SU1631265A1 - Способ определени толщины покрыти и устройство дл его осуществлени - Google Patents
Способ определени толщины покрыти и устройство дл его осуществлени Download PDFInfo
- Publication number
- SU1631265A1 SU1631265A1 SU884363156A SU4363156A SU1631265A1 SU 1631265 A1 SU1631265 A1 SU 1631265A1 SU 884363156 A SU884363156 A SU 884363156A SU 4363156 A SU4363156 A SU 4363156A SU 1631265 A1 SU1631265 A1 SU 1631265A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- coating
- detector
- goniometer
- thickness
- diffraction
- Prior art date
Links
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к измерительной технике, в частности к технологии контрол с использованием из- аучений, и может быть использовано в различных отрасл х промышленности. Целью изобретени вл етс повышение точности контрол путем коррекции показаний по интенсивности дифракционной линии .подложки. Способ заключаетс в регистрации двух линий дифракционных составл ющих спектра, обратно рассе нного объектом контрол излучени , по соотношению которых определ ют толщину покрыти . Рентгеновский пучок от источника излучени дифрагирует в подложке и после регистрации во втором детекторе в виде интенсивности линии подложки поступает через усилитель в блок отношений, корректирующий показани в блоке регистрации . 2 с.п„ф-лы, 1 ил. «о
Description
Изобретение относитс к измерительной технике, в частности к технологии контрол толщины покрыти с ис- пользойанием излучений, и может быть использовано в различных отрасл х промышленности.
Целью изобретени вл етс повышение точности контрол путем коррекции показаний по интенсивности дифракционной линии подложки.
Суть способа заключаетс в том, что интенсивность дифракционных линий подложки и покрыти зависит от толщины покрыти . При этом интенсивность линии от покрыти имеет пр мую зависимость, а интенсивность линии
от подложки - обратную зависимость от толщины покрыти , и поэтому по их отношению можно однозначно определить контролируемый параметр.
На чертеже изображено устройство дл определени толщины покрыти .
Устройство дл определени толщины покрыти 1 содержит располагаемые по одну сторону от объекта 2 контрол , закрепленного в держателе 3, гониометр 4, на валу которого укреплен держатель 3, источник 5 рентгеновского излучени и детектор 6 излучени , закрепленные на дуге 7 гониометра с возможностью их перемещени вокруг оси гониометра, блок 8 усилени , подОЭ
со
N)
ОЭ
сл
ключенный к выходу детектора 6 и блок 9 регистрации, а также второй детектор 10, закрепленньй на дуге 7 гониометра с возможностью его перемещени вокруг оси гониометра, последовательно включенные второй усилитель 11, вход которого подключен к выходу второго детектора 10, и блок 12 отношений , второй вход которого подключен к первому детектору, а выход - к входу блока 9 регистрации.
Способ осуществл ют следующим образом .
Рентгеновский пучок 13 от источника 5 излучени попадает на объект контрол в виде покрыти 2, нанесенного на подложку. Поскольку дл рентгеновского пучка кристаллическа решетка облучаемого вещества вл етс дифракционной решеткой, то при этом происходит вление дифракции пучка. Направление дифрагированных лучей определ етс законом Вульфа-Брегга
2d sin0 nft,
где - длина волны характеристического рентгеновского излучени п - пор док отражени ; d - рассто ние между атомными плоскост ми облучаемого вещества .
По известному межплоскостному рассто нию d( вещества покрыти рассчитывают величину угла 6f , в направлении которого наблюдаетс максимум интенсивности дифрагированного пучка. Аналогично по рассто нию djsentecTBa подложки определ ют угол02«
Таким образом, в плоскости съемки , т.е. в плоскости падени первичного луча, под углом 0,к нему с помощью детектора 6 регистрируют интенсивность дифракционной линии покрыти , а под углом Sj с помощью детектора 10 - интенсивность линии подложки . От детекторов сигналы поступают на усилители 8 и 11 и на блок 12 отношений. Более точную настройку детекторов на максимумы дифракционных линий осуществл ют по интенсивности потоков импульсов на выходах усилителей 8 и 11. Затем в блоке регистрации с помощью градуировочной зависимости наход т толщину покрыти .
Градуировочную зависимость получают попредварительно произведенным замерам интенсивности дифракционных
О
5
0
5
0
5
0
45
50
5
линий, полученных от образцового покрыти , толщина которого известна в результате замеров другими способами (например, разрушающим способом с помощью микроскопа). Кроме того, такую зависимость можно получить также теоретическим путем, поскольку услови съемки и коэффициенты ослаблени ренгеновских пучков известны.
I
Отношение интенсивностей дифракционных линий зависит от толщины покрыти и поэтому может служить мерой толщины. Указанна зависимость под- твердждена.экспериментально.
Claims (2)
1. Способ определени толщины покрыти , заключающийс в том, что подложку с покрытием облучают пучком рентгеновского излучени , регистрируют спектр интенсивностей дифракционных составл ющих, в спектре вьще- л ют две дифракционные линии, одна из которых принадлежит материалу покрыти , а толщину покрыти определ ют по отношению интенсивностей линий , отличающийс тем, что, с целью повышени точности контрол , в качестве второй дифракционной линии выбирают линию, принадлежащую материалу подложки.
2. Устройство дл определени толщины покрыти , содержащее располагаемые по одну сторону от объекта контрол , закрепленного в держателе, гониометр , на валу которого укреплен держатель, источник ренгеновского излучени и первый детектор излучени , закрепленные на дуге гониометра с возможностью их перемещени вокруг оси гониометра, блок усилени , подключенный к выходу детектора, и блок регистрации, отличающеес тем, что, с целью повышени точности контрол , оно снабжено вторым детектором , закрепленным на дуге гониометра с возможностью его перемещени вокруг оси гониометра, последовательно включенными вторым усилителем , вход которого подключен к выходу второго детектора, и блоком отношений , второй вход которого подключен к первому детектору, а выход - к входу блока регистрации.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884363156A SU1631265A1 (ru) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | Способ определени толщины покрыти и устройство дл его осуществлени |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884363156A SU1631265A1 (ru) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | Способ определени толщины покрыти и устройство дл его осуществлени |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1631265A1 true SU1631265A1 (ru) | 1991-02-28 |
Family
ID=21349519
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU884363156A SU1631265A1 (ru) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | Способ определени толщины покрыти и устройство дл его осуществлени |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1631265A1 (ru) |
-
1988
- 1988-01-13 SU SU884363156A patent/SU1631265A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР № 420919, кл. G 01 23/22, 1974. Авторское свидетельство СССР № 1357707, кл. G 01 В 15/02, 1986. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4426718A (en) | X-Ray diffraction apparatus | |
US6680996B2 (en) | Dual-wavelength X-ray reflectometry | |
US7076024B2 (en) | X-ray apparatus with dual monochromators | |
US20080095311A1 (en) | Measuring Device for the Shortwavelentgh X Ray Diffraction and a Method Thereof | |
US20060153333A1 (en) | X-ray reflectometry of thin film layers with enhanced accuracy | |
US7352845B2 (en) | Energy dispersion type X-ray diffraction/spectral device | |
CA2785413A1 (en) | X-ray diffraction instrument | |
US6281498B1 (en) | Infrared measuring gauges | |
JP3889851B2 (ja) | 膜厚測定方法 | |
US4125771A (en) | Apparatus for determining stress in nickel and titanium alloyed materials | |
US3452193A (en) | Moisture content measuring method and apparatus | |
SU1631265A1 (ru) | Способ определени толщины покрыти и устройство дл его осуществлени | |
JPH0431522B2 (ru) | ||
JPH11237377A (ja) | 紙やシートの品質測定装置 | |
US6310937B1 (en) | X-ray diffraction apparatus with an x-ray optical reference channel | |
RU95112173A (ru) | Способ контроля параметров пленочных покрытий в процессе роста пленки на подложке и устройство для его осуществления | |
US3816747A (en) | Method and apparatus for measuring lattice parameter | |
JPH0288952A (ja) | 組織を分析する方法および装置 | |
JPH0833359B2 (ja) | 全反射蛍光x線分析装置 | |
Dhez et al. | Tests Of Short Period X-Ray Multilayer Mirrors Using A Position Sensitive Proportional Counter | |
JP3000892B2 (ja) | X線回折を利用した膜厚測定方法 | |
SU609079A1 (ru) | Способ контрол плотности поверхностного сло твердых тел | |
RU2194272C2 (ru) | Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в реальном времени и устройство его осуществления | |
SU1087853A1 (ru) | Способ контрол качества обработки поверхности | |
SU754274A1 (ru) | Способ рентгеноспёктрального флуоресцентного анализа вещества в легком наполнителе 1 |