SU1243803A1 - Reactor with weighed layer - Google Patents

Description

Изобретение относитс  к установкам с кип щим слоем, в которых провод т .различные химические реакции, и может быть использовано в химической , металлургической и других от- 5 расл х промышленности и, в частности , дл  получени  трихлорсилана.The invention relates to fluid bed plants in which various chemical reactions are carried out, and can be used in the chemical, metallurgical and other industries and, in particular, to produce trichlorosilane.

Целью изобретени   вл етс  увеличение выхода готового продукта,The aim of the invention is to increase the yield of the finished product,

На чертеже представлен контакт- 0 ный реактор с взвешенным слоем, общий вид.The drawing shows a contact-suspended reactor with a suspended layer, a general view.

Реактор содержит корпус I с мелкодисперсным материалом 2, патрубок- 3 подачи газа,верхние газораспреде- 15 лительные решетки 4 и 5, коллектор 6, нижнюю газораспределительного решетку 7, цилиндрическую вставку 8 с сужающейс  средней частью 9 и теплообменник 10.20The reactor includes a housing I with fine material 2, a gas supply nozzle-3, upper gas distribution grids 4 and 5, a collector 6, a lower gas distribution grid 7, a cylindrical insert 8 with a tapering middle part 9 and a heat exchanger 10.20

Реактор работает следующим образом .The reactor operates as follows.

В корпусе 1 размещают мелкодисперсный материал 2, например кремний фракции 1,0-2,0 мм, и через патрубок 3 и газораспределительную решетку 4 в него подают хлористый водород . Проход  через слой частиц кремни , газ попадает в коллектор 6 нижней газораспределительной решет- 30 ки 7, выход  из которой со скоростью , превышающей на 80-90% скорость витани  частиц, он тракспор12438032Fine material 2 is placed in the housing 1, for example, silicon fractions of 1.0-2.0 mm, and hydrogen chloride is fed through the pipe 3 and the gas distribution grid 4. Passing through a layer of silicon particles, the gas enters the collector 6 of the lower gas distribution grid 30, the output of which, at a speed exceeding 80-90% of the soaring speed of the particles, is tracked 12438032

тирует внутри вставки 8 частицы вверх, которые на выходе из нее выпадают из потока вследствие уменьшени  скорости, обусловленного увели- 5 чением поперечного сечени  газового потока. Скорость частиц уменьша25Inside the insert 8, particles are dropping upward, which at the exit of it fall out of the stream due to a decrease in speed due to an increase in the cross section of the gas stream. Particle speed decreases25

етс , и они, попада  в кольцевой пзазор между корпусом 1 и вставкой 8, двн хутс  в плотной фазе вниз к газо- распред влительной решетке 7. Движуща с  часть частиц увлекаетс  восход щим потоком газа в полость вставки и их циркул ционное движение по замкнутому KdHTypy повтор етс . При JTOM ширина кольцевого зазора должна составл ть 10-20 диаметров частиц кремни . Лл  исключени  веро тности попадани  потока реагента в кольцевой зазор вставка устанавливаетс  на рассто нии Нд, равномand, they fall into the annular gap between the housing 1 and the insert 8, two heads in a dense phase down to the gas distribution grid 7. The moving part of the particles are entrained by the upward flow of gas into the insert cavity and their circulation through the closed KdHTypy repeats. With JTOM, the width of the annular gap should be 10–20 diameters of silicon particles. To exclude the likelihood of the reagent flow into the annular gap, the insert is set at a distance ND equal to

Н„ 1,865 ( D, ),ммH „1,865 (D,), mm

где Dg,j внутренний диаметр вставки; D - диаметр отверсти  в газо- распредепительной решетке. Так как при взаимодействии частиц кремни  с хлористым водородом выдел етс  тепло, то дл  охлаж,а;ени  частиц Используют теплообменник 10, выполненный , например, в виде тепловых труб, водоохлаждаемых змеевиков, или же корпус 1 и вставку 8 выполнить во- доохлаждаемыми (не показано.where Dg, j is the inner diameter of the insert; D is the diameter of the hole in the gas distribution grid. Since the interaction of silicon particles with hydrogen chloride produces heat, for cooling, particles; Heat exchanger 10, made, for example, in the form of heat pipes, water-cooled coils, or housing 1 and insert 8, is used to perform water-cooled (not shown.

Составитель Н,Захарова Редактор А.Долинич Техред В.Кадар Корректор И.ЭрдейиCompiled by N, Zakharova Editor A.Dolynich Tehred V.Kadar Proofreader I.Erdeyi

Заказ 3740/9 Тираж 527 . Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССРOrder 3740/9 Circulation 527. Subscription VNIIPI USSR State Committee

по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушска  наб., д. 4/5for inventions and discoveries 113035, Moscow, Zh-35, Raushsk nab., 4/5

Производственно-полиграфическое предпри тие, г, Ужгород, ул. Проектна , 4Production and printing company, Uzhgorod, st. Project, 4

етс , и они, попада  в кольцевой пзазор между корпусом 1 и вставкой 8, двн хутс  в плотной фазе вниз к газо- распред влительной решетке 7. Движуща с  часть частиц увлекаетс  восход щим потоком газа в полость вставки и их циркул ционное движение по замкнутому KdHTypy повтор етс . При JTOM ширина кольцевого зазора должна составл ть 10-20 диаметров частиц кремни . Лл  исключени  веро тности попадани  потока реагента в кольцевой зазор вставка устанавливаетс  на рассто нии Нд, равномand, they fall into the annular gap between the housing 1 and the insert 8, two heads in a dense phase down to the gas distribution grid 7. The moving part of the particles are entrained by the upward flow of gas into the insert cavity and their circulation through the closed KdHTypy repeats. With JTOM, the width of the annular gap should be 10–20 diameters of silicon particles. To exclude the likelihood of the reagent flow into the annular gap, the insert is set at a distance ND equal to

Н„ 1,865 ( D, ),ммH „1,865 (D,), mm

где Dg,j внутренний диаметр вставки; D - диаметр отверсти  в газо- распредепительной решетке. Так как при взаимодействии частиц кремни  с хлористым водородом выдел етс  тепло, то дл  охлаж,а;ени  частиц Используют теплообменник 10, выполненный , например, в виде тепловых труб, водоохлаждаемых змеевиков, или же корпус 1 и вставку 8 выполнить во- доохлаждаемыми (не показано.where Dg, j is the inner diameter of the insert; D is the diameter of the hole in the gas distribution grid. Since the interaction of silicon particles with hydrogen chloride produces heat, for cooling, particles; Heat exchanger 10, made, for example, in the form of heat pipes, water-cooled coils, or housing 1 and insert 8, is used to perform water-cooled (not shown.

Claims (1)

КОНТАКТНЫЙ РЕАКТОР С ВЗВЕШЕННЫМ СЛОЕМ, содержащий корпус с мелкодисперсным теплоносителем, внутренюю полую вставку, нижнюю газораспределительную решетку и патрубок подачи газа, отличающийся тем, что, с целью увеличения выхода готового продукта, < он снабжен двумя дополнительными газораспределительными решетками, . размещенными на боковых стенках кор»пуса, к одной из которых подсоединен патрубок подачи газа, а другая посредством коллектора соединена с нижней газораспределительной решеткой, при этом цилиндрическая вставка напротив дополнительных решеток выполнена сужающейся.A WEIGHTED LAYER CONTACT REACTOR containing a housing with a finely dispersed heat carrier, an internal hollow insert, a lower gas distribution grill and a gas supply pipe, characterized in that, in order to increase the yield of the finished product, <it is equipped with two additional gas distribution grilles,. placed on the side walls of the housing, one of which is connected to a gas supply pipe, and the other is connected via a manifold to the lower gas distribution grill, while the cylindrical insert opposite the additional grilles is made tapering.