RU2809727C2

RU2809727C2 - Method for marking relief precursor to obtaining relief structure

Info

Publication number: RU2809727C2
Application number: RU2020122412A
Authority: RU
Inventors: Маркус МЮЛЬФАЙТ; Тимо БИКЕРТ; Рюдигер ЛЕННИК; Эндрю КНАПП
Original assignee: Флинт Груп Джермени ГмбХ
Priority date: 2017-12-08
Filing date: 2018-12-07
Publication date: 2023-12-15

Abstract

FIELD: data storage.

SUBSTANCE: method for marking a relief precursor or a relief containing a carrier and a relief-forming layer has the steps of: a) providing a relief precursor containing a carrier and a relief-forming layer; wherein the relief-forming layer is a photopolymerizable layer onto which a masking layer suitable for creating an image is applied; b) providing data that marks the type of relief or relief precursor and contains process-related parameters for processing it, in form of at least one two-dimensional code; c) introducing at least one two-dimensional code as a relief into the relief-forming layer. Stage c) includes the following stages: ca) writing a two-dimensional code into the masking layer by creating an image in the masking layer, cb) exposing the photopolymerizable relief-forming layer to electromagnetic radiation through the image in the masking layer; cc) removing the remnants of the masking layer and unexposed parts of the photopolymerizable relief-forming layer to obtain a relief. After step ca) the data contained in the code is read to control at least one of steps cb) and cc).

EFFECT: long-term data encoding, reading and application for process control are provided.

13 cl

Description

Изобретение относится к способу маркировки предшественника рельефа, в частности предшественника печатной формы, к способу получения рельефа, в частности печатной формы, исходя из предшественника рельефа, а также к рельефу и его применению.The invention relates to a method for marking a relief precursor, in particular a printing plate precursor, to a method for producing a relief, in particular a printing plate, based on a relief precursor, as well as to the relief and its use.

Предшественники рельефа в основном состоят из несущего слоя и светочувствительного слоя, а также других слоев. Как правило, рельеф создается за счет того, что посредством экспонирования изменяют светочувствительный слой таким образом, что на следующей стадии неэкспонированные участки могут быть удалены. Предшественники рельефа предлагаются и применяются в большом количестве вариантов, так они могут различаться, например, по толщине слоя, реакционной способности, количеству и типу слоев, твердости и другим свойствам. Это делает обработку предшественников рельефа подверженной ошибкам и неправильным продуктам, если их обрабатывают с неверными параметрами процесса или используют неверные данные.The relief precursors mainly consist of a load-bearing layer and a photosensitive layer, as well as other layers. Typically, the relief is created by altering the photosensitive layer through exposure so that the unexposed areas can be removed in a subsequent step. Relief precursors are offered and used in a large number of variants, so they can differ, for example, in layer thickness, reactivity, number and type of layers, hardness and other properties. This makes the processing of terrain precursors prone to errors and incorrect products if they are processed with incorrect process parameters or using incorrect data.

Чтобы избежать ошибок, разные типы предшественников имеют различную окраску. В европейском патенте EP 1679549 B1 описано, например, использование для этой цели люминесцентных красителей. Однако указанный цветовой код не содержит никакой дополнительной информации о свойствах предшественников рельефа.To avoid mistakes, different types of predecessors have different colors. European patent EP 1679549 B1 describes, for example, the use of luminescent dyes for this purpose. However, the specified color code does not contain any additional information about the properties of the relief predecessors.

Другой возможностью является размещение маркировки на отдельных слоях предшественников рельефа или между ними. Надписи чернилами или этикетки оказались непрактичными, поскольку они не выдерживают стадий процесса получения рельефных конструкций без повреждений. Японская заявка на патент JP-H 11133590 A описывает нанесение маркировки на защитную пленку в верхней части предшественника рельефа. Поскольку указанную пленку, как правило, удаляют перед обработкой, информация становиться больше не доступной во время обработки.Another possibility is to place markings on or between individual layers of terrain predecessors. Ink writing or labels have proven impractical because they do not withstand the stages of the embossing process without damage. Japanese patent application JP-H 11133590 A describes marking on a protective film at the top of a relief precursor. Since said film is typically removed before processing, the information is no longer available during processing.

В европейской заявке ЕР 2722713 А2 описано введение кодирования между несущей пленкой и светочувствительным слоем предшественника рельефа. Это кодирование сохраняется также и на последующих стадиях процесса, однако затруднительным является получение указанного слоя и обеспечение того, чтобы кодирование не влияло на другие стадии процесса и, тем не менее, легко читалось. В случае предшественников рельефа, в которые встроен маскирующий слой, кодирование не может быть прочитано из-за высокой абсорбции маскирующего слоя.European application EP 2722713 A2 describes the introduction of coding between a carrier film and a photosensitive relief precursor layer. This encoding is also preserved in subsequent stages of the process, but it is difficult to obtain the specified layer and ensure that the encoding does not affect other stages of the process and is still easy to read. In the case of relief precursors in which a masking layer is embedded, the encoding cannot be read due to the high absorption of the masking layer.

В патенте США US 9,375,916 предлагается сделать маркировку на обратной стороне несущего слоя или в углублениях рельефа, чтобы с ее помощью обеспечить передачу (регистрацию) на последующих стадиях. Здесь, однако, маркировка наносится только после создания рельефа и поэтому не может предотвратить ошибки процесса при создании рельефа.US Pat. No. 9,375,916 proposes markings on the back of the carrier layer or in recesses of the relief to enable transmission (registration) in subsequent stages. Here, however, the marking is applied only after the relief has been created and therefore cannot prevent process errors during the creation of the relief.

Японская заявка на патент JP 2000181051 также предлагает нанести маркировку в углублениях рельефа, чтобы иметь возможность идентифицировать рельефную структуру после многократного использования и во время хранения. Однако это требует создания дополнительной маски и дополнительной стадии экспонирования, что делает способ более сложным и длительным.Japanese patent application JP 2000181051 also proposes to apply markings in the recesses of the relief to be able to identify the relief structure after repeated use and during storage. However, this requires the creation of an additional mask and an additional exposure step, which makes the method more complex and time-consuming.

Следовательно, задача настоящего изобретения состояла в предоставлении способа долговременной маркировки предшественника рельефа, который не имеет описанных недостатков и который позволяет осуществлять долговременное кодирование данных, их считывание и применение его для регулирования процесса.Therefore, the object of the present invention was to provide a method for long-term marking of a relief precursor, which does not have the described disadvantages and which allows long-term encoding of data, their reading and use for process control.

Указанная задача решается посредством способа маркировки предшественника рельефа или рельефа, содержащего носитель и рельефообразующий слой, имеющего стадии:This problem is solved by a method for marking a relief precursor or a relief containing a carrier and a relief-forming layer, having the stages:

а) предоставление предшественника рельефа, содержащего носитель и рельефообразующий слой;a) providing a relief precursor containing a carrier and a relief-forming layer;

b) предоставление данных, которые маркируют тип предшественника рельефа или рельефа и, при необходимости, содержат параметры процесса для его обработки, в виде по меньшей мере одного двумерного кода;b) providing data that marks the type of terrain or terrain precursor and, if necessary, contains process parameters for processing it, in the form of at least one two-dimensional code;

с) введение двумерного кода в качестве рельефа в рельефообразующий слой.c) introducing a two-dimensional code as a relief into the relief-forming layer.

Согласно изобретению двумерный код генерируется во время графического структурирования предшественника рельефа и впоследствии сохраняется как трехмерный рельеф. Посредством считывания закодированных в 2-х или 3-х мерной форме данных и их передачи может быть отрегулирован процесс получения. Код может быть считан автоматически, предпочтительно бесконтактным способом.According to the invention, the two-dimensional code is generated during the graphical structuring of the relief predecessor and is subsequently stored as a three-dimensional relief. By reading data encoded in 2 or 3 dimensions and transmitting it, the receiving process can be adjusted. The code can be read automatically, preferably in a contactless manner.

На стадии а) предоставляется предшественник рельефа, который содержит стабильный по размерам носитель и рельефообразующий слой. В качестве носителя можно использовать стабильные по размерам материалы-носители, которые при необходимости могут иметь дополнительные слои. Примерами подходящих стабильных по размерам носителей являются пластины, пленки, а также конические и цилиндрические трубы (гильзы), выполненные из металлов, таких как сталь, алюминий, медь или никель, или из пластмасс, таких как полиэтилентерефталат, полибутилентерефталат, полиамид и поликарбонат, ткани и нетканые материалы, такие как стекловолоконные ткани, а также композитные материалы из стекловолокна и пластмассы. В качестве стабильных по размерам носителей пригодными являются в частности стабильные по размерам несущие пленки или металлические листы, например полиэтиленовые или полисложноэфирные пленки, стальные или алюминиевые листы. Указанные несущие пленки или листы в основном имеют толщину от 50 до 1100 мкм, предпочтительно от 75 до 400 мкм, например, около 250 мкм. Если используется пластиковая пленка, ее толщина в основном находится в диапазоне от 100 до 200 мкм, предпочтительно от 125 до 175 мкм. Если в качестве материала-носителя используется сталь, предпочтительными являются стальные листы толщиной от 0,05 до 0,3 мм. Для защиты от коррозии предпочтительно применяют покрытые оловом стальные листы. Указанные несущие пленки или несущие листы могут быть покрыты тонким стимулирующим адгезию слоем, например слоем толщиной от 0,05 до 5 мкм, на стороне несущей пленки, обращенной к субстратному слою.In step a), a relief precursor is provided which contains a dimensionally stable carrier and a relief-forming layer. As a carrier, dimensionally stable carrier materials can be used, which, if necessary, can have additional layers. Examples of suitable dimensionally stable carriers are plates, films, and conical and cylindrical tubes (sleeves) made of metals such as steel, aluminum, copper or nickel, or plastics such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyamide and polycarbonate, fabrics and nonwoven materials such as fiberglass fabrics and fiberglass-plastic composites. Suitable dimensionally stable carriers include, in particular, dimensionally stable support films or metal sheets, for example polyethylene or polyester films, steel or aluminum sheets. Said carrier films or sheets generally have a thickness of from 50 to 1100 µm, preferably from 75 to 400 µm, for example about 250 µm. If a plastic film is used, its thickness is generally in the range of 100 to 200 µm, preferably 125 to 175 µm. If steel is used as the carrier material, steel sheets with a thickness of 0.05 to 0.3 mm are preferred. Tin-coated steel sheets are preferably used for corrosion protection. Said carrier films or carrier sheets may be coated with a thin adhesion promoting layer, for example a layer with a thickness of 0.05 to 5 μm, on the side of the carrier film facing the substrate layer.

Дополнительные стимулирующие адгезию промежуточные слои могут быть расположены на стороне клеевого слоя, обращенной в сторону от несущего слоя, и иметь толщину слоя от 0,1 до 50 мкм, в частности от 1 до 10 мкм.Additional adhesion-promoting intermediate layers can be located on the side of the adhesive layer facing away from the carrier layer and have a layer thickness of from 0.1 to 50 μm, in particular from 1 to 10 μm.

Предшественник рельефа содержит, по меньшей мере, один рельефообразующий слой. Рельефообразующий слой может быть нанесен непосредственно на носитель. Однако между носителем и рельефообразующим слоем могут находиться и другие слои, такие как, например, клеевые слои или эластичные или сжимаемые подслои.The relief predecessor contains at least one relief-forming layer. The relief-forming layer can be applied directly to the carrier. However, other layers may be present between the carrier and the relief-forming layer, such as, for example, adhesive layers or elastic or compressible sublayers.

Рельефообразующий слой также может состоять из более чем одного слоя, причем в основном он содержит от 2 до 20 слоев, предпочтительно от 2 до 5 слоев, особенно предпочтительно от 2 до 3 слоев, наиболее предпочтительно один слой. Слои могут содержать одинаковые компоненты или разные компоненты, и их в одинаковых или разных пропорциях. Предпочтительно указанные слои содержат одинаковые компоненты. Предпочтительно рельефообразующие слои, которые находятся ближе всего к несущему слою, являются уже зафиксированными, сшитыми и/или прореагировавшими. На указанных зафиксированных, сшитых, прореагировавших слоях расположен по меньшей мере один рельефообразующий слой, который еще может быть зафиксирован, сшит или подвергнут реакции.The relief-forming layer can also consist of more than one layer, generally comprising 2 to 20 layers, preferably 2 to 5 layers, particularly preferably 2 to 3 layers, most preferably one layer. The layers may contain the same components or different components, and in the same or different proportions. Preferably, said layers contain the same components. Preferably, the relief-forming layers that are closest to the support layer are already fixed, cross-linked and/or reacted. On these fixed, cross-linked, reacted layers there is at least one relief-forming layer, which can still be fixed, cross-linked or reacted.

Толщина рельефообразующего слоя в основном составляет от 0,1 мм до 7 мм, предпочтительно от 0,5 мм до 4 мм, особенно предпочтительно от 0,7 мм до 3 мм и наиболее предпочтительно от 0,7 мм до 2,5 мм. В некоторых случаях толщина слоя предпочтительно составляет от 2 мм до 7 мм, особенно предпочтительно от 2,5 мм до 7 мм и наиболее предпочтительно от 2,8 мм до 7 мм.The thickness of the relief-forming layer is generally from 0.1 mm to 7 mm, preferably from 0.5 mm to 4 mm, particularly preferably from 0.7 mm to 3 mm and most preferably from 0.7 mm to 2.5 mm. In some cases, the layer thickness is preferably 2 mm to 7 mm, particularly preferably 2.5 mm to 7 mm, and most preferably 2.8 mm to 7 mm.

При необходимости предшественник рельефа может содержать дополнительные слои. Например, на рельефообразующем слое могут находиться один или несколько функциональных слоев. Функциональные слои могут иметь, например, защитную функцию, маскирующую функцию, барьерную функцию, структурирующую функцию, сцепляющую или разделяющую функцию или их комбинации. Указанные функциональные слои могут быть удалены полностью или частично на предыдущей стадии или во время обработки, или могут присутствовать постоянно. Например, может присутствовать защитный слой, который защищает рельефообразующий слой от загрязнений и повреждений. Его как правило удаляют перед введением кода.If necessary, the relief precursor may contain additional layers. For example, the relief-forming layer may contain one or more functional layers. The functional layers may have, for example, a protective function, a masking function, a barrier function, a structuring function, an adhesive or separating function, or combinations thereof. Said functional layers may be removed in whole or in part at a previous stage or during processing, or may be permanently present. For example, a protective layer may be present that protects the relief-forming layer from contamination and damage. It is usually removed before entering the code.

Посредством соответствующих тестов собирают данные, необходимые для идентификации и дальнейшей обработки предшественников рельефа, и предоставляют, либо в аналоговой, либо в цифровой форме, в виде по меньшей мере одного двухмерного кода. Данный двумерный код может быть нанесен, например, в упаковке или на упаковке предшественника рельефа или на самом предшественнике рельефа, например, в виде этикетки или RFID-кода, или напечатан на сопровождающих доставку бумагах или других документах. Указанные данные включают данные о типе предшественника рельефа и, при необходимости, данные, относящиеся к процессу или данной области, которые необходимы для получения рельефа или функционирующей печатной формы. Данные о типе предшественника рельефа включают, например, номер изделия, номер партии, идентификационный номер, информацию о толщине формы или слоя, информацию о длине и ширине предшественника рельефа, тип формы или любую их комбинацию. К данным параметров процесса относятся, например, условия воздействия, условия абляции, температурные условия, условия очистки, условия проявления, условия сушки, условия хранения, конфигурации и настройки устройства, приоритет в выполнении процесса и любая их комбинация. Данные, относящиеся к процессу, также могут включать сообщения или уведомления для оператора и могут быть, например, предупреждением, подсказкой, запросом для проверки параметров или настроек устройства или состояний устройства, инструкциями и информацией, касающейся следующих стадий процесса или их комбинаций. Также данные о типе и об условиях процесса могут быть скомбинированы любым образом. Кроме того код может находить применение при входном осмотре, при доставке, при использовании в нужном месте в печатной машине и для идентификации предшественника рельефа.Through appropriate tests, data necessary for the identification and further processing of terrain precursors is collected and provided, either in analogue or digital form, in the form of at least one two-dimensional code. This two-dimensional code can be applied, for example, in the packaging or on the packaging of the relief precursor or on the relief precursor itself, for example, in the form of a label or RFID code, or printed on shipping papers or other documents. Said data includes data about the type of relief precursor and, if necessary, data related to the process or field that is necessary to obtain the relief or functioning printing plate. The relief precursor type data includes, for example, the product number, lot number, identification number, mold or layer thickness information, length and width information of the relief precursor, mold type, or any combination thereof. Process parameter data includes, for example, exposure conditions, ablation conditions, temperature conditions, cleaning conditions, development conditions, drying conditions, storage conditions, device configurations and settings, process priority, and any combination thereof. Process-related data may also include messages or notifications to the operator and may be, for example, a warning, a prompt, a request to check device parameters or settings or device states, instructions and information regarding subsequent process steps or combinations thereof. Also, data on the type and process conditions can be combined in any way. In addition, the code can be used during incoming inspection, during delivery, when used in the right place in the printing press and for identifying the predecessor of the relief.

На стадии c) указанный код вводится в виде рельефа в рельефообразующий слой, для чего существует несколько возможностей. Рельеф может быть выполнен в виде возвышений на основании или углублений в слое. После создания рельефа код надежно и долговременно закрепляется на предшественнике и, таким образом, долговременно доступен и пригоден для чтения на всех последующих стадиях. Рельеф, содержащий код, не может быть потерян на последующих стадиях без преднамеренного механического удаления (другие маркировки, такие как, например, приклеенные идентификаторы, могут быть удалены, например, в ваннах для проявки). После создания рельефа код присутствует в трехмерной форме, причем высота рельефа, которая определяется средним расстоянием от поверхности возвышений до поверхности углублений, находится в диапазоне от 0,01 мкм до 10 мм, предпочтительно в диапазоне от 0,1 мкм до 10 мм, особенно предпочтительно в диапазоне от 1 мкм до 7 мм и наиболее предпочтительно в диапазоне от 2 мкм до 5 мм. Код может быть нанесен в любой точке предшественника рельефа, предпочтительно его наносят в областях, которые не мешают последующему применению, не отрезаются или не используются. Эти точки в основном находятся в краевых областях. Код или коды также могут быть размещены в одном или нескольких произвольных местах, что особенно выгодно тогда, когда рельеф разделен на несколько частей. В данном случае может быть нанесен индивидуальный для каждой соответствующей части код.At stage c) the specified code is entered in the form of a relief into the relief-forming layer, for which there are several possibilities. The relief can be made in the form of elevations on the base or depressions in the layer. After the relief is created, the code is securely and permanently attached to the predecessor and is thus permanently accessible and readable at all subsequent stages. The relief containing the code cannot be lost in subsequent stages without deliberate mechanical removal (other markings, such as adhesive identifiers, can be removed in developing baths, for example). Once the relief has been created, the code is present in three-dimensional form, wherein the height of the relief, which is determined by the average distance from the surface of the elevations to the surface of the depressions, is in the range of 0.01 µm to 10 mm, preferably in the range of 0.1 µm to 10 mm, particularly preferably in the range from 1 µm to 7 mm and most preferably in the range from 2 µm to 5 mm. The code can be applied at any point on the precursor relief, preferably it is applied in areas that do not interfere with subsequent use, are not cut off or are not used. These points are mainly located in the edge regions. The code or codes can also be placed in one or more random locations, which is especially beneficial when the terrain is divided into several parts. In this case, an individual code for each corresponding part can be applied.

В одном варианте осуществления способа согласно изобретению рельефообразующий слой представляет собой пригодный для гравировки слой, и на стадии с) двумерный код вводится в рельефообразующий слой в виде рельефа посредством методов, заключающихся в удалении материала. Пригодный для гравировки слой обычно содержит материалы, которые могут быть удалены механически или разрушены и/или испарены с помощью высокоэнергетического излучения. Это могут быть как неорганические, так и органические материалы, или их комбинации. Предпочтительно используют органические материалы. Кроме того, рельефообразующий слой может содержать вещества, которые поглощают излучение и предпочтительно преобразуют его в тепло. К ним относятся, например, пигменты и красители, которые поглощают в соответствующем диапазоне длин волн. В качестве электромагнитного излучения для гравировки рельефа как правило используют излучение с длиной волны в диапазоне от 300 нм до 20000 нм, предпочтительно в диапазоне от 500 нм до 20000 нм, особенно предпочтительно в диапазоне от 800 нм до 15000 нм, наиболее предпочтительно в диапазоне от 800 нм до 11000 нм. Помимо твердотельных лазеров применение находят также газовые лазеры или волоконные лазеры. Предпочтительно для лазерной гравировки используют Nd:YAG-лазеры (1064 нм) или CO2-лазеры (9400 нм и 10600 нм). При этом для селективного удаления рельефного слоя так настраивают один или несколько лазерных лучей, чтобы создавались желаемое печатное изображение и код.In one embodiment of the method according to the invention, the relief-forming layer is an engravable layer, and in step c) the two-dimensional code is introduced into the relief-forming layer in the form of a relief by means of material removal techniques. The engravable layer typically contains materials that can be removed mechanically or destroyed and/or vaporized by high-energy radiation. These can be either inorganic or organic materials, or combinations of both. Preferably organic materials are used. In addition, the relief-forming layer may contain substances that absorb radiation and preferably convert it into heat. These include, for example, pigments and dyes that absorb in the corresponding wavelength range. As electromagnetic radiation for relief engraving, radiation with a wavelength in the range of 300 nm to 20,000 nm, preferably in the range of 500 nm to 20,000 nm, particularly preferably in the range of 800 nm to 15,000 nm, most preferably in the range of 800 nm, is generally used. nm to 11000 nm. In addition to solid-state lasers, gas lasers or fiber lasers are also used. Preferably, Nd:YAG lasers (1064 nm) or CO2 lasers (9400 nm and 10600 nm) are used for laser engraving. In this case, to selectively remove the relief layer, one or more laser beams are adjusted so that the desired printed image and code are created.

В этом случае код может включать данные о типе (номер изделия, номер партии, идентификационный номер, информация о толщине печатной формы или слоя, информация о длине и ширине, типе), а также данные об условиях дальнейших стадий процесса. Примерами дальнейших стадий процесса являются дополнительная термическая обработка для улучшения механических свойств, очищающая обработка для удаления остатков гравировки или создания планарной структуры. В случае дополнительной термической обработки данные могут включать, например, информацию о температуре, температурном профиле и продолжительности дополнительной обработки. В случае очистки печатной формы в качестве дальнейшей стадии процесса, данные могут включать, например, информацию о чистящем средстве, типе очистки, температуре, условиях окружающей среды (давление, атмосфера, класс пыли и т.д.) и продолжительность очистки.In this case, the code may include type data (product number, lot number, identification number, information about the thickness of the printing plate or layer, information about length and width, type), as well as data about the conditions of further stages of the process. Examples of further process steps are additional heat treatment to improve mechanical properties, cleaning treatment to remove engraving residues or create a planar structure. In the case of additional heat treatment, the data may include, for example, information on temperature, temperature profile and duration of additional treatment. In the case of plate cleaning as a further step in the process, the data may include, for example, information about the cleaning agent, cleaning type, temperature, environmental conditions (pressure, atmosphere, dust class, etc.) and cleaning duration.

В одном варианте осуществления способа согласно изобретению рельефообразующий слой представляет собой фоточувствительный слой, и на стадии с) двумерный код вводится в рельефообразующий слой посредством непосредственного экспонирования пучком, несущим изображение, и последующего удаления экспонированных или неэкспонированных областей. Светочувствительные слои содержат инициатор или систему инициаторов, реакционноспособное соединение, которое посредством инициатора вводится в реакцию, и, при необходимости, дополнительные компоненты, такие как, например, связующие вещества, добавки, окрашивающие средства и тому подобное. Инициируемая реакция либо приводит к затвердеванию, или к снижению растворимости экспонированных областей рельефообразующего слоя, либо к размягчению/разжижению, или к увеличению растворимости экспонированных областей. Различия в растворимости и прочности используют на следующей стадии проявки посредством удаления растворимых или соответственно ожиженных областей для создания трехмерного рельефа. Предпочтительно стремятся к затвердеванию или снижению растворимости. Для этого подходят реакции полимеризации и/или сшивания, такие как, например, радикальные реакции или реакции конденсации. Предпочтительно используют радикальную полимеризацию и/или сшивание. Они также могут быть инициированы фотохимически или термически. В случае фотохимической инициации используют фотоинициаторы, которые при экспонировании генерируют свободные радикалы, в то время как при термическом варианте используют термически активированное разложение на свободные радикалы. Предпочтительно используют фотоактивацию. Другая возможность состоит в том, чтобы генерировать фотохимически кислоты или основания, которые запускают сшивание или полимеризацию или изменяют растворимость. Растворимость полимеров может быть увеличена, например, посредством удаления защитных групп, катализируемого кислотами или щелочами.In one embodiment of the method according to the invention, the relief-forming layer is a photosensitive layer, and in step c) a two-dimensional code is introduced into the relief-forming layer by direct exposure to the image-bearing beam and subsequent removal of exposed or unexposed areas. The photosensitive layers contain an initiator or system of initiators, a reactive compound which is brought into reaction by means of the initiator, and, if necessary, additional components such as, for example, binders, additives, coloring agents and the like. The initiated reaction either leads to hardening, or to a decrease in solubility of the exposed areas of the relief-forming layer, or to softening/liquefaction, or to an increase in the solubility of the exposed areas. Differences in solubility and strength are exploited in the next development stage by removing soluble or respectively liquefied regions to create a three-dimensional relief. Preferably, they tend to harden or reduce solubility. For this purpose, polymerization and/or cross-linking reactions are suitable, such as, for example, radical reactions or condensation reactions. Preferably, radical polymerization and/or cross-linking is used. They can also be initiated photochemically or thermally. In the case of photochemical initiation, photoinitiators are used, which upon exposure generate free radicals, while in the thermal version, thermally activated decomposition into free radicals is used. Preferably, photoactivation is used. Another possibility is to photochemically generate acids or bases that trigger cross-linking or polymerization or alter solubility. The solubility of polymers can be increased, for example, by deprotection catalyzed by acids or alkalis.

Рельефообразующий слой содержит один или несколько инициаторов или систем инициаторов из по меньшей мере 2 компонентов, которые при нагревании и/или облучении электромагнитным излучением генерируют радикалы, которые вызывают полимеризацию и/или сшивание. Такого рода инициаторы известны специалисту в данной области и, например, описаны в следующей литературе: Bruce M. Monroe и др., Chemical Review, 93, 435 (1993), R.S. Davidson, Journal of Photochemistry and Biology A: Chemistry, 73, 81 (1993), J.P. Faussier, Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications: Rapra Review, том 9, Report, RapraTechnology (1998), M. Tsunooka и др., 25 Prog. Polym. Sci., 21, 1 (1996), F. D. Saeva, Topics in Current Chemistry, 1 56, 59 (1990), G.G. Maslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993), H. B. Shuster et al., JAGS, 112, 6329 (1990) и I. D. F. Eaton и др., JAGS, 102, 3298 (1980), P. Fouassier и J.F. Rabek, Radiation Curing in Polymer Science and Technology, страницы 77-117 (1993) или K.K. Dietliker, Photoinitiators for free Radical and Cationic Polymerisation, Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks and Paints, Том, 3, Sita Technology LTD, London 1991; или R.S. Davidson, Exploring the Science, technology and Applications of U.V. и E.B. Curing, Sita Technology LTD, London 1999. Дополнительные инициаторы описаны в патентах JP 45-37377, JP 44-86516, US 3567453, US 4343891, EP 109772, EP 109773, JP 63138345, JP 63142345, JP 63142346, JP 63143537, JP4642363, JP 59152396, JP 61151197, JP 6341484, JP 2249 и JP 24705, JP 626223, JP B6314340, JP1559174831, JP 1304453 и JP 1152109.The relief-forming layer contains one or more initiators or initiator systems of at least 2 components, which, when heated and/or irradiated with electromagnetic radiation, generate radicals that cause polymerization and/or cross-linking. Such initiators are known to one skilled in the art and are, for example, described in the following literature: Bruce M. Monroe et al., Chemical Review, 93, 435 (1993), R.S. Davidson, Journal of Photochemistry and Biology A: Chemistry, 73, 81 (1993), J.P. Faussier, Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications: Rapra Review, Volume 9, Report, RapraTechnology (1998), M. Tsunooka et al., 25 Prog. Polym. Sci., 21, 1 (1996), F. D. Saeva, Topics in Current Chemistry, 1 56, 59 (1990), G.G. Maslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993), H. B. Shuster et al., JAGS, 112, 6329 (1990) and I. D. F. Eaton et al., JAGS, 102, 3298 (1980), P. Fouassier and J.F. Rabek, Radiation Curing in Polymer Science and Technology, pages 77-117 (1993) or K.K. Dietliker, Photoinitiators for free Radical and Cationic Polymerisation, Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks and Paints, Vol. 3, Sita Technology LTD, London 1991; or R.S. Davidson, Exploring the Science, technology and Applications of U.V. and E.B. Curing, Sita Technology LTD, London 1999. Additional initiators are described in JP 45-37377, JP 44-86516, US 3567453, US 4343891, EP 109772, EP 109773, JP 63138345, JP 63142345, JP 63142346 , JP 63143537, JP4642363, JP 59152396, JP 61151197, JP 6341484, JP 2249 and JP 24705, JP 626223, JP B6314340, JP1559174831, JP 1304453 and JP 1152109.

В основном рельефообразующий слой содержит инициатор или систему инициатора в концентрации в диапазоне от 0,1 до 20% масс. в пересчете на всю композицию. Предпочтительные концентрации инициатора находятся в диапазоне от 1 до 10% масс., особенно предпочтительно в диапазоне от 1 до 8% масс., наиболее предпочтительно в диапазоне от 1 до 6% масс.Basically, the relief-forming layer contains an initiator or initiator system in a concentration ranging from 0.1 to 20% by weight. in terms of the entire composition. Preferred initiator concentrations are in the range of 1 to 10 wt%, particularly preferably in the range of 1 to 8 wt%, most preferably in the range of 1 to 6 wt%.

Кроме того рельефообразующий слой содержит известным образом по меньшей мере один этиленненасыщенный мономер, который совместим со связующим веществом или связующими веществами. В случае этиленненасыщенного мономера также может идти речь о смеси двух или более различных мономеров. Подходящие соединения имеют по меньшей мере одну олефиновую двойную связь и являются пригодными к полимеризации. Поэтому далее указанные соединения обозначают как мономеры. В качестве особенно предпочтительных оказались сложные эфиры или амиды акриловой кислоты или метакриловой кислоты с моно- или полифункциональными спиртами, аминами, аминоспиртами или простыми гидроксиэфирами и сложными гидроксиэфирами, сложные эфиры фумаровой или малеиновой кислоты, простые виниловые эфиры, сложные виниловые эфиры и аллильные соединения.In addition, the relief-forming layer contains, in a known manner, at least one ethylenically unsaturated monomer, which is compatible with the binder or binders. In the case of an ethylenically unsaturated monomer, it can also be a mixture of two or more different monomers. Suitable compounds have at least one olefinic double bond and are polymerizable. Therefore, below these compounds are referred to as monomers. Esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid with mono- or polyfunctional alcohols, amines, amino alcohols or hydroxyethers and hydroxyesters, esters of fumaric or maleic acid, vinyl ethers, vinyl esters and allylic compounds have proven to be particularly preferred.

В основном указанные мономеры не являются газообразными соединениями при комнатной температуре. Этиленненасыщенный мономер предпочтительно содержит по меньшей мере 2 этиленненасыщенных группы, особенно предпочтительно от 2 до 6 этиленненасыщенных групп, наиболее предпочтительно 2 или более этиленненасыщенных групп. Соединения с тройными C-C-связями также можно использовать в чувствительных к излучению смесях. Этиленненасыщенная группа предпочтительно представляет собой по меньшей мере одну акрилатную и/или метакрилатную группу, однако также можно использовать производные стирола, акриламиды, сложные виниловые эфиры и простые виниловые эфиры. Этиленненасыщенный мономер имеет молекулярную массу в основном менее 600 г/моль, предпочтительно менее 450 г/моль, особенно предпочтительно менее 400 г/моль, наиболее предпочтительно менее 350 г/моль и в частности менее 300 г/моль.In general, these monomers are not gaseous compounds at room temperature. The ethylenically unsaturated monomer preferably contains at least 2 ethylenically unsaturated groups, particularly preferably 2 to 6 ethylenically unsaturated groups, most preferably 2 or more ethylenically unsaturated groups. Compounds with triple C-C bonds can also be used in radiation-sensitive mixtures. The ethylenically unsaturated group is preferably at least one acrylate and/or methacrylate group, but styrene derivatives, acrylamides, vinyl esters and vinyl ethers can also be used. The ethylenically unsaturated monomer has a molecular weight generally less than 600 g/mol, preferably less than 450 g/mol, particularly preferably less than 400 g/mol, most preferably less than 350 g/mol and in particular less than 300 g/mol.

В одном варианте осуществления этиленненасыщенный мономер присутствует в концентрации в диапазоне от 0,5 до 60% масс. в пересчете на всю композицию, предпочтительно в диапазоне от 1 до 50% масс., особенно предпочтительно в диапазоне от 1 до 40% масс., наиболее предпочтительно в диапазоне от 2 до 40% масс.In one embodiment, the ethylenically unsaturated monomer is present in a concentration ranging from 0.5 to 60% by weight. based on the entire composition, preferably in the range from 1 to 50% by weight, especially preferably in the range from 1 to 40% by weight, most preferably in the range from 2 to 40% by weight.

Рельефообразующий слой может также содержать связующие средства, которые могут присутствовать как в качестве инертной добавки, так и в качестве реагентов, участвующих в реакции и способствующих затвердеванию. Если связующие вещества участвуют в реакции, они несут соответствующие функциональные группы, такие как, например, двойные или тройные связи или группы со способным отрываться водородом, например, тиолы, фенолы или амины.The relief-forming layer may also contain binders, which may be present both as an inert additive and as reaction reagents that promote hardening. If the binders are involved in the reaction, they carry appropriate functional groups, such as, for example, double or triple bonds or groups with hydrogen detachable, for example thiols, phenols or amines.

Эластомерные связующие вещества для получения рельефообразующих слоев элементов флексографической печати известны специалисту в данной области. В качестве примеров следует назвать стирол-диеновые блок-сополимеры, натуральный каучук, полибутадиен, полиизопрен, стирол-бутадиеновый каучук, нитрил-бутадиеновый каучук, бутилкаучук, стирол-изопреновый каучук, стирол-бутадиен-изопреновый каучук, полинорборненовый каучук или этилен-пропилен-диеновый каучук (EPDM). Предпочтительно используют гидрофобные связующие средства. Такого рода связующие средства растворимы в органических растворителях или их смесях.Elastomeric binders for producing relief-forming layers of flexographic printing elements are known to a person skilled in the art. Examples include styrene-diene block copolymers, natural rubber, polybutadiene, polyisoprene, styrene-butadiene rubber, nitrile-butadiene rubber, butyl rubber, styrene-isoprene rubber, styrene-butadiene-isoprene rubber, polynorbornene rubber or ethylene-propylene rubber. Diene rubber (EPDM). Preferably, hydrophobic binders are used. These types of binders are soluble in organic solvents or mixtures thereof.

Эластомер предпочтительно представляет собой термопластичный эластомерный блок-сополимер из алкенильных ароматических соединений и 1,3-диенов. Блок-сополимеры могут быть линейными, разветвленными или радиальными блок-сополимерами. Обычно они представляют собой трехблочные сополимеры типа A-B-A, но они также могут быть двухблочными полимерами типа A-B или полимерами с несколькими чередующимися эластомерными и термопластичными блоками, например, А-В-А-В-А. Также могут быть использованы смеси двух или более различных блок-сополимеров. Диеновые звенья могут быть связаны через положения 1,2 или 1,4. Могут быть использованы как блок-сополимеры стирол-бутадиенового типа или стирол-изопренового типа, так и стирол-бутадиен-изопренового типа. Также могут быть использованы термопластичные эластомерные блок-сополимеры с концевыми блоками из стирола и статистическим стирол-бутадиеновым средним блоком. Блок-сополимеры также могут быть полностью или частично гидрированы, как например в SEBS-каучуках. Предпочтительными эластомерными связующими веществами являются трехблочные сополимеры типа A-B-A или радиальные блок-сополимеры типа (AB)n, в которых A представляет собой стирол и B представляют собой диен, а также статистические сополимеры и произвольные сополимеры стирола и диена.The elastomer is preferably a thermoplastic elastomeric block copolymer of alkenyl aromatic compounds and 1,3-dienes. Block copolymers can be linear, branched or radial block copolymers. They are typically A-B-A triblock copolymers, but they can also be A-B diblock polymers or polymers with multiple alternating elastomeric and thermoplastic blocks, such as A-B-A-B-A. Mixtures of two or more different block copolymers can also be used. Diene units can be linked through the 1,2 or 1,4 positions. Both styrene-butadiene type or styrene-isoprene type block copolymers and styrene-butadiene-isoprene type block copolymers can be used. Thermoplastic elastomeric block copolymers with styrene end blocks and a random styrene-butadiene middle block can also be used. Block copolymers can also be fully or partially hydrogenated, as in SEBS rubbers. Preferred elastomeric binders are triblock copolymers of the A-B-A type or radial block copolymers of the (AB)n type, in which A is styrene and B is a diene, as well as random copolymers and random copolymers of styrene and a diene.

В случае проявляемых в воде предшественников рельефа используют водорастворимые, набухающие в воде, диспергируемые или эмульгируемые в воде полимеры. Помимо полностью или частично гидролизованных поливинилацетатов, могут быть использованы поливиниловые спирты, поливинилацетали, полистиролсульфонаты, полиуретаны, полиамиды (такие как описано, например, в европейском патенте ЕР 0085472 или в немецком патенте DE 1522444) и любые их комбинации. Примеры таких полимеров описаны в европейских патентах EP 0079514, EP 0224164 и EP 0059988. Указанные полимеры могут быть линейными, разветвленными, звездообразными или дендритовидными, а также присутствовать в виде гомополимеров, статистических сополимеров, блок-сополимеров или альтернантных сополимеров. Очень часто упомянутые полимеры снабжены функциональными группами, которые или увеличивают растворимость и/или могут участвовать в реакциях сшивания. К указанным группам причисляют, например, карбоксильные, SO₃-, OH, тиольные, этиленненасыщенные, (мет)акрилатные, эпоксидные группы и любые их комбинации.In the case of water-developed relief precursors, water-soluble, water-swellable, water-dispersible or water-emulsifiable polymers are used. In addition to fully or partially hydrolyzed polyvinyl acetates, polyvinyl alcohols, polyvinyl acetals, polystyrene sulfonates, polyurethanes, polyamides (such as those described, for example, in European patent EP 0085472 or German patent DE 1522444) and any combinations thereof can be used. Examples of such polymers are described in European patents EP 0079514, EP 0224164 and EP 0059988. These polymers can be linear, branched, star-shaped or dendritic, and may also be present in the form of homopolymers, random copolymers, block copolymers or alternant copolymers. Very often, the polymers mentioned are provided with functional groups that either increase solubility and/or can participate in cross-linking reactions. These groups include, for example, carboxyl, SO ₃ -, OH, thiol, ethylenically unsaturated, (meth)acrylate, epoxy groups and any combinations thereof.

В случае термически сшитых предшественников рельефа также можно использовать другие полимеры и композиции, которые, например, затвердевают, сшиваются или полимеризуются в результате радикальных реакций, реакций конденсации или реакций катионного или анионного присоединения. В случае реакций конденсации в частности применение находят этерификация и образование уретана. Эпоксиды можно использовать, например, в качестве катионно-полимеризуемых или сшиваемых материалов, которые можно активировать фотохимически или термически. Такого рода реакции могут быть дополнительно ускорены или запущены с помощью катализаторов, которые известны специалисту в данной области.In the case of thermally cross-linked relief precursors, it is also possible to use other polymers and compositions which, for example, harden, cross-link or polymerize by radical reactions, condensation reactions or cationic or anionic addition reactions. In the case of condensation reactions, esterification and urethane formation are particularly used. Epoxides can be used, for example, as cationically polymerizable or crosslinkable materials that can be photochemically or thermally activated. These types of reactions can be further accelerated or promoted using catalysts that are known to one skilled in the art.

Общее количество связующих веществ в случае рельефообразующего слоя обычно составляет от 30 до 90% масс. в пересчете на сумму всех компонентов рельефообразующего слоя, предпочтительно от 40 до 85% масс. и особенно предпочтительно от 45 до 85% масс.The total amount of binders in the case of a relief-forming layer usually ranges from 30 to 90% by weight. in terms of the sum of all components of the relief-forming layer, preferably from 40 to 85% of the mass. and especially preferably from 45 to 85% of the mass.

Рельефообразующий слой может содержать дополнительные компоненты, выбранные из группы, состоящей из пластификаторов, растворителей, дополнительных связующих веществ, окрашивающий средств, стабилизаторов, регуляторов, УФ-абсорберов, диспергирующих добавок, сшивающих агентов, модификаторов вязкости, пластификаторов, красителей, пигментов, добавок, поверхностно-активных веществ и любых их комбинаций. Указанные добавки или вспомогательные вещества и материалы находятся в чувствительной к излучению смеси в общей концентрации в диапазоне от 0,001 до 60% масс. в пересчете на всю композицию, предпочтительно в диапазоне от 0,01 до 50% масс., особенно в диапазоне от 0,1 до 50% масс., наиболее предпочтительно в диапазоне от 1 до 50% масс. При этом отдельные добавки содержатся в концентрациях от 0,001 до 40% масс. в пересчете на всю композицию, предпочтительно в диапазоне от 0,01 до 40% масс., особенно в диапазоне от 0,1 до 40% масс., наиболее предпочтительно в диапазоне от 0,1 до 35% масс.The relief-forming layer may contain additional components selected from the group consisting of plasticizers, solvents, additional binders, coloring agents, stabilizers, regulators, UV absorbers, dispersing additives, cross-linking agents, viscosity modifiers, plasticizers, dyes, pigments, additives, surface - active substances and any combinations thereof. These additives or excipients and materials are present in the radiation-sensitive mixture in a total concentration ranging from 0.001 to 60% by weight. based on the entire composition, preferably in the range from 0.01 to 50% by weight, especially in the range from 0.1 to 50% by weight, most preferably in the range from 1 to 50% by weight. In this case, individual additives are contained in concentrations from 0.001 to 40% by weight. based on the entire composition, preferably in the range from 0.01 to 40% by weight, especially in the range from 0.1 to 40% by weight, most preferably in the range from 0.1 to 35% by weight.

Кроме того рельефообразующий слой может содержать дополнительные функциональные добавки, например, как описано в патенте US 8,808,968, небольшие количества фосфитов, фосфинов, тиоэфиров и аминофункциональных соединений.In addition, the relief-forming layer may contain additional functional additives, for example, as described in US patent 8,808,968, small amounts of phosphites, phosphines, thioesters and amino-functional compounds.

Кроме того, рельефообразующий слой может содержать поверхностно-активные вещества, такие как гидрофобные воски или силиконизированные или перфторированные соединения, такие как описаны в патенте США US 8,114,566.In addition, the relief-forming layer may contain surfactants such as hydrophobic waxes or siliconized or perfluorinated compounds, such as those described in US Pat. No. 8,114,566.

Кроме того, чувствительная к излучению смесь рельефообразующего слоя может содержать ингибиторы термической полимеризации, которые не имеют заметного собственного поглощения в актиничной области, в которой поглощает фотоинициатор, например, 2,6-ди-трет-бутил-п-крезол, гидрохинон, п-метоксифенол, β-нафтол, фенотиазин, пиридин, нитробензол, м-динитробензол или хлоранил; тиазиновые красители, такие как тиониновый синий G (C.I. 52025), метиленовый синий B (C.I. 52015) или толуидиновый синий (C.I. 52040); или N-нитрозамины, такие как N-нитрозодифениламин, или соли, например калиевые, кальциевые или алюминиевые соли N-нитрозоциклогексилгидроксиламина. Кроме того, другие ингибиторы или стабилизаторы также могут быть использованы, такие как описаны, например, в A. Valet, Lichtschutzmittel Lacke, 33ff, Vincentz Verlag Hannover 1996 и особенно стерически затрудненные фенолы и амины.In addition, the radiation-sensitive mixture of the relief-forming layer may contain thermal polymerization inhibitors that do not have noticeable intrinsic absorption in the actinic region in which the photoinitiator absorbs, for example, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, hydroquinone, p- methoxyphenol, β-naphthol, phenothiazine, pyridine, nitrobenzene, m-dinitrobenzene or chloranil; thiazine dyes such as thionine blue G (CI 52025), methylene blue B (CI 52015) or toluidine blue (CI 52040); or N-nitrosamines, such as N-nitrosodiphenylamine, or salts, such as the potassium, calcium or aluminum salts of N-nitrosocyclohexylhydroxylamine. In addition, other inhibitors or stabilizers can also be used, such as those described, for example, in A. Valet, Lichtschutzmittel Lacke, 33ff, Vincentz Verlag Hannover 1996 and especially hindered phenols and amines.

Подходящие окрашивающие средства, такие как красители, пигменты или фотохромные добавки, также могут присутствовать в чувствительной к излучению смеси рельефообразующего слоя в количестве от 0,0001 до 2% масс. в пересчете на смесь.Suitable coloring agents such as dyes, pigments or photochromic additives may also be present in the radiation-sensitive mixture of the relief-forming layer in an amount of from 0.0001 to 2% by weight. in terms of the mixture.

УФ-абсорбенты в рельефообразующем слое также могут иметь преимущества и оказывать положительное влияние на формирование рельефа. Пригодные в качестве УФ-абсорбентов соединения описаны, например, в A. Valet, Lichtschutzmittel Lacke, 20ff, Vincentz Verlag Hannover 1996. Примерами являются гидроксифенилбензотриазолы, гидроксибензофеноны, гидроксифенил-s-триазины, оксаланилиды, гидроксифенилпиримидины, производные салициловой кислоты и цианоакрилаты и любые их комбинации.UV absorbents in the relief-forming layer can also have advantages and have a positive effect on the formation of the relief. Compounds suitable as UV absorbents are described, for example, in A. Valet, Lichtschutzmittel Lacke, 20ff, Vincentz Verlag Hannover 1996. Examples are hydroxyphenylbenzotriazoles, hydroxybenzophenones, hydroxyphenyl-s-triazines, oxalanilides, hydroxyphenylpyrimidines, salicylic acid derivatives and cyanoacrylates and any combinations thereof.

Непосредственное экспонирование пучком, несущим изображение, может быть достигнуто за счет того, что селективно освещают сшиваемые области. Это может быть достигнуто, например, с помощью одного или нескольких лазерных лучей, которыми управляют соответствующим образом, посредством применения экранов, на которых активируются определенные пиксели, которые испускают излучение, посредством применения подвижных светодиодных полос, посредством светодиодных матриц, в которых отдельные светодиоды целенаправленно включаются и выключаются, посредством использования электронно управляемых масок, в которых пиксели переключаются в прозрачное состояние, и пропускают излучение от источника излучения, посредством применения проекционных систем, в которых в результате соответствующей ориентации зеркал пиксели подвергаются воздействию излучения от источника излучения, или их комбинаций. Непосредственное экспонирование предпочтительно осуществляют при помощи управляемых лазерных лучей или проекционных систем с зеркалами. Спектры поглощения инициаторов или систем инициаторов и эмиссионные спектры источников излучения должны по меньшей мере частично перекрываться.Direct exposure to the image-carrying beam can be achieved by selectively illuminating the stitched areas. This can be achieved, for example, by means of one or more laser beams that are controlled accordingly, by the use of screens on which specific pixels that emit radiation are activated, by the use of movable LED strips, by means of LED arrays in which individual LEDs are specifically switched on and are turned off, through the use of electronically controlled masks, in which the pixels are switched to a transparent state, and transmit radiation from the radiation source, through the use of projection systems in which, as a result of the appropriate orientation of the mirrors, the pixels are exposed to radiation from the radiation source, or combinations thereof. Direct exposure is preferably carried out using controlled laser beams or projection systems with mirrors. The absorption spectra of initiators or systems of initiators and the emission spectra of radiation sources must at least partially overlap.

Поглощения инициаторов или систем инициаторов находятся в диапазоне от 200 нм до 2000 нм, предпочтительно в диапазоне от 250 нм до 1100 нм, особенно предпочтительно в ультрафиолетовом диапазоне, наиболее предпочтительно в диапазоне от 300 нм до 450 нм.The absorptions of initiators or initiator systems are in the range from 200 nm to 2000 nm, preferably in the range from 250 nm to 1100 nm, especially preferably in the ultraviolet range, most preferably in the range from 300 nm to 450 nm.

Длина волны электромагнитного излучения находится в диапазоне от 200 нм до 20000 нм, предпочтительно в диапазоне от 250 нм до 1100 нм, особенно предпочтительно в ультрафиолетовом диапазоне, наиболее предпочтительно в диапазоне от 300 нм до 450 нм. В дополнение к широкополосному облучению электромагнитного излучения может быть выгодно использовать узкополосные или монохроматические диапазоны длин волн, которые могут быть получены с использованием соответствующих фильтров, лазеров или светодиодов (LED). В данных случаях предпочтительными являются длины волн 350 нм, 365 нм, 385 нм, 395 нм, 400 нм, 405 нм, 532 нм, 830 нм, 1064 нм (и на около 5 нм - 10 нм больше и/или меньше), отдельно или в комбинации.The wavelength of electromagnetic radiation is in the range from 200 nm to 20,000 nm, preferably in the range from 250 nm to 1100 nm, especially preferably in the ultraviolet range, most preferably in the range from 300 nm to 450 nm. In addition to broadband electromagnetic radiation exposure, it may be advantageous to use narrowband or monochromatic wavelength ranges, which can be obtained using appropriate filters, lasers, or light-emitting diodes (LEDs). In these cases, the preferred wavelengths are 350 nm, 365 nm, 385 nm, 395 nm, 400 nm, 405 nm, 532 nm, 830 nm, 1064 nm (and about 5 nm - 10 nm more and/or less), separately or in combination.

В зависимости от природы слоев экспонированные или неэкспонированные участки рельефообразующего слоя могут быть удалены как механически, так и химически посредством обработки вымывающими средствами, такими как органические растворители, их смеси, вода, водные растворы или водно-органические смеси растворителей, которые способны растворять, эмульгировать и/или диспергировать несшитые области в рельефообразующем слое.Depending on the nature of the layers, exposed or unexposed areas of the relief-forming layer can be removed both mechanically and chemically by treatment with washing agents, such as organic solvents, mixtures thereof, water, aqueous solutions or aqueous-organic mixtures of solvents that are capable of dissolving, emulsifying and /or disperse uncrosslinked areas in the relief-forming layer.

На указанной стадии проявления могут быть использованы все знакомые специалисту в данной области методики. Растворители или их смеси, водные растворы, а также водно-органические смеси растворителей могут содержать вспомогательные вещества, которые стабилизируют композицию и/или повышают растворимость компонентов несшитых областей. Примерами такого рода вспомогательных веществ являются эмульгаторы, поверхностно-активные вещества, соли, кислоты, основания, стабилизаторы, ингибиторы коррозии и их подходящие комбинации. Для проявления указанными растворами могут быть использованы все известные специалисту в данной области способы, такие как, например, погружение, промывание или опрыскивание средой для проявления, чистка щеткой в присутствии среды для проявления и подходящие их комбинаций. Проявление предпочтительно проводят с помощью нейтральных водных растворов или воды, удаление осуществляется с помощью вращающихся щеток или плюшевого ворса. Другая возможностью повлиять на проявку состоит а том, чтобы регулировать температуру среды для проявления и, например, посредством повышения температуры ускорять проявление. На этой стадии также могут быть удалены дополнительные слои, которые все еще присутствуют на чувствительном к излучению слое, если указанные слои могут отделяться во время проявления и в достаточной мере растворяться и/или диспергироваться в среде для проявления.At this stage of development, all techniques familiar to one skilled in the art can be used. Solvents or mixtures thereof, aqueous solutions, as well as aqueous-organic mixtures of solvents may contain auxiliary substances that stabilize the composition and/or increase the solubility of the components of the non-crosslinked areas. Examples of such excipients are emulsifiers, surfactants, salts, acids, bases, stabilizers, corrosion inhibitors and suitable combinations thereof. For development with said solutions, all methods known to one skilled in the art can be used, such as, for example, immersion, washing or spraying with development medium, brushing in the presence of development medium, and suitable combinations thereof. Development is preferably carried out using neutral aqueous solutions or water, removal is carried out using rotating brushes or plush bristles. Another possibility to influence development is to regulate the temperature of the development medium and, for example, speed up development by increasing the temperature. At this stage, additional layers that are still present on the radiation sensitive layer can also be removed if said layers can be separated during development and sufficiently dissolved and/or dispersed in the development medium.

В случае применения органических растворителей предпочтительно используют такие, которые имеют высокую температуру вспышки, которая выше температуры 40°C, особенно предпочтительно выше 60°C. В особых случаях температура вспышки также может быть выше 100°C.When organic solvents are used, it is preferable to use those that have a high flash point, which is above 40°C, especially preferably above 60°C. In special cases the flash point may also be above 100°C.

Обычные вымывающие средства описаны, например, в европейском патенте ЕР 332070. В основном они содержат алифатические, циклоалифатические или ароматические углеводороды и один или несколько спиртов. Большинство вымывающих средств, используемых на рынке, содержат неполярные углеводороды в качестве основного компонента, а также спирты средней полярности в количестве от 10 до 30% масс. В некоторых случаях дополнительно используются терпены и другие компоненты, такие как описаны, например, в заявке на патент US 2016/0054656.Conventional leachants are described, for example, in European patent EP 332070. They generally contain aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons and one or more alcohols. Most detergents used on the market contain non-polar hydrocarbons as the main component, as well as medium-polarity alcohols in amounts ranging from 10 to 30% by weight. In some cases, terpenes and other components are additionally used, such as those described, for example, in patent application US 2016/0054656.

В случае водных вымывающих средств помимо водопроводной воды используют водные растворы, которые содержат дополнительные компоненты, такие как, например, диспергаторы, эмульгаторы, кислоты, основания, флокулянты, соли, и обычно имеют значение pH>7. В качестве диспергаторов и/или эмульгаторов используют катионные, анионные или неионные вещества или их комбинации. Примерами анионных соединений являются карбоксилаты, такие как лаурат натрия или олеат натрия, соли сложных эфиров серной кислоты, такие как лаурилсульфат натрия, цетилсульфат натрия, олеилсульфат натрия, алкилсульфонаты, сложные эфиры фосфорной кислоты или блок-сополимеры с полярными и неполярными блоками.In the case of aqueous detergents, in addition to tap water, aqueous solutions are used that contain additional components, such as, for example, dispersants, emulsifiers, acids, bases, flocculants, salts, and usually have a pH value>7. Cationic, anionic or nonionic substances or combinations thereof are used as dispersants and/or emulsifiers. Examples of anionic compounds are carboxylates such as sodium laurate or sodium oleate, sulfuric acid ester salts such as sodium lauryl sulfate, sodium cetyl sulfate, sodium oleyl sulfate, alkyl sulfonates, phosphoric acid esters or block copolymers with polar and non-polar blocks.

В качестве органических и неорганических кислот могут быть использованы, например, серная кислота, азотная кислота, фосфорные кислоты, муравьиная кислота, уксусная кислота, карбоновые кислоты, щавелевая кислота, лимонная кислота, малеиновая кислота или п-толуолсульфокислота. Примерами оснований являются гидроксиды щелочных и щелочноземельных металлов, такие как LiOH, KOH, NaOH или CaOH.As organic and inorganic acids, for example, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acids, formic acid, acetic acid, carboxylic acids, oxalic acid, citric acid, maleic acid or p-toluenesulfonic acid can be used. Examples of bases are alkali and alkaline earth metal hydroxides such as LiOH, KOH, NaOH or CaOH.

Также часто используют смеси воды и растворителя, что позволяет использовать полимеры, растворимость в воде которых является низкой. Примерами растворителей являются метанол, этанол, изопропанол, бензиловый спирт, циклогексанол, целлозольв, глицерин, полиэтиленгликоль, диметилформамид, диметилацетамид и ацетон.Mixtures of water and solvent are also often used, which allows the use of polymers whose solubility in water is low. Examples of solvents are methanol, ethanol, isopropanol, benzyl alcohol, cyclohexanol, cellosolve, glycerin, polyethylene glycol, dimethylformamide, dimethylacetamide and acetone.

В дополнительном варианте осуществления рельефообразующий слой удаляют термически, то есть посредством введения тепла и удаления размягченного или частично разжиженного материала слоев. Нагрев экспонированного предшественника рельефа может быть осуществлен всеми известными специалисту в данной области способами, например облучением инфракрасным светом, воздействием горячих газов (например, воздуха), с помощью горячих роликов или любой их комбинации. Для удаления (вязко)жидких областей могут быть использованы все знакомые специалисту в данной области методики и способы, такие как, например, выдувание, откачивание, промакивание, абразивно-струйная очистка (частицами и/или каплями), соскабливание, вытирание, перенос в среду для проявления и любые их комбинации. Предпочтительно жидкий материал поглощается (абсорбируется и/или адсорбируется) средой для проявления, которая непрерывно приводится в контакт с нагретой поверхностью предшественника рельефа. Процедуру повторяют до тех пор, пока не будет достигнута желаемая высота рельефа. В качестве среды для проявления могут быть использованы бумага, ткани, нетканые материалы и пленки, которые могут поглощать разжиженный материал и могут состоять из натуральных и/или пластиковых волокон. Предпочтительно используют нетканые материалы или нетканые волокнистые полотна из полимеров, таких как целлюлозы, хлопок, сложные полиэфиры, полиамиды, полиуретаны и любые их комбинации, которые являются стабильными при используемых при проявлении температурах.In a further embodiment, the relief-forming layer is removed thermally, that is, by introducing heat and removing the softened or partially liquefied layer material. Heating of the exposed relief precursor can be accomplished by any means known to one skilled in the art, such as irradiation with infrared light, exposure to hot gases (eg air), hot rollers, or any combination thereof. All techniques and methods familiar to one skilled in the art can be used to remove (viscous) liquid areas, such as, for example, blowing, pumping, blotting, abrasive blasting (particles and/or drops), scraping, wiping, transferring for manifestation and any combinations thereof. Preferably, the liquid material is absorbed (absorbed and/or adsorbed) by the development medium, which is continuously brought into contact with the heated surface of the relief precursor. The procedure is repeated until the desired relief height is achieved. The developing medium can be paper, fabrics, nonwovens and films that can absorb liquefied material and can be composed of natural and/or plastic fibers. Preferably, non-woven materials or non-woven fibrous webs are used from polymers such as celluloses, cotton, polyesters, polyamides, polyurethanes and any combinations thereof that are stable at the developing temperatures used.

При необходимости, после предшествующих стадий могут быть выполнены дополнительные стадии обработки. К ним причисляют, например, термическую обработку, сушку, обработку электромагнитным излучением, плазмой, газами или жидкостями, нанесение идентификационных признаков, резку, нанесение покрытия и любую их комбинацию. Термическая обработка может использоваться, например, для запуска и/или завершения реакций, для увеличения механической и/или термической стойкости рельефной структуры и для удаления летучих компонентов. Для термической обработки могут быть использованы известные методики, такие как, например, нагревание посредством горячих газов или жидкостей, инфракрасного излучения и любых их комбинаций. При этом могут быть использованы печи, воздушный компрессор, лампы и любые их комбинации. При обработке газами, плазмой и/или жидкостями, помимо отслаивания, также можно реализовать модификацию поверхностей, в частности, если также дополнительно используют реакционноспособные вещества.If necessary, additional processing steps may be performed after the previous steps. These include, for example, heat treatment, drying, treatment with electromagnetic radiation, plasma, gases or liquids, application of identification marks, cutting, coating and any combination thereof. Heat treatment can be used, for example, to initiate and/or terminate reactions, to increase the mechanical and/or thermal resistance of the relief structure, and to remove volatile components. For thermal treatment, known techniques can be used, such as, for example, heating through hot gases or liquids, infrared radiation and any combinations thereof. This can include ovens, an air compressor, lamps, and any combination thereof. When treating with gases, plasma and/or liquids, in addition to peeling, surface modification can also be realized, in particular if reactive substances are also additionally used.

Обработку электромагнитным излучением можно использовать, например, для того, чтобы сделать поверхности рельефной структуры свободной от клея, запустить и/или завершить реакции полимеризации и/или сшивания. При этом длина волны облучающих электромагнитных волн находится в диапазоне от 200 нм до 2000 нм, как уже было описано выше.Electromagnetic radiation treatment can be used, for example, to make the surfaces of the relief structure free of adhesive, to initiate and/or complete polymerization and/or cross-linking reactions. In this case, the wavelength of the irradiating electromagnetic waves is in the range from 200 nm to 2000 nm, as already described above.

Код может включать данные о типе (номер изделия, номер партии, идентификационный номер, информация о толщине формы или слоя, информация о длине и ширине, типе), данные об условиях дальнейших стадий процесса. Примерами дальнейших стадий процесса являются дополнительная термическая обработка для высушивания, дополнительное экспонирование для полного сшивания и/или отслаивания поверхности, дополнительная обработка жидкостями, или их комбинации. В случае дополнительной термической обработки данные могут включать, например, информацию о температуре, температурном профиле и продолжительности. В случае дополнительного экспонирования данные могут включать, например, информацию о типе лампы, длине волны, температуре и продолжительности.The code may include type data (product number, batch number, identification number, information about the thickness of the mold or layer, information about length and width, type), data about the conditions of further stages of the process. Examples of further process steps are additional heat treatment for drying, additional exposure to completely cross-link and/or peel the surface, additional liquid treatment, or combinations thereof. In the case of additional heat treatment, the data may include, for example, information on temperature, temperature profile and duration. In the case of additional exposure, the data may include, for example, information about lamp type, wavelength, temperature and duration.

В дополнительном варианте осуществления способа согласно изобретению рельефообразующий слой представляет собой фотополимеризуемый слой, на который наносится маскирующий слой, пригодный для создания изображения, причем стадия c) включает следующие стадии:In a further embodiment of the method according to the invention, the relief-forming layer is a photopolymerizable layer onto which a masking layer suitable for creating an image is applied, step c) comprising the following steps:

ca) создание изображения в маскирующем слое, пригодном для создания изображения, причем двумерный код записывают в маскирующий слой,ca) creating an image in a mask layer suitable for creating the image, wherein the two-dimensional code is written to the mask layer,

cb) экспонирование фотополимеризуемого рельефного слоя электромагнитным излучением через сформированную маску;cb) exposing the photopolymerizable relief layer to electromagnetic radiation through the formed mask;

cc) удаление остатков маски, пригодной для создания изображения, и неэкспонированных, нефотополимеризованных частей фотополимеризуемого рельефного слоя.cc) removing the remnants of the mask suitable for creating an image and the unexposed, non-photopolymerized parts of the photopolymerized relief layer.

В этом варианте осуществления рельефообразующий слой на стадии ca) снабжается изображением с использованием косвенного способа, и для этого создается изображение в маскирующем слое, причем графическая информация вводится в маскирующий слой в виде прозрачных и непрозрачных областей. Предшественник рельефа затем экспонируют через маску, излучение через прозрачные области достигает рельефообразующего слоя и запускает химическую реакцию.In this embodiment, the relief-forming layer is provided with an image in step ca) using an indirect method, and for this purpose an image is created in the mask layer, and graphic information is introduced into the mask layer in the form of transparent and opaque areas. The relief precursor is then exposed through a mask, radiation through the transparent areas reaches the relief-forming layer and triggers a chemical reaction.

При этом маскирующий слой может представлять собой отдельный слой, который наносится на предшественник рельефа после удаления присутствующего при необходимости защитного слоя, или объединенный слой предшественника, который находится в контакте с рельефным слоем или одним из необязательных слоев поверх рельефного слоя и покрыт присутствующим при необходимости защитным слоем.In this case, the masking layer can be a separate layer that is applied to the relief precursor after removing the optionally present protective layer, or a combined precursor layer that is in contact with the relief layer or one of the optional layers on top of the relief layer and covered with the optionally present protective layer .

Маскирующий слой также может быть коммерчески доступным негативом, который может быть получен, например, с помощью фотографических способов, основанных на химии галогенида серебра. Маскирующий слой может представлять собой слоистый композитный материал, в котором прозрачные области создаются путем экспонирования изображения на непрозрачном в обычном состоянии слое, как описано, например, в европейских заявках на патент EP 3139210 A1, EP 1735664 B1, EP 2987030 A1, EP 2313270 B1. Это может быть выполнено посредством удаления непрозрачного слоя на прозрачном несущем слое, как, например, описано в патентах US 6916596, ЕР 816920 В1, или посредством селективного нанесения непрозрачного слоя на прозрачный несущий слой, как описано в европейском патенте ЕР 992846 В1, или непосредственно на рельефообразующий слой, например, посредством печати непрозрачными чернилами при помощи струйного принтера, как описано, например, в европейской заявке на патент ЕР 1195645 А1.The mask layer can also be a commercially available negative, which can be produced, for example, using photographic methods based on silver halide chemistry. The masking layer may be a layered composite material in which transparent areas are created by exposing an image to a normally opaque layer, as described, for example, in European patent applications EP 3139210 A1, EP 1735664 B1, EP 2987030 A1, EP 2313270 B1. This can be accomplished by removing an opaque layer on a transparent support layer, as for example described in US patent 6916596, EP 816920 B1, or by selectively applying an opaque layer on a transparent support layer, as described in EP 992846 B1, or directly on a relief-forming layer, for example by printing with opaque ink using an inkjet printer, as described, for example, in European patent application EP 1195645 A1.

Предпочтительно маскирующий слой является объединенным слоем предшественника рельефа и находится в непосредственном контакте с рельефообразующим слоем или с расположенным на рельефообразующем слое функциональным слоем, который предпочтительно является барьерным слоем. Кроме того, объединенный маскирующий слой можно снабдить изображением посредством абляции и также можно удалить с помощью растворителей или путем нагревания и адсорбции/абсорбции. Указанный слой нагревают и испаряют посредством селективного облучения с использованием высокоэнергетического электромагнитного излучения, в результате чего создается графически структурированная маска, которая используется для передачи структуры на предшественника рельефа. Для этого он должен быть непроницаемым в УФ-диапазоне и поглощать излучение в видимом ИК-диапазоне, что приводит к нагреву слоя и его абляции. После абляции слой маски также представляет собой рельеф, хотя и с меньшими высотами рельефа в диапазоне от 0,1 до 5 мкм.Preferably, the masking layer is an integrated relief precursor layer and is in direct contact with the relief-forming layer or with a functional layer located on the relief-forming layer, which is preferably a barrier layer. In addition, the combined mask layer can be imaged by ablation and can also be removed using solvents or by heating and adsorption/absorption. This layer is heated and evaporated by selective irradiation using high-energy electromagnetic radiation, resulting in a graphically structured mask that is used to transfer the structure to the relief precursor. To do this, it must be impenetrable in the UV range and absorb radiation in the visible IR range, which leads to heating of the layer and its ablation. After ablation, the mask layer also presents a relief, although with smaller relief heights ranging from 0.1 to 5 μm.

Оптическая плотность маскирующего слоя в УФ-диапазоне от 330 до 420 нм и/или в видимом ИК диапазоне от 340 до 660 нм находится в диапазоне от 1 до 5, предпочтительно в диапазоне от 1,5 до 4, особенно предпочтительно в диапазоне от 2 до 4.The optical density of the masking layer in the UV range from 330 to 420 nm and/or in the visible IR range from 340 to 660 nm is in the range from 1 to 5, preferably in the range from 1.5 to 4, especially preferably in the range from 2 to 4.

Толщина удаляемого лазером маскирующего слоя составляет как правило от 0,1 до 5 мкм. Предпочтительно толщина слоя составляет от 0,3 до 4 мкм, особенно предпочтительно от 1 до 3 мкм. Чувствительность к лазеру маскирующего слоя (измеряемая как энергия, необходимая для абляции 1 см² слоя) должна составлять от 0,1 до 10 мДж/см², предпочтительно от 0,3 до 5 мДж/см², особенно предпочтительно от 0,5 до 5 мДж/см².The thickness of the masking layer removed by the laser is usually from 0.1 to 5 microns. Preferably, the layer thickness is from 0.3 to 4 μm, particularly preferably from 1 to 3 μm. The laser sensitivity of the mask layer (measured as the energy required to ablate 1 cm ² of the layer) should be from 0.1 to 10 mJ/cm ² , preferably from 0.3 to 5 mJ/cm ² , especially preferably from 0.5 to 5 mJ/ ^cm2 .

Для абляции маскирующего слоя могут быть использованы такие же источники света и длины волн, которые были описаны выше в связи с лазерной гравировкой.The same light sources and wavelengths as described above in connection with laser engraving can be used to ablate the mask layer.

На стадии cb) рельефообразующий слой экспонируют через нанесенную и снабженную изображением маску, при этом для экспонирования используют в основном источники, которые обеспечивают плоскостное облучение. Это можно сделать посредством применения оптических устройств, например, для расширения луча, посредством плоскостного размещения множества точечных или линейных источников (например, световодов, прожекторов), таких как, например, расположенные рядом друг с другом люминесцентные лампы, посредством перемещения линейного источника или удлиненной конструкции светодиодов (матрицы) относительно предшественника рельефа, например, посредством равномерного перемещения светодиодной планки, или их комбинаций. Предпочтительно используют расположенные рядом друг с другом люминесцентные лампы, или перемещение одной или нескольких светодиодных планок относительно предшественника рельефа.In step cb), the relief-forming layer is exposed through a mask applied and equipped with an image, and for exposure mainly sources that provide planar irradiation are used. This can be done by the use of optical devices, for example, to expand the beam, by planar arrangement of a plurality of point or line sources (for example, light guides, spotlights), such as, for example, fluorescent lamps located next to each other, by moving a line source or an elongated structure LEDs (matrix) relative to the relief predecessor, for example, by uniformly moving the LED strip, or combinations thereof. Preferably, fluorescent lamps located next to each other are used, or the movement of one or more LED strips relative to the relief predecessor is used.

При этом облучение может быть осуществлено непрерывно, импульсами или в несколько коротких периодов с непрерывным излучением. Интенсивность излучения можно варьировать в широком диапазоне, при этом необходимо обеспечить использование дозы, достаточной для сшивания рельефообразующего слоя в достаточной степени для последующего процесса проявления. Индуцированная излучением реакция должна при необходимости продолжаться после дополнительных термических обработок так долго, что экспонированные области становятся по меньшей мере частично нерастворимыми и, следовательно, не могут быть удалены на стадии проявления. Интенсивность и доза излучения зависят от реакционной способности композиции, а также от продолжительности и эффективности проявления. Интенсивность излучения находится в диапазоне от 1 до 15000 мВт/см², предпочтительно в диапазоне от 5 до 5000 мВт/см², особенно предпочтительно в диапазоне от 10 до 1000 мВт/см². Доза излучения находится в диапазоне от 0,3 до 6000 Дж/см², предпочтительно в диапазоне от 3 до 100 Дж/см², особенно предпочтительно в диапазоне от 6 до 20 Дж/см². Воздействие излучением также может осуществляться в инертной атмосфере, например, в благородных газах, CO₂ и/или азоте, или в жидкости, которая не повреждает многослойный элемент.In this case, irradiation can be carried out continuously, in pulses, or in several short periods with continuous radiation. The radiation intensity can be varied over a wide range, but it is necessary to ensure that a dose sufficient to cross-link the relief-forming layer sufficiently for the subsequent development process is used. The radiation-induced reaction must, if necessary, continue after additional heat treatments for such a long time that the exposed areas become at least partially insoluble and therefore cannot be removed during the development step. The intensity and dose of radiation depend on the reactivity of the composition, as well as on the duration and effectiveness of development. The radiation intensity is in the range of 1 to 15,000 mW/cm ² , preferably in the range of 5 to 5,000 mW/cm ² , particularly preferably in the range of 10 to 1,000 mW/cm ² . The radiation dose is in the range of 0.3 to 6000 J/cm ² , preferably in the range of 3 to 100 J/cm ² , particularly preferably in the range of 6 to 20 J/cm ² . The radiation exposure can also be carried out in an inert atmosphere, for example noble gases, CO ₂ and/or nitrogen, or in a liquid that does not damage the multilayer element.

Длина волны электромагнитного излучения находится в диапазоне от 200 нм до 2000 нм, предпочтительно в диапазоне от 250 нм до 1100 нм, особенно предпочтительно в ультрафиолетовом диапазоне, наиболее предпочтительно в диапазоне от 300 нм до 450 нм. Помимо широкополосного облучения электромагнитными волнами может быть выгодно использовать узкополосные или монохроматические диапазоны длин волн, которые могут быть получены с использованием соответствующих фильтров, лазеров или светодиодов (LED). В данных случаях предпочтительными являются длины волн 350 нм, 365 нм, 385 нм, 395 нм, 400 нм, 405 нм, 532 нм, 830 нм, 1064 нм (и на около 5 нм - 10 нм больше и/или меньше), отдельно или в комбинации.The wavelength of electromagnetic radiation is in the range from 200 nm to 2000 nm, preferably in the range from 250 nm to 1100 nm, especially preferably in the ultraviolet range, most preferably in the range from 300 nm to 450 nm. In addition to broadband electromagnetic wave exposure, it may be advantageous to use narrowband or monochromatic wavelength ranges, which can be obtained using appropriate filters, lasers or light-emitting diodes (LEDs). In these cases, the preferred wavelengths are 350 nm, 365 nm, 385 nm, 395 nm, 400 nm, 405 nm, 532 nm, 830 nm, 1064 nm (and about 5 nm - 10 nm more and/or less), separately or in combination.

На стадии cc) удаляют как маску, пригодную для создания изображения, так и неэкспонированные нефотополимеризованные части фотополимеризуемого рельефообразующего слоя, причем могут быть использованы способы проявления, описанные выше в связи с непосредственным экспонированием. При этом может быть так, что маскирующий слой и неэкспонированные части рельефообразующего слоя удаляют с использованием различных способов, так что используют комбинации упомянутых способов. Например, маскирующий слой может быть проявлен при помощи водных растворов, а рельефообразующий слой - при помощи органических растворов, или наоборот. Можно также использовать комбинацию термического проявления с проявлением при помощи жидкости. Предпочтительно выбирают метод проявки, при котором все слои удаляются одним и тем же способом.In step cc), both the mask suitable for creating an image and the unexposed, non-photopolymerized parts of the photopolymerizable relief-forming layer are removed, and the development methods described above in connection with direct exposure can be used. In this case, it may be that the mask layer and the unexposed parts of the relief-forming layer are removed using different methods, so that combinations of the mentioned methods are used. For example, a masking layer can be developed using aqueous solutions, and a relief-forming layer using organic solutions, or vice versa. A combination of thermal development and liquid development can also be used. Preferably, a development method is chosen in which all layers are removed in the same way.

В особых вариантах осуществления способа согласно изобретению, по меньшей мере, один двумерный код представляет собой штрих-код, DataMatrix-код, QR-код или Dot-код. Другими подходящими кодами являются, например, MicroQR, DataMatrix (ECC200), GS1 DataMatrix, PDF417, MicroPDF417, GS1 Composite (CC-A / CC-B / CC-C), CODE39, ITF, 2of5 (промышленный 2of5), COOP 2of5, NW- 7 (Codabar), CODE128, GS1-128, GS1 DataBar, CODE93, JAN / EAN / UPC, Trioptic CODE39, CODE39 Full ASCII или фармакоды. Указанные коды, их создание и обратная трансформация в данные хорошо известны специалисту в данной области. Кроме того, комбинации данных кодов также могут быть использованы для предоставления различных типов данных в различных кодах, например, для предоставления данных о типе предшественника рельефа в виде штрих-кода и данных для управления процессом в качестве DataMatrix-кода.In particular embodiments of the method according to the invention, the at least one two-dimensional code is a bar code, a DataMatrix code, a QR code or a Dot code. Other suitable codes are, for example, MicroQR, DataMatrix (ECC200), GS1 DataMatrix, PDF417, MicroPDF417, GS1 Composite (CC-A / CC-B / CC-C), CODE39, ITF, 2of5 (industrial 2of5), COOP 2of5, NW-7 (Codabar), CODE128, GS1-128, GS1 DataBar, CODE93, JAN / EAN / UPC, Trioptic CODE39, CODE39 Full ASCII or pharmacocodes. These codes, their creation and back transformation into data are well known to one skilled in the art. In addition, combinations of these codes can also be used to provide different types of data in different codes, such as providing terrain precursor type data as a bar code and process control data as a DataMatrix code.

В еще одном специальном варианте осуществления способа согласно изобретению два или более разных кодов используют для разных стадий процесса. При этом устройство может считывать только код, который содержит данные для соответствующей стадии процесса. В результате этого можно ограничить объем считываемых данных на отдельных стадиях процесса.In yet another special embodiment of the method according to the invention, two or more different codes are used for different stages of the process. In this case, the device can only read a code that contains data for the corresponding process stage. As a result, it is possible to limit the amount of data read at individual process stages.

Объектом настоящего изобретения также является способ получения рельефа, в частности печатной формы, исходя из предшественника рельефа, в частности предшественника печатной формы, содержащего по меньшей мере один носитель, один рельефообразующий слой и один маскирующий слой, имеющий следующие технологические стадии:The present invention also relates to a method for producing a relief, in particular a printing plate, starting from a relief precursor, in particular a printing plate precursor, comprising at least one carrier, one relief-forming layer and one masking layer, having the following technological steps:

(A) предоставление предшественника рельефа;(A) providing a relief precursor;

(B) предоставление данных, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки;(B) providing data that identifies the type of terrain precursor and/or contains process parameters for processing it;

(C) создание изображения в маскирующем слое, тем самым формируя маску;(C) creating an image in the mask layer, thereby forming a mask;

(D) экспонирование снабженного изображением предшественника рельефа электромагнитным излучением через сформированную маску;(D) exposing the imaged relief precursor to electromagnetic radiation through the formed mask;

(E) удаление остатков пригодного для создания изображения маскирующего слоя и экспонированных или неэкспонированных областей рельефообразующего слоя;(E) removing remnants of the imaging mask layer and exposed or unexposed areas of the relief layer;

(F) при необходимости дополнительная обработка полученного рельефа;(F) if necessary, additional processing of the resulting relief;

(G) при необходимости экспонирование обратной стороны предшественника рельефа или рельефа электромагнитным излучением, по выбору между стадиями (B) и (C), (C) и (D) или (D) и (E);(G) optionally exposing the reverse side of the relief precursor or relief to electromagnetic radiation, optionally between steps (B) and (C), (C) and (D), or (D) and (E);

отличающийся тем, что данные, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки, на стадии (C) записывают в маскирующий слой в виде двумерного кода, а после стадии (C) данные, содержащиеся в коде, считывают для регулирования одной или нескольких из стадий (D), (E), (F) и (G). Стадия (G) может быть проведена по выбору между стадиями (B) и (C), (C) и (D) или (D) и (E) и обеспечивает закрепление рельефа на носителе.characterized in that the data, which marks the type of relief precursor and/or contains process parameters for its processing, is written to the masking layer in the form of a two-dimensional code at stage (C), and after stage (C) the data contained in the code is read for regulation one or more of steps (D), (E), (F) and (G). Step (G) can be carried out optionally between steps (B) and (C), (C) and (D) or (D) and (E) and secures the relief to the carrier.

В указанном способе данные, хранящиеся в коде, считывают перед соответствующими отдельными стадиями и используют для управления стадиями процесса. При этом стадии (A) - (E) осуществляют, как было описано выше для стадий a), b), ca), cb) и cc). Стадия (F) является необязательной и зависит от природы предшественника рельефа. К ней причисляют, например, термическую обработку, сушку, обработку электромагнитным излучением, плазмой, газами или жидкостями, нанесение идентификационных признаков, резку, нанесение покрытия, а также любую комбинацию указанных стадий.In this method, data stored in the code is read before the respective individual stages and is used to control the process stages. In this case, stages (A) - (E) are carried out as described above for stages a), b), ca), cb) and cc). Stage (F) is optional and depends on the nature of the relief predecessor. This includes, for example, heat treatment, drying, treatment with electromagnetic radiation, plasma, gases or liquids, application of identification features, cutting, coating, as well as any combination of these stages.

В случае предшественников рельефа, которые проявляют с помощью жидкостей, предпочтительно проводят дополнительную термическую обработку для удаления остатков жидкостей. Термическая обработка может использоваться, например, для запуска и/или завершения реакций, для увеличения механической и/или термической стойкости рельефной структуры и для удаления летучих компонентов. Для термической обработки могут быть использованы известные методики, такие как, например, нагревание посредством горячих газов или жидкостей, инфракрасного излучения и любых их комбинаций. При этом могут быть использованы печи, воздушный компрессор, лампы и любые их комбинации. При этом температуры находятся в диапазоне от 30 до 300°C, предпочтительно в диапазоне от 50 до 200°C, особенно предпочтительно в диапазоне от 60 до 150°C.In the case of relief precursors that are developed using liquids, an additional heat treatment is preferably carried out to remove residual liquids. Heat treatment can be used, for example, to initiate and/or terminate reactions, to increase the mechanical and/or thermal resistance of the relief structure, and to remove volatile components. For thermal treatment, known techniques can be used, such as, for example, heating through hot gases or liquids, infrared radiation and any combinations thereof. This can include ovens, an air compressor, lamps, and any combination thereof. The temperatures are in the range from 30 to 300°C, preferably in the range from 50 to 200°C, especially preferably in the range from 60 to 150°C.

Посредством обработки газами, плазмой и/или жидкостями, помимо отслаивания, также можно реализовать модификацию поверхностей, в частности, если также дополнительно используют реакционноспособные вещества. Обработку электромагнитным излучением можно использовать, например, для того, чтобы сделать поверхность рельефной структуры свободной от клея, и завершить реакции полимеризации и/или сшивания. При этом длина волны облучающих электромагнитных волн находится в диапазоне от 200 нм до 2000 нм при использовании ранее описанных источников излучения.By means of treatment with gases, plasmas and/or liquids, in addition to peeling, surface modification can also be realized, in particular if reactive substances are also used in addition. Electromagnetic radiation treatment can be used, for example, to make the surface of the relief structure free of adhesive and to complete polymerization and/or cross-linking reactions. In this case, the wavelength of the irradiating electromagnetic waves is in the range from 200 nm to 2000 nm when using previously described radiation sources.

Необязательная стадия (G) требует материалов носителя, которые по меньшей мере частично прозрачны для электромагнитного излучения. Предпочтительно указанное экспонирование обратной стороны проводят через прозрачные стабильные по размерам материалы, такие как, например, полимерные пленки и, в частности, полисложноэфирные пленки в качестве материала-носителя. Указанное экспонирование может обеспечить улучшенную адгезию рельефного слоя на носителе и в сочетании с экспонированием передней стороны может использоваться для регулировки высоты рельефа. При этом образуется так называемый пол или основание, на котором надежно закреплены рельефные возвышения. Для осуществления могут быть использованы все источники излучения, длины волн и способы, описанные выше. Экспонирование обратной стороны может быть осуществлено без или с дополнительным маскирующим слоем, причем расположение и структуру данного маскирующего слоя обычно разрабатывают таким образом, чтобы он был прозрачным в областях, в которых сформируются рельефные возвышения.An optional step (G) requires support materials that are at least partially transparent to electromagnetic radiation. Preferably, said exposure of the reverse side is carried out through transparent, dimensionally stable materials, such as, for example, polymer films and, in particular, polyester films as carrier material. This exposure can provide improved adhesion of the relief layer to the carrier and, in combination with front side exposure, can be used to adjust the height of the relief. In this case, a so-called floor or base is formed, on which relief elevations are securely fixed. For implementation, all radiation sources, wavelengths and methods described above can be used. The exposure of the reverse side can be carried out without or with an additional masking layer, and the location and structure of this masking layer is usually designed so that it is transparent in the areas in which relief elevations will form.

В отдельных вариантах осуществления способа согласно изобретению данные, содержащиеся в коде, регулируют одну или несколько из стадий (D), (E), (F) и (G), относительно одного или нескольких из следующих параметров процесса:In certain embodiments of the method according to the invention, the data contained in the code controls one or more of steps (D), (E), (F) and (G), with respect to one or more of the following process parameters:

(i) интенсивность и/или продолжительность экспонирования на стадии (D);(i) intensity and/or duration of exposure in stage (D);

(ii) длина волны или диапазон длин волн на стадии (D);(ii) wavelength or range of wavelengths in stage (D);

(iii) температура проявления и/или продолжительность проявления на стадии (E);(iii) development temperature and/or development duration at stage (E);

(iv) температура и/или время обработки на стадии (F);(iv) temperature and/or processing time in step (F);

(v) интенсивность и/или время экспонирования на стадии (G);(v) intensity and/or exposure time in stage (G);

(vi) длина волны электромагнитного излучения на стадии (G);(vi) wavelength of electromagnetic radiation at stage (G);

(vii) скорость перемещения предшественника рельефа или рельефа при прохождении одной или нескольких из стадий способа (D)-(G).(vii) the speed of movement of the relief precursor or relief during the passage of one or more of the stages of the method (D)-(G).

Данные, содержащиеся в коде, управляют отдельными стадиями процесса, выполняемыми для получения рельефа, и содержат, в частности, параметры, важные для отдельных стадий процесса. На стадии (D) таковыми прежде всего являются интенсивность и/или продолжительность экспонирования электромагнитным излучением или соответственно доза излучения, которая рассчитывается из интенсивности и продолжительности. При этом интенсивности и дозы находятся в описанных выше диапазонах. В случае если используют различные источники излучения или источники излучения с настраиваемым диапазоном длин волн, это также включают в данные. В случае, когда диапазоны длин волн могут быть назначены для определенных источников излучения, возможно указание источника излучения. В случае подвижных источников излучения в данных также могут содержаться скорость движения, направление движения, частота повторения в случае многократного экспонирования, расстояние от поверхности предшественника, угол падения излучения, температура и ее регулирование или комбинации этих параметров.The data contained in the code controls the individual process steps carried out to obtain the relief and contains in particular the parameters that are important for the individual process steps. At stage (D), these are primarily the intensity and/or duration of exposure to electromagnetic radiation or, accordingly, the radiation dose, which is calculated from the intensity and duration. In this case, the intensities and doses are in the ranges described above. If different radiation sources or radiation sources with a tunable wavelength range are used, this is also included in the data. In cases where wavelength ranges can be assigned to specific radiation sources, it is possible to specify the radiation source. In the case of moving radiation sources, the data may also contain the speed of movement, the direction of movement, the repetition rate in the case of multiple exposures, the distance from the surface of the precursor, the angle of incidence of the radiation, temperature and its control, or combinations of these parameters.

Для стадии (E) особенно важными являются температура проявления и продолжительность и поэтому их включают в данные. Кроме того, могут быть включены дополнительные данные, такие как тип используемой жидкости, скорости потока, скорость вращения щеток, контактное давление щеток и расстояние между щетками, которые при необходимости могут быть использованы, данные датчика для контроля качества жидкостей (например, вязкость, содержание твердых веществ, состав, температура, давление, плотность, теплопроводность, поверхностное натяжение, объемная упругость и т.д.) и их комбинации. В случае термического проявления данные могут содержать, помимо температуры различных компонентов устройства или сегментов устройства, например, скорость перемещения предшественника рельефа, скорость среды проявления, количество циклов, контактное давление роликов, тип и характеристики среды проявления, распределение контактного давления, и их комбинации.For stage (E), development temperature and duration are particularly important and are therefore included in the data. In addition, additional data may be included such as the type of fluid used, flow rates, brush rotation speed, brush contact pressure and brush spacing, which can be used if necessary, sensor data to monitor the quality of fluids (e.g. viscosity, solid content substances, composition, temperature, pressure, density, thermal conductivity, surface tension, volumetric elasticity, etc.) and their combinations. In the case of thermal development, the data may include, in addition to the temperature of various device components or device segments, such as the speed of movement of the relief precursor, the speed of the development medium, the number of cycles, the contact pressure of the rollers, the type and characteristics of the developing medium, the distribution of contact pressure, and combinations thereof.

Для дополнительной обработки на стадии (F) код может содержать очень разные данные, которые зависят от типа дополнительной обработки. В основном в данные включается продолжительность дополнительной обработки. В случае термической дополнительной обработки в данные включается ее температура. В случае сушки помимо температуры сушки, ее протекания и распределения, а также продолжительности сушки, данные могут содержать также пропускную способность по газу, давление газа, объемный расход, скорость газа, массовый расход или их комбинации. В случае дополнительного экспонирования в данных могут содержаться диапазон длин волн, интенсивность и/или продолжительность экспонирования электромагнитным излучением или соответственно дозы излучения. В случае обработки жидкостями, газами или плазмой данные могут предоставлять сведения о применяемом газе, жидкости, составе, температуре, скорости потока, давлении, объемном расходе, массовом расходе, теплопроводности, объемной упругости или их комбинациях. В случае вырезания рельефа данные могут содержать, например, размеры, такие как длина, ширина, диаметр, позиции, контуры и направление резки.For additional processing in stage (F), the code may contain very different data, which depends on the type of additional processing. Generally, the data includes the duration of additional processing. In the case of thermal additional processing, its temperature is included in the data. In the case of drying, in addition to drying temperature, drying flow and distribution, and drying duration, the data may also include gas throughput, gas pressure, volume flow, gas velocity, mass flow, or combinations thereof. In the case of additional exposure, the data may contain the wavelength range, intensity and/or duration of exposure to electromagnetic radiation or, respectively, radiation dose. In the case of liquid, gas, or plasma processing, the data may provide information about the gas, liquid, composition, temperature, flow rate, pressure, volume flow, mass flow, thermal conductivity, volumetric elasticity, or combinations thereof used. In the case of relief cutting, the data may contain, for example, dimensions such as length, width, diameter, positions, contours and cutting direction.

На стадии (G) таковыми прежде всего являются интенсивность и/или продолжительность экспонирования электромагнитным излучением или соответственно доза излучения, которая рассчитывается из интенсивности и продолжительности. При этом интенсивности и дозы находятся в описанных выше диапазонах. В случае если используют различные источники излучения или источники излучения с настраиваемым диапазоном длин волн, это также включают в данные. В случае, когда диапазоны длин волн могут быть назначены для определенных источников излучения, возможно указание источника излучения. В случае подвижных источников излучения в данных также может содержаться скорость движения, направление движения, частота повторения, расстояние от поверхности предшественника, угол падения излучения, температура и ее регулирование, или их комбинации.At stage (G), these are primarily the intensity and/or duration of exposure to electromagnetic radiation or, accordingly, the radiation dose, which is calculated from the intensity and duration. In this case, the intensities and doses are in the ranges described above. If different radiation sources or radiation sources with a tunable wavelength range are used, this is also included in the data. In cases where wavelength ranges can be assigned to specific radiation sources, it is possible to specify the radiation source. In the case of moving radiation sources, the data may also include speed of movement, direction of movement, repetition rate, distance from the surface of the precursor, angle of incidence of radiation, temperature and temperature control, or combinations thereof.

В случае некоторых процессов предшественник или рельеф перемещается с определенной скоростью, и указанная скорость перемещения может содержатся в данных для отдельных стадий процесса. Указанная скорость перемещения может быть во всех процессах одинаковой или различной. В устройствах, в которых выполняют все стадии процесса и работают непрерывно, предпочтительной является единая скорость перемещения. Однако медленные процессы, определяющие скорость, также могут выполняться с отличающейся скоростью, особенно в начале или в конце технологической цепочки. Если стадии процесса выполняются в отдельных устройствах, то скорости предпочтительно являются различными. При этом скорости перемещения находятся в диапазоне от 10 до 2000 мм/мин, предпочтительно в диапазоне от 20 до 1500 мм/мин, особенно предпочтительно в диапазоне от 50 до 1000 мм/мин и наиболее предпочтительно в диапазоне от 100 до 1000 мм/мин.In some processes, the precursor or terrain moves at a specific speed, and the specified speed of movement may be contained in the data for individual stages of the process. The specified movement speed can be the same or different in all processes. In devices that carry out all process steps and operate continuously, a single travel speed is preferred. However, slow processes that determine speed can also be performed at different speeds, especially at the beginning or end of the process chain. If the process steps are carried out in separate devices, the speeds are preferably different. In this case, the movement speeds are in the range from 10 to 2000 mm/min, preferably in the range from 20 to 1500 mm/min, especially preferably in the range from 50 to 1000 mm/min and most preferably in the range from 100 to 1000 mm/min.

Кроме того объектом настоящего изобретения является способ получения рельефа, в частности печатной формы, исходя из предшественника рельефа, в частности предшественника рельефа, содержащего по меньшей мере один носитель и один фоточувствительный, рельефообразующий слой, имеющий следующие технологические стадии:In addition, the object of the present invention is a method for producing a relief, in particular a printing form, starting from a relief precursor, in particular a relief precursor containing at least one carrier and one photosensitive, relief-forming layer, having the following technological stages:

(C) непосредственное экспонирование пучком, несущим изображение, предшественника рельефа;(C) direct exposure of the relief precursor to the image-bearing beam;

(D) удаление экспонированных или неэкспонированных областей рельефообразующего слоя;(D) removing exposed or unexposed areas of the relief-forming layer;

(Е) при необходимости дополнительная обработка полученной печатной формы;(E) if necessary, additional processing of the resulting printed form;

(F) при необходимости экспонирование обратной стороны предшественника рельефа или рельефа электромагнитным излучением, по выбору между стадиями (B) и (C), или (C) и (D);(F) optionally exposing the reverse side of the relief precursor or relief to electromagnetic radiation, optionally between steps (B) and (C), or (C) and (D);

отличающийся тем, что данные, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки, на стадии (C) при помощи непосредственного экспонирования записывают в рельефообразующий слой в виде двумерного кода, а после стадии (C) данные, содержащиеся в коде, считывают для регулирования одной или нескольких из стадий (D), (E) и (F). Стадия (G) может быть проведена по выбору между стадиями (B) и (C) или (C) и (D) и обеспечивает закрепление рельефа на носителе. Указанный способ отличается от описанного выше способа, только тем, что не создают маску, а экспонирование пучком, несущим изображение, осуществляют непосредственно. Поэтому вышеприведенные параметры и описания применимы ко всем дальнейшим стадиям и данным, регулирующим указанные стадии.characterized in that the data that marks the type of relief precursor and/or contains process parameters for its processing is recorded in the relief-forming layer in the form of a two-dimensional code at stage (C) using direct exposure, and after stage (C) the data contained in the code , read to regulate one or more of steps (D), (E) and (F). Step (G) can be carried out optionally between steps (B) and (C) or (C) and (D) and ensures that the relief is secured to the carrier. This method differs from the method described above only in that a mask is not created, and exposure to the beam carrying the image is carried out directly. Therefore, the above parameters and descriptions are applicable to all further steps and data governing said steps.

В специальных вариантах осуществления указанного способа данные, содержащиеся в коде, регулируют одну или несколько из стадий (D), (E) и (F), относительно одного или нескольких из следующих параметров процесса:In special embodiments of this method, the data contained in the code controls one or more of steps (D), (E) and (F), with respect to one or more of the following process parameters:

(i) температура проявления и/или продолжительность проявления на стадии (D);(i) development temperature and/or development duration at stage (D);

(ii) температура и/или время проявления на стадии (Е);(ii) temperature and/or development time at stage (E);

(iii) интенсивность и/или время экспонирования на стадии (F);(iii) intensity and/or exposure time in stage (F);

(iv) длина волны электромагнитного излучения на стадии (F);(iv) wavelength of electromagnetic radiation at stage (F);

(v) скорость перемещения предшественника рельефа или рельефа при прохождении одной или нескольких из стадий способа (D)-(F).(v) the speed of movement of the relief precursor or relief when passing through one or more of the stages of the method (D)-(F).

Кроме того объектом настоящего изобретения является способ получения рельефа, исходя из предшественника рельефа, содержащего по меньшей мере один носитель и один рельефообразующий пригодный для гравировки слой, имеющий следующие технологические стадии:In addition, the object of the present invention is a method for producing a relief, starting from a relief precursor containing at least one carrier and one relief-forming layer suitable for engraving, having the following technological steps:

(C) при необходимости экспонирование всей поверхности или термическая обработка предшественника рельефа;(C) if necessary, exposing the entire surface or heat treating the relief precursor;

(D) записывание трехмерного рельефа в рельефообразующий слой посредством методов, заключающихся в удалении материала;(D) recording a three-dimensional relief into a relief-forming layer by means of material removal techniques;

(E) при необходимости удаление остатков с рельефной поверхности;(E) if necessary, removing residues from the relief surface;

(G) при необходимости дополнительная обработка полученного рельефа с помощью электромагнитного излучения;(G) if necessary, additional processing of the resulting relief using electromagnetic radiation;

отличающийся тем, что данные, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки, на стадии (D) при помощи гравировки лазером записывают в рельефообразующий слой в виде двумерного кода, а после стадии (D) данные, содержащиеся в коде, считывают для регулирования одной или нескольких из стадий (E), (F) и (G). Указанный способ отличается от предыдущих способов тем, что рельеф создается с помощью метода удаления материала, и отсутствует экспонирование через маску и удаление экспонированных или неэкспонированных областей. Дальнейшие стадии могут быть выполнены так, как описано выше, и регулирующие указанные стадии данные могут быть такими, как описано выше.characterized in that the data that marks the type of relief precursor and/or contains process parameters for its processing is recorded in the relief-forming layer in the form of a two-dimensional code at stage (D) using laser engraving, and after stage (D) the data contained in the code , read to regulate one or more of steps (E), (F) and (G). This method differs from previous methods in that the relief is created using a material removal method, and there is no exposure through a mask and removal of exposed or unexposed areas. Further steps may be performed as described above, and data governing said steps may be as described above.

На стадии (D) могут быть использованы все методы, заключающиеся в удалении материала, например механическая гравировка, абляция или гравировка с помощью высокоэнергетического излучения. Предпочтительно используют так называемую лазерную гравировку, в которой высокоэнергетический лазерный луч направляют на предшественник, чтобы сформировать структуру в виде изображения и код. При этом удаляемый материал сильно разогревают, разрушают и удаляют. В качестве электромагнитного излучения для гравировки как правило используют излучение с длиной волны в диапазоне от 300 до 20000 нм, предпочтительно в диапазоне от 500 до 20000 нм, особенно предпочтительно в диапазоне от 800 до 15000 нм, наиболее предпочтительно в диапазоне от 800 до 11000 нм. Предпочтительно для лазерной гравировки используют CO2-лазер. При этом для селективного удаления рельефного слоя так настраивают один или несколько лазерных лучей, чтобы создавались желаемое изображение и код. Используемые для этого энергии лазерного луча находятся в диапазоне от 10 до 1000 Вт, предпочтительно в диапазоне от 20 до 1500 Вт, особенно предпочтительно в диапазоне от 50 до 1000 Вт.In step (D), all methods involving material removal, such as mechanical engraving, ablation or high-energy radiation engraving, can be used. Preferably, so-called laser engraving is used, in which a high-energy laser beam is directed onto the precursor to form an image structure and code. In this case, the removed material is strongly heated, destroyed and removed. As electromagnetic radiation for engraving, radiation with a wavelength in the range of 300 to 20,000 nm, preferably in the range of 500 to 20,000 nm, particularly preferably in the range of 800 to 15,000 nm, most preferably in the range of 800 to 11,000 nm, is generally used. Preferably, a CO2 laser is used for laser engraving. In this case, to selectively remove the relief layer, one or more laser beams are adjusted so that the desired image and code are created. The laser beam energies used for this purpose are in the range from 10 to 1000 W, preferably in the range from 20 to 1500 W, especially preferably in the range from 50 to 1000 W.

Удаление остатков может быть выполнено на стадии (Е) посредством механического удаления, промывки жидкостью, откачивания, выдувания, чистки щеткой, или их комбинаций. Стадия (E) также может быть осуществлена во время стадии (D), в частности, если остатки откачивают и/или выдувают. При использовании жидкостей необходимо следить за тем, чтобы они не изменяли рельефную структуру, особенно из-за растворения или набухания. Преимущество откачивания заключается в том, что остатки могут быть удалены из газовой фазы, например, с помощью фильтров и/или сепараторов, и, таким образом, не попадают в окружающую среду неконтролируемым образом. Для выдувания могут быть использованы газы, которые не повреждают рельефную структуру и/или разрешены по соображениям безопасности. Предпочтительно используют воздух и инертные газы, такие как азот, диоксид углерода, аргон или их комбинации.Removal of residues can be accomplished in step (E) by mechanical removal, liquid washing, pumping, blowing, brushing, or combinations thereof. Step (E) can also be carried out during step (D), in particular if the residues are pumped out and/or blown out. When using liquids, care must be taken that they do not change the relief structure, especially due to dissolution or swelling. The advantage of pumping is that the residues can be removed from the gas phase, for example by filters and/or separators, and are thus not released into the environment in an uncontrolled manner. Gases that do not damage the relief structure and/or are permitted for safety reasons can be used for blowing. Preferably, air and inert gases such as nitrogen, carbon dioxide, argon or combinations thereof are used.

В случае стадии (F) речь может идти о дополнительной термической обработке или об обработке плазмой, газами или жидкостями, нанесении идентификационных признаков, резке, нанесении покрытия и любых их комбинациях.In the case of step (F), we can talk about additional heat treatment or treatment with plasma, gases or liquids, application of identification features, cutting, coating and any combinations thereof.

В специальных вариантах осуществления указанного способа данные, содержащиеся в коде, регулируют одну или несколько из стадий (E), (F) и (G), относительно одного или нескольких из следующих параметров процесса:In special embodiments of this method, the data contained in the code controls one or more of steps (E), (F) and (G), relative to one or more of the following process parameters:

(i) продолжительность и/или температура на стадии (Е);(i) duration and/or temperature at stage (E);

(ii) повышенное или пониженное давление на стадии (Е);(ii) increased or decreased pressure in stage (E);

(iii) температура и/или продолжительность на стадии (F);(iii) temperature and/or duration at stage (F);

(iv) интенсивность и/или время экспонирования на стадии (G);(iv) intensity and/or exposure time in stage (G);

(v) длина волны электромагнитного излучения на стадии (G);(v) wavelength of electromagnetic radiation at stage (G);

(vi) скорость перемещения рельефа при прохождении одной или нескольких из стадий способа (E)-(G).(vi) the speed of movement of the relief during the passage of one or more of the stages of the method (E)-(G).

Считывание данных во всех вышеописанных вариантах осуществления способа согласно изобретению может быть осуществлено различными способами. Например, это можно выполнить оптически или механически посредством сканирования. Считывание предпочтительно осуществляют бесконтактным способом. При этом считывание может происходить автоматически, в результате того, что соответствующее устройство или соответствующая часть устройства обнаруживает код на предшественнике рельефа. Однако это также может быть выполнено вручную оператором, который обнаруживает код с помощью соответствующего считывающего устройства. В предпочтительных вариантах осуществления способа согласно изобретению данные, содержащиеся в коде, обнаруживают бесконтактным способом.Reading data in all the above-described embodiments of the method according to the invention can be carried out in various ways. For example, this can be done optically or mechanically by scanning. Reading is preferably carried out in a non-contact manner. In this case, the reading may occur automatically as a result of the corresponding device or corresponding part of the device detecting the code on the relief predecessor. However, this can also be done manually by an operator who detects the code using an appropriate reader. In preferred embodiments of the method according to the invention, the data contained in the code is detected in a non-contact manner.

В качестве бесконтактного способа используют в частности оптические методы, такие как, например, считывание с помощью камеры и анализ изображения, с помощью сканера, или их комбинации. Предпочтительно используют линейные или точечные, или соответственно поверхностные сканеры.As a non-contact method, optical methods are used in particular, such as, for example, reading with a camera and image analysis using a scanner, or combinations thereof. Preferably, line or point or surface scanners are used.

В дополнительном варианте осуществления способа согласно изобретению данные, содержащиеся в коде, маркируют тип предшественника рельефа, причем сопутствующие параметры процесса считывают из базы данных. Данные о типе предшественника рельефа включают, например, номер изделия, номер партии, идентификационный номер, информацию о толщине формы или слоя, информацию о длине и ширине, тип или любую их комбинацию. Используя указанные данные, устройство может считывать технологические параметры, соответствующие данному процессу, из базы данных и использовать их для индивидуального регулирования процесса. База данных может храниться в устройстве и обновляться в случае изменения данных или через регулярные промежутки времени. Данные также могут храниться в одной центральной или нескольких базах данных, и устройства могут получать к ним доступ через соответствующее электронное соединение.In a further embodiment of the method according to the invention, the data contained in the code marks the type of relief precursor, and the associated process parameters are read from a database. The relief precursor type data includes, for example, item number, lot number, identification number, mold or layer thickness information, length and width information, type, or any combination thereof. Using this data, the device can read the process parameters corresponding to a given process from the database and use them for individual process control. The database can be stored on the device and updated when data changes or at regular intervals. Data can also be stored in one central or multiple databases and devices can access it through an appropriate electronic connection.

Передача данных от считывающих устройств на устройства процесса может быть выполнена с использованием обычных способов: Если считывающие устройства встроены в устройства процесса, то передача по кабелю является предпочтительной. Если считывающие устройства не являются встроенными, то передача может осуществляться по кабелю и соответствующему штекерному соединению, через беспроводное соединение, такое как, например радиосигналы (направленная радиосвязь, WPAN) или световые сигналы (инфракрасные сигналы), через электронные сети, при помощи индуктивных эффектов (беспроводная связь ближнего радиуса действия NFC, RFID) или их комбинации. Беспроводные соединения также известны, например, под терминами «bluetooth» или «WLAN» (англ. Wireless Local Area Network - беспроводная локальная сеть). Передача через проводные соединения, такие как LAN, или посредством проводных протоколов, также возможна. При этом данные могут быть сохранены и переданы во всех обычных форматах. Предпочтительно это осуществляют при помощи так называемых CSV-файлов (англ. comma separated values - значения, разделенные запятыми), SDF (англ. simple data format - простой формат данных), текстовых файлов, PTC-файлов, ASCCI-файлов и/или в соответствии с JSON (англ. Java Script Object Notation). Для передачи могут использоваться следующие протоколы связи, например, EtherNet/IP, PROFINET, PLC Link, TCP/IP, FTP, протокол MC, Omron PLC Link, KV STUDIO или их комбинации. Для передачи могут использоваться следующие интерфейсы: USB, RS-232C, беспроводная и проводная передача, Ethernet, WLAN, RFID, GSM/UMTS/LTE, ProfiBus, Modbus, FoundationFieldbus, последовательные интерфейсы или их комбинации.Data transfer from readers to process devices can be done using conventional methods: If readers are integrated into process devices, then cable transfer is preferred. If the reading devices are not built-in, the transmission can take place via a cable and a corresponding plug connection, via a wireless connection such as radio signals (directional radio communication, WPAN) or light signals (infrared signals), via electronic networks, using inductive effects ( short-range wireless communication NFC, RFID) or combinations thereof. Wireless connections are also known, for example, under the terms “bluetooth” or “WLAN” (Wireless Local Area Network). Transmission via wired connections such as LAN or via wired protocols is also possible. In this case, data can be saved and transmitted in all common formats. This is preferably done using so-called CSV files (comma separated values), SDF (simple data format), text files, PTC files, ASCCI files and/or in accordance with JSON (Java Script Object Notation). The following communication protocols can be used for transmission, such as EtherNet/IP, PROFINET, PLC Link, TCP/IP, FTP, MC protocol, Omron PLC Link, KV STUDIO or combinations thereof. The following interfaces can be used for transmission: USB, RS-232C, wireless and wired transmission, Ethernet, WLAN, RFID, GSM/UMTS/LTE, ProfiBus, Modbus, FoundationFieldbus, serial interfaces or combinations thereof.

Объектом изобретения также является рельефная структура с кодом, полученная описанными выше способами. Полученные таким образом рельефные структуры могут быть использованы в качестве печатных форм, в частности, в качестве флексографских печатных форм, типографских книжных форм, форм для тампонной печати и печатных форм для глубокой печати. Рельефные структуры также можно использовать в качестве оптических структурных элементов, например, в качестве линзы Френеля.The invention also relates to a relief structure with a code obtained by the methods described above. The relief structures thus obtained can be used as printing plates, in particular as flexographic printing plates, printing book plates, pad printing plates and intaglio printing plates. The relief structures can also be used as optical structural elements, for example as a Fresnel lens.

Если на полученные рельефные структуры наносят по меньшей мере один дополнительный слой, который имеет такую жесткую природу, что он не соответствует форме рельефа, то образуются структурные элементы с каналами и/или полостями, которые могут быть отделены друг от друга или соединены друг с другом. К тому же дополнительный слой может быть жестким или негибким, чтобы он не погружался в углубления, однако можно также использовать гибкие слои, если принимают соответствующие меры для обеспечения того, чтобы дополнительный слой не мог погружаться в углубления (например, углубления заполняют жидкостями и/или газами и которые затем удаляют). Указанные каналы и/или полости могут быть при необходимости снабжены другими материалами и/или жидкостями. Такого рода структурные элементы могут использоваться в качестве микрофлюидного структурного элемента (например, для микроанализа и/или для высокопроизводительного скрининга), в качестве микрореактора, оптического структурного элемента, например, в качестве форетической ячейки (как показано, например, в международной заявке WO 2004/015491), в качестве элемента управления светом для цветного дисплея (как например, описано в международной заявке WO 2003/062900) или в качестве фотонных кристаллов. Дополнительный слой может быть нанесен, например, в рамках дополнительной обработки согласно стадии viii). Вышеупомянутые структурные элементы и компоненты могут быть выполнены как жесткими, так и/или гибкими. Гибкие варианты осуществления особенно предпочтительны тогда, когда их следует носить на теле и/или в теле и/или использовать в тканях и/или предметах одежды.If at least one additional layer is applied to the resulting relief structures, which is of such a rigid nature that it does not conform to the shape of the relief, then structural elements with channels and/or cavities are formed, which can be separated from each other or connected to each other. Additionally, the additional layer may be rigid or inflexible so that it does not sink into the recesses, but flexible layers can also be used if appropriate measures are taken to ensure that the additional layer cannot sink into the recesses (for example, the recesses are filled with liquids and/or gases and which are then removed). Said channels and/or cavities may be provided, if necessary, with other materials and/or liquids. Such building blocks can be used as a microfluidic building block (for example, for microanalysis and/or for high-throughput screening), as a microreactor, an optical building block, for example, as a phoretic cell (as shown, for example, in international application WO 2004/ 015491), as a light control element for a color display (as for example described in WO 2003/062900) or as photonic crystals. An additional layer can be applied, for example, as part of an additional treatment according to step viii). The above-mentioned structural elements and components can be made both rigid and/or flexible. Flexible embodiments are particularly preferred when they are to be worn on and/or in the body and/or used in fabrics and/or garments.

Таким образом, изобретение также относится к применению рельефа, полученного согласно изобретению, в качестве формы для тампонной печати, типографской книжной формы, печатной формы для глубокой печати, микрофлюидного структурного элемента, микрореактора, форетической ячейки, фотонного кристалла и оптического структурного элемента.Thus, the invention also relates to the use of the relief obtained according to the invention as a pad printing plate, a printing book plate, an intaglio printing plate, a microfluidic building block, a microreactor, a phoretic cell, a photonic crystal and an optical building block.

Примеры:Examples:

В примерах передачу информации осуществляли при помощи управляющего программного обеспечения CX Server-lite версии 2.2 фирмы OMRON ELECTRONICS GmbH. Для этого код обнаруживали при помощи сканера SR-G100 (Keyence, настройки), переводили в CSV-файл (Excel) и передавали в программируемый логический контроллер (SPS) устройств через интерфейс 2.2.In the examples, information was transferred using control software CX Server-lite version 2.2 from OMRON ELECTRONICS GmbH. To do this, the code was detected using an SR-G100 scanner (Keyence, settings), translated into a CSV file (Excel) and transferred to the device programmable logic controller (SPS) via the 2.2 interface.

Пример 1:Example 1:

Формы nyloprint® WF-H 80 (Flint Group) с несущим слоем из ПЭТ, рельефным слоем толщиной 50 мкм и защитным слоем после удаления защитного слоя экспонировали по всей поверхности в течение 5 минут при помощи nyloprint® Exposure 96 X 120 ED (Flint Group). Затем формы гравировали с помощью Kronos 7612 (SPGPrints Austria GmbH), оснащенного СО2-лазером мощностью 750 Вт, с разрешением 2540 dpi. При этом в краевой области был создан код в виде рельефа с данными (скорость прохождения и температура сушки) для последующей очистки и сушки. Код считывали с помощью сканера SR-G100 (Keyence) и вводили данные в nyloprint DWT 100. Форму промывали водой со скоростью 300 мм/мин и сушили при 60°C.nyloprint® WF-H 80 molds (Flint Group) with a PET base layer, a 50 µm thick relief layer and a protective layer after removing the protective layer were exposed over the entire surface for 5 minutes using nyloprint® Exposure 96 X 120 ED (Flint Group) . The shapes were then engraved using a Kronos 7612 (SPGPrints Austria GmbH) equipped with a 750 W CO2 laser with a resolution of 2540 dpi. At the same time, a code was created in the edge area in the form of a relief with data (passing speed and drying temperature) for subsequent cleaning and drying. The code was read using an SR-G100 scanner (Keyence) and the data was entered into a nyloprint DWT 100. The mold was washed with water at a speed of 300 mm/min and dried at 60°C.

Пример 2:Example 2:

Формы nyloflex® Sprint 114 (Flint Group) с несущим слоем из ПЭТ, рельефным слоем и защитным слоем экспонировали с обратной стороны по всей поверхности в течение 30 сек при помощи экспонирующего устройства nyloprint® Exposure 96 X 120 ED. После удаления защитного слоя их непосредственно экспонировали при помощи MultiDX! 220 (Lüscher Technologies AG), оснащенного программным обеспечением X!Direct, и лазерными УФ-диодами, которые генерируют свет с длиной волны в диапазоне 405 нм, с дозой 600 мДж/см². При этом в краевой области был создан код в виде рельефа с данными о скорости прохождения (170 мм/мин), температуре сушки (60°C) и дополнительном экспонировании ультрафиолетовыми лучами группы А (UVA). Формы проявляли в устройстве для промывки с поточной линией Nyloprint DWT 100 при скорости прохождения 170 мм/мин и с использованием воды, и в соответствии с введенными данными сушили при 60°C, и подвергали дополнительному экспонированию с использованием UVA-света в течение 2 минут.nyloflex® Sprint 114 molds (Flint Group) with a PET core layer, an embossed layer and a protective layer were exposed from the back side over the entire surface for 30 seconds using a nyloprint® Exposure 96 X 120 ED exposure device. After removing the protective layer, they were directly exposed using MultiDX! 220 (Lüscher Technologies AG), equipped with X!Direct software, and UV laser diodes that generate light with a wavelength in the range of 405 nm, with a dose of 600 mJ/cm ² . At the same time, a code was created in the edge area in the form of a relief with data on the speed of passage (170 mm/min), drying temperature (60°C) and additional exposure to ultraviolet rays of group A (UVA). The molds were developed in a Nyloprint DWT 100 in-line washer at 170 mm/min using water and dried at 60°C as input and further exposed using UVA light for 2 minutes.

Пример 3:Example 3:

Формы nyloflex® FAC 284 (Flint Group) с несущим слоем из ПЭТ, рельефным слоем и защитным слоем экспонировали с обратной стороны по всей поверхности в течение 100 сек при помощи экспонирующего устройства nyloflex Exposure FV (Flint Group). Для управления экспонирующим устройством при помощи сканера SR-G100 (Keyence) вводили DataMatrix-код, который включал условия экспонирования (время). После удаления защитного слоя формы экспонировали через маску из сухой пленки LADF 0175 (Folex) при помощи Nyloflex Exposure FV (Flint Group) с использованием светодиодного света с длиной волны 365 нм и интенсивностью 20 мВт/см² в течение 15 мин. Маска содержала DataMatrix-код с дополнительной информацией о дальнейших стадиях процесса (основное экспонирование 20 мин, скорость вымывания 190 мм/мин, время сушки 124 мин при 60°C, дополнительное экспонирование одновременно UVA/UVC 12,5 мин). Код считывали при помощи сканера SR-G100 (Keyence) и вводили в автоматическую машину для обработки форм nyloflex, в результате чего формы проявляли, сушили и дополнительно экспонировали в соответствии с введенными данными.nyloflex® FAC 284 molds (Flint Group) with a PET core layer, an embossed layer and a protective layer were exposed from the back side over the entire surface for 100 seconds using a nyloflex Exposure FV exposure device (Flint Group). To control the exposure device using the SR-G100 scanner (Keyence), a DataMatrix code was entered, which included exposure conditions (time). After removing the protective layer, the molds were exposed through a LADF 0175 dry film mask (Folex) using Nyloflex Exposure FV (Flint Group) using LED light at 365 nm and intensity 20 mW/cm2 for 15 min. The mask contained a DataMatrix code with additional information about further stages of the process (main exposure 20 minutes, washout speed 190 mm/min, drying time 124 minutes at 60°C, additional exposure simultaneously UVA/UVC 12.5 minutes). The code was read using an SR-G100 scanner (Keyence) and entered into an automatic nyloflex plate processing machine, whereby the plates were developed, dried and further exposed according to the entered data.

Пример 4:Example 4:

В качестве предшественников рельефа использовали снабженные маскирующим слоем формы Nyloflex® FAC 284 D (Flint Group) с несущим слоем из ПЭТ, рельефным слоем, маскирующим слоем и защитным слоем, а соответствующие данные процесса преобразовывали в DataMatrix-код.Masked Nyloflex® FAC 284 D molds (Flint Group) with a PET base layer, a relief layer, a mask layer and a protective layer were used as relief precursors, and the corresponding process data was converted into a DataMatrix code.

Формы экспонировали с обратной стороны по всей поверхности в течение 100 сек при помощи экспонирующего устройства Nyloflex NExT Exposure FV (Flint Group), используя люминесцентные лампы. После удаления защитного слоя на предшественнике в краевой области был сгенерирован DataMatrix-код посредством лазерной абляции, а маскирующий слой был снабжен изображением. Абляцию проводили с использованием ThermoFlexX 80 D (Xeikon, мощность лазера 100 Вт), программного обеспечения Multiplate (версия 5.0.0.276) и следующих параметров: длина волны 1070 нм, режим 3. DataMatrix-код содержал информацию о типе формы, толщине формы, условиях экспонирования и условиях проявления, температуре сушки и времени сушки, а также условиях дополнительного экспонирования. При помощи сканера SR-G100 (Keyence) считывали код на маскирующем слое и вводили в далее следующее экспонирующее устройство.The molds were exposed from the reverse side over the entire surface for 100 sec using a Nyloflex NExT Exposure FV exposure device (Flint Group) using fluorescent lamps. After removing the protective layer on the precursor in the edge region, a DataMatrix code was generated through laser ablation, and the masking layer was imaged. Ablation was performed using ThermoFlexX 80 D (Xeikon, laser power 100 W), Multiplate software (version 5.0.0.276) and the following parameters: wavelength 1070 nm, mode 3. DataMatrix code contained information about mold type, mold thickness, conditions exposure and development conditions, drying temperature and drying time, as well as additional exposure conditions. Using an SR-G100 scanner (Keyence), the code on the masking layer was read and entered into the next exposure device.

Ультрафиолетовое экспонирование проводили с помощью nyloflex NExT Exposure FV (Flint Group) с использованием светодиодного света с длиной волны 365 нм и в соответствии с настройкой S4.UV exposure was performed with nyloflex NExT Exposure FV (Flint Group) using 365 nm LED light and according to setting S4.

При помощи сканера SR-G100 (Keyence) считывали код на маскирующем слое и вводили в далее следующий проявитель. Затем проводили проявление растворителем в промывателе FIII (Flint Group) при 35°C с использованием nylosolv A (Flint Group) в качестве проявляющего раствора со скоростью прохождения 60 мм/мин.Using an SR-G100 scanner (Keyence), the code on the masking layer was read and the next developer was introduced into it. Solvent development was then carried out in Washer FIII (Flint Group) at 35°C using nylosolv A (Flint Group) as the developing solution at a flow rate of 60 mm/min.

При помощи сканера SR-G100 (Keyence) считывали код на рельефной структуре и вводили в далее следующее сушильное устройство nyloflex Dryer FV. Сушку проводили в течение 180 минут при 60°C.Using an SR-G100 scanner (Keyence), the code on the relief structure was read and entered into the next nyloflex Dryer FV drying device. Drying was carried out for 180 minutes at 60°C.

При помощи сканера SR-G100 (Keyence) считывали код на рельефной структуре и вводили в далее следующее экспонирующее устройство Combi FIII (Flint Group). Дополнительное экспонирование проводили одновременно UVA и UVC в течение 15 минут.Using an SR-G100 scanner (Keyence), the code on the relief structure was read and entered into the next Combi FIII exposure device (Flint Group). Additional exposure was carried out simultaneously with UVA and UVC for 15 minutes.

Пример 5:Example 5:

Повторяли пример 4, однако после абляции маскирующего слоя данные (основное экспонирование 20 мин, скорость вымывания 190 мм/мин, время сушки 124 мин при 60°C, дополнительное экспонирование одновременно UVA/UVC 12,5 мин) вводили в автоматическую машину для обработки форм nyloflex, в результате чего формы проявляли, сушили и дополнительно экспонировали в соответствии с введенными данными.Example 4 was repeated, however, after ablation of the mask layer, the data (main exposure 20 min, washout rate 190 mm/min, drying time 124 min at 60°C, additional exposure simultaneously UVA/UVC 12.5 min) were entered into an automatic plate processing machine nyloflex, as a result of which the forms were developed, dried and further exposed in accordance with the entered data.

Пример 6:Example 6:

Повторяли пример 4, однако использовали код, который, помимо номера изделия, также содержал номер партии. С указанными данными устройство (nyloflex Automated Plate Processor) выполнило поиск соответствующих данных в подключенной базе данных и использовало их для обработки.Example 4 was repeated, but a code was used that, in addition to the product number, also contained the batch number. With the specified data, the device (nyloflex Automated Plate Processor) searched for the corresponding data in the connected database and used it for processing.

Claims

1. Способ маркировки предшественника рельефа или рельефа, содержащего носитель и рельефообразующий слой, имеющий стадии:1. A method for marking a relief precursor or a relief containing a carrier and a relief-forming layer, having the stages:

a) предоставление предшественника рельефа, содержащего носитель и рельефообразующий слой; причем рельефообразующий слой представляет собой фотополимеризуемый слой, на который наносят маскирующий слой, пригодный для создания изображения;a) providing a relief precursor comprising a carrier and a relief-forming layer; wherein the relief-forming layer is a photopolymerizable layer onto which a masking layer suitable for creating an image is applied;

b) предоставление данных, которые маркируют тип предшественника рельефа или рельефа и содержат относящиеся к процессу параметры для его обработки, в виде по меньшей мере одного двумерного кода;b) providing data that marks the type of terrain or terrain precursor and contains process-related parameters for processing it, in the form of at least one two-dimensional code;

c) введение по меньшей мере одного двумерного кода в качестве рельефа в рельефообразующий слой,c) introducing at least one two-dimensional code as a relief into the relief-forming layer,

и причем стадия с) включает следующие стадии:and wherein step c) includes the following steps:

ca) запись двумерного кода в маскирующий слой посредством создания изображения в маскирующем слое,ca) writing the two-dimensional code to the masking layer by creating an image in the masking layer,

cb) экспонирование фотополимеризуемого рельефобразующего слоя электромагнитным излучением через изображение в маскирующем слое;cb) exposing the photopolymerized relief-forming layer to electromagnetic radiation through an image in the masking layer;

cc) удаление остатков маскирующего слоя и неэкспонированных частей фотополимеризуемого рельефобразующего слоя с получением рельефа,cc) removing the remnants of the masking layer and unexposed parts of the photopolymerizable relief-forming layer to obtain a relief,

причем после стадии са) считывают данные, содержащиеся в коде, для регулирования по меньшей мере одной из стадий cb) и сс).wherein after step ca) the data contained in the code is read to control at least one of steps cb) and CC).

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что по меньшей мере один двумерный код включает штрих-код, DatenMatrix-код, QR-код или Dot-код.2. The method according to claim 1, characterized in that the at least one two-dimensional code includes a bar code, a DatenMatrix code, a QR code or a Dot code.

3. Способ по п. 1 или 2, причем по меньшей мере один двумерный код включает два или более разных кода для разных стадий процесса.3. The method according to claim 1 or 2, wherein the at least one two-dimensional code includes two or more different codes for different stages of the process.

4. Способ по любому из пп. 1-3, причем после стадии са) считывают данные, содержащиеся в коде, для регулирования по меньшей мере стадии cb).4. Method according to any one of paragraphs. 1-3, wherein after step ca) the data contained in the code is read to regulate at least step cb).

5. Способ по любому из пп. 1-4, причем после стадии са) считывают данные, содержащиеся в коде, для регулирования обеих стадий cb) и сс).5. Method according to any one of paragraphs. 1-4, where after stage ca) the data contained in the code is read to regulate both stages cb) and CC).

6. Способ получения рельефа, исходя из предшественника рельефа, содержащего по меньшей мере один носитель, один рельефообразующий слой, а также один маскирующий слой, имеющий следующие технологические стадии:6. A method for producing a relief, starting from a relief precursor containing at least one carrier, one relief-forming layer, as well as one masking layer, having the following technological stages:

(C) создание изображения в маскирующем слое, в результате чего формируется маска;(C) creating an image in the mask layer, resulting in a mask;

(E) удаление остатков маскирующего слоя и неэкспонированных областей рельефообразующего слоя для получения рельефа;(E) removing the remnants of the masking layer and unexposed areas of the relief-forming layer to obtain a relief;

(F) при необходимости повторная обработка полученного рельефа;(F) if necessary, reprocessing the resulting relief;

(G) при необходимости экспонирование обратной стороны предшественника рельефа или рельефа электромагнитным излучением, по выбору между стадиями (В) и (С), (С) и (D) или (D) и (Е);(G) optionally exposing the reverse side of the relief precursor or relief to electromagnetic radiation, optionally between steps (B) and (C), (C) and (D), or (D) and (E);

отличающийся тем, что данные, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки, на стадии (С) записывают в маскирующий слой в виде двумерного кода, а после стадии (С) данные, содержащиеся в коде, считывают для регулирования по меньшей мере одной из стадий (D), (Е) и (G).characterized in that the data, which marks the type of relief precursor and/or contains process parameters for its processing, is written to the masking layer in the form of a two-dimensional code at stage (C), and after stage (C) the data contained in the code is read for regulation at least one of steps (D), (E) and (G).

7. Способ по п. 6, отличающийся тем, что данные, содержащиеся в коде, регулируют по меньшей мере одну из стадий (D), (Е) и (G), относительно одного или нескольких из следующих параметров процесса:7. The method according to claim 6, characterized in that the data contained in the code regulates at least one of stages (D), (E) and (G) with respect to one or more of the following process parameters:

(ii) длина волны на стадии (D);(ii) wavelength at stage (D);

(iii) температура проявления и/или продолжительность проявления на стадии (Е);(iii) development temperature and/or development duration at stage (E);

(vi) скорость перемещения предшественника рельефа или рельефа при прохождении одной или нескольких из стадий способа (D), (Е) - (G).(vi) the speed of movement of the relief precursor or relief during the passage of one or more of the stages of the method (D), (E) - (G).

8. Способ по п. 6 или 7, причем после стадии (С) считывают данные, содержащиеся в коде, для регулирования по меньшей мере стадии (D).8. Method according to claim 6 or 7, wherein after step (C) the data contained in the code is read to control at least step (D).

9. Способ по любому из пп. 7-8, причем данные, содержащиеся в коде, регулируют по меньшей мере интенсивность и/или продолжительность воздействия на стадии (D).9. Method according to any one of paragraphs. 7-8, wherein the data contained in the code regulates at least the intensity and/or duration of the effect in step (D).

10. Способ по п. 1 или 6, причем считывание данных, содержащихся в коде, осуществляют бесконтактным способом.10. The method according to claim 1 or 6, wherein the data contained in the code is read using a contactless method.

11. Способ по пп. 1 или 6, причем данные, содержащиеся в коде, маркируют тип предшественника рельефа, и причем способ дополнительно включает считывание сопутствующих параметров процесса из базы данных на основе считанного кода.11. Method according to paragraphs. 1 or 6, wherein the data contained in the code marks the type of relief precursor, and wherein the method further includes reading associated process parameters from a database based on the read code.

12. Рельефная структура с кодом, получаемая согласно способу по одному из пп. 1-11.12. Relief structure with a code, obtained according to the method according to one of paragraphs. 1-11.

13. Применение рельефной структуры по п. 12 в качестве флексографской печатной формы.13. Use of the relief structure according to claim 12 as a flexographic printing form.