TH15352A3 - กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา - Google Patents
กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมาInfo
- Publication number
- TH15352A3 TH15352A3 TH1703002359U TH1703002359U TH15352A3 TH 15352 A3 TH15352 A3 TH 15352A3 TH 1703002359 U TH1703002359 U TH 1703002359U TH 1703002359 U TH1703002359 U TH 1703002359U TH 15352 A3 TH15352 A3 TH 15352A3
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- coating
- clear
- chemical vapor
- microwave plasma
- hydrophobic
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 58
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 52
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract 50
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 title claims abstract 39
- 230000003075 superhydrophobic Effects 0.000 title claims abstract 25
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 title claims abstract 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims 28
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title claims 28
- 230000002194 synthesizing Effects 0.000 title claims 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 31
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 16
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 14
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 claims 14
- 230000002209 hydrophobic Effects 0.000 claims 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 9
- -1 methyl dimethyl siloxane Chemical compound 0.000 claims 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 7
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims 5
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 claims 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 5
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims 4
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 claims 3
- QRSFFHRCBYCWBS-UHFFFAOYSA-N [O].[O] Chemical compound [O].[O] QRSFFHRCBYCWBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 3
- 210000003491 Skin Anatomy 0.000 claims 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 2
- KLGZELKXQMTEMM-UHFFFAOYSA-N hydride Chemical compound [H-] KLGZELKXQMTEMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 claims 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral Effects 0.000 claims 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims 1
Abstract
------27/11/2560------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ การประดิษฐ์นี้ได้เสนอกรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใส ด้วยเทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ประกอบด้วยขั้นตอน การทำความสะอาดพื้นผิววัสดุ จากนั้นทำความสะอาดพื้นผิวระดับโมเลกุลและเคลือบผิวด้วยเทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟ พลาสมา ------------ หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ การประดิษฐ์นี้ได้เสนอกรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใส ด้วยเทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ประกอบด้วยขั้นตอน การทำความสะอาดพื้นผิววัสดุ จากนั้นทำความสะอาดพื้นผิวระดับโมเลกุลและเคลือบผิวด้วยเทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟ พลาสมา
Claims (8)
1. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบไอเคมี โดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา มีขั้นตอนดังนี้ ก. นำวัสดุที่ต้องการจะเคลือบชั้นผิวมากำจัดฝุ่นหรือสิ่งสกปรกออกจากผิววัสดุ และเช็ดทำความสะอาด พื้นผิวด้วยตัวทำละลายอินทรีย์ ในขั้นตอนนี้ด้วัสดุที่ผ่านการทำความสะอาดพื้นผิวแล้ว ข. นำวัสดุที่ผ่นการทำความสะอาดพื้นผิวแล้วที่ได้จากขั้นตอน ก มาทำความสะอาดพื้นผิวโตยใช้ พลาสมา (plasma cleaning) ใช้แก๊สออกซิเจน (oxygen) ผสมกับแก๊สเฉื่อย ทำโดยสภาวะสุญญากาศ ความดันต่ำในช่วง 0.1-0.2 มิลลิบาร์ แล้วปล่อยแก๊สออกซิเจนผสมกับแก็สเฉื่อย ให้ไหลมายังสภาวะ สุญญากาศ จนมีความด้อยู่ในช่ง 02-05 มิลลิบาร์ จากนั้นให้กำเนิดคลื่นไมโครเวฟ เป็นเวลา 10- 20วินาที ในขั้นตอนนี้จะได้พื้นผิวผ่านการปรับสภาพผิวและพร้อมที่จะเกิดหมู่ฟังก์ชันกับโมเลกุลอื่น ค. จากนั้นระเหยสารตั้งตันที่เลือกได้จาก น้ำมันซิลิโคนหรือไซลอกเซน เข้าไปในสภาวะสุญญากาศที่มี ความดัน 0.1-0.2 มิลลิบาร์ ซึ่งภายในสภาวะสุญญากาศมีแผ่นวัสดุที่ปรับสภาพพื้นผิวเรียบร้อยแล้วที่ ได้จากขั้นตอน ข จากนั้นให้กำเนิดคลื่นไมโครเวฟ เป็นเวลา 5-10 วินาที ในขั้นตอนนี้จะได้แผ่นเคลือบ ผิวที่มีสมบัติไม่ชอบน้ำอย่างยิ่งยวดที่มีความใส ---------- แก้ไข 08/10/2561 หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า
1. กรรมวิธีการสังเคราะห์ขั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบไอเคมี โดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา มีขั้นตอนดังนี้ ก. นำวัสดุที่ต้องการจะเคลือบชั้นผิวมากำจัดฝุ่นหรือสิ่งสกปรกออกจากผิววัสดุ และเช็ดทำความสะอาด พื้นผิวด้วยตัวทำละลายอินทรีย์ ในขั้นตอนนี้ได้วัสดุที่ผ่านการทำความสะอาดพื้นผิวแล้ว ข. นำวัสดุที่ผ่านการทำความสะอาดพื้นผิวแล้วที่ได้จากขั้นตอน ก มาทำความสะอาดพื้นผิวโดยใช้ พลาสมา (plasma cleaning) ใช้แก๊สออกซิเจน (oxygen) ผสมกับแก๊สเฉื่อย ทำโดยสภาวะ สุญญากาศความดันตํ่าในช่วง 0.1-0.2 มิลลิบาร์ แล้วปล่อยแก๊สออกซิเจนผสมกับแก๊สเฉื่อย ให้ไหลมายัง สภาวะสุญญากาศ จนมีความดันอยู่ในช่วง 0.2-0.5 มิลลิบาร์ จากนั้นให้กำเนิดคลื่นไมโครเวฟ เป็นเวลา 10-20 วินาที ในขั้นตอนนี้จะได้พื้นผิวผ่านการปรับสภาพผิวและพร้อมที่จะเกิดหมู่ฟังก์ชันกับโมเลกุลอื่น ค. จากนั้นระเหยสารตั้งต้นที่เลือกได้จาก นํ้ามันซิลิโคนหรือไซลอกเซน เข้าไปในสภาวะสุญญากาศที่มี ความดัน 0.1-0.2 มิลลิบาร์ ซึ่งภายในสภาวะสุญญากาศมีแผ่นวัสดุที่ปรับสภาพพื้นผิวเรียบร้อยแล้วที่ ได้จากขั้นตอน ข จากนั้นให้กำเนิดคลื่นไมโครเวฟ เป็นเวลา 5-10 วินาที ในขั้นตอนนี้จะได้แผ่นเคลือบ ผิวที่มีสมบัติไม่ชอบน้ำอย่างยิ่งยวดที่มีความใส
2. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง อัตราส่วนระหว่าง แก๊สออกซิเจนต่อกับ แก๊สเฉื่อย เท่ากับ 7:3
3. กรรมวิธีการสังเคราะห์ขั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง แก๊สเฉื่อย เลือกได้จาก ไนโตรเจน (nitrogen) หรือ อาร์กอน (argon)
4. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง นํ้ามันซิลิโคน หรือ ไซลอกเซน ซึ่งเป็นพลิ เมอร์แบบออร์แกโนไซลอกเซน ที่มีโครงหลักพอลิเมอร์ (polymer backbone) เป็นสาร อนินทรีย์ ประกอบด้วยสายโซ่ของ Si-O-Si แต่มีหมู่ฟังก์ชันข้างสายโซ่ (side group) เป็นสารอินทรีย์ที่มีสมบัติ ไม่ชอบนํ้า โดยเลือกจากหมู่ฟังก์ชันข้างสายโซ่ที่มาเกาะกับสารโซ่หลัก ในที่นี้ได้จำแนกออกได้เป็น 3 กลุ่มตามหมู่ฟังก์ชัน คือ (1) สารจำพวกไฮโดรคาร์บอน ได้แก่ พอลิไดเมทิลไซลอกเซน (polydimethyl siloxane), พอลิ(ไดเมทิลไซลอกเซน), บิส(ไฮดรอกซิลแอลคิล)เทอร์มิเนท (Poly(dimethylsiloxane), bis(hydroxyalkyl) terminated), ไวนิลเทอร์มิเนท พอลิไดเมทิลไซลอก หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า เซน (vinyl terminated polydimethyl siloxane), พอลิฟินิลเมทิลไดเมทิลไซลอกเซน (polyphenylmethyldimethylsiloxane), ไฮไดรด์เทอร์มิเนท พอลิ(เมทิล-ฟินิล)ไซลอกเซน (hydride terminated poly(methyl-phenyl) siloxane) หรือ (2) สารจำพวกไฮโดรคาร์บอนที่มีหมู่ฟังก์ชัน แอลคอกซี ได้แก่ ไตรเมทอกซี เทอร์มิเนท พอลิไดเมทิลไซลอกเซน (trimethoxy terminated polydimethylsiloxane), ไตรเอทอกซี ทอร์มิเนท พอลิไดเมทิลไซลอกเซน (triethoxy terminated polydimethylsiloxane) หรือ (3) สารจำพวกฟลูออโรไฮโดรคาร์บอน ได้แก่ ไตรเมทิล เทอร์มิเนท พอลิ(เมทิลไตรฟลูออโรโพรพิล) ไซลอกเซน (trimethyl terminated poly(methyltrifluoropropyl) siloxane), ไฮดรอกซิล เทอร์มิเนท พอลิ(เมทิล-ไตรฟลูออโรโพลพิล)ไซลอกเซน (hydroxy terminated poly(methyl-trifluoropropyl) siloxane)
5. กรรมวิธีการสังเคราะห์ขั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง กำเนิดคลื่นไมโครเวฟที่ความถี่ 0.915-2.45 กิกะเฮิรตซ์ กำลัง 800-1100 วัตต์
6. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วยเทดนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่ง ตัวทำละลายอินทรีย์ เลือกได้จาก แอลกอฮอล์ หรือ อะซีโตน ---------------------------------------------------------------------------------------------------- ------27/11/2560------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า ข้อถือสิทธิ
1. กรรมวิธีการสังเคราะห์ขั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบไอเคมี โดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา มีขั้นตอนดังนี้ ก. นำวัสดุที่ต้องการจะเคลือบขั้นผิวมากำจัดฝุ่นหรือสิ่งสกปรกออกจากผิววัสดุ และเช็ดทำความสะอาด พื้นผิวด้วยตัวทำละลายอินทรีย์ ในขั้นตอนนี้ได้วัสดุที่ผ่านการทำความสะอาดพื้นผิวแล้ว ข. นำวัสดุที่ผ่านการทำความสะอาดพื้นผิวแล้วที่ได้จากขั้นตอน ก มาทำความสะอาดพื้นผิวโดยใช้ พลาสมา (plasma cleaning) ใช้แก๊สออกซิเจน (oxygen) ผสมกับแก๊สเฉื่อย ทำโดยสภาวะสุญญากาศ ความดันตํ่าในช่วง 0.1-0.2 มิลลิบาร์ แล้วปล่อยแก๊สออกซิเจนผสมกับแก๊สเฉื่อย ให้ไหลมายังสภาวะ สุญญากาศ จนมีความดันอยู่ในช่วง 0.2-0.5 มิลลิบาร์ จากนั้นให้กำเนิดคลื่นไมโครเวฟ เป็นเวลา 10- 20 วินาที ในขั้นตอนนี้จะได้พื้นผิวผ่านการปรับสภาพผิวและพร้อมที่จะเกิดหมู่ฟังก์ชันกับโมเลกุลอื่น ค. จากนั้นระเหยสารตั้งต้นเข้าไปในสภาวะสุญญากาศที่มีความดัน 0.1-0.2 มิลลิบาร์ ซึ่งภายในสภาวะ สุญญากาศมีแผ่นวัสดุที่ปรับสภาพพื้นผิวเรียบร้อยแล้วที่ได้จากขั้นตอน ข จากนั้นให้กำเนิดคลื่น ไมโครเวฟ เป็นเวลา 5-10 วินาที ในขั้นตอนนี้จะได้แผ่นเคลือบผิวที่มีสมบัติไม่ชอบน้ำอย่างยิ่งยวดที่มี ความใส
2. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง อัตราส่วนระหว่าง แก๊สออกซิเจนต่อกับ แก๊สเฉื่อย เท่ากับ 7:3
3. กรรมวิธีการสังเคราะห์ขั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง แก๊สเฉื่อย เลือกได้จาก ไนโตรเจน (nitrogen) หรือ อาร์กอน (argon)
4. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง สารตั้งต้น เลือกได้จาก นํ้ามันซิลิโคนหรือ ไซลอกเซน
5. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 3 ที่ซึ่ง นํ้ามันซิลิโคน หรือ ไซลอกเซน ซึ่งเป็นพลิ เมอร์แบบออร์แกโนไซลอกเซน ที่มีโครงหลักพอสิเมอร์ (polymer backbone) เป็นสาร อนินทรีย์ ประกอบด้วยสายโซ่ของ Si-O-Si แต่มีหมู่ฟังก์ชันข้างสายโซ่ (side group) เป็นสารอินทรีย์ที่มีสมบัติ ไม่ชอบนํ้า โดยเลือกจากหมู่ฟังก์ชันข้างสายโซ่ที่มาเกาะกับสารโซ่หลัก ในที่นี้ได้จำแนกออกได้เป็น 3 กลุ่มตามหมู่ฟังก์ชัน คือ (1) สารจำพวกไฮโดรคาร์บอน หรือ (2) สารจำพวกไฮโดรคาร์บอนที่มีหมู่ ฟังก์ชัน แอลคอกซี หรือ (3) สารจำพวกฟลูออโรไฮโดรคาร์บอน
6. กรรมวิธีการสังเคราะห์ขั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง กำเนิดคลื่นไมโครเวฟที่ความถี่ 0.915-2.45 กิกะเฮิรตซ์ กำลัง 800-1100 วัตต์ หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า
7. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วยเทดนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่ง ตัวทำละลายอินทรีย์ เลือกได้จาก แอลกอฮอล์ หรือ อะซีโตน
8. ผลิตภัณฑ์ที่ได้จากกรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1-4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่ง มุม สัมผัสของหยดนํ้าสูงกว่า 165 องศา 9.ผลิตภัณฑ์ที่ได้จากกรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1-4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่ง มีมุม กลิ้งตํ่ากว่า 5 องศา 1
0. ผลิตภัณฑ์ที่ได้จากกรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 - 4 ข้อใดข้อหนึ่ง มีค่าการ ส่องผ่านของแสงสูงกว่า 95% ตลอดช่วงสเปคตรัมที่ตามองเห็นคือช่วงความยาวคลื่นประมาณ 400- 750 นาโนเมตร ------------ หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า ข้อถือสิทธิ
1. กรรมวิธีการสังเคราะห์ขั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบไอเคมี โดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา มีขั้นตอนดังนี้ ก. นำวัสดุที่ต้องการจะเคลือบขั้นผิวมากำจัดฝุ่นหรือสิ่งสกปรกออกจากผิววัสดุ และเช็ดทำความสะอาด พื้นผิวด้วยตัวทำละลายอินทรีย์ ในขั้นตอนนี้ได้วัสดุที่ผ่านการทำความสะอาดพื้นผิวแล้ว ข. นำวัสดุที่ผ่านการทำความสะอาดพื้นผิวแล้วที่ได้จากขั้นตอน ก มาทำความสะอาดพื้นผิวโดยใช้ พลาสมา (plasma cleaning) ใช้แก๊สออกซิเจน (oxygen) ผสมกับแก๊สเฉื่อย ทำโดยสภาวะสุญญากาศ ความดันตํ่าในช่วง 0.1-0.2 มิลลิบาร์ แล้วปล่อยแก๊สออกซิเจนผสมกับแก๊สเฉื่อย ให้ไหลมายังสภาวะ สุญญากาศ จนมีความดันอยู่ในช่วง 0.2-0.5 มิลลิบาร์ จากนั้นให้กำเนิดคลื่นไมโครเวฟ เป็นเวลา 10- 20 วินาที ในขั้นตอนนี้จะได้พื้นผิวผ่านการปรับสภาพผิวและพร้อมที่จะเกิดหมู่ฟังก์ชันกับโมเลกุลอื่น ค. จากนั้นระเหยสารตั้งต้นเข้าไปในสภาวะสุญญากาศที่มีความดัน 0.1-0.2 มิลลิบาร์ ซึ่งภายในสภาวะ สุญญากาศมีแผ่นวัสดุที่ปรับสภาพพื้นผิวเรียบร้อยแล้วที่ได้จากขั้นตอน ข จากนั้นให้กำเนิดคลื่น ไมโครเวฟ เป็นเวลา 5-10 วินาที ในขั้นตอนนี้จะได้แผ่นเคลือบผิวที่มีสมบัติไม่ชอบน้ำอย่างยิ่งยวดที่มี ความใส
2. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง อัตราส่วนระหว่าง แก๊สออกซิเจนต่อกับ แก๊สเฉื่อย เท่ากับ 7:3
3. กรรมวิธีการสังเคราะห์ขั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง แก๊สเฉื่อย เลือกได้จาก ไนโตรเจน (nitrogen) หรือ อาร์กอน (argon)
4. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง สารตั้งต้น เลือกได้จาก นํ้ามันซิลิโคนหรือ ไซลอกเซน
5. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 3 ที่ซึ่ง นํ้ามันซิลิโคน หรือ ไซลอกเซน ซึ่งเป็นพลิ เมอร์แบบออร์แกโนไซลอกเซน ที่มีโครงหลักพอสิเมอร์ (polymer backbone) เป็นสาร อนินทรีย์ ประกอบด้วยสายโซ่ของ Si-O-Si แต่มีหมู่ฟังก์ชันข้างสายโซ่ (side group) เป็นสารอินทรีย์ที่มีสมบัติ ไม่ชอบนํ้า โดยเลือกจากหมู่ฟังก์ชันข้างสายโซ่ที่มาเกาะกับสารโซ่หลัก ในที่นี้ได้จำแนกออกได้เป็น 3 กลุ่มตามหมู่ฟังก์ชัน คือ (1) สารจำพวกไฮโดรคาร์บอน หรือ (2) สารจำพวกไฮโดรคาร์บอนที่มีหมู่ ฟังก์ชัน แอลคอกซี หรือ (3) สารจำพวกฟลูออโรไฮโดรคาร์บอน
6. กรรมวิธีการสังเคราะห์ขั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วยเทคนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง กำเนิดคลื่นไมโครเวฟที่ความถี่ 0.915-2.45 กิกะเฮิรตซ์ กำลัง 800-1100 วัตต์ หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า
7. กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วยเทดนิคการเคลือบ ไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่ง ตัวทำละลายอินทรีย์ เลือกได้จาก แอลกอฮอล์ หรือ อะซีโตน
8. ผลิตภัณฑ์ที่ได้จากกรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1-4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่ง มุม สัมผัสของหยดนํ้าสูงกว่า 165 องศา 9.ผลิตภัณฑ์ที่ได้จากกรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1-4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่ง มีมุม กลิ้งตํ่ากว่า 5 องศา 1
0. ผลิตภัณฑ์ที่ได้จากกรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบนํ้ายิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา ตามข้อถือสิทธิ 1 - 4 ข้อใดข้อหนึ่ง มีค่าการ ส่องผ่านของแสงสูงกว่า 95% ตลอดช่วงสเปคตรัมที่ตามองเห็นคือช่วงความยาวคลื่นประมาณ 400- 750 นาโนเมตร
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH15352B TH15352B (th) | 2019-07-11 |
| TH15352A3 true TH15352A3 (th) | 2019-07-11 |
| TH15352C3 TH15352C3 (th) | 2019-07-11 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Rau et al. | Mechanisms of plasma polymerization of various silico-organic monomers | |
| US6887578B2 (en) | Fluorocarbon-organosilicon copolymers and coatings prepared by hot-filament chemical vapor deposition | |
| NL1019781C2 (nl) | Deklaag alsmede werkwijzen en inrichtingen voor de vervaardiging daarvan. | |
| Hu et al. | Clear and Durable Epoxy Coatings that Exhibit Dynamic Omniphobicity. | |
| Wrobel et al. | Polymerization of organosilicones in microwave discharges. II. Heated substrates | |
| TWI765966B (zh) | 含氟醚組成物、塗佈液及具有表面層之物品 | |
| Huang et al. | Water repellency improvement of cellulosic textile fibers by betulin and a betulin-based copolymer | |
| CN108047773A (zh) | 一种可喷涂透明超双疏涂料的制备方法 | |
| Huang et al. | Atmospheric pressure plasma polymerization of super-hydrophobic nano-films using hexamethyldisilazane monomer | |
| Mitschker et al. | Comparative study on the deposition of silicon oxide permeation barrier coatings for polymers using hexamethyldisilazane (HMDSN) and hexamethyldisiloxane (HMDSO) | |
| Lau et al. | Fluorocarbon dielectrics via hot filament chemical vapor deposition | |
| Karaman et al. | Plasma enhanced chemical vapor deposition of poly (2, 2, 3, 4, 4, 4‐hexafluorobutyl acrylate) thin films | |
| TH15352A3 (th) | กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา | |
| TH15352C3 (th) | กรรมวิธีการสังเคราะห์ชั้นเคลือบผิวให้มีสมบัติไม่ชอบน้ำยิ่งยวดและมีความใสด้วย เทคนิคการเคลือบไอเคมีโดยอาศัยไมโครเวฟพลาสมา | |
| Durán et al. | Beyond microelectronics with 1, 3, 5, 7-tetramethylcyclotetrasiloxane: A promising molecule for anti-fogging coatings | |
| Zuber et al. | One‐step fabrication of nanocomposite thin films of PTFE in SiOx for repelling water | |
| Wong et al. | Design of Fluoro‐Free Surfaces Super‐Repellent to Low‐Surface‐Tension Liquids | |
| Paulussen et al. | Physical and chemical properties of hybrid barrier coatings obtained in an atmospheric pressure dielectric barrier discharge | |
| Malecha et al. | A PDMS/LTCC bonding technique for microfluidic application | |
| Kumar et al. | Tailoring terpenoid plasma polymer properties by controlling the substrate temperature during PECVD | |
| Kim et al. | Antithetic superhydrophobic/superhydrophilic surfaces formation by simple gas switching in an atmospheric-pressure cold plasma treatment | |
| Cacot et al. | Soft polymerization of hexamethyldisiloxane by coupling pulsed direct‐liquid injections with dielectric barrier discharge | |
| Da Silva et al. | Study of the Stability and Hydrophilicity of Plasma‐Modified Microfluidic Materials | |
| Nwankire et al. | The effect of plasma‐polymerised silicon hydride‐rich polyhydrogenmethylsiloxane on the adhesion of silicone elastomers | |
| Theelen et al. | Localised plasma deposition of organosilicon layers on polymer substrates |