SU1313294A1 - Method of cleaning wires from insulation tape - Google Patents

Abstract

Изобретение относитс  к технологии подготовки электрических проводов к монтажу и может быть использовано в электротехнической промышленности . Цель - повышение качества обработки проводов и производительности . Дл  очистки от изол ции провод 2 прот гивают через проводово- дитель 1. Блок 5. Управлени  останавливает проводоводитель в момент прохождени  через зачистное устройство 3 обрабатываемого участка провода. В этот момент источник 4 питани  формирует в зачистном устройстве 3 поток 6 низкотемпературной плазмы. 117}от- , ность потоки 3  дре не менее 10 Вт/м при атмосферном давлении. По истечении определенного времени воздействи  потоком плазмы провод прот гивают проводоводителем. 1 ил. со N9 СОThe invention relates to the technology of preparing electrical wires for installation and can be used in the electrical industry. The goal is to improve the quality of wire processing and performance. To clean the insulation, wire 2 is pulled through conductor 1. Block 5. The control stops the conductor as it passes through the stripping unit 3 of the treated wire section. At this moment, the power source 4 forms in the stripping device 3 a stream 6 of low-temperature plasma. 117} ot the flow of 3 less than 10 W / m at atmospheric pressure. After a certain period of exposure to the plasma flow, the wire is pulled by the conductor. 1 il. with N9 CO

Description

Изобретение относитс  к технологии подготовки электрических проводов к монтажу и может быть использовано в электротехнической промьшшенноЬтн.The invention relates to the technology of preparing electrical wires for installation and can be used in electrical engineering.

Целью изобретени   вл етс  повы- иение качества обработки проводов и производительности.The aim of the invention is to improve the quality of wire processing and performance.

На чертеже показано устройство дп  реализации способа.The drawing shows the device DP implementation of the method.

Устройство состоит из проводово- дител  1 дл  направлени  провода 2, зачистного устройства 3, источника А питани , блока 5 управлени . В эа- чистном устройстве формируетс  поток 6 гшазмьт.The device consists of a conductor 1 for guiding the wire 2, a stripping device 3, a power source A, a control unit 5. In a clean device, a flow of 6 gms is formed.

При кратковременном воздействии на эмалированный провод потока низкотемпературной плазмы реализуетс  режим нестационарной теплопроводимости, развитие которой определ етс  величиной коэффициента температуропроводности , где - теплопроводность , р плотность С - теплоемкость материала.With a short-term effect on the enamelled wire of a low-temperature plasma flow, an unsteady heat conduction mode is realized, the development of which is determined by the value of the thermal diffusivity, where is the heat conductivity, p is the density C is the heat capacity of the material.

,.,

ностью в  дре не менее 10 Чем выше плотность теплового потока плазмы, тем меньше врем  обработки, и конечна  температура нагрева проводаno less than 10 in density. The higher the density of the thermal plasma flow, the shorter the processing time, and the final temperature of the wire

как правило,врем  обработки 0,-5 с. Дл  очистки от изол ции провод 2 прот гивают проводоводитель 1. Блок 5 управлени  останавливает проводоводитель в момент прохождени  чв As a rule, the processing time is 0, -5 s. In order to clean the insulation from the wire 2, the conductor 1 is pulled. The control unit 5 stops the conductor at the moment of passage of the CV

10 рез зачистное устройство 3 обрабатываемого участка провода. В этот момент источник питани  формирует в зачистном устройстве 3 поток 6 низкотемпературной плазмы, действующий10 rez stripping device 3 of the treated area of the wire. At this moment, the power source forms in the stripping device 3 a stream 6 of low-temperature plasma acting

15 на провод определенное врем . После этого провод прот гивают проводоводи- телем и операции повтор ют.15 per wire for a specific time. After that, the wire is pulled by the conductor and the operations are repeated.

Среднемассова  температура плаз- ьпз в рабочем сечении должна бытьThe mass-average temperature of the plasma in the working section should be

20 больше- 5000К.20 more than 5000K.

Дл  очистки берут, например, провод марки ПЭТ-155 ; 1,18 мм с эмалевой изол цией толщиной 20 мкм и ис- Пользуют злектродуговые -плазматроныFor cleaning take, for example, wire brand PET-155; 1.18 mm with enamel insulation 20 µm thick and using electric arc plasmotrons

При плотности потока низкртемпера- мощностью 20 кВт. Провод помещаютWhen the flux density nizkrtempera- power 20 kW. The wire is placed

между встречнонаправленными плазма- тронами. Рассто ние между прово- t дом и срезами выходных сопел 6 мм, Средн   плотность каждого теплотурной плазмы при атмссферн см давлении больше 10 Вт/м происходит ббютрыйbetween counterplasma plasmatrons. The distance between the wire t and sections of the output nozzles is 6 mm. The average density of each heat-producing plasma at atmssfern cm pressure over 10 W / m occurs b.y

нагрев поверхности сло  изол ции до температуры разложени  rt испаре- ;ни . П$юдукты испарени  унос тс  .потоком iraasNftJ. Материал изол ции (эмаль, этак, пластмассы, ткани) обладает низкой теплопроводностью, поэтому скорость распределени  теплового фронта вглубь сло  изол ции близка к скорости движени  фронта испарени  материлла изол ции.. Материал провода, обычно медь, обладает высокой теплопроводностьюheating the surface of the insulation layer to the decomposition temperature rt evaporates; P $ judukts evaporation carried away with. Stream iraasNftJ. The insulation material (enamel, plastic, fabric) has a low thermal conductivity, therefore the speed of distribution of the thermal front into the insulation layer is close to the speed of the evaporation front of the insulation material. The material of the wire, usually copper, has a high thermal conductivity.

30 вого потока плазмы в  дре 8Х . . Врем  воздействи  плазмы 0,28 с. Температура провода после окончани  воздействи  плазмы в месте очистки не превьшаает . J5 Длина очищенного участка 6 мм. Очищенна  поверхность провода не содержит следов сажи или окислов.30th plasma flow in the tree 8X. . Plasma exposure time 0.28 s. The temperature of the wire after the end of the plasma exposure at the cleaning site does not exceed. J5 The length of the cleaned area 6 mm. The cleaned surface of the wire contains no traces of soot or oxides.

Дл  очистки берут, например, одновременно четыре провода марки ПЭТ (коэффициент температуропроводности 155 i 1,18 с эмалевой изол циейFor cleaning, for example, four wires of PET grade are taken simultaneously (thermal diffusivity 155 i 1.18 with enamel insulation

меди Vc),copper Vc)

Вследствие большой разнигз (Дл  диэлектриков ) тегшофизи- ческих свойств изол ции и материала провода, после достижени  тепловым 5 фронтом поверхности провода под слоем изол ции материал провода не успевает нагреватьс  до высокой температуры за врем , пока поверхиости провода достигнет и фронт испарени  jp изол ции. Этим моментом, соответствующим полному удалению изол гши с провода, ограничивают врем  воздействи  плазмы.Due to the large difference in the dielectric properties of the insulation material and the wire material, after reaching the heat 5 front surface of the wire under the insulation layer, the wire material does not have time to heat up to a high temperature as the surface of the wire reaches the evaporation front jp of the insulation. This moment, which corresponds to the complete removal of the isolate from the wire, is limited by the time of plasma exposure.

Эксперименты показывают, что дл  эффективной очистки провода от изол ции , не привод щей к значител ьному нагреву материала провода необходимо использовать поток плазмы с плот сполагают их вокруг проводов с ша- 90 . Рассто ние проводовExperiments show that to efficiently clean the wire from the insulation, which does not lead to significant heating of the wire material, it is necessary to use a plasma stream with a raft placing them around the wires with a wire. Wire distance

20 мкм. Испрльзуют четыре электроду- говьк гшазматрона мощностью 15 кВт, Р20 microns. Four electrodes of 15 kW kWhmatmatron, P are used.

гом углаcorner hight

до срезов выходных сопел 8 мм. Средн   плотность в  дре каждого- теплового потока 6-Ю Вт/м .to cut off the output nozzles 8 mm. The average density in the core of each heat flux is 6 to 10 W / m.

Врем  воздействи  плазмы на провода -О,35 с. Температура провода после окончани  воздействи  плазмы не превышает . Длина очищенного участка 7,5 мм.Time of plasma effect on wires - O, 35 s. The temperature of the wire after the end of the plasma exposure does not exceed. The length of the cleaned section 7.5 mm.

Claims (1)

Формула изобретени Invention Formula Способ очистки проводов от изол ции , включающий подачу проводов в зону очистки, нагрев обрабатываемого участка провода до разложени  изол ,.The method of cleaning the wires from the insulation, including the supply of wires to the cleaning zone, heating of the treated section of the wire before decomposition of the isol. ностью в  дре не менее 10 Чем выше плотность теплового потока плазмы, тем меньше врем  обработки, и конечна  температура нагрева провода,at least 10 times. The higher the density of the thermal plasma flow, the shorter the processing time, and the final temperature of the wire, как правило,врем  обработки 0,-5 с. Дл  очистки от изол ции провод 2 прот гивают проводоводитель 1. Блок 5 управлени  останавливает проводоводитель в момент прохождени  чвAs a rule, the processing time is 0, -5 s. In order to clean the insulation from the wire 2, the conductor 1 is pulled. The control unit 5 stops the conductor at the moment of passage of the CV рез зачистное устройство 3 обрабатываемого участка провода. В этот момент источник питани  формирует в зачистном устройстве 3 поток 6 низкотемпературной плазмы, действующийcut stripping device 3 of the treated area of the wire. At this moment, the power source forms in the stripping device 3 a stream 6 of low-temperature plasma acting на провод определенное врем . После этого провод прот гивают проводоводи- телем и операции повтор ют.on the wire a certain time. After that, the wire is pulled by the conductor and the operations are repeated. Среднемассова  температура плаз- ьпз в рабочем сечении должна бытьThe mass-average temperature of the plasma in the working section should be больше- 5000К.more than 5000K. Дл  очистки берут, например, провод марки ПЭТ-155 ; 1,18 мм с эмалевой изол цией толщиной 20 мкм и ис- Пользуют злектродуговые -плазматроныFor cleaning take, for example, wire brand PET-155; 1.18 mm with enamel insulation 20 µm thick and using electric arc plasmotrons мощностью 20 кВт. Провод помещаютpower of 20 kW. The wire is placed вого потока плазмы в  дре 8Х . Врем  воздействи  плазмы 0,28 с. Температура провода после окончани  воздействи  плазмы в месте очистки не превьшаает . Длина очищенного участка 6 мм. Очищенна  поверхность провода не содержит следов сажи или окислов.plasma flux in the tree 8X. Plasma exposure time 0.28 s. The temperature of the wire after the end of the plasma exposure at the cleaning site does not exceed. The length of the cleaned area of 6 mm. The cleaned surface of the wire contains no traces of soot or oxides. Дл  очистки берут, например, одновременно четыре провода марки ПЭТ сполагают их вокруг проводов с ша- 90 . Рассто ние проводовFor cleaning, for example, four PET wires of the same type are placed around the wires from the sh-90 at the same time. Wire distance 20 мкм. Испрльзуют четыре электроду- говьк гшазматрона мощностью 15 кВт, Р20 microns. Four electrodes of 15 kW kWhmatmatron, P are used. гом углаcorner hight до срезов выходных сопел 8 мм. Средн   плотность в  дре каждого- теплового потока 6-Ю Вт/м .to cut off the output nozzles 8 mm. The average density in the core of each heat flux is 6 to 10 W / m. Врем  воздействи  плазмы на провода -О,35 с. Температура провода после окончани  воздействи  плазмы не превышает . Длина очищенного участка 7,5 мм.Time of plasma effect on wires - O, 35 s. The temperature of the wire after the end of the plasma exposure does not exceed. The length of the cleaned section 7.5 mm. Формула изобретени Invention Formula Способ очистки проводов от изол ции , включающий подачу проводов в зону очистки, нагрев обрабатываемого участка провода до разложени  изол 313132944The method of cleaning wires from insulation, including the supply of wires to the cleaning zone, heating of the treated section of wire before decomposition of the isolator 313132944 дни и удаление изол ции, о т л и ч а- ние изол ции производ т потоком низ- го щ и и с   тем, что, с целью повы- котемпёрвтурной плаэмы при атмосфер- шени  качества обработки проводов и ном давлении, при этом плотност ь теп- производительности, нагрев и удале- лового потока не менее 1U Ьт/м.days and removal of insulation, the insulation is produced by a flow of low y and with the fact that, in order to improve the temperature of the flame during the atmosphere of the processing quality of the wire and the nominal pressure, lt tep productivity, heating and remote flow at least 1U LT / m. ////////У7//////// У7 Редактор М.Панфиловска Editor M.Panfilovska Составитель Г.Майорова Техред А.КравчукCompiled by G. Mayorova Tehred A. Kravchuk Заказ 2А42Тираж 374Подписное .Order 2А42 Circulation 374 Subscription. ВНИИПИ Государственного комитета СССРVNIIPI USSR State Committee по делам изобретений и открытий t13035, Москва, Ж-35, Раушска  наб., д. 4/5for inventions and discoveries t13035, Moscow, Zh-35, Raushsk nab., 4/5 Производственно-полиграфическое предпри тие, г.Ужгород, ул.Проектна ,4Production and printing company, Uzhgorod, Projecto st., 4 Корректор А.ОбручарProofreader A. Obruchar