TH25071A - Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma - Google Patents

Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma

Info

Publication number
TH25071A
TH25071A TH9501000234A TH9501000234A TH25071A TH 25071 A TH25071 A TH 25071A TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 25071 A TH25071 A TH 25071A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
temperature
sensitive
vapor
container
coating
Prior art date
Application number
TH9501000234A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH9201B (en
Inventor
เพลสเตอร์ นายจอร์จ
เอห์ริช นายฮอร์สท์
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH25071A publication Critical patent/TH25071A/en
Publication of TH9201B publication Critical patent/TH9201B/en

Links

Abstract

การพอกผิวเคลือบด้านในบาง ๆ ภายในภาชนะพลาสติก หรือโลหะด้วยการใช้พลาสมา สามารถดำเนินการให้ลุล่วงด้วยการใช้สารอนินทรีย์เฉื่อยที่ไม่ละลาย เช่น ซิลิกา หรือโลหะออกไซด์ที่ไม่ละลายหรือ ด้วยการใช้ของผสมของสาร เช่น โลหะ โลหะออกไซด์ เกลือโลหะ และคาร์บอน หรืออนุมูลอินทรีย์เพื่อสร้างโครงผลึกยึดหยุ่น หรือด้วยการใช้ชั้นที่แตกต่างกันของโครงผลึกเหล่านั้น วิทยาการนี้เกี่ยวข้องกับ การจัดวางตำแหน่งของภาชนะภายในบริเวณปิดสุญญากาศ การวางอุปกรณ์กำเนิดไอ ซึ่งบรรจุด้วยวัสดุอนินทรีย์เฉื่อยขององค์ประกอบด้านในภาชนะที่กำหนดไว้ก่อน การสร้างไอของวัสดุที่กล่าวแล้ว การสร้างพลาสมาของไอที่กล่าวแล้ว และการพอกผิวเคลือบบางของวัสดุที่กล่าวแล้ว บนบริเวณที่กำหนดไว้ก่อนของผิวด้านในของภาชนะที่กล่าวแล้ว ที่ซึ่งอนุภาคของผิวเคลือบที่กล่าวแล้ว ซึ่งมีอุณหภูมิสูง สามารถซึมเข้าไปในผิวที่กล่าวแล้ว เนื่องจากพลังงานความร้อนของอนุภาคเหล่านั้น แต่ไม่ทำให้อุณหภูมิที่ผิวทั้งหมดเพิ่มสูงขึ้น เนื่องด้วยการไหลของมวลน้อย ๆ Applying a thin layer of inner coating inside a plastic container Or metal with the use of plasma This can be achieved with the use of inert inert inorganic substances such as insoluble silica or metal oxides, or By using a mixture of substances such as metals, metal oxides, metal salts and carbon or organic radicals, to form a flexible crystal lattice. Or by using different layers of those lattice This technology involves Placement of containers within airtight enclosures Placing the vapor generator Which is filled with a predetermined inert inorganic material of the elements inside the container Vaporization of the said material Creation of the aforementioned vapor plasma And thin coating of the material already mentioned On a pre-defined area of the inner surface of the said container Where the particles of the said coating High temperature Can penetrate into the skin already mentioned Due to the thermal energy of those particles But does not increase the temperature at the entire surface Due to the small mass flow

Claims (3)

1. กรรมวิธีของการเคลือบผิวภายในของภาชนะที่ว่องไวต่ออุณหภูมิ ประกอบด้วยาขั้นตอน การกำหนดที่ตั้งภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิที่มีผิวภายในในบริเวณปิดสุญญากาศ การวางอุปกรณ์กำเนิดไอ ซึ่งบรรจุไว้ด้วยวัสดุอนินทรีย์เฉื่อยภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิดังกล่าว การสร้างไอของวัสดุอนินทรีย์ดังกล่าว การสร้างพลาสมาของไอดังกล่าว และ การพอกผิวเคลือบบางของวัสดุดังกล่าว ของผิวด้านในของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิดังกล่าว ที่ซึ่งอนุภาคผิวเคลือบดังกล่าว ซึ่งมีอุณหภูมิสูง สามารถซึมเข้าไปในผิวดังกล่าว เนื่องจากพลังงานความร้อน ในขณะที่ไม่ทำให้อุณหภูมที่ผิวทั้งหมดสูงขึ้น อันเนื่องจากการไหลของมวลน้อย ๆ 2. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งขั้นตอนการสร้างไอดังกล่าว ประกอบขึ้นด้วย การให้ความร้อนกับอุปกรณ์กำเนิดไอจนถึงอุณหภูมิการระเหิดของวัสดุดังกล่าว แต่จำกัดความร้อนของการระเหยให้อยู่ภายในบริเวณของอุปกรณ์กำเนิดไอเพื่อไม่ส่งผลกระทบต่อผิวด้านในของภาชนะที่ว่องไวต่ออุณหภูมิ 3. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ที่ซึ่งภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิประกอบด้วย ภาชนะพลาสติก 4. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งภาชนะพลาสติกดังกล่าว ประกอบขั้นด้วยโพลิเอททิลีนเทเรฟธาเลท(polyethylene terephthalate PET) 5. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งขั้นตอนของการสร้างพลาสมาดังกล่าว รวมถึงการใช้สนามแม่เหล็กที่ขั้วไฟฟ้าความถี่สูง รอบ ๆ ภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิดังกล่าว 6. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งขั้นตอนของการสร้างพลาสมาดังกล่าว รวมถึงการใช้ ศักย์ไฟฟ้าสูงตกคร่อมไอที่ได้จากอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว 7. กรรมวิธีดังกที่ได้นิยามในข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งขั้นตอนการพอกผิวเคลือบบางดังกล่าวประกอบด้วย การพอกผิวเคลือบบางที่มีความหนาระหว่าง 10-250 นาโนเมตร 8. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งวัสดุอนินทรีย์ดังกล่าว ประกอบด้วย คาร์บอนโลหะและโลหะออกไซด์ ไนไตรด์ซัลไฟด์ ฮาไลด์ของโลหะนั้น ๆ หรือ ของผสมหรือการรวมของวัสดุเหล่านั้น 9. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 และการรวมขั้นตอนของการจ่ายแก๊สเข้าบริเวณปิดสุญญากาศเพิ่มเติม ซึ่งแก๊สไหลเข้าไปในพลาสมา เพื่อทำปฏิกิริยากับไอเพื่อจัดเตรียมองค์ประกอบผิวเคลือบที่แตกต่างจากผิวเคลือบของวัสดุที่ระเหยเป็นไอแล้ว 1 0. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 และการรวมขั้นตอนเริ่มต้อนของการทำความสะอาดและของการกระตุ้นผิวของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิที่ต้องการเคลือบดังกล่าวเพิ่มเติม ก่อนการสร้างไอดังกล่าวและก่อนการพอกผิวเคลือบดังกล่าวบนผิวด้านในของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมดังกล่าว 1 1. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 และการรวมขั้นตอนการเตรียมสุญญากาศระหว่าง 10-1 มิลลิบาร์ และ 10-5 มิลลิบาร์ภายในบริเวณปิดนั้นเพิ่มเติม 1 2. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ที่ซึ่งภาชนะพลาสติกดังกล่าว รวมถึงภาชนะปากแคบด้วย 1 3. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่งขั้นตอนของการพอกดังกล่าว รวมถึงการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ 1 4. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่ขั้นตอนของการพอกดังกล่าว รวมถึงการเคลื่อนย้าย หรือ การหมุนอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ 1 5. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 14 ที่ซึ่งขั้นตอนของการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิรวมถึงการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์ขึ้นและลง ภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมินั้น 1 6. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 14 ที่ซึ่งขั้นตอนของการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิประกอบด้วย การหมุนอุปกรณ์กำเนิดไอด้วยช่วงหมุน 30-90 องศาเป็นอย่างน้อย 1 7. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 และการรวมขึ้นตอนการหมุนภาชนะเพิ่มเติม เพื่อป้องกันพลังงานความร้อนจากที่แออัดบนผนังในที่นั้น 1 8. อุปกรณ์สำหรับการเคลือบผิวด้านในของภาชนะที่ว่องไวต่ออุณหภูมิประกอบด้วยห้องสุญญากาศ อุปกรณ์กำเนิดไอ ซึ่งบรรจุไว้ด้วยวัสดุอนินทรีย์เฉื่อย ตัวกลางสำหรับการสอดและการถอนอุปกรณ์กำเนิดไอออกจากภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมินั้นที่มีผิวด้านใน ตัวกลางสำหรับการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ ตัวกลางสำหรับการจ่ายพลังงานให้กับอุปกรณ์กำเนิดไอ และ ตัวกลางสำหรับการสร้างพลาสมาของไอดังกล่าว ที่ซึ่งผิวเคลือบบางของวัสดุอนินทรีย์ดังกล่าว พอกอยู่บนผิวด้านในของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิดังกล่าว เพราะว่าอนุภาคของวัสดุดังกล่าว ซึ่งมีอุณหภูมิสูง สามารถซึมเข้าไปในผิวด้านในของบริเวณดังกล่าว แต่ไม่ทำให้อุณหภูมิที่ผิวทั้งหมดเพิ่มสูงขึ้น เนื่องจากการไหลของอนุภาคน้อยๆ 1 9. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 18 และการรวมตัวกลางเพิ่มเติม สำหรับการขนถ่ายภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิไปที่ หรือจากห้องสุญญากาศ 2 0. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 18 ที่ซึ่งตัวกลางสำหรับการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว ภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ รวมถึงตัวกลางสำหรับการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอขึ้นและลง และ การหมุนอุปกรณ์กำเนิดไอ 21. The process of coating the inside surface of the container that is temperature sensitive. With steps Determination of the location of temperature-sensitive vessels with internal surfaces in a vacuum enclosed area. Placing the vapor generator Which is contained with inert inorganic material inside such a temperature sensitive container Vaporization of such inorganic materials Plasma generation of such vapor and thin masking of such material. Of the inner surface of the temperature-sensitive container Where the coating particles High temperature Can penetrate into such skin Due to thermal energy While not raising the temperature on the entire surface Due to the small mass flow. 2. The process of claim No. 1, where the process of creating such vapor. Consisted of To heat the vapor generating device to the sublimation temperature of the material Rather, limit the heat of evaporation within the area of the vapor generating device so that it does not affect the inner surface of the temperature sensitive container. 3. Procedures of Clause 2, where the temperature-sensitive container consists of a plastic container . Process of claim No. 3, where such plastic containers It consists of polyethylene terephthalate (polyethylene terephthalate PET) 5. Process of claim No. 3 where the stage of plasma formation is This includes the use of a magnetic field at the high-frequency electrodes around the temperature-sensitive vessel. 6. Procedures of claim No. 3, where the stage of the aforementioned plasma generation includes the use of high electrical potentials across the vapor 7. The process as defined in Clause 3, where the aforementioned thin coating process consists of Thickening of thin coatings with thickness between 10-250 nm. 8. Process of claim No. 3 where such inorganic materials contain carbon, metal and metal oxides. Nitride Sulfide The halides of that metal or their mixtures or their inclusions 9. Method of claim No. 3 and the integration of additional procedures for gas supply into the vacuum enclosed area. Which gas flows into the plasma To react with vapor to prepare a different coating composition from the coating of the evaporated material 1 0. Procedure of claim 3 and the integration of the initial cleaning and activation steps. The surface of the container is sensitive to the temperature required for additional coating. Before the formation of the said vapor and before applying the coating on the inner surface of the temperature-sensitive container 1 1. Method of claim 3 and the integration of vacuum preparation steps between 10-1. Mbar and 10-5 mbar within the enclosed area. Additional 1 2. Process of claim No. 2, where the plastic container Including narrow-mouth containers as well. 1 3. Process of claim No. 12, where the procedure of masking. Including the movement of the vapor generator inside the temperature-sensitive container 1 4. Method of Clause 12 at which the process of masking This includes the movement or rotation of the vapor generating device inside the temperature-sensitive container. 1. 5. Procedures of Clause 14, where the process of moving the vapor generator inside the temperature-sensitive container includes the movement Up and down device 1 6. Procedures of claim 14, where the process of transporting the vapor generator inside the temperature-sensitive container consists of: Rotating the vapor generator with a rotation range of 30-90 degrees to at least 1. 7. Process of claim 12 and further integration of the rotation of the container. To protect the thermal energy from congestion on the walls in it, 1 8. Equipment for coating the inside of temperature sensitive vessels consists of a vacuum chamber. Vapor generator device Which contains inert inorganic materials A medium for insertion and removal of the vapor generator from the temperature-sensitive vessel with the inner surface. Media for the transport of vapor generating equipment inside temperature-sensitive vessels. The medium for the power supply of the vapor generator and the medium for the vapor plasma generation. Where the thin coating of inorganic materials The mask is placed on the inside surface of the temperature-sensitive container. Because the particles of such materials High temperature Can penetrate into the inner surface of the area. But does not increase the temperature at the entire surface Due to the small flow of particles 1 9. Equipment of claim 18 and additional intermediate combinations. For loading and unloading of temperature-sensitive containers to Or from the vacuum chamber 2 0. Device of claim 18, where the medium for the transport of such vapor generating equipment Inside a temperature-sensitive container Including media for moving the up and down vapor generator and turning 2 vapor generator devices 1. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 20 ที่ซึ่งภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิประกอบด้วย ภาชนะพลาสติก ปากแคบ และวัสดุอนินทรีย์ดังกล่าวคือ ซิลิกา คาร์บอน โลหะและออกไซด์ ไนไตรด์ ฮาไลด์ของโลหะเหล่านั้น หรือ ของผสมหรือการรวมของวัสดุเหล่านั้น 21. Device of claim 20, where temperature-sensitive vessels consist of narrow-mouth plastic containers and inorganic materials, namely silica, carbon, metals and oxides, nitride halides of those metals or their mixtures. Or a combination of those materials 2 2. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 20 ที่ซึ่งอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว ประกอบด้วย โครงสร้างชนิดเข้า และการรวมตัวกลางต่อไปนี้เพิ่มเติม ตัวกลางสำหรับการจ่ายและการควบคุมการไหลของวัสดุไปที่อุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว ตัวกลางสำหรับการควบคุมการไหลของไอ เพื่อไอสามารถไหลอย่างสม่ำเสมอในทุกทิศทางของอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว และ ตัวกลางสำหรับการเตรียมการหล่อเย็นอุปกรณ์กำเนิดไอ เพื่อป้องกันความร้อนของการระเหยจากผิวด้านในดังกล่าว 22. Device of claim 20, where the vapor generating device consists of a And the following additional combinations of intermediates A medium for supplying and controlling the flow of materials to the vapor generating equipment. Media for vapor flow control In order for the vapor to flow evenly in all directions of the vapor generator and the medium for cooling preparation, the vapor generator To prevent the heat of evaporation from the inside surface 2 3. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 18 และการรวมตัวกลางเพิ่มเติมสำหรับการหมุนภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิกันพลังงานความร้อนที่จะแออัดบนผนังของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ3.Equipment of claim 18 and additional intermediate combinations for rotating temperature-sensitive containers to prevent heat energy to be congested on the walls of temperature-sensitive containers.
TH9501000234A 1995-02-08 Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma TH9201B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH25071A true TH25071A (en) 1997-05-12
TH9201B TH9201B (en) 1999-11-03

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PE31695A1 (en) HOLLOW CONTAINERS WITH INERT OR WATERPROOF INTERNAL SURFACE OBTAINED THROUGH A DEPOSITION, FACILITATED BY PLASMA, OF A PRIMARILY ORGANIC SUBSTANCE
US4901667A (en) Surface treatment apparatus
EP0962260B1 (en) Material evaporation system
TWI428460B (en) Vapor emission device, evaporation apparatus for organic film and method for evaporating organic film
EP0714999A1 (en) Method for sublimating a solid material and a device for implementing the method
US4409511A (en) Phase transition cooled window for broad beam electron gun
JP2671367B2 (en) Vapor phase epitaxial growth equipment
US20130160712A1 (en) Evaporation cell and vacuum deposition system the same
JP4716277B2 (en) Thin film forming method, vapor deposition source substrate, and vapor deposition source substrate manufacturing method
JP3235176B2 (en) Organic metal compound vaporizer
TH25071A (en) Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma
TH9201B (en) Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma
KR20020038625A (en) Apparatus and method for depositing organic matter of vapor phase
JP2719283B2 (en) Knudsen cell for low temperature
JP5647854B2 (en) Film forming apparatus and film forming method
EP1696049B1 (en) Vacuum evaporation apparatus
JP4344631B2 (en) Molecular beam source for organic thin film deposition
JP6512543B2 (en) Vapor deposition cell, thin film production apparatus and thin film production method
JP2000239846A (en) Thin film forming device
JP2005048244A (en) Molecular beam source for depositing organic thin film
JP4949644B2 (en) Method for manufacturing Josephson element
JP2004107686A (en) Air open type cvd system
JPS59112870A (en) Curing method for coating film and apparatus therefor
JPS6286830A (en) Heat treating implement for compound semiconductor
JP2719281B2 (en) Knudsen cell for low temperature