RU2480861C1 - Способ определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения - Google Patents

Способ определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения Download PDF

Info

Publication number
RU2480861C1
RU2480861C1 RU2011136315/28A RU2011136315A RU2480861C1 RU 2480861 C1 RU2480861 C1 RU 2480861C1 RU 2011136315/28 A RU2011136315/28 A RU 2011136315/28A RU 2011136315 A RU2011136315 A RU 2011136315A RU 2480861 C1 RU2480861 C1 RU 2480861C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
source
radiation
ray
structures
mis
Prior art date
Application number
RU2011136315/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2011136315A (ru
Inventor
Александр Николаевич Качемцев
Владимир Константинович Киселев
Владимир Дмитриевич Скупов
Сергей Леонидович Торохов
Original Assignee
Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова" filed Critical Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова"
Priority to RU2011136315/28A priority Critical patent/RU2480861C1/ru
Publication of RU2011136315A publication Critical patent/RU2011136315A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2480861C1 publication Critical patent/RU2480861C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Measurement Of Radiation (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области измерительной техники. Технический результат - получение в реальном масштабе времени величины коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения, что позволяет по известной зависимости для транзисторов оценить радиационное изменение амплитудных и временных параметров. В способе определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения в состав каждой БИС вводят встроенные дозиметры сопровождения в виде независимых тестовых n- и p-канальных транзисторных структур МДП, включенных в режиме конденсатора, эти структуры независимо облучают в составе разных БИС импульсным излучением рентгеновского источника или излучением гамма-квантов нуклидного источника Co60, электрофизические параметры структур МДП до и в процессе облучения определяют с использованием способа кулонометрического измерения и по изменению импульсного падения напряжения на измерительном резисторе RH, включенном последовательно между телом структуры МДП, сформированной по единой базовой технологии, что и для основной БИС, и его приращения при воздействии ионизирующих излучений различной природы получают значение RDEF результата воздействия на БИС технологии КМОП/КНД излучения импульсного рентгеновского источника по сравнению с гамма-излучением эталонного нуклидного источника Co60 с использованием определенного соотношения. 3 з.п. ф-лы, 8 ил., 3 табл.

Description

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к оценке уровня стойкости больших интегральных схем (БИС) на основе структур «металл - диэлектрик - полупроводник» (МДП) к воздействию дозовых эффектов от импульсного ионизирующего излучения при реализации варьирующихся технологических процессов.
В современной электронике широкое распространение получили комплементарные, т.е. взаимодополняющие структуры «металл - оксид - полупроводник» (КМОП), сформированные в тонком приборном слое кремния на сапфировой подложке (КМОП/КНИ) или в гетероэпитаксиальных структурах со скрытым слоем изолятора из диоксида кремния (КМОП/КНИ). Такие структуры имеют общее название «кремний-на-диэлектрике» (КНД).
При проведении импульсных радиационных исследований интегральных схем, изготовленных по технологии КНД, актуальной задачей является контроль уровня стойкости к дозовым эффектам (эффектам интегральной дозы - Total Integrated Dose, TID), вызванным генерацией радиационно-индуцированных зарядов Qot в подзатворный диэлектрик и на уровни дефектов структуры на границе раздела «полупроводник - диэлектрик» - Qit.
Для измерения полной (интегральной) поглощенной дозы в гетероструктуре БИС, TID обычно используют внешние термолюминесцентные дозиметры (ТЛД) сопровождения, представляющие собой стеклянные цилиндры, прозрачные для света, переменных размеров с примесью либо флюорида лития (LiF), либо флюорида кальция (CaF2) /1/. Они могут быть смешаны с другими веществами или войти в состав специализированной изотопной смеси для особых целей, таких как нейтронная дозиметрия. ТЛД - наиболее часто используемый вид малогабаритных дозиметров. Их действие основано на том, что когда какие-либо вещества поглощают энергию ионизирующего излучения, они ее накапливают, так что впоследствии при нагревании веществ она может быть высвобождена в виде светового излучения. В большой степени интенсивность светового излучения прямо пропорциональна поглощенной энергии ИИ и таким образом поглощенной дозе в веществе. Эта пропорция справедлива для широкого диапазона энергии ионизирующего излучения и показателей поглощенных доз. Так как основной материал матрицы ТЛД - Al2O3 отличается по плотности от основных материалов БИС - Si или SiO2, то возникает задача пересчета измеренной TID на условия поглощения в Si или SiO2 /2-3/. Другим недостатком является несоизмеримость толщины ТЛД порядка 0,5…1 мм с толщиной приборного слоя гетероструктуры БИС порядка 0,18…0,6 мкм или оксида подзатворного узла, что вызывает необходимость учета реального спектрально-энергетического распределения (СЭР) источника ионизирующего излучения (ИИ) /4/. Особенно это актуально при использовании в качестве источника ИИ импульсных рентгеновских аппаратов с максимальной энергией квантов рентгеновского излучения в спектре до 100 кэВ /5-6/. Известно, что при применении ТЛД с толщиной до 1 мм возможна погрешность оценки величины TID до 40%, а при пересчете на условия облучения на эталонном нуклидном источнике Co60 со средней энергией гамма-квантов Еγ=1,25 МэВ такая погрешность может достигать величины 20% /4/. Коэффициент относительной эффективности (КОЭ) (Relative Dose Enhancement Factor (RDEF)) воздействия гамма-рентгеновского излучения определяется как отношение TID источников ИИ с различным СЭР, вызывающих одинаковые изменения радиационно-критических параметров (РКП) в виде:
Figure 00000001
где Dγ(Co60) - TID от излучения эталонного нуклидного источника Со60; DX-Ray - TID от излучения рентгеновского источника ИИ при постоянстве мощности дозы обоих источников Pγ(Co60)≈PX-Ray = Const и радиационного изменения РКП - ΔРКП=Const.
Для уменьшения значения RDEF целесообразно выполнить интегрированный в чип БИС дозиметр ИИ, на базе транзисторной структуры МОП в едином технологическом цикле с остальными транзисторными структурами БИС технологии КМОП/КНД (далее - МДП) /8, 10/. Это позволит скоррелировать результаты измерения TID или мощности дозы Pγ, X-Ray при мониторинге импульса ИИ по результатам контроля амплитудно-временного распределения импульса ИИ /3, 5, 6/.
Известен способ определения эквивалентной TID источника рентгеновского излучения с использованием результатов предварительного облучения на нуклидном источнике Со60 /6/ и контроля сдвига порогового напряжения ΔVTH на выходной характеристике зависимости тока стока от напряжения «затвор - исток» ID=f(VGS) (Фиг.1-Фиг.3).
Недостатком указанного способа является высокая стоимость подобных испытаний и продолжительность во времени проведения подобных экспериментов, а также отсутствие однозначно определенных RDEF воздействия излучения X-Ray относительно γ-излучения Со60 и зависимости от результата оценки значения RDEF от электрического режима структуры МОП в процессе облучения и в результате измерения /3/.
Наиболее близким по технической сущности и принятым за прототип является экспериментально разработанный способ прогнозирования интенсивности параметрических отказов БИС в нолях рентгеновского и гамма-излучений по критерию радиационного дрейфа порогового напряжения ΔVTH на зависимости тока стока ID n- и p-канальных транзисторных структур от напряжения «затвор - исток» VGS /8/. Существенным недостатком этого способа является необходимость получения большого объема экспериментальных данных для получения соответствия результатов облучения на моделирующих установках ИИ и эталонном источнике Co60, что во многом ограничивает получение информации в реальном масштабе времени о возможности реализации параметрического отказа по выбранному критерию - току стока ID. Коэффициент RDEF в этом способе определяют с использованием соотношения:
Figure 00000002
где Kg - постоянная генерации носителей заряда, [Кл см-3·рад(Si)-1]; fy - предельная доля нерекомбинированного радиационно-индуцированного заряда; Bde - фактор дозового накопления; D- доза ИИ, [рад(SiO2)]; индексы «Co-60» и «Х-Ray» относятся к нуклидному источнику и рентгеновскому излучению, соответственно.
Техническим результатом предлагаемого способа является получение в реальном масштабе времени величины коэффициента относительной эффективности RDEF и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения (полной интегральной дозы, TID), что позволяет по известной зависимости VTH=f(TID) для транзисторов n-МДП и p-МДП оценить радиационное изменение амплитудных и временных РКП для БИС.
Технический результат достигается тем, что в способе определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения, включающем введение в состав каждой БИС встроенных дозиметров сопровождения в виде независимых тестовых n- и p-канальных транзисторных структур МДП, включенных в режиме конденсатора, независимое облучение таких структур в составе разных БИС импульсным излучением рентгеновского источника или излучением гамма-квантов нуклидного источника Со60, измерения электрофизических параметров до и в процессе облучения, электрофизические параметры структур МДП определяют с использованием способа кулонометрического измерения путем подачи на затвор этих структур импульса напряжения прямоугольной формы положительной полярности длительностью τP и величиной UP и контроля падения напряжения на измерительном резисторе RH, включенном последовательно между телом структуры МДП, сформированной по единой базовой технологии, что и для основной БИС, сравнения результатов измерения падения напряжения на измерительном резисторе и его приращения при воздействии ионизирующих излучений различной природы, а коэффициент относительной эффективности RDEF результата воздействия на БИС технологии КМОП/КНД излучения импульсного рентгеновского источника по сравнению с гамма-излучением эталонного нуклидного источника Со60 получают из измерений падения напряжения на резисторе нагрузки RH и его приращения в результате воздействия ИИ с использованием соотношения ((ПА.21 Приложение «А»):
Figure 00000003
где
Figure 00000004
- падение напряжения на измерительном резисторе на участке формирования резистивных утечек подзатворного диэлектрика Ф4 процесса кулонометрического измерения электрофизических параметров при облучении структур МДП импульсным рентгеновским излучением источника X-Ray;
Figure 00000005
- падение напряжения на измерительном резисторе на участке Ф4 при облучении структур МДП гамма-квантами источника Со60; UD - падение напряжения на измерительном резисторе в отсутствие воздействия ионизирующего излучения;
Figure 00000006
- приращение падения напряжения на измерительном резисторе в условиях облучения гамма- квантами источника Со60;
Figure 00000007
- приращение падения напряжения на измерительном резисторе в условиях облучения рентгеновским излучением источника X-Ray;
Figure 00000008
- приращение падения напряжения на измерительном резисторе на участке Ф4 в условиях отсутствия облучения, а эквивалентную дозу
Figure 00000009
импульсного рентгеновского излучения определяют в единицах, эквивалентных спектру нуклидного источника, с использованием значения RDEF, полученного для конкретной величины поглощенной дозы нуклидного источника Со60, из соотношения:
Figure 00000010
где
Figure 00000011
- мощность дозы нуклидного источника Со60;
Figure 00000012
- длительность воздействия излучения нуклидного источника Со60.
Для исключения эффекта «супервосстановления» порогового напряжения транзисторов n-МДП и p-МДП мощность дозы источника импульсного рентгеновского излучения и источника гамма-квантов Со60 выбирают из условия PX-Ray,Co-60≥103рад(SiO2)·c-1.
Для получения результатов измерений в реальном масштабе времени подачу импульсного напряжения прямоугольной формы положительной полярности длительностью τP и величиной UP и контроль падения напряжения на измерительном резисторе RH синхронизируют по времени по переднему фронту или заднему фронту рентгеновского импульса, а при облучении гамма-квантами источника Со60 динамику накопления дозы и изменения величины RDEF осуществляют путем подачи импульса напряжения UP на тестовые структуры встроенных дозиметров с периодичностью, определяемой соотношением между предельной возможной частой генерации электрического импульса напряжения UP и временем экспозиции тестовых структур МДП нуклидного источника Со60 для набора требуемого верхнего допустимого уровня полной поглощенной дозы ИИ.
С целью создания условий равенства радиационно-индуцированных зарядов в структурах МДП время воздействия излучения
Figure 00000013
нуклидного источника Со60 выбирают в соответствии с соотношением ((ПА.24) Приложение «А»):
Figure 00000014
где
Figure 00000015
- поглощенная доза от источника импульсного рентгеновскою излучения в единицах энергии квантов Eγ=1,25 МэВ.
На Фиг.1 показан радиационный сдвиг интерфейсной компоненты ΔVit и объемной компоненты ΔVot порогового напряжения на выходных вольтамперных характеристиках IDD=f(VGS) транзисторов структуры p-МОП и n-МОП.
На Фиг.2 показан радиационный сдвиг порогового напряжения ΔVTH и его объемной ΔVot и интерфейсной ΔVit составляющих в относительных единицах от величины полной интегральной дозы в относительных единицах а) для транзистора n-МОП и б) для транзистора p-МОП.
На Фиг.3 показаны зоны доминирующего влияния на сдвиг порогового напряжения ΔVTH объемных и интерфейсных радиационно-индуцированных зарядов в структуре n-МОП и зона их суперпозиции в структуре p-МОП.
На Фиг.4 показано изменение радиационного сдвига порогового напряжения ΔVTH по отношению к значению, полученному для условий облучения на нуклидном источнике Со60, в зависимости от энергии быстрых электронов и протонов. Толщина подзатворного диэлектрика приведена в качестве параметра (10 и 35 нм). Отрезками прямых линий показан диапазон изменения соответствующих расчетных значений с использованим метода Моте-Карло.
Фиг.5 приведена схема для кулонометрического измерения ЭФП тестовых конденсаторов структуры МДП:
Figure 00000016
- генератор прямоугольных импульсов напряжения;
R1=ρ - согласующее волновое сопротивление;
МДП - тестовая структура конденсатора МДП;
RH - измерительный резистор;
Figure 00000017
TDS - осциллографический регистратор релаксационного процесса.
На Фиг.6 показаны зависимости:
(a) - UR((t) - напряжение на измерительном резисторе от времени: выделенные участки: Ф1 - (АФ1, τФ1) - интегрирование переднего фронта импульса; Ф2 - (АФ2, τФ2) - отсечки буферного слоя или формирования нелинейного конденсатора (варикапа); Ф3 - (АФ3, τФ3) - формирование инверсного слоя; Ф4 - (АФ4, τФ4) - участок формирования резистивных утечек подзатворного диэлектрика; участки С1 - (AC1, τС1) или Ф5, С2 - (АС2, τС2) или Ф6 - фазы релаксации тестового конденсатора МДП от заднего фронта зондирующего импульса;
(б) - UP(t) - напряжение генератора прямоугольных импульсов от времени: зондирующий прямоугольный импульс генератора при дифференциальной схеме включения тестовой структуры.
На Фиг.7 показана зависимость изменения величины падения напряжения UR(t) на измерительном резисторе RH на участке Ф4 структуры МДП при возбуждении прямоугольным импульсом напряжения амплитудой Up=6 B с длительностью τp=10 мс до («Без облучения») и в процессе ионизации («Экспозиция ИИ»).
На Фиг.8 показаны эпюры изменения во времени и от TID величин: 1) мощности дозы импульсного рентгеновского излучения PX-Ray(t) во времени; 2) TID источника рентгеновского излучения во времени; 3) мощности дозы нуклидного источника PCo-60(t) во времени; 4) TID нуклидного источника Co60 во времени; 5) сдвига порогового напряжения ΔVTH в структуре n-МДП от TID в SiO2; 6) сдвига порогового напряжения ΔVTH в структуре p-МДП от TID в SiO2; 7) циклическое изменение во времени импульсов тестового генератора прямоугольных импульсов в облучательном эксперименте с нуклидным источником Со60; 8) RDEF для структур n-МДП от TID в SiO2 и 9) RDEF для структур p-МДП от TID в SiO2.
Предлагаемый способ реализуется следующим образом.
Известно, что дрейф порогового напряжения ΔVTH определяется соотношением величин радиационно-индуцированных зарядов в подзатворном диэлектрике Qot и на границе раздела, или интерфейсе «полупроводник - диэлектрик» структуры КНД Qit /13/ (Фиг.1-Фиг.3), а толщина слоя подзатворного диэлектрика влияет на результаты измерения ΔVTH в зависимости от СЭР источника (Фиг.4).
В способе определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения в состав каждой БИС вводят встроенные дозиметры сопровождения в виде независимых тестовых n- и p-канальных транзисторных структур МДП, включенных в режиме конденсатора.
Затем производят независимое облучение таких структур в составе ограниченной выборки разных БИС импульсным излучением рентгеновского источника или излучением гамма-квантов нуклидного источника Со60.
Выполняют измерения до и в процессе облучения с использованием способа кулонометрического измерения электрофизических параметров структур МДП путем подачи на затвор этих структур импульса напряжения прямоугольной формы положительной полярности длительностью τP и величиной UP и контроля падения напряжения на измерительном резисторе RH, включенном последовательно между телом структур МДП, сформированным по единой базовой технологии, что и для основной БИС (Фиг.5).
Амплитуду импульса генератора в способе кулонометрического измерения ЭФП на Фиг.5 выбирают из условий формирования на зависимости падения напряжения UR на измерительном резисторе во времени пяти характерных участков с амплитудой Ai и временем завершения формирования τi, включающих участок Ф1 интегрирования переднего фронта импульса, участок Ф2 отсечки буферного слоя или формирования нелинейного конденсатора (варикапа), участок Ф3 формирования инверсного слоя, участок Ф4 формирования резистивных утечек подзатворного диэлектрика, участок С1 фазы релаксации структуры МДП от заднего фронта зондирующего импульса, формируемый выходными характеристиками генератора импульсов, участок С2, формируемый величиной сопротивления измерительного резистора RH (Фиг.6), измеряют при фиксированной амплитуде напряжения UP зондирующего импульса величину падения напряжения UR на измерительном резисторе RH.
С целью повышения достоверности результата измерений с использованием способа кулонометрического измерения приращения падения напряжения на измерительном резисторе RH до и в процессе облучения проводят на участке Ф4 формирования резистивных утечек подзатворного диэлектрика (Фиг.6).
Производят сравнение результатов измерения падения напряжения и его приращения при воздействии ионизирующих излучений различной природы (Фиг.7).
При этом коэффициент относительной эффективности RDEF результата воздействия на БИС технологии КМОП/КНД излучения импульсного рентгеновского источника по сравнению с гамма-излучением эталонного нуклидного источника Со60 получают путем измерения падения напряжения на резисторе нагрузки RH и его приращения в результате воздействия ИИ с использованием соотношения (3).
Эквивалентную дозу
Figure 00000018
импульсного рентгеновского излучения определяют в единицах, эквивалентных спектру нуклидного источника, с использованием значения RDEF, полученного для конкретной величины поглощенной дозы нуклидного источника Со60, из соотношения (7).
Для исключения эффекта «супервосстановления» порогового напряжения транзисторов n-МДП и p-МДП мощность дозы источника импульсного рентгеновского излучения и источника гамма-квантов Со60 выбирают из условия
Figure 00000019
.
Для получения результатов измерений в реальном масштабе времени подачу импульса напряжения прямоугольной формы положительной полярности длительностью τP и величиной UP и контроль падения напряжения на измерительном резисторе RH синхронизируют по времени по переднему фронту или заднему фронту рентгеновского импульса.
При облучении гамма-квантами источника Со60 динамику накопления дозы и изменения величины RDEF осуществляют путем подачи импульса напряжения UP на тестовые структуры встроенных дозиметров с периодичностью, определяемой соотношением между предельной возможной частотой генерации электрического импульса напряжения UP и временем экспозиции тестовых структур МДП нуклидного источника Со60 для набора требуемого верхнего допустимого уровня полной поглощенной дозы ИИ (Фиг.8-7)).
С целью создания условий равенства радиационно-индуцированных зарядов в структурах МДП, т.е. условия RDEF=1, время воздействия излучения
Figure 00000020
нуклидного источника Со60 выбирают в соответствии с соотношением (8).
Пример реализации способа
С использованием импульсного способа кулонометрического измерения ЭФП измерялись для встроенного в чип основной БИС n-МДП дозиметра длиной LC=100 мкм, шириной WC=100 мкм следующие значения падения напряжения на измерительном резисторе RH в режимах: отсутствия воздействия ИИ, UD; при воздействии импульса рентгеновского излучения,
Figure 00000021
; при воздействии гамма-излучения нуклидного источника Со60,
Figure 00000022
и их изменения:
Figure 00000023
из (4);
Figure 00000024
из (5); ΔUD из (6) при амплитуде импульса генератора прямоугольных импульсов UP=6 B и длительности электрического импульса τ=10 мс, что позволяет определить ток в RH и величину заряда
Figure 00000025
Выборка чипов с тестовыми структурами составляла 10 ед. Результаты измерения этих изменений в отсутствие облучения и для условий облучения на источнике импульсного X-Ray и нуклидном источнике Со60 приведены в табл.1 для структуры n-МДП. Величина экспозиционной мощности дозы
Figure 00000026
составляла ~1010 Р·с-1 и длительность импульса ИИ
Figure 00000027
для рентгеновского источника и
Figure 00000028
для нуклидного источника Со60.
Таблица 1
Условия измерения Величина
Figure 00000029
в зависимости от условий измерения, мВ
ΔUD
Figure 00000030
Figure 00000031
До облучения 7"+"/6,9"-"
Облучение на источнике Х-Ray 43,08"+"/43,04"-"
Облучение на источнике Со60 40,06"+"/40,0"-"
Примечание: - Значки «+» и «-» в табл.1 означают соответствие верхней допустимой и нижней допустимой границ, измеренных в выборке величин.
Результаты расчетов компонентов соотношения (3) приведены в табл.2 и в табл.3. Оценка верхней («+») и нижней («-») границ изменения RDEF с учетом этих данных составила RDEF=12,8"+"/16,22"-" для условий проведения эксперимента.
С использованием соотношения (ПА.19) Приложения «А» вычисляют для структуры n-МДП эквивалентную мощность дозы
Figure 00000032
импульсного рентгеновского излучения в единицах, эквивалентных спектру нуклидного источника. При облучении на источнике X-Ray величина эквивалентной мощности дозы
Figure 00000033
, соответствующая облучению на нуклидном источнике Co60 с длительностью экспозиции
Figure 00000034
равна:
Figure 00000035
что превышает технические возможности имевшегося импульсного источника рентгеновского излучения
Figure 00000036
. Расчет времени воздействия излучения
Figure 00000037
нуклидного источника Со60 в условиях равенства радиационно-индуцированных зарядов в структурах МДП, выполненный с использованием соотношения (8), дает значения:
Figure 00000038
,
что затрудняет точность реализации условий эксперимента на нуклидном источнике Со60. Исходя из анализа соотношения (8) для приемлемых условий управления источником
Figure 00000039
достаточная величина TID в единицах
Figure 00000040
должна составлять значение
Figure 00000041
.
Figure 00000042
Figure 00000043
Таким образом, реализуются сформулированные цели и иллюстрируется возможность реализации заявленного способа.
Преимущества заявленного способа по сравнению с прототипом состоят в следующем:
В заявленном способе, во-первых, все измерения проводятся в течение времени одного тестирующего импульса напряжения длительностью не более 10 мс; во-вторых, реализуется синхронизация процесса формирования режима инверсии в структурах МДП на фоне воздействия ИИ; в-третьих, учитываются СЭР источников рентгеновского и гамма-излучений путем оценки мощности дозы источника рентгеновского излучения в единицах эквивалентной энергии источника Со60; в-четвертых, процесс вычисления количественных значений RDEF проводится с использованием прикладного программного обеспечения; в-пятых, условия радиационного эксперимента корректируются путем вариации амплитудных и временных характеристик ИИ для достижения условий эквивалентности радиационного эффекта при воздействии ИИ рентгеновского источника и эталонного Со60; в-шестых, прямые экспериментальные данные, полученные при реализации предлагаемого способа, позволяют утверждать о его практических возможностях.
Таким образом, использование предлагаемого способа позволяет достаточно просто и точно в режиме реального масштаба времени определить динамику изменения RDEF и получить оценку мощности дозы
Figure 00000044
или
Figure 00000045
источника рентгеновского излучения в единицах эквивалентной энергии источника Со60, что дает возможность планирования радиационного эксперимента со структурами КМОП/КНД.
Figure 00000046
ПРИЛОЖЕНИЕ «А»: ОПРЕДЕЛЕНИЕ КОЭФФИЦИЕНТА ОТНОСИТЕЛЬНОЙ ЭФФЕКТИВНОСТИ И ЭКВИВАЛЕНТНОЙ ДОЗЫ ИСТОЧНИКА РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ
Обозначения:
D - Dark «темновой», т.е. без облучения ИИ;
X-Ray - экспозиция рентгеновскими квантами;
Со-60 - экспозиция квантами нуклидного источника Со60;
REFF - Factor Relatively Efficiency (коэффициент относительной эффективности - КОЭ);
Ph - Photocurrent - фототок;
UPh - падение напряжения на измерительном резисторе RH на участке Ф4 при облучении структур МДП импульсным рентгеновским излучением источника X-Ray или квазиимпульсным излучением источника Со60;
Figure 00000047
- падение напряжения на измерительном резисторе RH на участке Ф4 при облучении структур МДП импульсным рентгеновским излучением источника X-Ray;
Figure 00000048
- падение напряжения на измерительном резисторе RH на участке Ф4 при облучении структур МДП квазиимпульсным излучением нуклидного источника Со60;
UD - падение напряжения на измерительном резисторе RH на участке Ф4 в отсутствии облучения источниками ИИ («темновое» напряжение);
H - нагрузка;
Ф3 - фаза формирования инверсного слоя (Фиг.6);
Ф4 - фаза формирования резистивных утечек подзатворного диэлектрика (Фиг.6).
Сопротивление поперечной утечки в подзатворном оксиде
Figure 00000049
«Темновое» напряжение UD (ток ID).
Напряжение при фотоионизации UPh (ток фотоионизации IPh).
IPh>ID; Uph>UD на участке Ф4 формирования тока резистивной утечки подзатворного оксида.
Длительность процесса τ=(τф3ф4) при импульсном кулонометрическом измерении на участке Ф4 (Фиг.6).
Напряжение импульса возбуждения UP=const.
Сопротивление утечки в режиме без воздействия ИИ
Figure 00000050
Сопротивление утечки при экспозиции ИИ
Figure 00000051
Заряд в пределах развития фазы Ф4 (Фиг.6)
Figure 00000052
«Темновой» ток
Figure 00000053
Фототок утечки при экспозиции ИИ
Figure 00000054
Приращение заряда при экспозиции ИИ из (ПА.6) и (ПА.5)
Figure 00000055
С другой стороны радиационно-индуцированный заряд гамма-излучением источника Со60 равен
Figure 00000056
где q - элементарный заряд, [Кл];
Figure 00000057
- постоянная генерации носителей заряда обоего знака (ehp-электронно-дырочные пары) под действием ИИ, [[eph·рад-1(SiO2)];
Figure 00000058
- мощность дозы ИИ источника Со60, [рад(SiO2)·c-1]
Figure 00000059
- длительность импульса ИИ источника Со60, [с] Приравнивая (ПА.7) и (ПА.8) с подстановкой (ПА.5) и (ПА.6) в (ПА.7), получают
Figure 00000060
Постоянная генерации носителей заряда при экспозиции квантами источника Со60 из (ПА.9)
Figure 00000061
Радиационно-индуцированный заряд рентгеновскими квантами источника импульсного рентгеновского излучения (X-Ray) равен аналогично (ПА.9)
Figure 00000062
Аналогично (ПА.11) постоянная генерации носителей заряда при экспозиции квантами источника рентгеновского излучения
Figure 00000063
Мощность дозы источника рентгеновского излучения в единицах, эквивалентных спектру нуклидного источника Со60 (средняя энергия квантов
Figure 00000064
), с учетом допущения об эквивалентности зарядов
Figure 00000065
при облучении структуры МДП ИИ соответствующих источников, равна
Figure 00000066
откуда с учетом (ПА.11) и (ПА.12)
Figure 00000067
Обозначим:
Figure 00000068
Figure 00000069
Figure 00000070
Тогда мощность эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения равна
Figure 00000071
а величина коэффициента относительной эффективности RDEF равна
Figure 00000072
Figure 00000073
Так как произведение мощности дозы на длительность импульса ИИ при его аппроксимации прямоугольным импульсом равно TID,
Figure 00000074
можно представить в виде
Figure 00000075
При достижении равенства радиационно-индуцированных зарядов в условиях облучения на рентгеновском и нуклидном источниках (Фиг.8) (ПА.19) можно представить в виде
Figure 00000076
откуда определяют время достижения эквивалентности радиационно-индуцированных зарядов
Figure 00000077

Claims (4)

1. Способ определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения, включающий введение в состав каждой БИС встроенных дозиметров сопровождения в виде независимых тестовых n- и p-канальных транзисторных структур МДП, включенных в режиме конденсатора, независимое облучение таких структур в составе разных БИС импульсным излучением рентгеновского источника или излучением гамма-квантов нуклидного источника Co60, измерения электрофизических параметров до и в процессе облучения, отличающийся тем, что электрофизические параметры структур МДП определяют с использованием способа кулонометрического измерения путем подачи на затвор этих структур импульса напряжения прямоугольной формы положительной полярности длительностью τP и величиной UP и контроля падения напряжения на измерительном резисторе RH, включенном последовательно между телом структуры МДП, сформированной по единой базовой технологии, что и для основной БИС, сравнения результатов измерения падения напряжения на измерительном резисторе и его приращения при воздействии ионизирующих излучений различной природы, а коэффициент относительной эффективности RDEF результата воздействия на БИС технологии КМОП/КНД излучения импульсного рентгеновского источника по сравнению с гамма-излучением эталонного нуклидного источника Co60 получают из измерений падения напряжения на резисторе нагрузки RH и его приращения в результате воздействия ИИ с использованием соотношения
Figure 00000078

где
Figure 00000079
- падение напряжения на измерительном резисторе на участке формирования резистивных утечек подзатворного диэлектрика Ф4 процесса кулонометрического измерения электрофизических параметров при облучении структур МДП импульсным рентгеновским излучением источника X-Ray;
Figure 00000080
- падение напряжения на измерительном резисторе на участке Ф4 при облучении структур МДП гамма-квантами источника Со60;
UD - падение напряжения на измерительном резисторе в отсутствие воздействия ионизирующего излучения;
Figure 00000081

- приращение падения напряжения на измерительном резисторе в условиях облучения гамма-квантами источника Со60;
Figure 00000082

- приращение падения напряжения на измерительном резисторе в условиях облучения рентгеновским излучением источника X-Ray;
ΔUD=UP-UD
- приращение падения напряжения на измерительном резисторе на участке Ф4 в условиях отсутствия облучения, а эквивалентную дозу
Figure 00000083

импульсного рентгеновского излучения определяют в единицах, эквивалентных спектру нуклидного источника, с использованием значения RDEF, полученного для конкретной величины поглощенной дозы нуклидного источника Со60, из соотношения
Figure 00000084

где
Figure 00000085
- мощность дозы 1 нуклидного источника Со60;
Figure 00000086
- длительность воздействия излучения нуклидного источника Co60.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для исключения эффекта «супервосстановления» порогового напряжения транзисторов n-МДП и p-МДП, мощность дозы источника импульсного рентгеновского излучения и источника гамма-квантов Со60 выбирают из условия PX-Ray,Со-60≥103рад(SiO2)·с-1.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что, с целью получения результатов измерений в реальном масштабе времени, подачу импульсного напряжения прямоугольной формы положительной полярности длительностью τP и величиной UP и контроль падения напряжения на измерительном резисторе RH синхронизируют по времени по переднему фронту или заднему фронту рентгеновского импульса, а при облучении гамма-квантами источника Co60 динамику накопления дозы и изменения величины RDEF осуществляют путем подачи импульса напряжения UP на тестовые структуры встроенных дозиметров с периодичностью, определяемой соотношением между предельной возможной частотой генерации электрического импульса напряжения UP и временем экспозиции тестовых структур МДП нуклидного источника Со60 для набора требуемого верхнего допустимого уровня полной поглощенной дозы ИИ.
4. Способ по п.1 или 3, отличающийся тем, что, с целью создания условий равенства радиационно-индуцированных зарядов в структурах МДП, время воздействия излучения
Figure 00000086
нуклидного источника Co60 выбирают в соответствии с соотношением
Figure 00000087

где
Figure 00000088
- поглощенная доза от источника импульсного рентгеновского излучения в единицах энергии квантов Eγ=1,25 МэВ.
RU2011136315/28A 2011-08-31 2011-08-31 Способ определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения RU2480861C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011136315/28A RU2480861C1 (ru) 2011-08-31 2011-08-31 Способ определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011136315/28A RU2480861C1 (ru) 2011-08-31 2011-08-31 Способ определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2011136315A RU2011136315A (ru) 2013-03-10
RU2480861C1 true RU2480861C1 (ru) 2013-04-27

Family

ID=49123122

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011136315/28A RU2480861C1 (ru) 2011-08-31 2011-08-31 Способ определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2480861C1 (ru)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2133999C1 (ru) * 1997-08-07 1999-07-27 Санкт-Петербургский государственный технический университет Способ определения напряжения плоских зон полупроводника в мдп-структурах
DE10137245A1 (de) * 2001-07-30 2003-02-27 Siemens Ag Verfahren zum Ermitteln einer Röntgenstrahlendosis
RU2216818C1 (ru) * 2003-01-28 2003-11-20 Общество с ограниченной ответственностью "ЭпиЛаб" Эцр-плазменный источник для обработки полупроводниковых структур, способ обработки полупроводниковых структур, способ изготовления полупроводниковых приборов и интегральных схем (варианты), полупроводниковый прибор или интегральная схема (варианты)
US7537940B2 (en) * 2004-02-06 2009-05-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of manufacturing electronic device capable of controlling threshold voltage and ion implanter controller and system that perform the method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2133999C1 (ru) * 1997-08-07 1999-07-27 Санкт-Петербургский государственный технический университет Способ определения напряжения плоских зон полупроводника в мдп-структурах
DE10137245A1 (de) * 2001-07-30 2003-02-27 Siemens Ag Verfahren zum Ermitteln einer Röntgenstrahlendosis
RU2216818C1 (ru) * 2003-01-28 2003-11-20 Общество с ограниченной ответственностью "ЭпиЛаб" Эцр-плазменный источник для обработки полупроводниковых структур, способ обработки полупроводниковых структур, способ изготовления полупроводниковых приборов и интегральных схем (варианты), полупроводниковый прибор или интегральная схема (варианты)
US7537940B2 (en) * 2004-02-06 2009-05-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of manufacturing electronic device capable of controlling threshold voltage and ion implanter controller and system that perform the method

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Жуков Ю.Н. и др. Дозиметр ионизирующего излучения на основе МОП-транзисторов. Специальные вопросы атомной науки и техники. Сер. "Физика радиационного воздействия на радиационную аппаратуру", 1987, в.1, с.101-103. *

Also Published As

Publication number Publication date
RU2011136315A (ru) 2013-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Dozier et al. An evaluation of low-energy X-ray and cobalt-60 irradiations of MOS transistors
Fleetwood et al. Using laboratory X-ray and cobalt-60 irradiations to predict CMOS device response in strategic and space environments
Holmes-Siedle et al. RADFET: A review of the use of metal-oxide-silicon devices as integrating dosimeters
Palkuti et al. X-ray wafer probe for total dose testing
Danzeca et al. Characterization and modeling of a floating gate dosimeter with gamma and protons at various energies
Carbonetto et al. Zero temperature coefficient bias in MOS devices. Dependence on interface traps density, application to MOS dosimetry
Conneely et al. Strategies for millirad sensitivity in PMOS dosimeters
August Estimating and reducing errors in MOS dosimeters caused by exposure to different radiations
RU2480861C1 (ru) Способ определения коэффициента относительной эффективности и эквивалентной дозы источника рентгеновского излучения
Pejović et al. Sensitivity of P‐Channel MOSFET to X‐and Gamma‐Ray Irradiation
August Design criteria for a high-dose MOS dosimeter for use in space
Lipovetzky et al. Electrically erasable metal–oxide–semiconductor dosimeters
Brucoli et al. A complete qualification of floating gate dosimeter for CERN applications
Monte et al. A method for measuring ionizing radiation dose by analyzing hybrid-π parameters of transistors
Boorboor et al. Investigation of threshold voltage shift in gamma irradiated N-Channel and P-Channel MOS transistors of CD4007
Nichols et al. A comparison of radiation damage in transistors from Cobalt-60 Gamma rays and 2.2 MeV electrons
Cesari et al. Study of Floating Gate MOS Structures to improve the noise and sensitivity as Radiation Dosimeter
Scott et al. MOS-capacitor-based ionizing radiation sensors for occupational dosimetry applications
Isern et al. Characterization of a floating-gate radiation sensor for X-ray dose detection
Podlepetsky et al. Influence of temperature and electrical modes on radiation sensitivity and errors of RADFETs
Brucker Transient and steady-state radiation response of CMOS/SOS devices
Banqueri et al. Modeling of radiation effects in MOSFETs
Mendonça et al. Experimental method for determining the supply current of a PMOS power transistor for use as a RADFET dosimeter
Pongpisit et al. Biasing technique of MOSFET for an accurate and real-time-readout radiation sensor
Anjankar et al. Conventional CMOS technology based RadFET dosimeter for Ionizing Radiation Detection for High Energy Applications

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190901