эионные свойства и начинает взаимодействовать с фторсодержашим защитным слоем, в результате чего резко ухудшаютс защитные свойства сло . Цель изобретени - повышение термо стойкости магнитных лент из аморфных магнитных сплавов. Цель достигаетс тем, что согласно способу обработки поверхности магнитных лент из аморфных магнитных сплавов , включающему нанесение защитного покрыти в электрическом разр де, нане сение защитного покрыти в электрическом разр де производ т путем катодного распылени нитрида кремни и нитрида алюмини при ускор ющем напр жении 1,4-2,1 кВ и давлении в камере З-Ю мм рт.ст. и одновременного взрывного испарени порошка высокомолекул рного полимера трифторхлорэтилен с поверхности танталового испарител при наличии активирующего облучени поверхности магнитной ленты ультрафиол товым излучением с длиной волны 18О430 нм и интенсивностью 4-5,2 клк, затем нанос т термокомпенсирующий сло смеси нитрида алюмини с винилиденфто ридом, бомбардиру ионами алюмини ми шень из полимера винилиденфторида при том же уровне активации путем импульс но-ллазменного распылени алюмини при ускор ющем напр жении 2-2,5 кВ, длительности рабочего импульса 10-40 и длительности паузы между импульсами 5О-100 мс, после чего взрывным испарением в том же вакууме при активации поверхности резонансным ультрафиолетовым излучением с длиной волны 22О340 нм и интенсивностью 2,4-5,4 клк нанос т слой эмульгированного политетрафторэтилена . На фиг. 1 показана принципиальна схема технологического процесса получе ни термостойких покрытий; на фиг. 2 структура монолитно-дисперсного сло ; на фиг. 3 - структура промежуточного термокомпенсирующего сло ; на фиг. 4 структура верхнего защитного сло . На фиг. 1-4 обозначено: 1 - движуща с магнитна лента; 2 - 4 - последовательно наносимые слои защиты; 5 источник катодного распылени нитрвда кремни и алюмини ; б,- источник напылени трифторхлорэтилена; 7 - источник широкополосного ультрафиолетового излучени ; 8 - мишень из полимера винилиденфторида; 9 - узкополосный источ ник ультрафиолетового излучени ; 10 , источник распылени полимера политет рафторэтилена; 11 - зародышевый кластер из нитрида кремни ; 12 - оболочка кластера из нитрида алюмини ; 13 - демпфирующа оболочка из трифторхлорэтилена; 14 - св зка из трифторхлорэтилена; 15 адгезионный подслой на ленте; 16 - кластеры из нитрида алюмини ; 17 - полимерьна св зка из винилиденфторида; 18 термокомпенсирующий промежуточный подслой и 19 - слой полимера политетрафторэтилена . Размеры кластеров завис т от условий роста покрыти и технологичес ких режимов его осаждени и составл ют в среднем 10-30 нм дл нитрида кремни , 5О-80 нм (внешний диаметр) дл нитрвда алюмини и до 2-3 мкм (внешний диаметр) дл грихлорфгорэтилена, При непрерывном напылении граница между сло ми не вл етс резкой, и они образуют однородное и сплошное защитное покрытие. Пунктиром выделены зоны осаждени каждого из слоев, I - Ш - зоны осаждени , которые быть вьшолнены в пределах одной или в нескольких установках (фиг. 1). Лента подаетс барабаном или конвейерным устройством (не показаны). В зоне I облучаетс ультрафиолетовым излучением реакционный объем (показано стрелками), Б зоне О объем и поверхность ленты, в зоне Ш преимущественно поверхность ленты. Способ осуществл етс следующим образом. Типовую ленту из аморфного магнитного сплава состава железо - кремний алюминий с помошью барабанного или конвейерного устройства пропускают через зону распылени , в которой в рабочем вакууме -10 мм рт.ст. одновременно осуществл ют катодное распыление мишеней из нитрида кремни и нитрида алюмини и взрывное испарение порошка полимера трифторхлорэтилена, а реакционный объем облучают широкополосным ультрафиолетовым излучением. В результате в объеме происходит реакци активационной кластеризации и формирование на поверхности ленты сло гомогенной смеси из распыл емых кокотонентов. Затем импульсно-плазменным распылением катода из алюмини бомбардируют дополнительную мишень из винилиденфторида . Распъ1ление происходит в атмосфере азота с подсветкой широкополосным кластеризующим ультрафиолетовым излучением . Заключительна операци предназначена дл получени защитного пассивирующего сло , обладающего хорошими антикоррозионными свойствами при нагреве, термостойкостью и антифрикционными свойствами при механических нагрузках. Дл этого поверхность ленты, содержащую 2 выше описаннь1х промежуточных сло , облучают резонансным ультрафиолетовым излучением полосой 22О-340 н и одновременно взрывным испарением ил термическим напылением распыл ют по рошок полимера полите рафторэтилена. Пример 1. Лента из сплава .FSg S ig Л е толщиной 5О мкм. Нижний слой получен катодным распылением при токе Л 82,7 мА/см, ,7 кВ, скорость осаждени V 4,6 нм/мин; распыление AEN при 3 65 мА/см , Lla 1,-5 кВ,- ,2 нм/мин, температура испарител из Та 1320С, скорость испарени V 12 нм/мин при интенсивности излучени 5,2 клк, температура ленты TQ 150°С, толщина сло d 1,6 мкм. Импульсно-плазменное напыление промежуточного сло ; длительность разр дного импульса f 20 мс, U, 2,5 кВ, врем nay3iji мс, скорость напылени А . 40 нм/м абочий вакуум 3-10 мм рт.ст. при на пылении, интенсивность облучени 2,4 клк, толщина промежуточного сло О, 8 мкм. Напыление верхнего сло при температуре Та испарител 1410°С й.2 8,5 клк: Л 220-340 нм, скорость роста Vj 4 5 нм/мин, толщина 3j Ю,6 мкм. П р и м е р 2. Лента из сплава , толщиной 75 мкм. Нижний слой - SijN :Л 76,5 мА/см, UQ .. 1,6 кВ, V 3.2 нм/мин; Аем : J , 56 MA/CM,,lJti 1,4 кВ, V 5,5 нм/мин, температура Та испарител 134О°С, «Л. 4 клк, V., 16 нм/мин, TO 16О°С, толщина ,2 мкм, напыление проме|жуточного сло ; Z 1О мс, Uc, -2 кВ, мс, V2 18,3 нм/мин, рабочий вакуум 4,7-10 мм рт.ст. «С 2,5 клк, 3 О,8 мкм. Напыление верхнегг сло : Т 1420°С, dL 7 клк, X 220-300 нм, V3 34 нм/мин, мкм. П р и м е р 3. Лента из сплава Fe-jjSi АС г д-олшиной 40 мкм. Нижний слой -51эН4- 3 92 мА/см, Uq 2,1 кВ, V 5,6 нм/мин; MN :3 72 мА/см, На 1,8 кВ, V 8,4 нм/мин, Ти 135О°С, TO 150°С,« 2,1 клк. v 18,4 нм/мин, d 0,8 мкм. Напыление промежуточного сло -.Т 4О мс, UQ 2,4 кВ, Тр 8О мс, V,2 36,2 нм/мин, рабочий вакуум 3,5-10 мм рт.ст. JL 4,1 клк, dij 0,5 мкм. Напыление верхнего сло : Ти 144О°С, ,4 клк, 7 220-320 нм, УЗ 52 нм/мин, dj 0,7 мкм. В таблице перечислены основные элек трофизические и эксплуатационные данные покрытий при различных рабочих текшературах магнитной ленты.The ionic properties and begins to interact with the fluorine-containing protective layer, as a result of which the protective properties of the layer deteriorate dramatically. The purpose of the invention is to increase the thermal resistance of magnetic tapes of amorphous magnetic alloys. The goal is achieved in that according to the method of treating the surface of magnetic tapes of amorphous magnetic alloys, including applying a protective coating in electrical discharge, applying a protective coating in electrical discharge is performed by cathodic sputtering of silicon nitride and aluminum nitride under accelerating voltage 1, 4-2.1 kV and a pressure in the chamber of 3 to 10 mm Hg. and simultaneous explosive evaporation of the powder of a high molecular weight polymer trifluorochloroethylene from the surface of a tantalum evaporator in the presence of an activating irradiation of the magnetic tape surface with ultraviolet radiation with a wavelength of 18O430 nm and an intensity of 4-5.2 klx, then applying a thermal compensation layer of an aluminum nitride mixture with vinylidene fluoride, a bomb, vinylidene fluoride, a bomb, and a bomb with vinylidene fluoride, a bomb, and a bombarding agent. aluminum ions, a polymer of vinylidene fluoride at the same level of activation by pulsed aluminum plasma spraying at an accelerating voltage of 2-2.5 kV, The impulse duration is 10–40 and the pause between pulses is 5–100 ms, then explosive evaporation in the same vacuum when surface is activated by resonant ultraviolet radiation with a wavelength of 22–340 nm and an intensity of 2.4–5.4 klx is applied a layer of emulsified polytetrafluoroethylene . FIG. 1 shows a schematic diagram of the technological process of obtaining heat-resistant coatings; in fig. 2 structure of the monolithic-dispersed layer; in fig. 3 - structure of the intermediate temperature compensating layer; in fig. 4 structure of the upper protective layer. FIG. 1-4 marked: 1 - moving with magnetic tape; 2 - 4 - consistently applied layers of protection; 5 source of cathode sputtering of silicon and aluminum nitride; b, source of spraying of trifluorochloroethylene; 7 is a broadband ultraviolet radiation source; 8 - vinylidene fluoride polymer target; 9 — narrowband ultraviolet radiation source; 10, the spray source of the polymer is polyteh rafluoroethylene; 11 — silicon nitride germinal cluster; 12 - aluminum nitride cluster shell; 13 - trifluorochloroethylene ethanol damping sheath; 14 - trifluorochloroethylene coupling; 15 adhesive sublayer on the tape; 16 - clusters of aluminum nitride; 17 is a polymer of vinylidene fluoride; 18 thermocompensating intermediate sublayer and 19 - layer of polytetrafluoroethylene polymer. The size of the clusters depends on the growth conditions of the coating and the technological modes of its deposition and is on average 10-30 nm for silicon nitride, 5O-80 nm (outer diameter) for aluminum nitride, and up to 2-3 microns (outer diameter) for grichloroforethylene In continuous spraying, the boundary between the layers is not sharp, and they form a uniform and continuous protective coating. The dotted line outlines the zones of each of the layers, I - III - the zones of deposition that are to be performed within one or in several installations (Fig. 1). The belt is fed by a drum or conveyor device (not shown). In zone I, the reaction volume (indicated by arrows) is irradiated with ultraviolet radiation, in zone O, the volume and surface of the tape, in zone III, mainly the surface of the tape. The method is carried out as follows. A typical tape of an amorphous magnetic alloy of the composition iron-silicon-aluminum with the aid of a drum or conveyor device is passed through a spray zone, in which in a working vacuum -10 mm Hg. at the same time, cathode sputtering of silicon nitride and aluminum nitride targets and explosive evaporation of trifluorochloroethylene ethylene powder are carried out, and the reaction volume is irradiated with broadband ultraviolet radiation. As a result, an activation clustering reaction takes place in the volume and a homogeneous mixture layer of sprayed cocotonents forms on the ribbon surface. Then, an additional target of vinylidene fluoride is bombarded with an aluminum plasma cathode. Distribution occurs in a nitrogen atmosphere with illuminated broadband clustering ultraviolet radiation. The final operation is designed to obtain a protective passivating layer with good anticorrosion properties during heating, heat resistance and antifriction properties under mechanical loads. For this, the surface of the tape, containing 2 of the above described intermediate layers, is irradiated with resonant ultraviolet radiation with a 22O-340 n band and at the same time by explosive evaporation or thermal spraying, sprayed with a powder of polymer polyfluoroethylene. Example 1. Tape of alloy. FSg S ig Л е thickness of 5О microns. The bottom layer was obtained by cathode sputtering at a current of L 82.7 mA / cm, 7 kV, V deposition rate of 4.6 nm / min; spraying AEN at 3 65 mA / cm, Lla 1, -5 kV, -, 2 nm / min, evaporator temperature from Ta 1320С, evaporation rate V 12 nm / min with radiation intensity of 5.2 klx, tape temperature TQ 150 ° C thickness d 1.6 microns. Pulsed-plasma sputtering of the intermediate layer; the duration of the discharge pulse is f 20 ms, U, 2.5 kV, the time nay3iji ms, the spraying rate A. 40 nm / m working vacuum 3-10 mm Hg when sprayed, the radiation intensity of 2.4 klx, the thickness of the intermediate layer is about 8 microns. The deposition of the upper layer at a temperature Ta of the evaporator is 1410 ° C d.2 8.5 klx: L 220-340 nm, growth rate Vj is 4 5 nm / min, thickness 3j S, 6 microns. PRI mme R 2. Tape of alloy, 75 microns thick. The bottom layer - SijN: L 76.5 mA / cm, UQ .. 1.6 kV, V 3.2 nm / min; Aem: J, 56 MA / CM ,, lJti 1.4 kV, V 5.5 nm / min, temperature Ta evaporator 134O ° C, “L. 4 klx, V., 16 nm / min, TO 16O ° C, thickness, 2 μm, deposition of the intermediate layer; Z 1O ms, Uc, -2 kV, ms, V2 18.3 nm / min, working vacuum 4.7-10 mm Hg “With 2.5 klx, 3 O, 8 microns. Spraying of the upper layer: T 1420 ° С, dL 7 klx, X 220-300 nm, V3 34 nm / min, µm. PRI me R 3. Tape from an alloy of Fe-jjSi AC g d-tire 40 microns. The bottom layer -51 eH4- 3 92 mA / cm, Uq 2.1 kV, V 5.6 nm / min; MN: 3 72 mA / cm, At 1.8 kV, V 8.4 nm / min, Ti 135 O ° C, TO 150 ° C, “2.1 klx. v 18.4 nm / min, d 0.8 μm. Sputtering of the intermediate layer - .T 4O ms, UQ 2.4 kV, Tp 8O ms, V, 2 36.2 nm / min, working vacuum 3.5-10 mm Hg JL 4.1 klk, dij 0.5 microns. Spraying the upper layer: Ti 144O ° C, 4 klx, 7 220-320 nm, ultrasound 52 nm / min, dj 0.7 μm. The table lists the main electrophysical and operational data of coatings for various working textures of a magnetic tape.
Примечани е, d-полна толщина сло (у образцов серии А указана толщина нижнего; среднего и верхнего сло соответственно ); ЕПР н ЕПР - электрическа прочность покрыти при комнатной и рабочей температуре; Т - рабоча температура покрыти ; С - срок службы покрыти при рабочей температуре под нагрузкой.Note, d is the total thickness of the layer (for samples of series A, the thickness of the lower layer is shown; the middle and upper layers, respectively); EPR n EPR is the electrical strength of the coating at room and operating temperatures; T is the operating temperature of the coating; C is the service life of the coating at operating temperature under load.
Преимуществом данного способа 5шп етс подбор такой последовательности .технологических операций, котора обеспечивает нанесение термостойкого за плитного покрыти , обладающего одновременно: хорощими изол ционными и механическими адгезион}й 1ми свойствами при высокой рабочей температуре сплава железо - кремний - алюминий, и предотвращение диффузионного обеднени поверкносги сплава за счет дрейфа атомов в защитный слой вещества.The advantage of this method is the selection of such a sequence of technological operations that ensures the application of a heat-resistant behind-slab coating that simultaneously has insulation and mechanical adhesion of properties at a high operating temperature of the iron-silicon-aluminum alloy and prevents diffusion depletion of the alloy’s curvature due to the drift of atoms into the protective layer of matter.