SU439862A1 - Electrochemical method of producing thin layers of bismuth tellurium alloy - Google Patents

Description

1one

Известен способ получени  тонких слоев сплава теллура с висмутом, основанный на испарении этого сплава или его компонентов в вакууме с последующей кондепсацией паров па поверхности подложки.A known method of producing thin layers of an alloy of tellurium with bismuth, based on the evaporation of this alloy or its components in vacuum, followed by condensation of vapor on the surface of the substrate.

Способ требует сложной агишратуры, осуш ,ествл етс  при повышенной температуре.The method requires complex agglomeration, drying, is carried out at elevated temperature.

С целью получени  достаточно прочной, беспорпстой и блест щей полупроводпиковой нлеикп сплава теллура с висмутом па платпне и титане осаждение осуществл ют из неводпого раствора, состо щего из ТеСЦ, и BiCU в уксусной кислоте с добавлением iLiCl.In order to obtain a sufficiently strong, unsupported and glossy semiconductor alloy of tellurium with bismuth, platinum and titanium, the precipitation is carried out from a non-aqueous solution consisting of TeSC and BiCU in acetic acid with the addition of iLiCl.

Электрохимическое осаждение сплава теллура с висмутом на платипе и титане с целью получени  равномерной и компактной пленки провод т из раствора, содержащего 5- 100 ммоль1л ТеСЦ и 20-115 ммоль1л Bids в уксусной кислоте.Electrochemical deposition of a tellurium alloy with bismuth on a platypus and titanium in order to obtain a uniform and compact film is carried out from a solution containing 5-100 mmol TeSC and 20-115 mmol Bids in acetic acid.

Процесс электролиза ведетс  при добавлеfiHH в электролит 0,75 моль/л LiCl и плотности тока 0,5-5 ма1см. Электролиз провод т в стекл нном герметично закрытом электролизере с двум  анодами из платины или графита, прокаленного при 300-350°С. Катодом служит титанова  или платинова  пластинка. Состав и компактность осадка зависит от соотнощени  концентрации ТеСЦ и BiCU элрктролите .The electrolysis process is carried out by adding 0.75 mol / l LiCl to the electrolyte and a current density of 0.5-5 ma1cm. The electrolysis is carried out in a glass hermetically sealed cell with two anodes of platinum or graphite, calcined at 300-350 ° C. The cathode is a titanium or platinum plate. The composition and compactness of the sediment depends on the ratio of the concentration of TeSC and BiCU elrktrolit.

Напрнмер, равномерные плотные слои сплава висмут-теллур на платиновой пли титановой основе толщиной до 15-ик получают из электролита с соотношением Bids; TeCl4 отA uniform, uniformly dense layers of a bismuth-tellurium alloy on a platinum pl titanium base with a thickness of up to 15 ir is obtained from an electrolyte with a Bids ratio; TeCl4 from

25 : 1 до 1 : 5 при плотности тока до 5 ма1см-. Преимуществом предлагаемого способа  вл етс  то, что так можно получать более мелкокристаллические , а следовательно, и равномерно покрывающие поверхность катода слои25: 1 to 1: 5 at a current density of up to 5 ma1cm-. The advantage of the proposed method is that it is possible to obtain more crystalline and, therefore, evenly covering the surface of the cathode.

сплава висмут-теллур при более упрощепнои технологии в течение нескольких минут и прп компатной температуре.bismuth-tellurium alloy with a simpler technology within a few minutes and the temperature of the comp.

Предмет изобретени Subject invention

Claims (2)

1.Электрохимический снособ нолучени  тонких слоев сплава теллура с висмутом из раствора уксусной кислоты, отличающийс  тем, что, с целью улучщени  качества пленки, осаждаемой, например, на платине, осаждение осуществл ют из неводного раствора, состо щего из ТеСЦ и В1С1з в уксусной кислоте с добавлением LiCI.1. Electrochemical method for obtaining thin layers of an alloy of bismuth from a solution of acetic acid, characterized in that, in order to improve the quality of the film deposited, for example, on platinum, the deposition is carried out from a non-aqueous solution consisting of TeSC and B1C1z in acetic acid with the addition of LiCI. 2.Снособ по п. 1, отличающийс  тем, что осаждение пленки провод т из электролита с соотнощением BiCla : ТеСЦ от 25 : 1 до 1 : 5 при суммарной концентрации компонентов 120 ммоль1л и плотности тока от 0,5 до2. A method according to claim 1, characterized in that the film is deposited from an electrolyte with a BiCla: TeSC ratio from 25: 1 to 1: 5 with a total concentration of 120 mmol1l and a current density from 0.5 to 5 MulCAt.5 MulCt.