RU2637044C2 - Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова - Google Patents
Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова Download PDFInfo
- Publication number
- RU2637044C2 RU2637044C2 RU2016114802A RU2016114802A RU2637044C2 RU 2637044 C2 RU2637044 C2 RU 2637044C2 RU 2016114802 A RU2016114802 A RU 2016114802A RU 2016114802 A RU2016114802 A RU 2016114802A RU 2637044 C2 RU2637044 C2 RU 2637044C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- indium
- tin oxide
- coating
- substrate
- spraying
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
- C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
Изобретение относится к полупроводниковой технике, в частности к оптоэлектронике, а именно к электропроводящим оптически прозрачным покрытиям на основе оксида индия и олова. Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова на поверхности подложки включает напыление на подложку оксида индия и олова с обеспечением требуемого значения показателя преломления покрытия за счет выбора технологического параметра процесса напыления. Согласно изобретению напыление осуществляют при нормальной ориентации подложки относительно потока напыляемого вещества, процесс напыления оксида индия и олова на подложку включает последовательно осуществляемые операцию напыления оксида индия и олова методом электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при температуре от 400 до 500°С и операцию напыления оксида индия и олова методом магнетронного распыления при температуре от 15 до 75°С, при этом обеспечивают требуемое значение показателя преломления покрытия за счет выбора массы вещества, наносимого на каждой из указанных операций напыления. Техническим результатом, достигаемым при реализации изобретения, является получение покрытия оксида индия и олова с заданным значением показателя преломления при обеспечении его однородности по толщине.
Description
Изобретение относится к полупроводниковой технике, в частности к оптоэлектронике, а именно к электропроводящим оптически прозрачным покрытиям на основе оксида индия и олова.
Известен ряд методов получения покрытий на основе оксида индия и олова (ITO) с использованием метода электронно-лучевого испарения, магнетронного распыления или их комбинации.
Так, известен способ получения пленочного покрытия на основе оксида индия и олова [RU 2530487], которое применяется в качестве прозрачного контакта светодиода.
Данный способ включает формирование покрытия путем нанесения слоя оксида индия и олова толщиной 5-15 нм методом электронно-лучевого испарения на нагретую до высокой температуры подложку и последующее нанесение на указанный слой второго слоя оксида индия и олова толщиной, значительно большей, чем толщина первого слоя, методом магнетронного распыления.
В результате получают покрытие, обладающее хорошей электрической проводимостью и с высоким (около 2) показателем преломления, что позволяет использовать его в качестве контакта светодиода.
Однако данный способ не предусматривает возможность управления оптическими свойствами получаемого покрытия ITO.
В настоящее время актуальной является задача создания способов получения покрытий ITO с контролируемым значением показателя преломления, что позволяет управлять их оптическими свойствами.
Известен способ получения покрытия на основе оксида индия и олова [Martin F. Schubert и др. Applied Physics Letters. 90, 141115 (2007)], выбранный в качестве ближайшего аналога.
Данный способ включает операцию напыления на подложку оксида индия и олова методом электронно-лучевого испарения при наклонном падении напыляемого вещества на подложку. При наклонном напылении материала на подложку образующиеся на начальной стадии указанного процесса зародыши формируемой структуры покрытия затеняют собой часть поверхности подложки, что в дальнейшем предотвращает осаждение материала на затененные области и приводит к образованию на данных участках пор. В зависимости от угла напыления материала меняется пористость напыляемого слоя покрытия, и, следовательно, его показатель преломления.
Согласно рассматриваемому способу, варьируя в процессе напыления технологический параметр, которым является угол напыления, обеспечивают требуемое значение показателя преломления напыляемого слоя покрытия.
Данный способ позволяет получать покрытия ITO с заданным значением показателя преломления, однако при наклонном напылении вещества не обеспечивается однородность по толщине получаемого покрытия.
Задачей заявляемого изобретения является получение покрытия оксида индия и олова с заданным значением показателя преломления при обеспечении его однородности по толщине.
Сущность изобретения заключается в том, что в способе получения покрытия на основе оксида индия и олова на поверхности подложки, включающем напыление на подложку оксида индия и олова с получением покрытия с заданным значением показателя преломления, согласно изобретению напыление осуществляют при нормальной ориентации подложки относительно потока напыляемого вещества, причем напыление оксида индия и олова на подложку осуществляют путем электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при температуре от 400 до 500°С и последующего магнетронного распыления при температуре от 15 до 75°С, при этом требуемое значение показателя преломления покрытия обеспечивают количеством вещества, наносимого на каждой из указанных операций напыления.
Заявляемый способ основан на зависимости структуры и соответственно оптических свойств покрытия от технологических параметров напыления материала оксида индия и олова на подложку.
Первоначально осуществляют операцию напыления на подложку оксида индия и олова методом электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при нагреве подложки выше температуры кристаллизации ITO (400-500°С). Структура нанесенного слоя материала покрытия характеризуется наличием вытянутых (в случае электронно-лучевого испарения их можно назвать нитевидными) кристаллов и содержит большое количество пустот. Показатель преломления такого слоя имеет значение, меньшее, чем показатель преломления плотного слоя материала оксида индия и олова без пустот.
Далее осуществляют операцию напыления на полученный ранее слой материала покрытия оксида индия и олова методом магнетронного распыления мишени без нагрева подложки при температуре 15-75°С. При этом происходит уплотнение структуры материала за счет внедрения в имеющиеся в ней пустоты напыляемого материала, что обуславливает повышение коэффициента преломления полученного с помощью указанных операций покрытия.
Как показали исследования авторов, варьируя массу напыляемого оксида индия и олова при осуществлении каждой из описанных выше операций, можно добиться заданной величины показателя преломления покрытия в широком диапазоне значений.
Благодаря тому, что при осуществлении процесса напыления обеспечивают нормальную ориентацию подложки относительно потока напыляемого вещества, вещество равномерно распределяется по поверхности подложки, чем достигается однородность покрытия по толщине.
Таким образом, техническим результатом, достигаемым при реализации изобретения, является получение покрытия оксида индия и олова с заданным значением показателя преломления при обеспечении его однородности по толщине.
Способ осуществляют следующим образом.
Нанесение покрытия ITO на подложку осуществляют с использованием оборудования, позволяющего реализовать метод напыления оксида индия и олова на подложку, при котором обеспечивается нормальная ориентация напыляемого вещества относительно подложки.
Осуществляют операцию напыления материала оксида индия и олова на подложку методом электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при нагреве подложки до температуры 400-500°С. В процессе напыления контролируют массу напыляемого вещества и обеспечивают достижение требуемого значения массы. Контроль массы осуществляют, в частности, с помощью кварцевого датчика.
Осуществляют последующую операцию напыления материала оксида индия и олова методом магнетронного распыления без нагрева подложки при температуре 15-75°С. В процессе напыления также контролируют массу напыляемого вещества и обеспечивают достижение требуемого массового количества вещества, в частности, с помощью кварцевого датчика.
Требуемые значения массы материала оксида индия и олова, напыляемого при осуществлении каждой из описанных стадий процесса напыления, предварительно определяют экспериментально из условия достижения заданного значения показателя преломления получаемого покрытия.
Для обеспечения требуемых свойств полученного покрытия в отношении прозрачности осуществляют известные технологические операции, такие как промежуточный, последующий отжиг или напыление в среде кислорода.
При необходимости аналогичным образом можно осуществлять дальнейшее напыление слоев оксида индия и олова, чередуя указанные выше операции, напыления и обеспечивая достижение при проведении каждой из них требуемого массового количества напыляемого вещества.
Возможность реализации способа показана в примерах его выполнения.
Пример 1
Наносили тонкопленочное покрытие ITO на подложку, в качестве которой использовали покровное стекло толщиной 0, 17 мм. Площадь покровного стекла составляла 1 см2.
Напыление осуществляли на специализированной установке комбинированного электронно-лучевого и магнетронного напыления, производства фирмы Torr Int., США.
Рабочая камера установки откачивалась до давления 10-7 mbar, в камере был предусмотрен нагрев подложкодержателя, а также обеспечивался напуск газов (Ar, N2, O2).
Осуществляли операцию напыления материала ITO методом электронно-лучевого испарения при нагреве подложки до температуры 500°С. В процессе напыления контролировали массу напыляемого вещества и обеспечивали достижение требуемого значения массы.
Контроль массы ITO осуществляли с помощью кварцевого датчика.
Напыляли материал ITO, масса которого составляла 71 мкг.
Осуществляли последующую операцию напыления материала ITO методом магнетронного распыления без нагрева подложки при температуре 22°С. В процессе напыления также контролировали массу напыляемого вещества. Напыляли материал ITO, масса которого составляла 50 мкг.
Далее обеспечивали требуемые свойства покрытия в отношении прозрачности, для чего осуществляли отжиг в атмосфере, состоящей из смеси азота и кислорода, при 500°С в течение 10 мин.
Получили покрытие с показателем преломления 1,4.
Как показали исследования, осуществляемые с помощью сканирующей электронной микроскопии, полученное покрытие являлось однородным по толщине.
Пример 2
Осуществляли процесс напыления покрытия аналогично, как описано в примере 1.
При этом осуществляли операцию напыления материала ITO методом электронно-лучевого испарения при нагреве подложки до температуры 450°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 36 мкг.
Последующую операцию напыления методом магнетронного распыления осуществляли при температуре 20°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 121 мкг.
Далее обеспечивали требуемые свойства покрытия в отношении прозрачности, для чего осуществляли отжиг в атмосфере, состоящей из смеси азота и кислорода, при 500°С в течение 10 мин.
Получили покрытие с показателем преломления 1,7.
Как показали исследования, осуществляемые с помощью сканирующей электронной микроскопии, полученное покрытие являлось однородным по толщине.
Пример 3
Осуществляли процесс напыления покрытия аналогично, как описано в примере 1.
При этом осуществляли операцию напыления материала ITO методом магнетронного распыления при нагреве подложки до температуры 400°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 71 мкг.
Последующую операцию напыления методом магнетронного распыления осуществляли при температуре 60°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 50 мкг.
Далее обеспечивали требуемые свойства покрытия в отношении прозрачности, для чего осуществляли отжиг в атмосфере, состоящей из смеси азота и кислорода, при 500°С в течение 10 мин.
Получили покрытие с показателем преломления 1,3.
Как показали исследования, осуществляемые с помощью сканирующей электронной микроскопии, полученное покрытие являлось однородным по толщине.
Claims (1)
- Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова на поверхности подложки, включающий напыление на подложку оксида индия и олова с получением покрытия с заданным значением показателя преломления, отличающийся тем, что напыление осуществляют при нормальной ориентации подложки относительно потока напыляемого вещества, причем напыление оксида индия и олова на подложку осуществляют путем электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при температуре от 400 до 500°С и последующего магнетронного распыления при температуре от 15 до 75°С, при этом требуемое значение показателя преломления покрытия обеспечивают количеством вещества, наносимого на каждой из указанных операций напыления.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2016114802A RU2637044C2 (ru) | 2016-04-15 | 2016-04-15 | Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2016114802A RU2637044C2 (ru) | 2016-04-15 | 2016-04-15 | Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2016114802A RU2016114802A (ru) | 2017-10-19 |
| RU2637044C2 true RU2637044C2 (ru) | 2017-11-29 |
Family
ID=60120470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2016114802A RU2637044C2 (ru) | 2016-04-15 | 2016-04-15 | Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2637044C2 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2800664C1 (ru) * | 2022-12-22 | 2023-07-25 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") | Применение покрытия оксида индия и олова (ITO) в качестве прозрачного гидрофобного покрытия |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5541959A (en) * | 1978-09-18 | 1980-03-25 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | Production of indium oxide transparent conductive film through sputtering |
| SU1499573A1 (ru) * | 1987-09-08 | 1992-03-07 | Предприятие П/Я А-7873 | Способ получени прозрачных провод щих пленок на основе оксидов инди и олова |
| JPH05345973A (ja) * | 1992-06-12 | 1993-12-27 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 透明導電膜の製造方法 |
| JPH10140332A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-26 | Anelva Corp | 非晶質ｉｔｏ膜の作製方法 |
| RU2112076C1 (ru) * | 1997-05-22 | 1998-05-27 | Товарищество с ограниченной ответственностью "ТИКО" | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия |
| EA011247B1 (ru) * | 2003-06-27 | 2009-02-27 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Подложка, покрытая слоем диэлектрика, и способ и устройство для её изготовления |
| RU2564650C1 (ru) * | 2014-07-22 | 2015-10-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Способ нанесения электропроводящего покрытия для электрообогреваемого элемента органического остекления |
-
2016
- 2016-04-15 RU RU2016114802A patent/RU2637044C2/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5541959A (en) * | 1978-09-18 | 1980-03-25 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | Production of indium oxide transparent conductive film through sputtering |
| SU1499573A1 (ru) * | 1987-09-08 | 1992-03-07 | Предприятие П/Я А-7873 | Способ получени прозрачных провод щих пленок на основе оксидов инди и олова |
| JPH05345973A (ja) * | 1992-06-12 | 1993-12-27 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 透明導電膜の製造方法 |
| JPH10140332A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-26 | Anelva Corp | 非晶質ｉｔｏ膜の作製方法 |
| RU2112076C1 (ru) * | 1997-05-22 | 1998-05-27 | Товарищество с ограниченной ответственностью "ТИКО" | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия |
| EA011247B1 (ru) * | 2003-06-27 | 2009-02-27 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Подложка, покрытая слоем диэлектрика, и способ и устройство для её изготовления |
| RU2564650C1 (ru) * | 2014-07-22 | 2015-10-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Способ нанесения электропроводящего покрытия для электрообогреваемого элемента органического остекления |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2800664C1 (ru) * | 2022-12-22 | 2023-07-25 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") | Применение покрытия оксида индия и олова (ITO) в качестве прозрачного гидрофобного покрытия |
| RU2808498C1 (ru) * | 2023-02-09 | 2023-11-28 | Акционерное общество "Северный пресс" (АО "Северный пресс") | Способ получения тонкопленочного покрытия на основе оксида индия и олова |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2016114802A (ru) | 2017-10-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Duta et al. | Sol–gel versus sputtering indium tin oxide films as transparent conducting oxide materials | |
| JP2004511655A (ja) | マグネトロンネガティブイオンスパッタ源を用いるインジウムスズ酸化物薄膜の作製方法 | |
| CN1891848A (zh) | 光学镀膜装置 | |
| KR101524271B1 (ko) | 복수 개의 박막으로 이루어진 지문 방지층의 조성물과 그 제조 방법. | |
| KR20160098165A (ko) | 구배 박막 필름 | |
| KR20120079716A (ko) | 내지문 코팅 방법 및 장치 | |
| Zhong et al. | Optical and electrical properties of indium tin oxide thin films with tilted and spiral microstructures prepared by oblique angle deposition | |
| Bah et al. | Fabrication of TaOxNy thin films by reactive ion beam-assisted ac double magnetron sputtering for optical applications | |
| FR2542278A1 (fr) | Perfectionnements apportes aux revetements aptes a resister a des contraintes thermiques elevees et notamment aux revetements pour satellites et vaisseaux spatiaux et aux procedes de production de ces revetements | |
| RU2637044C2 (ru) | Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова | |
| CN108796452B (zh) | 一种二氧化钒薄膜及其制备方法和应用 | |
| Hong et al. | Preparation of SiO2 passivation thin film for improved the organic light-emitting device life time | |
| US9909208B2 (en) | Method for developing a coating having a high light transmission and/or a low light reflection | |
| US20050281985A1 (en) | Isotropic glass-like conformal coatings and methods for applying same to non-planar substrate surfaces at microscopic levels | |
| JP2022145334A (ja) | イオンアシスト蒸着法およびプラズマプロセス装置用構造体 | |
| Volpian et al. | Nanogradient optical coatings | |
| Marinov et al. | Optical properties of ZnO thin films deposited by the method of electrospray | |
| US20140268348A1 (en) | Anti-Reflective Coatings with Porosity Gradient and Methods for Forming the Same | |
| CN101713062B (zh) | 遮光元件及其镀膜方法 | |
| KR20070048723A (ko) | 광촉매성 산화티타늄 층의 데포지션 방법 | |
| KR101907143B1 (ko) | 성능이 우수한 반사방지막의 제조방법 및 그에 의하여 제조된 반사방지막 | |
| MacKay et al. | Laser damage threshold results for sputtered coatings produced using different deposition technologies | |
| TWI417410B (zh) | 導電薄膜製作方法 | |
| KR20080006812A (ko) | Ｉｔｏ 이중막 증착방법 및 이에 따라 제조된 ｉｔｏ이중막 | |
| Radhakrishna | Transparent Conducting Pure and Tin Doped Indium Oxide Films-Preparation and Characterization |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20180416 |