SU732408A1 - Method of chrome-plating - Google Patents

Method of chrome-plating Download PDF

Info

Publication number
SU732408A1
SU732408A1 SU782636824A SU2636824A SU732408A1 SU 732408 A1 SU732408 A1 SU 732408A1 SU 782636824 A SU782636824 A SU 782636824A SU 2636824 A SU2636824 A SU 2636824A SU 732408 A1 SU732408 A1 SU 732408A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
chromium
zone
iodide
deposition
synthesis
Prior art date
Application number
SU782636824A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Юрий Иванович Поляков
Авраам Аронович Розен
Станислав Федорович Дудник
Владислав Викторович Сагалович
Николай Федорович Халин
Original Assignee
Предприятие П/Я В-8851
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я В-8851 filed Critical Предприятие П/Я В-8851
Priority to SU782636824A priority Critical patent/SU732408A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU732408A1 publication Critical patent/SU732408A1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C23C16/08Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metal halides
    • C23C16/10Deposition of chromium only

Description

(54) СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ХРОМОВЫХ ПОКРЫТИЙ(54) METHOD FOR APPLYING CHROMIUM COATINGS

1one

Изобрете1ше относитс  к нанесению металлических покрытий, в частности хромовых, путем разложени  летучих соединений металла на нагретой поверхности, и может быть использовано в машиностроении , металлургии и других отрасл х. народного хоз йства при создании конструкций с защитными коррозиогаюстой-The invention relates to the application of metallic coatings, in particular chromic, by decomposing volatile metal compounds on a heated surface, and can be used in mechanical engineering, metallurgy and other industries. national economy in the creation of structures with protective corrosion-resistant

кими. эрозионностойкими и т.п. покрыти ми .kimi erosion resistant, etc. coverings.

Широко известен способ нанесени  металлических покрытий путем химического транспортного переноса, осуществл емый в замкнутом объеме, в проточной системе или в псевдозамкнутом объеме lA widely known method of applying metallic coatings by chemical transport is carried out in a closed volume, in a flow system or in a pseudo-closed volume l

Наиболее близким к предложенному  вл етс  способ нанесени  хромовых покрытий на поверхность изделий путем йодидного химического транспортного переноса металла в псевдозамкнутом объеме из нагретой зоны синтеза йодида хрома ,в зону его разложени  к нагретой поверхности покрываемого издели  тфи , пониженном давлении в системе, причемThe closest to the proposed is a method of applying chromium coatings on the surface of products by chemical iodide transport of metal in a pseudo-closed volume from the heated synthesis zone of chromium iodide, into its decomposition zone to the heated surface of the coated article, and under reduced pressure in the system.

давление в зоне синтеза превышает давление в зоне разложени  2.. При осуществлении процесса в зоне синтеза создают температуру 60О-85О С, а в зоне разложени  (осаждени  хрома) - 7005 1200С.the pressure in the synthesis zone exceeds the pressure in the decomposition zone 2. When the process is carried out in the synthesis zone, the temperature is 60 ° -85 ° C, and in the decomposition zone (deposition of chromium) 7005 ° C.

Основным йедостатком этого способа  вл етс  мала  скорость осаждени  хрома при относительно шгаких температурах The main disadvantage of this method is the low rate of deposition of chromium at relatively harsh temperatures.

10 разложени  (бЗО-ООО С). В частности, при температурах в зоне синтеза 7ООо 10 decomposition (BSO-LLC C). In particular, at temperatures in the zone of synthesis 7OOO

75О Сив зоне разложени  - 850-90ОС75O Siv decomposition zone - 850-90OS

скорэсть осаждени  хрома составл ет 2-4О мкм/ч. Сравнительно высокие тем15 пературы осаждени  (более 90О С), при которых возможен эффективный перенос хрома, не могу использоватьс  прн нанесении покрытий на издели  изготовленные из термически нестабильных легкоЯ ) плавких и химически активных к используемой газовой среде aтepнaлoв, а также при нан«:ении хрома на атериальг вследствие их спекае юстн. Цель изобретени  - повьгшевд1е скорости осаждени  хрома при награде ЛИЙ до 55О-90О с. Поставленна  цель достигаетс  тем, что процесс ведут тзи нагреве жэны с№ теза до 7ОО-110О С, но не ниже температуры новерхности покрываемых нз делий и давлений в ней 2,1-15,0 корр. Вьюока  температура (700-110О С| в зоне синтеза йодида хрома и дав-пе-гmie 2,1-15,0 торр, которое превышает критическое, соответствующее чачалу вьзделени  металлического хрома при вьгбранной температуре, обеспечивают до таточно интенсивный поток паров йодида что в сочетании с ниакой температурой покрываемых изделий 550-90О°С и дав лением 1,0-10 - 1,5« в зоне разложени  обуславливает устранение недостатков , присуших известному способу П р и м е р. В вакуумную камеру объемом Ю дм помешают плоскую на- греваемую подложку и на рассто нии нвс кольких сантиметров перпендикул рно, к её плоскости располагают трубчатый синтезатор диа  етром 10-20 мм и длиной мкм, изготовленный из кварцевого стекла или молибдена и заполненный чешуйчатым электролит гческим хромом. Синтезатор соедин ют с испарителем йода, обогреваемым паропроводом через вентиль, обеспечивающий регулирование скорости подачи паров йода. Камеру откачивают до давлени  I- 10 -1-ICJ opp, устанавливают Tpe6yeviHe температуры подложки и синтезатора, после чего откры&ают вентктаэ испаритол  йода и устанавливают давле.ние в -зоне синтеза йодида хрома (,О торр) и давле/«i . ние Б вакууг ной ( 1,0- 10 1 ,5 10 торр). Температуру испарител  йода поддерживают на уровне 50-80 С. После выдержки испарител  йода и синтезатора йодида крома в течение 3045 мин при заданных температурах открывают вентиль испарител  и направл ют пары йода в синтезатор. Услови  проведеган  процесса и результаты представлены в таблице.The rate of chromium deposition is 2-4 O micron / hr. Relatively high temperatures of deposition (more than 90 ° C), at which effective transfer of chromium is possible, I cannot use pnn coating on products made of thermally unstable light Fusible and chemically active additives to the gaseous medium used, as well as in the application of chromium on aterialg owing to their cure yustn. The purpose of the invention is to reduce the chromium deposition rate when the LIU is awarded up to 55O-90O. The goal is achieved by the fact that the process is carried out by the CHI heating of the chen from room number to 7OO-110 ° C, but not lower than the surface temperature and the pressure in it are 2.1 to 15.0 corr. The temperature in the zone (700–110 O C | in the zone of synthesis of chromium iodide and a pressure of 2.1–15.0 Torr, which exceeds the critical value, corresponding to the initial distribution of metallic chromium at selected temperature, ensures a sufficiently intense flow of iodide vapors The combination of the temperature of the coated products with 550-90 ° C and a pressure of 1.0-10-1.5 "in the decomposition zone determines the elimination of the drawbacks of the known method. EXAMPLE - heated substrate and at a distance of two centimeters Perpendicularly, a tubular synthesizer with a diameter of 10–20 mm and a micron length, made of quartz glass or molybdenum and filled with a scaly electrolytic chromium, is placed in its plane. iodine. The chamber is pumped out to a pressure of I-10 -1-ICJ opp, the temperature of the substrate and the synthesizer is set to Tpe6yeviHe, after which ventctae are opened and the iodine is evaporated and the pressure is set in the iodide synthesis zone xp ma (Oh torr) and PRESSURE / «i. B vacuum generation (1.0-10 1, 5 10 Torr). The temperature of the iodine vaporizer is maintained at 50-80 ° C. After holding the evaporator iodine and the chrome iodide synthesizer for 3045 minutes, the evaporator valve is opened at given temperatures and the iodine vapor is sent to the synthesizer. The conditions of the process and the results are presented in the table.

Claims (2)

Формула изобретения §0The claims §0 Способ нанесения хромовых покрытий на поверхность изделий путем йодидного химического транспортного переноса ме· талла в псевдозамкнутом объеме из нагретой зоны синтеза йодида хрома в 55 зону его разложения’ к нагретой поверх принятые во внимание при экспертизеThe method of applying chromium coatings to the surface of products by means of iodide chemical transport transfer of metal in a pseudo-closed volume from the heated zone of synthesis of chromium iodide to the 55 zone of its decomposition ’to the one heated above 1. Осаждение из газовой фазы. Под ред. К. Пауэлла, Дж. Окислы и Дж.Блочера, Мл. М., Атомиздат, 1970, с. 198-200.1. Deposition from the gas phase. Ed. C. Powell, J. Oxides and J. Blocher, Jr. M., Atomizdat, 1970, p. 198-200. 2. Евстюхин А. И. Получение чистых металлов и соединений химическим осаждением из газовой фазы. - В сб. Металлы высокой чистоты. М., Наука, 1976, с. 140-143 (прототип).2. Evstyukhin A. I. Obtaining pure metals and compounds by chemical vapor deposition. - On Sat High purity metals. M., Science, 1976, p. 140-143 (prototype). Филиал ППП Патент, г. Ужгород, уд. Проектная, 4Branch of the PPP Patent, Uzhgorod, ud. Project, 4 ЦНИИПИ Заказ 1661/18TSNIIIPI Order 1661/18 Тираж 1074Draw 1074 ПодписноеSubscription
SU782636824A 1978-06-30 1978-06-30 Method of chrome-plating SU732408A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782636824A SU732408A1 (en) 1978-06-30 1978-06-30 Method of chrome-plating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782636824A SU732408A1 (en) 1978-06-30 1978-06-30 Method of chrome-plating

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU732408A1 true SU732408A1 (en) 1980-05-08

Family

ID=20773675

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782636824A SU732408A1 (en) 1978-06-30 1978-06-30 Method of chrome-plating

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU732408A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3356527A (en) Vapor-plating metals from fluorocarbon keto metal compounds
US5175020A (en) Process for depositing a layer containing boron and nitrogen
ATE110795T1 (en) PLASMA PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF PLASMA DISCHARGE COATINGS AT LOW TEMPERATURE.
US3031338A (en) Metal deposition process and apparatus
DE69636627D1 (en) CHEMICAL GAS PHASE DEPOSITION AND POWDER FORMATION USING A THERMAL SPRAYING METHOD FROM LONG-TERM SUPERCITIC AND SUPERCRITICAL FLUID SOLUTIONS
NZ235700A (en) Preparing reactant gas for glass coating by injecting liquid precursor as film on vapourisation chamber wall
GB483029A (en) Improvements in and relating to the deposition of metallic films from metal vaporised in vacuo
US3472679A (en) Coating surfaces
US4714625A (en) Deposition of films of cubic boron nitride and nitrides of other group III elements
US3321337A (en) Process for preparing boron nitride coatings
SU732408A1 (en) Method of chrome-plating
EP0349044A3 (en) Process for the production of a protective film on a magnesium-based substrate, application to the protection of magnesium alloys, substrates thus obtained
US5521001A (en) Carbide formed on a carbon substrate
US3703405A (en) Vapor deposition of rhenium and rhenium-tungsten alloy coatings
JPS5489983A (en) Device and method for vacuum deposition compound
US3472680A (en) Low temperature process for pyrolytic deposition of zirconium oxide films
JPS5832229B2 (en) Vacuum containers and vacuum equipment parts coated with metal nitride
US2873208A (en) Deposition of refractory metals and alloys thereof
Dugdale Soft vacuum vapour deposition
Vandenbulcke et al. Low-pressure gas-phase pack cementation coating of complex-shaped alloy surfaces
US3781173A (en) Method for providing metallic carbide coatings on graphite
JPS6334222B2 (en)
JPS57123969A (en) Formation of zinc oxide film by vapor phase method using plasma
US3787225A (en) Aluminum plating process
USRE26857E (en) Process for manufacture of thin films