SU627951A1 - Устройство дл вибрационной обработки деталей - Google Patents

Description

Изобретение относитс  к области от делочно-упрочн ющей обработки поверхностного сло  деталей машин в совершающих низкочастотные колебани  контейнерах и может быть применено в- различных област х машиностроени .

Известны устройства дл  вибрационной обработки деталей, содержащие упруго установленную на станине подвижную плиту с вибратором и упруго установленкую на ней платформу с рабочим контейнером lj .

Така  компоновка имеет определенные преимущества перед традиционной компонов кой устройств вибрационного типа, так как позвол ет использоватьпринцип

промежуточных тел. Однако наивысший результат дают устройства, где одновременно реализуетс  принцип промежуточных тел с распределением подвижных масс по убывающей и принцип механического полупроводника ,

Цель изобретени  - увеличение коэффициента Полезного действи  устройства.

Дл  этого платформа с рабочим контейнером установлена на одной станине с плитой, содержащей вибратор, с возможностью образовани  регулируемого зазора между ними.

На фиг. 1 схематично изображено описываемое устройство, общий вид} на фиг. 2 - резьбова  регулирукмца  пробка, общий вид; на фиг. 3 - траектори  движени  подвижной платформы при работе устройства в установленном р&жим е.

Claims (1)

1. Контейнер 1 с обрабатывающей средой 2 закреплен на подвижной платформе 3, котора  посредством упругих элементов , например пружин 5 соединена со станиной 5. Вибратор 6 закреплен на подвнжВой плите 7, котора  посредством элементов, например пружин 8, соединена с поддоном станины 9. Поддон станины 9 жестко установлен на фундаментных болтах 10 станины 5. В пружины 4 черфз подвижную платформу 3 ввинчены резьбовые регулирующие пробки 11. Между нижней плоскостью подвижной платформы 3 и верхней плоскостью поцвиж1.й плиты 7 устанавливаетс  зазор Принцип работы устройства по сн етс фиг, 3, где горизонтальные линии 00 и Oj 0| отмечают исходное положение подвижной платформы 3 и подвижной плиты 7, При работе устройства в установившемс  режиме подвижна  плита 7 под воздействием возбуждающей силы ви ратора 6 совершает эллиптические колебани . Эллипс А В С Д  вл етс  теоретической траекторией колебаний подвижной плиты, ее практическа  траектори  . колебаний ограничиваетс  кривой А F С Д Траектори  колебаний подвижной плат формы 3 представлена замкнутой кри вой А Р С Е. На участке траектории С Д Л подвижна  плита совершает разгон. Причем на участке кривой СД подвижна  плита удал етс  от подвижной платформы 3, а на участке кривой ДА догон ет ее. На участке кривой А Р С подвижна  плита и подвижна  платформа движутс  совмес но. Жесткость упругих элементов 4 подобрана так, что врем  прохождени  под вижной платформой участка кривой С Е А одинаково со временем прохождени  подвижной плитой участка кривой С Д А, Ввиду того, что траектори  колебаний контейнера 1 имеет форму эллипса или окружности, то смесь из обрабатывающей среды 2 и деталей совершает поступательное движение по образующей контейнера 1, и в зависимости от соста ва обрабатьгоающей среды происходит полирование или упрочнение поверхностного сло  деталей. Жесткость упругих элементов 4 р&гулируетс  перемещением резьбовых регулирующих пробок 11 относительно пло кости подвижной платформу 3. Регулировка зазора /I производитс  перестановкой поддона станины 9 относительно фундаментных болтов 1О. Повышение КПД устройства дл  вибрационной обработки происходит ввиду еализации в конструкции устройства етода механического полупроводника и ринципа промежуточных тел. В предлагаемом устройстве принцип еханического полупроводника реализуетс  аличием зазора между источником энергии (вибратор, подвижна  плита) и системой: передатчик энергии - потребитель анергии (подвижна  платформа, контейнер обрабатывающа  среда). В предлагаемом устройстве принцип промежуточных тел реализуетс  тем, что в цепи между источником энергии (вибратор , подвижна  платформа) и потребителем энергии (обрабатывающа  среда) включено промежуточное тело - передатчик энергии (подвижна  платформа, контейнер ). Кроме того, массы вибрационной установки, передающие движение, расположены по убывающей. Например, маоса источника энергии должна, быть больше массы передатчика эйергии, котора , в свою очередь, должна быть больше массы потребител  энергии. Повышение КПД в предлагаемых устройствах дл  вибрационной обработки может быть реализовано двум  способами: уменьшением мощности привода или ув& личением интенсивности обработки деталей . Формула изобретени  Устройство дл  вибрационной обработ ки деталей, содержащее упруго установленную на станине подвижную плиту с вибратором и упруго установленную платфор)- му с рабочим контейнером, отличающеес  тем, что, с целью увеличени  коэффициента полезного действи  устройства, платформа и плита ycтaнoв ены на одной станине с возможностью образовани  регулируемого зазора между ними. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе: 1. Авторское свидетельство № 256549, кл. В 24 В 31/06, 1968. fД ff Фиг.г