SU1282767A1 - Способ создания подзатворного диэлектрика - Google Patents

Способ создания подзатворного диэлектрика

Info

Publication number
SU1282767A1
SU1282767A1 SU3786841/25A SU3786841A SU1282767A1 SU 1282767 A1 SU1282767 A1 SU 1282767A1 SU 3786841/25 A SU3786841/25 A SU 3786841/25A SU 3786841 A SU3786841 A SU 3786841A SU 1282767 A1 SU1282767 A1 SU 1282767A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
hcl
creating
oxidation
oxygen
volume
Prior art date
Application number
SU3786841/25A
Other languages
English (en)
Inventor
Н.В. Румак
В.В. Хатько
В.Н. Плотников
В.Е. Ясников
Original Assignee
Физико-технический институт АН БССР
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Физико-технический институт АН БССР filed Critical Физико-технический институт АН БССР
Priority to SU3786841/25A priority Critical patent/SU1282767A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1282767A1 publication Critical patent/SU1282767A1/ru

Links

Landscapes

  • Formation Of Insulating Films (AREA)

Abstract

Способ создания подзатворного диэлектрика, включающий нагрев кремниевых пластин от контактной температуры до температуры окисления, формирование подслоя двуокиси кремния толщиной (7-12) нм термическим окислением пластин кремния при 900-1100°С и доокисления в атмосфере Ar-O-HCl, содержащей (10-50) об.% кислорода при соотношении расходуемых объемов HCl/O= 0,01-0,04, отличающийся тем, что, с целью повышения процента выхода годных приборов за счет повышения качества подзатворного диэлектрика, подслой двуокиси кремния формируют в атмосфере Ar-O-HCl, содержащей (10-50) об.% кислорода и HCl не более 0,6 об.%.
SU3786841/25A 1984-09-08 1984-09-08 Способ создания подзатворного диэлектрика SU1282767A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU3786841/25A SU1282767A1 (ru) 1984-09-08 1984-09-08 Способ создания подзатворного диэлектрика

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU3786841/25A SU1282767A1 (ru) 1984-09-08 1984-09-08 Способ создания подзатворного диэлектрика

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1282767A1 true SU1282767A1 (ru) 2012-06-20

Family

ID=60519293

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU3786841/25A SU1282767A1 (ru) 1984-09-08 1984-09-08 Способ создания подзатворного диэлектрика

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1282767A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2654960C1 (ru) * 2017-04-26 2018-05-23 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Чеченский государственный университет" Способ изготовления полупроводникового прибора

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2654960C1 (ru) * 2017-04-26 2018-05-23 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Чеченский государственный университет" Способ изготовления полупроводникового прибора

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3371582D1 (en) Method of making silicon oxide layers
JPS5530846A (en) Method for manufacturing fixed memory
JPS56161646A (en) Manufacture of semiconductor device
EP0177894A3 (en) Method of producing metallic silicon particularly for use in the photovoltaic industry
EP0471845A4 (en) Method of forming oxide film
SU1282767A1 (ru) Способ создания подзатворного диэлектрика
JPS6459866A (en) Manufacture of mos transistor
JPS6428876A (en) Manufacture of superconducting 3-terminal element
SU1225430A1 (ru) Способ создания тонкого подзатворного диэлектрика
JPS56105652A (en) Manufacture of semiconductor device
SU1371456A1 (ru) Способ создания тонких слоев оксида кремния
JPS6411378A (en) Formation of josephson element
ES460242A1 (es) Procedimiento para estabilizar la resistencia de contactos electricos chapados en oro.
JPS5756942A (en) Manufacture of silicon semiconductor device
SU1147205A1 (ru) Способ создания тонкого подзатворного диэлектрика
JPS56146254A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS5617023A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS6411379A (en) Superconducting film structure
JPS57204174A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS5650573A (en) Mis tunnel diode type mosfet
SU1229193A1 (ru) Стекло дл спаивани стекла с алюминием
JPS54157799A (en) Production of silicon nitride layer
JPS57199270A (en) Photoelectric converter
JPS53105975A (en) Heat treatment for silicon oxide film
GB2015742A (en) Ion concentration measuring and reference electrodes