SU540241A1 - Проекционна система - Google Patents
Проекционна системаInfo
- Publication number
- SU540241A1 SU540241A1 SU2180430A SU2180430A SU540241A1 SU 540241 A1 SU540241 A1 SU 540241A1 SU 2180430 A SU2180430 A SU 2180430A SU 2180430 A SU2180430 A SU 2180430A SU 540241 A1 SU540241 A1 SU 540241A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- image
- photomask
- projection
- lens
- projection system
- Prior art date
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
1
Изобретение относитс к оптике, а именно к проекционным оптическим системам, примен емым , в частности, в устройствах проекционной фотолитографии при производстве микроэлектронных схем.
Известны устройства, в которых осуществл етс одновременный перенос изображений всех элементов фотошаблона на полупроводниковую пластину с помощью проекционных оптических систем, обладающих весьма высоким разрешением на больших пол х {.
Однако вследствие неплоскостности полупроводниковых пластин возникают ограничени данного метода, св занные с определенной зависимостью глубины резкости проекционных систем от их разрешающей способности .
Известны объективы фотоповторителей, работающих с автоматической подфокусировкой дл снижени вли ни неплоскостности рабочих поверхностей, покрытых светочувствительным слоем 2.
Однако в таких устройствах при одновременном движении фотошаблона и полупроводниковой пластины в процессе экспонировани небходимо строгое соблюдение масштаба, что становитс возможным только при увеличении изображени проекционной системы, равном единице. Это требование выполн етс при включении двух одинаковых объективов фотоповторител иавстречу один другому. Однако такое соединение объективов усложн ет проекционную систему, увеличивает рассто ние между предметом и изображением, дл уменьшени которого требуетс излом оптической оси.
Известны также объективы типа «Авангард , обладающие достаточной глубиной резкости на больших пол х 3.
Иедостатком устройств такого типа вл етс сравиительно мала разрешающа способность и, как следствие этого, невозможность получени интегральных схем с размерами элементов пор дка 1-2 мк.
Наиболее близким техническим решением к
изобретению вл етс проекционна система
установки совмещени и экспонировани , не
содержаща преломл ющих поверхностей .
Проекционна система установки состоит из
двух сферических зеркал и призменного блока с отражающими поверхност ми. На светочувствительный слой с помощью призменного блока и двух сферических зеркал проецируетс в однократном масштабе изображение части фотошаблона. Полностью изображение на светочувствительном слое формируетс в процессе совместного движени фотошаблона и полупроводниковой пластины с нанесенным на ее рабочей поверхности светочувствительным
слоем
Недостатком устройства такого типа вл етс низка производительность вследствие малой ширины зоны единовременной засветки , невозможность применени автоматической фокусировки.
Цель изобретени - уменьшение аберраций и увеличение мгновенного пол изображени .
Указанна цель достигаетс тем, что проекционна система, содержаш,а зеркальный объектив, состо щий, по крайней мере, из двух зеркал, и полевую диафрагму, снабжена дополнительным зеркальным объективом, установленным симметрично основному объективу относительно плоскости полевой диафрагмы , при этом центр полевой диафрагмы равноудален от оптических осей основного и дополнительного объективов.
На чертеже изображена оптическа схема предлагаемого устройства.
Система содержит металло-стекл нный фотошаблон 1 с нанесенным на его рабочей поверхности рисунком требуемых конфигураций н размеров, плоское зеркало 2, объектив 3 из вогнутого 4 и выпуклого 5 зеркал, полевую диафрагму 6, плоскость которой совпадает с плоскостью изображени объектива 3, объектив 7 из вогнутого зеркала 8, выпуклого зеркала 9, плоское зеркало 10, полупроводниковую пластину 11.
Изображение части фотошаблона 1 формируетс объективом 3 проекционной оптической системы после четырехкратного отражени в плоскости полевой диафрагмы 6.
С плоскостью полевой диафрагмы совпадает также плоскость предмета объектива 7 проекционной оптической системы, установленного симметрично объективу 3 относительно плоскости полевой диафрагмы 6 и смещенного параллельно ему, причем центр полевой диафрагмы расположен на равноотсто щих от оптических осей объективов 3 и 7 рассто ни ,, L,
х о, равных о -j, где L - рассто ние между оптическими ос ми объективов.
Это изображение переноситс объективом 7 проекционной оптической системы через вогнутое зеркало 8, выпуклое зеркало 9 и плоское зеркало 10 на полупроводниковую пластину 11, покрытую светочувствительным слоем. Изображение всего фотошаблона в однократном масштабе формируетс в процессе совместного движени фотошаблона и полупроводниковой пластины.
Указанна конструкци проекционной системы позвол ет увеличить поле изображени за счет компенсации аберраций, вызванной параллельным смещением одного из объективов проекционной системы относительно другого. Это ведет к увеличению производительности установки. Кроме того, упрощаетс конструкци всей системы в целом, достигаетс возможность получени рисунка фотошаблона на полупроводниковой пластине в однократном масштабе без оборачивани . Становитс возможным применение автоматической подфокусировки .
Claims (4)
1.Информационный листок фирмы Opton ФРГ Bestell Nr. 107735 (36)
2.Авторское свидетельство СССР №254815, М. Кл.О 02В 11/34,26.04.68
3.Авторское свидетельство СССР № 439778, М. Кл.2 G 02В 17/08, 05.10.70.
4.Установка типа «Micralign 100 фирмы «Perkin-Elmer Corp. журнал «Solid State Technology June 1974, p-p 50-53 (прототип ).
/ х
77
о ч
//
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU2180430A SU540241A1 (ru) | 1975-10-10 | 1975-10-10 | Проекционна система |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU2180430A SU540241A1 (ru) | 1975-10-10 | 1975-10-10 | Проекционна система |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU540241A1 true SU540241A1 (ru) | 1976-12-25 |
Family
ID=20634330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU2180430A SU540241A1 (ru) | 1975-10-10 | 1975-10-10 | Проекционна система |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU540241A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5052763A (en) * | 1990-08-28 | 1991-10-01 | International Business Machines Corporation | Optical system with two subsystems separately correcting odd aberrations and together correcting even aberrations |
-
1975
- 1975-10-10 SU SU2180430A patent/SU540241A1/ru active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5052763A (en) * | 1990-08-28 | 1991-10-01 | International Business Machines Corporation | Optical system with two subsystems separately correcting odd aberrations and together correcting even aberrations |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Offner | New concepts in projection mask aligners | |
US4711535A (en) | Ring field projection system | |
US6560031B1 (en) | Optical projection lens system | |
US4492459A (en) | Projection printing apparatus for printing a photomask | |
US20050280796A1 (en) | Illumination optical system and method, and exposure apparatus | |
JPH0817719A (ja) | 投影露光装置 | |
US4964705A (en) | Unit magnification optical system | |
US5040882A (en) | Unit magnification optical system with improved reflective reticle | |
JP2001185480A (ja) | 投影光学系及び該光学系を備える投影露光装置 | |
JPH07111512B2 (ja) | 補償型光学システム | |
KR20040023629A (ko) | 투영 광학계 및 상기 투영 광학계를 구비한 노광 장치 | |
US20020018197A1 (en) | Illumination system and scanning exposure apparatus using the same | |
JP3123548B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
USRE38438E1 (en) | Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same | |
US3584948A (en) | Apparatus and method for producing multiple images | |
US7170686B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method using the same | |
JPH05226218A (ja) | 構成要素レンズ間にギャップを有する屈折レンズアセンブリを含む光学投射システム | |
KR20040048359A (ko) | 반사굴절 리소그래피 시스템용 플립(미러링)되지 않은이미지를 유지하는 빔 스플리터 광학계 설계 | |
US7242457B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method using the same | |
GB1462388A (en) | Apparatus for printing on two surfaces of a radiation-sensitive material | |
SU540241A1 (ru) | Проекционна система | |
US4606606A (en) | Method and apparatus for correcting distortion and curvature of field in a display system | |
US4682037A (en) | Projection exposure apparatus having an alignment light of a wavelength other than that of the exposure light | |
JPS61129828A (ja) | 投影露光装置 | |
US4723846A (en) | Optical path length compensating optical system in an alignment apparatus |