SU540241A1 - Проекционна система - Google Patents

Description

1

Изобретение относитс  к оптике, а именно к проекционным оптическим системам, примен емым , в частности, в устройствах проекционной фотолитографии при производстве микроэлектронных схем.

Известны устройства, в которых осуществл етс  одновременный перенос изображений всех элементов фотошаблона на полупроводниковую пластину с помощью проекционных оптических систем, обладающих весьма высоким разрешением на больших пол х {.

Однако вследствие неплоскостности полупроводниковых пластин возникают ограничени  данного метода, св занные с определенной зависимостью глубины резкости проекционных систем от их разрешающей способности .

Известны объективы фотоповторителей, работающих с автоматической подфокусировкой дл  снижени  вли ни  неплоскостности рабочих поверхностей, покрытых светочувствительным слоем 2.

Однако в таких устройствах при одновременном движении фотошаблона и полупроводниковой пластины в процессе экспонировани  небходимо строгое соблюдение масштаба, что становитс  возможным только при увеличении изображени  проекционной системы, равном единице. Это требование выполн етс  при включении двух одинаковых объективов фотоповторител  иавстречу один другому. Однако такое соединение объективов усложн ет проекционную систему, увеличивает рассто ние между предметом и изображением, дл  уменьшени  которого требуетс  излом оптической оси.

Известны также объективы типа «Авангард , обладающие достаточной глубиной резкости на больших пол х 3.

Иедостатком устройств такого типа  вл етс  сравиительно мала  разрешающа  способность и, как следствие этого, невозможность получени  интегральных схем с размерами элементов пор дка 1-2 мк.

Наиболее близким техническим решением к

изобретению  вл етс  проекционна  система

установки совмещени  и экспонировани , не

содержаща  преломл ющих поверхностей .

Проекционна  система установки состоит из

двух сферических зеркал и призменного блока с отражающими поверхност ми. На светочувствительный слой с помощью призменного блока и двух сферических зеркал проецируетс  в однократном масштабе изображение части фотошаблона. Полностью изображение на светочувствительном слое формируетс  в процессе совместного движени  фотошаблона и полупроводниковой пластины с нанесенным на ее рабочей поверхности светочувствительным

слоем

Недостатком устройства такого типа  вл етс  низка  производительность вследствие малой ширины зоны единовременной засветки , невозможность применени  автоматической фокусировки.

Цель изобретени  - уменьшение аберраций и увеличение мгновенного пол  изображени .

Указанна  цель достигаетс  тем, что проекционна  система, содержаш,а  зеркальный объектив, состо щий, по крайней мере, из двух зеркал, и полевую диафрагму, снабжена дополнительным зеркальным объективом, установленным симметрично основному объективу относительно плоскости полевой диафрагмы , при этом центр полевой диафрагмы равноудален от оптических осей основного и дополнительного объективов.

На чертеже изображена оптическа  схема предлагаемого устройства.

Система содержит металло-стекл нный фотошаблон 1 с нанесенным на его рабочей поверхности рисунком требуемых конфигураций н размеров, плоское зеркало 2, объектив 3 из вогнутого 4 и выпуклого 5 зеркал, полевую диафрагму 6, плоскость которой совпадает с плоскостью изображени  объектива 3, объектив 7 из вогнутого зеркала 8, выпуклого зеркала 9, плоское зеркало 10, полупроводниковую пластину 11.

Изображение части фотошаблона 1 формируетс  объективом 3 проекционной оптической системы после четырехкратного отражени  в плоскости полевой диафрагмы 6.

С плоскостью полевой диафрагмы совпадает также плоскость предмета объектива 7 проекционной оптической системы, установленного симметрично объективу 3 относительно плоскости полевой диафрагмы 6 и смещенного параллельно ему, причем центр полевой диафрагмы расположен на равноотсто щих от оптических осей объективов 3 и 7 рассто ни ,, L,

 х о, равных о -j, где L - рассто ние между оптическими ос ми объективов.

Это изображение переноситс  объективом 7 проекционной оптической системы через вогнутое зеркало 8, выпуклое зеркало 9 и плоское зеркало 10 на полупроводниковую пластину 11, покрытую светочувствительным слоем. Изображение всего фотошаблона в однократном масштабе формируетс  в процессе совместного движени  фотошаблона и полупроводниковой пластины.

Указанна  конструкци  проекционной системы позвол ет увеличить поле изображени  за счет компенсации аберраций, вызванной параллельным смещением одного из объективов проекционной системы относительно другого. Это ведет к увеличению производительности установки. Кроме того, упрощаетс  конструкци  всей системы в целом, достигаетс  возможность получени  рисунка фотошаблона на полупроводниковой пластине в однократном масштабе без оборачивани . Становитс  возможным применение автоматической подфокусировки .

Claims (4)

1.Информационный листок фирмы Opton ФРГ Bestell Nr. 107735 (36)

2.Авторское свидетельство СССР №254815, М. Кл.О 02В 11/34,26.04.68

3.Авторское свидетельство СССР № 439778, М. Кл.2 G 02В 17/08, 05.10.70.

4.Установка типа «Micralign 100 фирмы «Perkin-Elmer Corp. журнал «Solid State Technology June 1974, p-p 50-53 (прототип ).

/ х

77

о ч

//