RU2721756C1 - Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда - Google Patents

Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда Download PDF

Info

Publication number
RU2721756C1
RU2721756C1 RU2019118159A RU2019118159A RU2721756C1 RU 2721756 C1 RU2721756 C1 RU 2721756C1 RU 2019118159 A RU2019118159 A RU 2019118159A RU 2019118159 A RU2019118159 A RU 2019118159A RU 2721756 C1 RU2721756 C1 RU 2721756C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
barrier discharge
tube
electrolyte
surrounding barrier
receiving surrounding
Prior art date
Application number
RU2019118159A
Other languages
English (en)
Inventor
Лилия Наилевна Багаутдинова
Фивзат Миннебаевич Гайсин
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева - КАИ"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева - КАИ" filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева - КАИ"
Priority to RU2019118159A priority Critical patent/RU2721756C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2721756C1 publication Critical patent/RU2721756C1/ru

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/505Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
    • C23C16/509Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способу обработки внешней и внутренней поверхностей диэлектрической трубки посредством охватывающего барьерного разряда. При осуществлении способа размещают электрод в жидком электролите, подводят обрабатываемую трубку к электролиту, подают напряжение с переменной частотой к электролиту посредством электрода, при этом трубку к электролиту подводят на расстояние l, равное
Figure 00000004
Технический результат заключается в уменьшении шероховатости поверхности и увеличении гидрофильности внешней и внутренней поверхностей диэлектрической трубки. 3 з.п. ф-лы, 2 ил.

Description

Изобретение относится к плазменной технике и технологии и может быть использовано для обработки внешней и внутренней поверхности диэлектриков. Известен способ (Сон Э.Е., Садриев Р.Ш., Гайсин Ал.Ф., Багаутдинова Л.Н. Особенности сверхвысокочастотного разряда между медным штыревым электродом и технической водой // Теплофизика высоких температур. 2014. Т. 52. №6. С. 961). В данном случае недостатком является то, что охватывающий разряд не горит. Это объясняется тем, что в случае искрового разряда на поверхности металлического электрода образуется только точечное или контрагированное пятно, а на поверхности жидкого проводника пятно имеет только корнеобразующую структуру.
В качестве прототипа способа и устройства рассмотрим «Применение поверхностного барьерного разряда с жидким электродом для обработки поверхности труб» авторов О. Гальмиз, Д. Павлипак, М. Земанек, А. Браблес, М. Сернек, (Book of Contributed Papers: 20-th Symposium on Application of Plasma Processes, Tatranska Lomnica, Slovakia 17-22 January, 2015, ISBN 978-80-8147-027-1). В этом способе для повышения постоянной гидрофильности внутренней и внешней поверхности труб из политетрафторэтила (ПТФЭ) и поливинилхлорида (ПВХ) использовался новый вид поверхностного диэлектрического барьерного разряда (ПДБР), генерирующего тонкий слой плазмы, так называемый новый вид поверхностного диэлектрического барьерного разряда. Этот разряд - известный вариант многоканального разряда между металлическим электродом и жидким проводником или между двумя жидкими проводниками (Ф.М. Гайсин, Э.Е. Сон, Ю.И. Шакиров. М.: Изд-во ВЗПИ, 1990. - c. 90). В данном случае недостатком данного способа получения многоканального барьерного разряда заключается в том, что он не позволяет получить охватывающий барьерный разряд для эффективной обработки поверхности диэлектриков, что представляет практический интерес. В прототипе на поверхности горит тонкий слой разряда с микроканалами. С увеличением расстояния между электролитом и диэлектрической трубкой происходит переход к охватывающему разряду. Этот разряд имеет большой практический интерес с точки зрения обработки труднодоступных мест диэлектриков сложной геометрической формы. В качестве устройства здесь используется диэлектрическая трубка из ПТФЭ диаметром 7 мм, помещенная в раствор щавелевой кислоты и наполненная идентичным раствором. В зависимости от глубины погружения трубки из ПТЭФ в раствор, барьерный разряд горит внутри или снаружи трубки. Недостатком данного устройства является то, что в данном случае по всему диаметру трубки горит барьерный многоканальный разряд (состоящий из множества микроканалов небольшой мощности), а не охватывающий барьерный разряд (в виде одного или нескольких каналов большой мощности).
Технический результат способа заключается в возможности уменьшения шероховатости поверхности, увеличения гидрофильности поверхности диэлектрических материалов.
Технический результат устройства заключается в возможности уменьшения шероховатости поверхности и увеличения гидрофильности поверхности диэлектрических материалов сложной геометрической формы. Технический результат способа достигается тем, что в качестве трубки может использоваться любой диэлектрик; в трубке может содержаться электролит; в трубке может содержаться твердый проводник; в качестве жидкости может быть использован электролит; в качестве жидкости может быть использован проводник.
Технический результат устройства достигается тем, что устройство содержит диэлектрическую трубку внутренним диаметром d≥1 мм, подведенную к жидкости на расстояние
Figure 00000001
Рассмотрим реализацию способа, представленного на фиг. 1, где 1 - диэлектрическая трубка, 2 - ванна для электролита, 3 - жидкость, 4 - электрод для подведения потенциала к электролиту, 5 - охватывающий барьерный разряд.
Заливается жидкость 3 в ванну 2, потенциал к жидкости подводится с помощью электрода 4. Диэлектрическая трубка 1 подводится к жидкости 3 и при подаче напряжения переменной частоты происходит зажигание охватывающего барьерного разряда 5 между жидкостью 3 и диэлектрической трубкой 1.
На фиг. 2а-ж показаны разные виды охватывающего барьерного разряда вокруг диэлектрической трубки 1.
Заявленное изобретение направлено на проведение обработки внутренних и внешних диэлектрических поверхностей с помощью плазмы охватывающего барьерного разряда для уменьшения шероховатости поверхности, увеличения гидрофильности поверхности.

Claims (4)

1. Способ обработки внешней и внутренней поверхностей диэлектрической трубки посредством охватывающего барьерного разряда, включающий размещение электрода в жидком электролите, подвод обрабатываемой трубки к электролиту, подачу напряжения с переменной частотой к электролиту посредством электрода, отличающийся тем, что трубку к электролиту подводят на расстояние
Figure 00000002
равное
Figure 00000003
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что обрабатывают трубку, содержащую электролит.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что обрабатывают трубку, содержащую твердый проводник.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что обрабатывают трубку, выполненную с внутренним диаметром ≥1.
RU2019118159A 2019-06-11 2019-06-11 Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда RU2721756C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019118159A RU2721756C1 (ru) 2019-06-11 2019-06-11 Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019118159A RU2721756C1 (ru) 2019-06-11 2019-06-11 Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2721756C1 true RU2721756C1 (ru) 2020-05-22

Family

ID=70803346

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019118159A RU2721756C1 (ru) 2019-06-11 2019-06-11 Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2721756C1 (ru)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2303322C1 (ru) * 2005-11-30 2007-07-20 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственный заказчик - Федеральное агентство по атомной энергии Устройство формирования объемного разряда
RU2417944C2 (ru) * 2009-07-31 2011-05-10 Общество с ограниченной ответственностью "Экструзионные машины" Способ получения нанокомпозитных металлополимерных материалов
EA019460B1 (ru) * 2008-07-16 2014-03-31 Агк Гласс Юроп Способ и установка для нанесения пленок на основу
RU2656333C1 (ru) * 2015-01-12 2018-06-05 Гуанчжоу Цин ГУ Медикал Технолоджи Ко., ЛТД Плазменный прибор со сменной разрядной трубкой
US10297423B2 (en) * 2011-09-08 2019-05-21 Toshiba Mitsubishi—Electric Industrial Systems Corporation Plasma generation apparatus, CVD apparatus, and plasma-treated particle generation apparatus

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2303322C1 (ru) * 2005-11-30 2007-07-20 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственный заказчик - Федеральное агентство по атомной энергии Устройство формирования объемного разряда
EA019460B1 (ru) * 2008-07-16 2014-03-31 Агк Гласс Юроп Способ и установка для нанесения пленок на основу
RU2417944C2 (ru) * 2009-07-31 2011-05-10 Общество с ограниченной ответственностью "Экструзионные машины" Способ получения нанокомпозитных металлополимерных материалов
US10297423B2 (en) * 2011-09-08 2019-05-21 Toshiba Mitsubishi—Electric Industrial Systems Corporation Plasma generation apparatus, CVD apparatus, and plasma-treated particle generation apparatus
RU2656333C1 (ru) * 2015-01-12 2018-06-05 Гуанчжоу Цин ГУ Медикал Технолоджи Ко., ЛТД Плазменный прибор со сменной разрядной трубкой

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ГАЛЬМИЗ О. и др., Применение поверхностного барьерного разряда с жидким электродом для обработки поверхности труб, Book of Contributed Papers: 20-th Symposium on Application of Plasma Processes, Tatranska Lomnica, Slovakia 17-22 January, 2015. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MX152412A (es) Mejoras en terminal para establecer una conexion electrica
KR20190101509A (ko) 무선 주파수 (rf) 접지 복귀 장치들
RU2721756C1 (ru) Способ получения охватывающего барьерного разряда и устройство для осуществления способа получения охватывающего барьерного разряда
KR20190073510A (ko) 플라스마 처리 장치
ATE521981T1 (de) Plasmareaktor mit schraubenförmigen elektroden
BR0010064B1 (pt) dispositivo para o tratamento de superfìcie de um recipiente com o auxìlio de um plasma à baixa pressão.
Gaisin et al. Low-Power Electric Discharges with Metallic, Dielectric, and Electrolytic Electrodes at Low Frequencies and Atmospheric Pressure
KR20090102616A (ko) 플라즈마 처리 장치, 플라즈마 처리 방법 및, 이 방법으로 처리된 피처리체
KR20030041217A (ko) Icp 발생 장치의 안테나 전극
CN107134608A (zh) 基于单层石墨烯对称结构电控太赫兹波开关
CN106222711B (zh) 微波等离子体炬仪器炬管的表面处理方法
Ghomi et al. Investigation on a DBD plasma reactor
CN106463393A (zh) 等离子体处理装置
JP4440371B2 (ja) プラズマ発生装置
RU2018116868A (ru) Электрохирургический кабель со слабым электромагнитным полем
JPH11502358A (ja) 物品の誘導加熱用電源とその加熱方法
Wojcik Heat transfer enhancement and surface thermostabilization for pool boiling on porous structures
Kayumov et al. Some features of a multichannel discharge between a jet of electrolyte and an electrolytic cell at atmospheric pressure
WO2003093526A3 (de) Verfahren und vorrichtung zur behandlung der äusseren oberfläche eines metalldrahts, insbesondere als beschichtungsvorbehandlung .
DE826325C (de) Elektrischer Widerstandstheizkoerper
Zhao et al. Effect of CF4 concentration on the discharge dynamics and reactive species distribution of atmospheric nanosecond pulsed He plasma jet
JP2019061869A (ja) プラズマ表面処理方法およびプラズマ表面処理装置
Loginov et al. Special features of a multichannel discharge in a porous solid cathode
CN207542555U (zh) 电晕预电离电极、激光振荡器和准分子激光装置
Zhoutao et al. Numerical study on an atmospheric pressure helium discharge propagating in a dielectric tube: influence of tube diameter