RU2476435C1 - Method of producing triethoxysilane - Google Patents
Method of producing triethoxysilane Download PDFInfo
- Publication number
- RU2476435C1 RU2476435C1 RU2011150445/04A RU2011150445A RU2476435C1 RU 2476435 C1 RU2476435 C1 RU 2476435C1 RU 2011150445/04 A RU2011150445/04 A RU 2011150445/04A RU 2011150445 A RU2011150445 A RU 2011150445A RU 2476435 C1 RU2476435 C1 RU 2476435C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- triethoxysilane
- silicon
- hours
- stirring
- producing
- Prior art date
Links
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к химии кремнийсодержащих соединений, а именно к разработке эффективного способа получения триэтоксисилана, пригодного для производства моносилана для полупроводниковой техники и солнечной энергетики, а также для различных кремнийорганических жидкостей и полимеров.The invention relates to the chemistry of silicon-containing compounds, and in particular to the development of an effective method for producing triethoxysilane suitable for the production of monosilane for semiconductor technology and solar energy, as well as for various organosilicon liquids and polymers.
Известно два способа получения триэтоксисилана: этерификация трихлорсилана этиловым спиртом и прямое взаимодействие металлургического кремния с этанолом в среде высококипящего растворителя в присутствии медьсодержащего катализатора.Two methods for producing triethoxysilane are known: the esterification of trichlorosilane with ethyl alcohol and the direct interaction of metallurgical silicon with ethanol in a high-boiling solvent in the presence of a copper-containing catalyst.
По первому способу триэтоксисилан получается с низкими выходами и содержит значительное количество примесей (в том числе хлоридов) из-за коррозии оборудования, что в принципе не позволяет применять этот продукт без сложной многостадийной очистки для получения моносилана особой чистоты. Кроме этого, использование в данной технологии токсичных хлоридов не удовлетворяет современным экологическим требованиям.According to the first method, triethoxysilane is obtained in low yields and contains a significant amount of impurities (including chlorides) due to corrosion of equipment, which, in principle, does not allow the use of this product without complex multi-stage purification to obtain high purity monosilane. In addition, the use of toxic chlorides in this technology does not meet modern environmental requirements.
«Прямой синтез» триэтоксисилана из металлургического кремния и этанола теоретически позволяет получать продукт высокого качества, свободный от электроактивных примесей, так как в процессе не используются вещества, вызывающие коррозию оборудования. Способ является также экологически чистым, поскольку в нем не участвуют токсичные хлорсодержащие соединения.The “direct synthesis” of triethoxysilane from metallurgical silicon and ethanol theoretically allows to obtain a high-quality product free of electroactive impurities, since the substances that cause corrosion of equipment are not used in the process. The method is also environmentally friendly, since it does not involve toxic chlorine-containing compounds.
Впервые о возможности «прямого синтеза» алкоксисиланов из кремния и спиртов в присутствии медьсодержащего катализатора было сообщено Е.Г.Роховым еще в 1948 г., однако только в 1972 году был запатентован способ прямого синтеза алкоксисиланов, заключавшийся в пропускании паров алифатических спиртов при 250-300°С через смесь кремния с 10% меди, для активации предварительно прогретую в токе водорода при температуре более 1000°С в течение 14 часов (патент US 3641077, МПК C07F 7/00, 7/02, 7/22, 1972).For the first time, the possibility of “direct synthesis” of alkoxysilanes from silicon and alcohols in the presence of a copper-containing catalyst was reported by E.G. Rokhov as early as 1948, however, only in 1972 was a patented method for the direct synthesis of alkoxysilanes, which consisted in passing aliphatic alcohol vapors at 250 300 ° C through a mixture of silicon with 10% copper, for activation preheated in a stream of hydrogen at a temperature of more than 1000 ° C for 14 hours (patent US 3641077, IPC C07F 7/00, 7/02, 7/22, 1972).
К недостаткам метода следует отнести низкие выходы триалкоксисиланов, длительное время и высокую температуру активации контактной массы.The disadvantages of the method include low yields of trialkoxysilanes, a long time and a high activation temperature of the contact mass.
Из патентной литературы известно, что ведение «прямого синтеза» в среде полиароматических углеводородов в присутствии хлорида меди (I) позволяет существенно увеличить выход триэтоксисилана (патент US 3775457, МПК C07F 7/04, 7/06, 1973). При этом для активации кремния в этанол вводили до 0,2% фтористого водорода.From the patent literature it is known that the conduct of "direct synthesis" in the environment of polyaromatic hydrocarbons in the presence of copper (I) chloride can significantly increase the yield of triethoxysilane (patent US 3775457, IPC C07F 7/04, 7/06, 1973). In order to activate silicon, up to 0.2% hydrogen fluoride was introduced into ethanol.
Существенными недостатками такой активации является сильная коррозия оборудования и загрязнение целевого триэтоксисилана фтором.Significant disadvantages of this activation are severe corrosion of the equipment and contamination of the target triethoxysilane with fluorine.
В изобретении (патент US 4931578, МПК C07F 7/18, 1990) описано применение в качестве катализаторов «прямого синтеза» галогенидов меди (I, II), формиата, ацетата, ацетилацетоната меди или оксидов меди, что также позволяет достичь хороших выходов триалкоксисиланов. В данной работе активацию реакционной массы проводят в течение 15 часов при интенсивном перемешивании в три этапа: сначала нагревают ее в течение часа до 200°С в токе азота, затем в течение 10 часов барботируют смесь азота с галоидным алкилом при 200-260°С и, наконец, прекратив подачу галоидного алкила, позволяют массе «созреть» в токе азота в течение 4-х часов.The invention (patent US 4931578, IPC C07F 7/18, 1990) describes the use as catalysts for the "direct synthesis" of copper (I, II) halides, formate, acetate, acetylacetonate of copper or copper oxides, which also allows to achieve good yields of trialkoxysilanes. In this work, the activation of the reaction mass is carried out for 15 hours with vigorous stirring in three stages: first, it is heated for 200 hours to 200 ° C in a stream of nitrogen, then a mixture of nitrogen with alkyl halide is bubbled for 10 hours at 200-260 ° C and finally, stopping the supply of halide alkyl, allow the mass to "ripen" in a stream of nitrogen for 4 hours.
Недостатком данного способа активации является ее большая длительность, что снижает производительность оборудования. Вторым существенным недостатком метода является загрязнение целевого триалкоксисилана следами галоидного алкила, что в дальнейшем приводит к снижению качества моносилана.The disadvantage of this activation method is its long duration, which reduces the performance of the equipment. The second significant drawback of the method is the contamination of the target trialkoxysilane with traces of alkyl halide, which further leads to a decrease in the quality of monosilane.
Таким образом, для получения триэтоксислана, пригодного для производства моносилана особой чистоты, необходим такой режим проведения активации реакционной массы, который бы исключал введение в процесс посторонних активных реагентов, способных вызвать коррозию оборудования и загрязнить целевой продукт.Thus, in order to obtain triethoxysilane suitable for the production of high purity monosilane, such a mode of reaction mass activation is necessary that would exclude the introduction of extraneous active reagents capable of causing equipment corrosion and contaminating the target product.
Наиболее близким к предлагаемому способу и принятым нами в качестве прототипа является способ получения триэтоксисилана, описанный в патенте (US 5728858, МПК C07F 7/16, 1998), в котором активация реакционной массы проводится при непрерывном перемешивании в токе водорода при 150-250°С в течение 0,5-1,5 часа. Водород инертен в коррозионном отношении, легко удаляется из реакционной массы и не загрязняет целевой триэтоксисилан. В качестве катализатора использовались гидроксиды меди.Closest to the proposed method and adopted by us as a prototype is the method for the production of triethoxysilane described in the patent (US 5728858, IPC C07F 7/16, 1998), in which the activation of the reaction mass is carried out with continuous stirring in a stream of hydrogen at 150-250 ° C within 0.5-1.5 hours. Hydrogen is inert in a corrosive manner, is easily removed from the reaction mass and does not pollute the target triethoxysilane. Copper hydroxides were used as a catalyst.
Недостатком способа является нестабильность выбранных катализаторов и сильная зависимость их активности от срока хранения и технологии получения. Кроме этого, при восстановлении таких катализаторов водородом получается вода, которая отрицательно сказывается на выходе триалкоксисиланов.The disadvantage of this method is the instability of the selected catalysts and the strong dependence of their activity on the shelf life and production technology. In addition, in the reduction of such catalysts with hydrogen, water is obtained, which adversely affects the yield of trialkoxysilanes.
Задачей настоящего изобретения является увеличение выхода триэтоксисилана, повышение чистоты триэтоксисилана, сокращение времени активации реакционной массы и повышение производительности процесса.The objective of the present invention is to increase the yield of triethoxysilane, increasing the purity of triethoxysilane, reducing the activation time of the reaction mass and increasing the productivity of the process.
Указанная задача решается тем, что предложен способ получения триэтоксисилана прямым взаимодействием металлургического кремния с сухим этиловым спиртом в среде высококипящего растворителя в присутствии медьсодержащего катализатора, отличающийся тем, что для повышения эффективности процесса проводят двухстадийную активацию реакционной массы, которую вначале выдерживают в токе водорода при 180-250°С в течение 0,5-2,5 часов при перемешивании, а затем - в тех же условиях в атмосфере инертного газа без перемешивания.This problem is solved by the fact that the proposed method for producing triethoxysilane by direct interaction of metallurgical silicon with dry ethyl alcohol in a high boiling solvent in the presence of a copper-containing catalyst, characterized in that in order to increase the efficiency of the process, two-stage activation of the reaction mass is carried out, which is initially held in a stream of hydrogen at 180- 250 ° C for 0.5-2.5 hours with stirring, and then under the same conditions in an inert gas atmosphere without stirring.
Технический результат достигается за счет использования режима активации реакционной массы, в котором для повышения конверсии кремния и выхода триэтоксисилана, а также для сокращения времени реакции смесь кремния с 2-5% катализатора перемешивают в среде Therminol-66 в течение 0,5-2,5 часов в токе водорода при 180-250°С, затем барботирование водорода прекращают и выдерживают массу при остановленной мешалке без перемешивания в токе инертного газа (азота или аргона) в течение 0,5-2,5 часов, после чего включают мешалку и производят дозирование спирта.The technical result is achieved by using the activation mode of the reaction mixture, in which to increase the conversion of silicon and the yield of triethoxysilane, as well as to reduce the reaction time, a mixture of silicon with 2-5% of the catalyst is mixed in Therminol-66 medium for 0.5-2.5 hours in a stream of hydrogen at 180-250 ° C, then the bubbling of hydrogen is stopped and the mass is held with the stirrer stopped without stirring in a stream of inert gas (nitrogen or argon) for 0.5-2.5 hours, after which the stirrer is turned on and dosing is carried out alcohol.
Такой способ активации реакционной массы позволяет на первом этапе в результате восстановления хлорида меди (I) водородом получить высокоактивные наноразмерные частицы меди, генерерованию которых в последнее время посвящено большое количество патентов (патент US 2003/0065204, МПК C07F 7/16, 2003). На втором этапе активации при отсутствии перемешивания и непосредственном контакте частиц катализатора с кремнием происходит диффузия наноразмерных частиц меди в кремний с образованием большого количества активных по отношению к спирту, как было показано Дж. Акером с сотрудниками (J.Acker, S.Kother, K.M.Lewis, K.Bohmhammel. The Reactivity in the system CuCl-Si related to the activation of silicon in the Direct Synthesis. Silicon Chemistry.-2003, vol.2, No.3, p.195-206), центров силицида меди Cu3Si.This method of activation of the reaction mass allows, at the first stage, as a result of the reduction of copper (I) chloride with hydrogen, to obtain highly active nanosized particles of copper, the generation of which has recently been devoted to a large number of patents (US Pat. At the second stage of activation, in the absence of mixing and direct contact of the catalyst particles with silicon, nanoscale copper particles diffuse into silicon with the formation of a large number of alcohol-active particles, as was shown by J. Aker and colleagues (J.Acker, S.Kother, KMLewis, K. Bohmhammel. The Reactivity in the system CuCl-Si related to the activation of silicon in the Direct Synthesis. Silicon Chemistry.-2003, vol. 2, No.3, p. 195-206), centers of copper silicide Cu 3 Si .
Пропускание водорода в течение менее 0,5 часа нецелесообразно, поскольку не успевает пройти восстановление медьсодержащего соединения, а увеличение времени барботирования водорода более 2,5 часов снижает производительность оборудования, поэтому оптимальным временем выдержки в токе водорода является 1-1,5 часа.The transmission of hydrogen for less than 0.5 hours is impractical because it does not have time to recover the copper-containing compound, and increasing the time of bubbling hydrogen over 2.5 hours reduces the productivity of the equipment, therefore, the optimal exposure time in a stream of hydrogen is 1-1.5 hours.
Оптимальное время выдержки реакционной массы без перемешивания составляет 1-2 часа, поскольку выдержка в течение менее 0,5 часа не приводит к повышению конверсии кремния и выхода триэтоксисилана, а увеличение времени выдержки более 2,5 часов снижает производительность оборудования, не оказывая уже существенного влияния на конверсию кремния и выход триэтоксисилана. Способ осуществляют следующим образом.The optimal exposure time of the reaction mixture without stirring is 1-2 hours, since exposure for less than 0.5 hours does not increase the conversion of silicon and the yield of triethoxysilane, and increasing the exposure time for more than 2.5 hours reduces the productivity of the equipment, without already having a significant effect on the conversion of silicon and the yield of triethoxysilane. The method is as follows.
Пример 1 (по прототипу).Example 1 (prototype).
В реактор из нержавеющей стали SS316L объемом 1000 мл, снабженный мешалкой, охлаждаемым до минус 50°С нисходящим холодильником, капилляром для ввода водорода и капилляром для ввода спирта, загружают 100 г кремния, 200 г Therminol-66 и 2 г хлорида меди (I). Продувают реактор аргоном, затем включают обогрев реактора и мешалку. По достижении температуры реакционной смеси 180°С при непрерывном перемешивании начинают барботировать водород со скоростью 30 мл/мин, доводя температуру реакционной массы до 240-250°С. Барботирование водорода продолжают в течение 1,5 часа, после чего подачу водорода прекращают и продолжают перемешивание реакционной смеси при этой температуре в токе аргона еще 1,5 часа. Затем с помощью дозировочного насоса вводят в реактор этиловый спирт с расходом 50 мл/час в токе аргона с расходом 30 мл/мин. Образующиеся продукты реакции конденсируют с помощью нисходящего холодильника, собирают в охлаждаемом до минус 50°С приемнике и анализируют методом газовой хроматографии. Реакция заканчивается за 16 часов. Конверсия кремния составляет 53,2%, а выход триэтоксисилана - 38,4%.100 g of silicon, 200 g of Therminol-66 and 2 g of copper chloride (I) are charged into a 1000 ml SS316L stainless steel reactor with a volume of 1000 ml, equipped with a stirrer cooled to minus 50 ° С, a downward refrigerator, a capillary for introducing hydrogen and a capillary for introducing alcohol. . Purge the reactor with argon, then turn on the heating of the reactor and the stirrer. Upon reaching a temperature of the reaction mixture of 180 ° C with continuous stirring, hydrogen is sparged at a rate of 30 ml / min, bringing the temperature of the reaction mass to 240-250 ° C. Sparging of hydrogen is continued for 1.5 hours, after which the supply of hydrogen is stopped and stirring of the reaction mixture is continued at this temperature in an argon stream for another 1.5 hours. Then, using a metering pump, ethanol is introduced into the reactor at a flow rate of 50 ml / h in argon flow at a flow rate of 30 ml / min. The resulting reaction products are condensed using a top-down refrigerator, collected in a receiver cooled to minus 50 ° С and analyzed by gas chromatography. The reaction ends in 16 hours. The silicon conversion is 53.2%, and the yield of triethoxysilane is 38.4%.
Пример 2.Example 2
Процесс проводят аналогично примеру 1, но после пропускания водорода останавливают мешалку и выдерживают реакционную массу в токе аргона или азота в течение 1,5 часа без перемешивания, а затем включают мешалку и начинают дозирование спирта. Реакция завершается за 17 часов. Конверсия кремния составляет 60,6%, а выход триэтоксисилана - 45,7%.The process is carried out analogously to example 1, but after passing hydrogen, the stirrer is stopped and the reaction mass is kept in a stream of argon or nitrogen for 1.5 hours without stirring, and then the stirrer is turned on and alcohol is dispensed. The reaction is completed in 17 hours. The conversion of silicon is 60.6%, and the yield of triethoxysilane is 45.7%.
Пример 3.Example 3
Процесс проводят аналогично примеру 1, но после пропускания водорода останавливают мешалку и выдерживают реакционную массу в токе аргона или азота в течение 2,5 часа без перемешивания, а затем включают мешалку и начинают дозирование спирта. Реакция завершается за 17 часов. Конверсия кремния составляет 61,2%, а выход триэтоксисилана - 45,1%.The process is carried out analogously to example 1, but after passing the hydrogen, the stirrer is stopped and the reaction mass is kept in a stream of argon or nitrogen for 2.5 hours without stirring, and then the stirrer is turned on and alcohol is dispensed. The reaction is completed in 17 hours. The silicon conversion is 61.2%, and the yield of triethoxysilane is 45.1%.
Пример 4.Example 4
Процесс проводят аналогично примеру 1, но после пропускания водорода останавливают мешалку и выдерживают реакционную массу в токе аргона или азота в течение 0,5 часа без перемешивания, а затем включают мешалку и начинают дозирование спирта. Реакция завершается за 16 часов. Конверсия кремния составляет 50,2%, а выход триэтоксисилана - 36,6%.The process is carried out analogously to example 1, but after passing the hydrogen, the stirrer is stopped and the reaction mass is kept in a stream of argon or nitrogen for 0.5 hours without stirring, and then the stirrer is turned on and alcohol is dispensed. The reaction is completed in 16 hours. The silicon conversion is 50.2%, and the yield of triethoxysilane is 36.6%.
Пример 5.Example 5
Процесс проводят аналогично примеру 2, но водород пропускают в течение 0,5 часа. Реакция завершается за 14 часов. Конверсия кремния составляет 40,3%, а выход триэтоксисилана - 33,0%.The process is carried out analogously to example 2, but hydrogen is passed through for 0.5 hours. The reaction ends in 14 hours. The silicon conversion is 40.3%, and the yield of triethoxysilane is 33.0%.
Пример 6.Example 6
Процесс проводят аналогично примеру 2, но водород пропускают в течение 2,5 часа. Реакция заканчивается за 17 часов. Конверсия кремния составляет 50,2%, а выход триэтоксисилана - 41,4%.The process is carried out analogously to example 2, but hydrogen is passed through for 2.5 hours. The reaction ends in 17 hours. The silicon conversion is 50.2%, and the yield of triethoxysilane is 41.4%.
Пример 7.Example 7
Процесс проводят аналогично примеру 2, но с 5 г хлорида меди (I) в качестве катализатора. Реакция завершается за 17 часов. Конверсия кремния составляет 61,8%, а выход триэтоксисилана - 45,4%.The process is carried out analogously to example 2, but with 5 g of copper chloride (I) as a catalyst. The reaction is completed in 17 hours. The silicon conversion is 61.8%, and the yield of triethoxysilane is 45.4%.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2011150445/04A RU2476435C1 (en) | 2011-12-13 | 2011-12-13 | Method of producing triethoxysilane |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2011150445/04A RU2476435C1 (en) | 2011-12-13 | 2011-12-13 | Method of producing triethoxysilane |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2476435C1 true RU2476435C1 (en) | 2013-02-27 |
Family
ID=49121377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2011150445/04A RU2476435C1 (en) | 2011-12-13 | 2011-12-13 | Method of producing triethoxysilane |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2476435C1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2628299C1 (en) * | 2016-08-30 | 2017-08-15 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт элементоорганических соединений им. А.Н. Несмеянова Российской академии наук (ИНЭОС РАН) | Method of producing alkoxysilanes |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3775457A (en) * | 1971-09-30 | 1973-11-27 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of manufacturing alkoxysilanes |
JPS6327493A (en) * | 1986-07-21 | 1988-02-05 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Production of trialkoxysilane |
US5728858A (en) * | 1996-10-10 | 1998-03-17 | Osi Specialties, Inc. | Activation of copper-silicon slurries for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
RU2196142C2 (en) * | 1998-12-17 | 2003-01-10 | Общество с ограниченной ответственностью "ИВТЕХИМ" | Method of synthesis of alkoxysilanes |
RU2009117196A (en) * | 2006-12-01 | 2011-01-10 | РОСТОН ФЭМИЛИ ЭлЭлСи (US) | METHOD FOR PRODUCING ALCOXYSILANES |
-
2011
- 2011-12-13 RU RU2011150445/04A patent/RU2476435C1/en active IP Right Revival
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3775457A (en) * | 1971-09-30 | 1973-11-27 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of manufacturing alkoxysilanes |
JPS6327493A (en) * | 1986-07-21 | 1988-02-05 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Production of trialkoxysilane |
US5728858A (en) * | 1996-10-10 | 1998-03-17 | Osi Specialties, Inc. | Activation of copper-silicon slurries for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
EP0835876B1 (en) * | 1996-10-10 | 2002-09-18 | Crompton Corporation | Activation of copper-silicon slurries for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
RU2196142C2 (en) * | 1998-12-17 | 2003-01-10 | Общество с ограниченной ответственностью "ИВТЕХИМ" | Method of synthesis of alkoxysilanes |
RU2009117196A (en) * | 2006-12-01 | 2011-01-10 | РОСТОН ФЭМИЛИ ЭлЭлСи (US) | METHOD FOR PRODUCING ALCOXYSILANES |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2628299C1 (en) * | 2016-08-30 | 2017-08-15 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт элементоорганических соединений им. А.Н. Несмеянова Российской академии наук (ИНЭОС РАН) | Method of producing alkoxysilanes |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101839585B1 (en) | A method for preparing a diorganodihalosilane | |
JP2011213594A5 (en) | ||
KR20140048983A (en) | Process for preparing 2,2-difluoroethanol | |
EP3275886A1 (en) | Method for producing dialkylaminosilane | |
US11028108B2 (en) | Method for producing dialkylaminosilane | |
RU2476435C1 (en) | Method of producing triethoxysilane | |
WO2014073672A1 (en) | Method for producing aldehyde compound | |
TWI707861B (en) | Method for producing silicon compound, and silicon compound | |
JP6308547B2 (en) | Method for producing organosilicon compound | |
Kim et al. | Development of continuous process for the preparation of tetraethyl orthosilicate through the reaction of metallurgical silicon with ethanol in the presence of base salt catalyst | |
JP2013136539A (en) | Method for producing tetraalkoxysilane | |
JP2021014410A (en) | Production method of vinyl compound | |
CN103435635A (en) | Preparation method of magnesium chloride (2,2,6,6-tetramethyl piperidine) lithium salt | |
CN110713442A (en) | Preparation method of o-nitrobenzaldehyde | |
CN102675150B (en) | Preparation method and synthesis method of chiral compound | |
CN103012049A (en) | High-stereoselectivity method for synthesizing menthyl halide | |
JP5119040B2 (en) | Method for producing amine | |
JP2615798B2 (en) | Method for producing monosilane | |
JP7367927B2 (en) | Compounds having allyl ether and allylsilane skeletons and methods for producing the same | |
CN109096027B (en) | Synthetic method of triphenylmethane | |
JP5321414B2 (en) | Method for producing dimethylvinylsilyl triflate | |
JP2007291044A (en) | Method for producing fluorine-containing alcohol derivative | |
JP2615803B2 (en) | Monosilane production method | |
WO2020161072A1 (en) | Process for manufacturing quantum dots | |
RU2203282C1 (en) | Method of synthesis of alkyldialkoxysilanes |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TC4A | Change in inventorship |
Effective date: 20130610 |
|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20151214 |
|
NF4A | Reinstatement of patent |
Effective date: 20190109 |
|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20191214 |
|
NF4A | Reinstatement of patent |
Effective date: 20210111 |
|
PD4A | Correction of name of patent owner |