SU689208A1 - Радиационно-отверждаема на воздухе полиэфирна композици - Google Patents

Description

Изобретение относитс  к области получени  радиационно-отверждаемых на воздухе полиэфирных композиций, которые могут быть использованы дат  изготовлени  тонкослойных защитных и защитно-декоративных покрытий на древесине , металле, стекле и других подложках .

Известна радиацйонно-отверждаема  композици  , включающа  ненасыщенный олигоэфир и виниловьй мономер.

Однако пленки на основе этой композиции дают липкие, нестойкие к царапанию покрыти  неудовлетворительного, качества (проколы, кратеры, шагрень).

Ближайшей по технической сущности и достигаемому эффекту к изобретению  вл етс  радиационно-отверждающа  на воздухе полиэфирна  композици , включающа  ненасыценньй олигоэфир, стирол ацетобутират целлюлозы и сенсибилизатор радиационного отверждени .

Ацетобутират целлюлозы (АВЦ), вхо-« д щий в состав известной композиции, позвол ет частично устранить ингибирукндее воздействие кислорода воздуха и получать в воздушной среде покрыти  хорошего качества.

Дл  распределени  АБЦ в пленкообразующей композиции и получени  технологической в зкости лаков АБЦ предварительно совмещаетс  с полиэфиром при 100-200 С в отсутствие стирола (из-за опасности его полимеризации) прн введении летучих растворителей типа толуола,трихлорэтилена, метилэтилкетона и метилизобутилкетона. Дл  достижени  технологической в зкости лаков добавл етс  большое количество (100-1000%) сополимеризующегос  мономера (стирола или винилтолуола), что приводит к нарушению оптимального, близкого к эквивалентному, соотношени ненасьш(енных св зей олигомера и мономера , существенно повьшает летучесть составов. Некоторое уменьшение содержани  мономера может быть достигнуто ведением спирта, в частности бутанола 10-50%, способствующего снижению в зкости АВЦ. В дальнейшем перед отвер эде ием ускоренными электронами дл  удалени  избыточного стирола и бутанола сметеНУ подвергают обдувке. Недостатком известной композиции  вл етс  наличие инертных летучих растворителей, высокое содержание стирола, вызывающее ухудшение качества покрытий, взрывоопасиос-Гь композиции и высока  доза поглощенной энергии , необходимой дл  отверждени  покрытий . Целью изобретени   вл етс  снижение количества стирола и уменьшение дозы поглощенной энергии. Цель достигаетс  тем, что радиационно-отверждаема  на воэдухе полиэфир на  композици , включающа  иенас1лце ный олигоэфир, стирол, ацетобутират целлюлозы и сенсиб1шизатор радиационного отверждени  в качестве сенсибилизатора содержит 2,4,6-трис-(диметиламинометилОфеиол и дополнительно акриловую кислоту при следующем соотношении компонентов, мае.ч.; Ненасыщенный олигоэфир62-75 Стирол25 - 38 Акрилова  кислота 1,6- 5,0 Ацетобутират целлюлозы 0,2- 1,0 2,4,6-Трис-(диметш1аминометил )фенол 0,1- 5,0 Ненасьщенный олигоэфир раствор ю в стироле, ингибируют добавкой 0,015 0,02% гидрохинона от веса олигоэфира В качестве ненасыщенных олигоэфиров используют олигоалкиленмалеинаты раз . личного строени , например модифицир ванные фтапевым ангидридом или дицик лопентадиейом, с кислотным числом 38 42 мг КОН, синтез которых осуществл  етс  обычньни методами. В композицио ввод т ацетобутират целлюлозы (АБЦ) марки лаковый. Пленкообразующую композицию готов т путем совмещени  65%-ного стирольного раствора ненасьщенного олигоэфира с 10-20%-ным раствором ацетобутирата целлюлозы в акриловой кислоте с последующим введением 2,4,6-тpиc-(димeтилaминoмeтил )фeнoлa. Полученные лаки представл ют собой однокомпонентные системы с жизнеспособностью до 6 мес. при 20-22 с. Лак наноситс  на металлические стекл нные пластинки или на предварительно очищенную и загрунтованную поверхностьщитовых деталей мебели с помощью аппликатора либо наливом толщиной 250-300 мкм и отверждают при дозе поглощенной энергии 2-12Мрад; мощности дозы 0,3-3,0 Мрад/с и энергии электронов 0,3-1,0 Мэв. В результате получают призрачные, бесцветные, с хорошими декоративными свойствами твердые покрыти  с содержанием гель-фракции 89-97%, относительной твердостью 0,55-0,90 и адгезией к древесине 12-16кГ/см. В случае олигоалкиленмалеинатов, модифицированных одпслопентадиёиом, исчезновение липкости покрытий наблюдаетс  при дозе поглощенной энергии 2-4 Мрад, дл  композиций на основе других олигоэфиров при 6-8 Мрад. Состав композиций, услови  отвер рени  и свойства покрытий приведены в табл. 1, 2, 3, 4. Как следует из данных, приведенных в таблицах, описанные пленкообраз ующие композиции отличаютс  высоким содержанием олигоэфира по отношению к летучему реакционноспособному мономеру , меньшим содержанием АБЦ и полньв4 отсутствием инертного растворител . Кроме того, они отличаютс  высокой реакционной способностью (отверждение их завершаетс  при дозах до 8-10 Мрад с высоким выходом гель-фракции, а при низком содержании стирола - при 2 4 Нрад), высокой стойкостью к ультрафиолетовому излучению (табл. 3). При введении в лаковую композицию до 2% инертного растворител  типа ацетона, метилизобутнлкетона или бутанола табл. 1, п. I) как и в случае известной композиции, увеличиваетс  доза поглощенной энергии, врем  отверждени  покрытий, и на поверхности последних по вл ютс  дефекты в виде точечных проколов и кратеров. Таким образом, при использовании описанной лаковой композиции по срав нению с известной достигаетс  полное исключение летучих инертных растворителей , снижение количества стирола, i уменьшение дозы поглощенной энергии. Растворение ацетобутирата целлюлозы

Состав композиций, услови  отверждени  к свойств покрытий

в акриловой кислоте упрощает технологио приготовлени  полиэфирного лака радиационного отверждени  и одновременно способствует улучшению качества получаемых полимерных покрытий.

Таблиц 1

Прнмечаиие; Врем  истечени  (с) определ ют по ВЗ-4

Продолжение табл.1

По вл ютс  кратеры Неэначитель а  липкость Покрыти  гл нцевые беа дефектов, нелнпкие, стойки к рвстворнтел)Ж

Повыпаетс  стойкость к царапанию

Липкость покрытий полностью исчезает при 4 Нрад Покрыти  гл нцевые без дефектов , нелипкие, стойкие к растворител м

Состав компоэнииЛ, услови  отверждепи  сноПстйа покрытий

Свойства лака Прозрачна  слег-Проэ| ачна  почI Внешний вид ка желтовата  ти бесцветна  жидкость жидкоетъ 4828 . 2В зкость по ВЗ-1, с 3Роэлив Хоропнй Хороший

Й7-940,3-0,614-16

12-14

90-971),6-0,7516-19

12-16

94,60,82

15,3

18,3 Свойства исходных составов и отверждеииых под действием

Т а в л и ц,а

Продолжение табл.2

8-9 Тверда  гл нцева  поверхность с дефектами в виде проколов

9-10 Гл нцева  тверда  поверхность , вез дефектов , стойка  к растворител м

10 Тверда  гл нцева  поверхность , с повышеннойустойчивостью к царапании и растворител м беэ дефектов

Тверда  поверхность, стойка  к растворител м-, и царапани  Прозрачна  почти весцветна  жидкость 30 Очень хороший Таблица 3 ускоренных элехтро оа покрытий

2,4,б-Трнс(днметилаиинонстил) фенол0,5

Вли ние концектрации 2,4,(дннeтипaмннo 4eтнп)фeнcшa

Продолжение табл.3

Тав  п 4

Claims (1)

1. <claim-text>РАДИАЦИОННО-ОТВЕРВДАЕМАЯ НА ВОЗДУХЕ ПОЛИЭФИРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ, вклю-</claim-text></li></ul> <claim-text>2</claim-text> <claim-text>чающая ненасыщенный олигоэфир, стирал, ацетобутират целлюлозы и сенсибилизатор радиационного отверждения, отличающаяся тем, что, с целью снижения количества стирола и уменьшения дозы поглощенной энергии, в качестве сенсибилизатора она содержит 2,4,6-трис-(диметиламинометил)фенол и дополнительно - акриловую кислоту при следующем соотношении компонентов, мас.ч.:</claim-text> <table border="1"> <tr><td colspan="2"> Ненасыщенный олиго-</td></tr> <tr><td> эфир</td><td> 62-75</td></tr> <tr><td> Стирол</td><td> 25-38</td></tr> <tr><td> Акриловая кислота</td><td> 1,6-5,0</td></tr> <tr><td> Ацетобутират цел-</td><td></td></tr> <tr><td> люлозы</td><td> 0,2-1,0</td></tr> <tr><td> 2,4,6-Трис-(диме-</td><td></td></tr> <tr><td> тиламинометнл)фенол</td><td> 0,1-5,0</td></tr> </table>