixture of substances such as metals, metal oxides, metal salts and carbon or organic radicals, to form a flexible crystal lattice. Or by using different layers of those lattice This technology involves Placement of containers within airtight enclosures Placing the vapor generator Which is filled with a predetermined inert inorganic material of the elements inside the container Vaporization of the said material Creation of the aforementioned vapor plasma And thin coating of the material already mentioned On a pre-defined area of the inner surface of the said container Where the particles of the said coating High temperature Can penetrate into the skin already mentioned Due to the thermal energy of those particles But does not increase the temperature at the entire surface Due to the small mass flow
Claims (3)
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH25071A true TH25071A (en) | 1997-05-12 |
TH9201B TH9201B (en) | 1999-11-03 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PE31695A1 (en) | HOLLOW CONTAINERS WITH INERT OR WATERPROOF INTERNAL SURFACE OBTAINED THROUGH A DEPOSITION, FACILITATED BY PLASMA, OF A PRIMARILY ORGANIC SUBSTANCE | |
US4901667A (en) | Surface treatment apparatus | |
EP0962260B1 (en) | Material evaporation system | |
TWI428460B (en) | Vapor emission device, evaporation apparatus for organic film and method for evaporating organic film | |
EP0714999A1 (en) | Method for sublimating a solid material and a device for implementing the method | |
US4409511A (en) | Phase transition cooled window for broad beam electron gun | |
JP2671367B2 (en) | Vapor phase epitaxial growth equipment | |
US20130160712A1 (en) | Evaporation cell and vacuum deposition system the same | |
JP4716277B2 (en) | Thin film forming method, vapor deposition source substrate, and vapor deposition source substrate manufacturing method | |
JP3235176B2 (en) | Organic metal compound vaporizer | |
TH25071A (en) | Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma | |
TH9201B (en) | Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma | |
KR20020038625A (en) | Apparatus and method for depositing organic matter of vapor phase | |
JP2719283B2 (en) | Knudsen cell for low temperature | |
JP5647854B2 (en) | Film forming apparatus and film forming method | |
EP1696049B1 (en) | Vacuum evaporation apparatus | |
JP4344631B2 (en) | Molecular beam source for organic thin film deposition | |
JP6512543B2 (en) | Vapor deposition cell, thin film production apparatus and thin film production method | |
JP2000239846A (en) | Thin film forming device | |
JP2005048244A (en) | Molecular beam source for depositing organic thin film | |
JP4949644B2 (en) | Method for manufacturing Josephson element | |
JP2004107686A (en) | Air open type cvd system | |
JPS59112870A (en) | Curing method for coating film and apparatus therefor | |
JPS6286830A (en) | Heat treating implement for compound semiconductor | |
JP2719281B2 (en) | Knudsen cell for low temperature |