RU2721756C1 - Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда - Google Patents
Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда Download PDFInfo
- Publication number
- RU2721756C1 RU2721756C1 RU2019118159A RU2019118159A RU2721756C1 RU 2721756 C1 RU2721756 C1 RU 2721756C1 RU 2019118159 A RU2019118159 A RU 2019118159A RU 2019118159 A RU2019118159 A RU 2019118159A RU 2721756 C1 RU2721756 C1 RU 2721756C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- barrier discharge
- tube
- electrolyte
- surrounding barrier
- receiving surrounding
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
- C23C16/509—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Изобретение относится к способу обработки внешней и внутренней поверхностей диэлектрической трубки посредством охватывающего барьерного разряда. При осуществлении способа размещают электрод в жидком электролите, подводят обрабатываемую трубку к электролиту, подают напряжение с переменной частотой к электролиту посредством электрода, при этом трубку к электролиту подводят на расстояние l, равное Технический результат заключается в уменьшении шероховатости поверхности и увеличении гидрофильности внешней и внутренней поверхностей диэлектрической трубки. 3 з.п. ф-лы, 2 ил.
Description
Изобретение относится к плазменной технике и технологии и может быть использовано для обработки внешней и внутренней поверхности диэлектриков. Известен способ (Сон Э.Е., Садриев Р.Ш., Гайсин Ал.Ф., Багаутдинова Л.Н. Особенности сверхвысокочастотного разряда между медным штыревым электродом и технической водой // Теплофизика высоких температур. 2014. Т. 52. №6. С. 961). В данном случае недостатком является то, что охватывающий разряд не горит. Это объясняется тем, что в случае искрового разряда на поверхности металлического электрода образуется только точечное или контрагированное пятно, а на поверхности жидкого проводника пятно имеет только корнеобразующую структуру.
В качестве прототипа способа и устройства рассмотрим «Применение поверхностного барьерного разряда с жидким электродом для обработки поверхности труб» авторов О. Гальмиз, Д. Павлипак, М. Земанек, А. Браблес, М. Сернек, (Book of Contributed Papers: 20-th Symposium on Application of Plasma Processes, Tatranska Lomnica, Slovakia 17-22 January, 2015, ISBN 978-80-8147-027-1). В этом способе для повышения постоянной гидрофильности внутренней и внешней поверхности труб из политетрафторэтила (ПТФЭ) и поливинилхлорида (ПВХ) использовался новый вид поверхностного диэлектрического барьерного разряда (ПДБР), генерирующего тонкий слой плазмы, так называемый новый вид поверхностного диэлектрического барьерного разряда. Этот разряд - известный вариант многоканального разряда между металлическим электродом и жидким проводником или между двумя жидкими проводниками (Ф.М. Гайсин, Э.Е. Сон, Ю.И. Шакиров. М.: Изд-во ВЗПИ, 1990. - c. 90). В данном случае недостатком данного способа получения многоканального барьерного разряда заключается в том, что он не позволяет получить охватывающий барьерный разряд для эффективной обработки поверхности диэлектриков, что представляет практический интерес. В прототипе на поверхности горит тонкий слой разряда с микроканалами. С увеличением расстояния между электролитом и диэлектрической трубкой происходит переход к охватывающему разряду. Этот разряд имеет большой практический интерес с точки зрения обработки труднодоступных мест диэлектриков сложной геометрической формы. В качестве устройства здесь используется диэлектрическая трубка из ПТФЭ диаметром 7 мм, помещенная в раствор щавелевой кислоты и наполненная идентичным раствором. В зависимости от глубины погружения трубки из ПТЭФ в раствор, барьерный разряд горит внутри или снаружи трубки. Недостатком данного устройства является то, что в данном случае по всему диаметру трубки горит барьерный многоканальный разряд (состоящий из множества микроканалов небольшой мощности), а не охватывающий барьерный разряд (в виде одного или нескольких каналов большой мощности).
Технический результат способа заключается в возможности уменьшения шероховатости поверхности, увеличения гидрофильности поверхности диэлектрических материалов.
Технический результат устройства заключается в возможности уменьшения шероховатости поверхности и увеличения гидрофильности поверхности диэлектрических материалов сложной геометрической формы. Технический результат способа достигается тем, что в качестве трубки может использоваться любой диэлектрик; в трубке может содержаться электролит; в трубке может содержаться твердый проводник; в качестве жидкости может быть использован электролит; в качестве жидкости может быть использован проводник.
Технический результат устройства достигается тем, что устройство содержит диэлектрическую трубку внутренним диаметром d≥1 мм, подведенную к жидкости на расстояние
Рассмотрим реализацию способа, представленного на фиг. 1, где 1 - диэлектрическая трубка, 2 - ванна для электролита, 3 - жидкость, 4 - электрод для подведения потенциала к электролиту, 5 - охватывающий барьерный разряд.
Заливается жидкость 3 в ванну 2, потенциал к жидкости подводится с помощью электрода 4. Диэлектрическая трубка 1 подводится к жидкости 3 и при подаче напряжения переменной частоты происходит зажигание охватывающего барьерного разряда 5 между жидкостью 3 и диэлектрической трубкой 1.
На фиг. 2а-ж показаны разные виды охватывающего барьерного разряда вокруг диэлектрической трубки 1.
Заявленное изобретение направлено на проведение обработки внутренних и внешних диэлектрических поверхностей с помощью плазмы охватывающего барьерного разряда для уменьшения шероховатости поверхности, увеличения гидрофильности поверхности.
Claims (4)
1. Способ обработки внешней и внутренней поверхностей диэлектрической трубки посредством охватывающего барьерного разряда, включающий размещение электрода в жидком электролите, подвод обрабатываемой трубки к электролиту, подачу напряжения с переменной частотой к электролиту посредством электрода, отличающийся тем, что трубку к электролиту подводят на расстояние равное
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что обрабатывают трубку, содержащую электролит.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что обрабатывают трубку, содержащую твердый проводник.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что обрабатывают трубку, выполненную с внутренним диаметром ≥1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2019118159A RU2721756C1 (ru) | 2019-06-11 | 2019-06-11 | Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2019118159A RU2721756C1 (ru) | 2019-06-11 | 2019-06-11 | Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2721756C1 true RU2721756C1 (ru) | 2020-05-22 |
Family
ID=70803346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2019118159A RU2721756C1 (ru) | 2019-06-11 | 2019-06-11 | Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2721756C1 (ru) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2303322C1 (ru) * | 2005-11-30 | 2007-07-20 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственный заказчик - Федеральное агентство по атомной энергии | Устройство формирования объемного разряда |
RU2417944C2 (ru) * | 2009-07-31 | 2011-05-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Экструзионные машины" | Способ получения нанокомпозитных металлополимерных материалов |
EA019460B1 (ru) * | 2008-07-16 | 2014-03-31 | Агк Гласс Юроп | Способ и установка для нанесения пленок на основу |
RU2656333C1 (ru) * | 2015-01-12 | 2018-06-05 | Гуанчжоу Цин ГУ Медикал Технолоджи Ко., ЛТД | Плазменный прибор со сменной разрядной трубкой |
US10297423B2 (en) * | 2011-09-08 | 2019-05-21 | Toshiba Mitsubishi—Electric Industrial Systems Corporation | Plasma generation apparatus, CVD apparatus, and plasma-treated particle generation apparatus |
-
2019
- 2019-06-11 RU RU2019118159A patent/RU2721756C1/ru active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2303322C1 (ru) * | 2005-11-30 | 2007-07-20 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственный заказчик - Федеральное агентство по атомной энергии | Устройство формирования объемного разряда |
EA019460B1 (ru) * | 2008-07-16 | 2014-03-31 | Агк Гласс Юроп | Способ и установка для нанесения пленок на основу |
RU2417944C2 (ru) * | 2009-07-31 | 2011-05-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Экструзионные машины" | Способ получения нанокомпозитных металлополимерных материалов |
US10297423B2 (en) * | 2011-09-08 | 2019-05-21 | Toshiba Mitsubishi—Electric Industrial Systems Corporation | Plasma generation apparatus, CVD apparatus, and plasma-treated particle generation apparatus |
RU2656333C1 (ru) * | 2015-01-12 | 2018-06-05 | Гуанчжоу Цин ГУ Медикал Технолоджи Ко., ЛТД | Плазменный прибор со сменной разрядной трубкой |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ГАЛЬМИЗ О. и др., Применение поверхностного барьерного разряда с жидким электродом для обработки поверхности труб, Book of Contributed Papers: 20-th Symposium on Application of Plasma Processes, Tatranska Lomnica, Slovakia 17-22 January, 2015. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
MX152412A (es) | Mejoras en terminal para establecer una conexion electrica | |
KR20190101509A (ko) | 무선 주파수 (rf) 접지 복귀 장치들 | |
RU2721756C1 (ru) | Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда | |
KR20190073510A (ko) | 플라스마 처리 장치 | |
ATE521981T1 (de) | Plasmareaktor mit schraubenförmigen elektroden | |
BR0010064B1 (pt) | dispositivo para o tratamento de superfìcie de um recipiente com o auxìlio de um plasma à baixa pressão. | |
Gaisin et al. | Low-Power Electric Discharges with Metallic, Dielectric, and Electrolytic Electrodes at Low Frequencies and Atmospheric Pressure | |
KR20090102616A (ko) | 플라즈마 처리 장치, 플라즈마 처리 방법 및, 이 방법으로 처리된 피처리체 | |
KR20030041217A (ko) | Icp 발생 장치의 안테나 전극 | |
CN107134608A (zh) | 基于单层石墨烯对称结构电控太赫兹波开关 | |
CN106222711B (zh) | 微波等离子体炬仪器炬管的表面处理方法 | |
Ghomi et al. | Investigation on a DBD plasma reactor | |
CN106463393A (zh) | 等离子体处理装置 | |
JP4440371B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
RU2018116868A (ru) | Электрохирургический кабель со слабым электромагнитным полем | |
JPH11502358A (ja) | 物品の誘導加熱用電源とその加熱方法 | |
Wojcik | Heat transfer enhancement and surface thermostabilization for pool boiling on porous structures | |
Kayumov et al. | Some features of a multichannel discharge between a jet of electrolyte and an electrolytic cell at atmospheric pressure | |
WO2003093526A3 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung der äusseren oberfläche eines metalldrahts, insbesondere als beschichtungsvorbehandlung . | |
DE826325C (de) | Elektrischer Widerstandstheizkoerper | |
Zhao et al. | Effect of CF4 concentration on the discharge dynamics and reactive species distribution of atmospheric nanosecond pulsed He plasma jet | |
JP2019061869A (ja) | プラズマ表面処理方法およびプラズマ表面処理装置 | |
Loginov et al. | Special features of a multichannel discharge in a porous solid cathode | |
CN207542555U (zh) | 电晕预电离电极、激光振荡器和准分子激光装置 | |
Zhoutao et al. | Numerical study on an atmospheric pressure helium discharge propagating in a dielectric tube: influence of tube diameter |