RU2315821C2 - Подогреватель газа - Google Patents
Подогреватель газа Download PDFInfo
- Publication number
- RU2315821C2 RU2315821C2 RU2004132226/02A RU2004132226A RU2315821C2 RU 2315821 C2 RU2315821 C2 RU 2315821C2 RU 2004132226/02 A RU2004132226/02 A RU 2004132226/02A RU 2004132226 A RU2004132226 A RU 2004132226A RU 2315821 C2 RU2315821 C2 RU 2315821C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- gas
- substrates
- distribution plate
- current collector
- ring
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
Изобретение относится к устройствам для уплотнения пористых кольцевых подложек путем химической газовой пропитки, в частности к печи и подогревателю. Печь химической газовой пропитки для уплотнения кольцевых пористых подложек, устанавливаемых в виде множества вертикальных кольцевых стопок, содержит токоприемник, имеющий внутреннюю боковую стенку, ограничивающую зону подогрева газа и реакционную камеру внутри печи, и донную стенку, а также, по меньшей мере, одно сквозное отверстие для ввода газа через донную стенку токоприемника и подогреватель газа. Подогреватель содержит кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, теплообменник, расположенный в камере подогрева газа, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа со множеством отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, со множеством отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек. Подогреватель содержит также сопла, установленные в каналах, служащих для установления сообщения между зоной подогрева газа и внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и предназначенные для регулирования потоков подогретого газа, поступающих в эти внутренние объемы. 6 н. и 12 з.п. ф-лы, 8 ил.
Description
Область техники, к которой относится изобретение
Настоящее изобретение относится к уплотнению пористых кольцевых подложек (каркасов) способом химической газовой пропитки.
Конкретной областью использования изобретения является изготовление кольцевых частей в изделиях из термоконструкционного композитного материала, таких как тормозные диски для самолетов или наземных транспортных средств, изготовленные из композитных материалов углерод/углерод (С/С).
Уровень техники
Термоконструкционные композитные материалы замечательны тем, что обладают механическими свойствами, позволяющими использовать их для изготовления конструктивных деталей, и сохраняют эти свойства при высоких температурах. Типичными примерами термоконструкционных композитных материалов являются композитные материалы С/С (углерод-углеродные) с армирующей волокнистой структурой из углеродных волокон, уплотненной матрицей пиролитического углерода, а также композитные материалы с керамической матрицей (ceramic matrix composites - CMC) с армирующей структурой из тугоплавких (углеродных или керамических) волокон, уплотненной керамической матрицей.
В процессе химической газовой пропитки подлежащие уплотнению подложки помещают в реакционную камеру печи, в которой их нагревают. В реакционную камеру вводят газ-реагент, содержащий один или несколько газовых полупродуктов того материала, который должен образовать матрицу. Температуру и давление внутри реакционной камеры регулируют таким образом, чтобы газ-реагент мог диффундировать в поры подложки и осаждать в них образующий матрицу материал за счет разложения одного или нескольких компонентов газа-реагента или их реакции друг с другом. Процесс проводят при низком давлении, чтобы усилить диффузию газа-реагента в подложки. Температура, при которой полупродукт или полупродукты трансформируются в материал матрицы, такой как пиролитический углерод или керамика, обычно превышает 900°С и в типовом случае близка к 1000°С.
Для обеспечения как можно большей равномерности уплотнения подложек во всем объеме реакционной камеры как в отношении повышения плотности, так и в отношении микроструктуры осаждаемого материала матрицы в идеальном случае необходимо обеспечить, по существу, равномерную температуру внутри реакционной камеры и относительно равномерный доступ газа-реагента ко всем подложкам.
Печи химической газовой пропитки содержат подогреватель газа, расположенный внутри печи между вводом для газа-реагента и реакционной камерой. В типовом случае зона подогревателя газа содержит теплообменник в виде множества перфорированных пластин, через которые газ проходит перед поступлением в реакционную камеру.
Подложки, как и теплообменник, нагреваются, поскольку они находятся в печи. Последние обычно нагреваются с помощью токоприемника, который изготовлен, например, из графита. Токоприемник образует боковую стенку реакционной камеры и нагревается за счет индуктивной связи с индуктором, окружающим реакционную камеру, или с помощью резисторов, окружающих печь.
Заявителем было установлено, что эффективность подогревателя газа не всегда соответствует желаемой. В этом отношении показателен пример уплотнения пористых подложек, образованных кольцевыми каркасами из углеродных волокон, или предварительно уплотненных кольцевых заготовок для использования при изготовлении тормозных дисков из композитного материала С/С.
Кольцевые подложки загружают вертикальными стопками в реакционную камеру над подогревателем газа, который расположен на дне печи. Несмотря на подогрев газа, в реакционной камере часто наблюдается градиент температуры. При этом температура вблизи каркасов у основания стопок может быть на несколько десятков градусов Цельсия ниже температуры в остальной части стопок. Это может приводить к большому градиенту уплотнения в подложках одной и той же стопки в зависимости от положения каркаса в стопке.
Для решения этой проблемы можно было бы повысить эффективность подогрева газа-реагента путем увеличения размера подогревателя газа. Однако для печи данного объема это уменьшило бы ее емкость в отношении подложек. Поскольку процессы химической газовой пропитки требуют больших капиталовложений и имеют большую длительность, весьма желательно иметь по возможности максимальную производительность, а следовательно, как можно более высокое отношение объема, предназначенного для загрузки подложек, к объему зоны подогрева газа.
Другая проблема заключается в том, что градиент температуры наблюдается не только в вертикальном направлении вдоль стопок подложек, но также и в горизонтальном направлении между отдельными стопками. В частности, было замечено, что стопки, расположенные в центральной части реакционной камеры, не получают столько же тепла, излучаемого токоприемником, сколько стопки, расположенные ближе к внутренней стенке токоприемника. Это также приводит к различиям в степени уплотнения между подложками в различных стопках.
Раскрытие изобретения
В общем плане задача, на решение которой направлено настоящее изобретение, заключается в создании средств для достижения экономичного и более равномерного уплотнения пористых кольцевых подложек в печи химической газовой пропитки за счет более равномерной подачи газа-реагента к поверхностям подложек без значительного влияния на производительность пропитки подложек.
Дополнительная задача, решение которой обеспечивается предпочтительными вариантами осуществления изобретения, состоит в обеспечении, по существу, равномерного уплотнения пористых кольцевых подложек как в вертикальном направлении вдоль стопок подложек, так и в горизонтальном направлении между отдельными стопками.
Согласно одному из предпочтительных вариантов изобретения в печи химической газовой пропитки для уплотнения кольцевых пористых подложек, расположенных в виде множества вертикальных кольцевых стопок, содержащей токоприемник, который имеет внутреннюю боковую стенку, ограничивающую зону подогрева газа и реакционную камеру внутри печи, и донную стенку, а также, по меньшей мере, одно сквозное отверстие для ввода газа через донную стенку токоприемника, предусмотрен подогреватель газа. Данный подогреватель содержит:
кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа,
теплообменник, расположенный в камере подогрева газа,
опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и снабженную множеством отверстий для подогретого газа,
грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, снабженную множеством отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и
сопла, установленные в каналах, которые служат для установления сообщения между зоной подогрева газа и внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и предназначенные для регулирования потоков подогретого газа, поступающих в эти внутренние объемы.
Кольцо, которое предпочтительно образовано массивным телом, изготовленным как одно целое из теплопроводного материала, обеспечивает выполнение различных функций:
поскольку оно опирается на донную стенку токоприемника и, соответственно, окружено его боковой стенкой, оно обеспечивает эффективный нагрев зоны подогрева,
оно окружает зону подогрева и способствует ее герметизации, не допуская того, чтобы большая часть поданного в эту зону газа-реагента поступала в реакционную камеру, не пройдя полностью подогреватель газа, и
оно воспринимает нагрузку от веса подложек, передаваемую через газораспределительную плиту и грузовую плиту, и передает эту нагрузку на донную стенку токоприемника без необходимости в отдельной опорной конструкции для грузовой плиты.
Указанные особенности способствуют эффективности подогрева газа и компактности конструкции, расположенной у дна печи.
Наличие регулирующих поток сопел, которые могут быть вставлены в отверстия газораспределительной плиты, дает возможность подавать в одни стопки подложек больший поток газа-реагента по сравнению с другими стопками подложек. За счет этого можно компенсировать градиент температуры между различными стопками подложек для достижения, по существу, равномерного уплотнения, так как интенсивность осаждения материала матрицы изменяется в зависимости от температуры и потока газа-реагента.
Согласно частному аспекту изобретения теплообменник подогревателя газа содержит множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем пластины теплообменника изготовлены из пленочного теплопроводного материала. Использование пленочного материала, такого как графитовый пленочный материал или композитный материал С/С, позволяет уменьшить толщину пластин, а следовательно, массу и габариты подогревателя газа. В данном случае пластины, которые могут иметь, по существу, круглую форму, предпочтительно удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью помещенных между ними радиально расположенных прокладок.
Согласно другому частному аспекту изобретения пластины теплообменника содержат, по меньшей мере, одну пару пластин, расположенных непосредственно одна над другой. При этом одна пластина имеет перфорацию только в своей центральной части, а другая - только в своей периферийной части. За счет этого обеспечивается принудительное течение газа по извилистой траектории, так что эффективный подогрев может достигаться в пределах ограниченного объема.
Газораспределительная плита и грузовая плита могут быть образованы одной и той же плитой или двумя различными плитами, расположенными одна над другой. В последнем случае предусмотрены множество труб (каналов), каждая из которых соединяет отверстие газораспределительной плиты с соответствующим отверстием грузовой плиты. Каждая труба может быть снабжена вставкой, изготовленной из теплопроводного материала, для теплообмена с газом-реагентом, протекающим в трубе, на заключительной стадии подогрева газа.
Согласно следующему аспекту изобретения предусмотрен способ регулирования распределения подогретого газа-реагента в печи химической газовой пропитки для уплотнения кольцевых пористых подложек, загруженных в реакционную камеру печи в виде множества вертикальных стопок, каждая из которых содержит наложенные друг на друга подложки, образующие внутренний объем стопки, причем реакционную камеру нагревают с помощью токоприемника, имеющего внутреннюю стенку, ограничивающую реакционную камеру.
Способ по изобретению включает операции впуска газа-реагента в зону подогрева у дна печи, подогрева газа-реагента посредством его пропускания через зону подогрева, разделения подогретого газа-реагента на множество отдельных потоков у соответствующих выводов зоны подогрева и направления отдельных потоков газа-реагента в соответствующие внутренние объемы стопок кольцевых подложек.
При этом отдельные потоки газа-реагента регулируют в зависимости от местоположения соответствующих стопок подложек внутри реакционной камеры.
Предпочтительно отдельный поток газа-реагента, направляемый во внутренний объем стопки подложек, находящейся дальше от внутренней стенки токоприемника, чем другая стопка подложек, больше отдельного потока газа-реагента, направляемого во внутренний объем этой другой стопки подложек.
Отдельные потоки газа-реагента могут регулироваться посредством сопел с различными поперечными сечениями, вводимых в отверстия, образованные в газораспределительной плите, закрывающей сверху камеру подогрева газа, расположенную в зоне подогрева газа.
Краткое описание чертежей
Другие свойства и достоинства настоящего изобретения станут ясны из нижеследующего описания, не вносящего каких-либо ограничений и содержащего ссылки на прилагаемые чертежи. На чертежах:
фиг.1 схематично изображает печь химической газовой пропитки с подогревателем газа по изобретению в разрезе плоскостью I-I (см. фиг.2),
фиг.2 схематично изображает печь по фиг.1 в разрезе плоскостью II-II (см. фиг.1),
фиг.3 изображает в увеличенном виде в разрезе подогреватель газа печи по фиг.1,
фиг.4-7 - это схематичные частичные виды в разрезах плоскостями IV-IV, V-V, VI-VI и VII-VII (см. фиг.3),
фиг.8 схематично изображает в разрезе подогреватель газа по изобретению в другом варианте выполнения.
Осуществление изобретения
На фиг.1 и 2 показана печь 10 с образованными токоприемником цилиндрической боковой стенкой 12, донной стенкой 14 и верхней стенкой 16. Токоприемник 12, 14 образует вторичную цепь трансформатора, индуктивно связанную с первичной трансформаторной цепью в виде, по меньшей мере, одного индуктора 18. Между индуктором 18 и боковой стенкой 12 токоприемника предусмотрена изоляция 20, а под донной стенкой 14 токоприемника - изоляция 22. Печь 10 нагревается посредством подачи электрического тока на индуктор 18. В другом варианте осуществления нагрев токоприемника может производиться с помощью электрических резисторов, находящихся с ним в тепловом контакте.
Внутренний объем печи 10 содержит подогреватель газа, т.е. зону 24 подогрева газа, расположенную у дна печи, и реакционную камеру, или загружаемую зону 26, куда помещают подлежащие уплотнению пористые кольцевые подложки 30. Реакционная камера 26 расположена над зоной 24 подогрева газа.
Подлежащие уплотнению подложки 30 могут представлять собой каркасы из углеродных волокон или предварительно уплотненные заготовки для изготовления тормозных дисков из композитных материалов С/С. Предварительно уплотненные заготовки получают путем предварительного уплотнения каркасов способом химической газовой пропитки или способом жидкой пропитки (смолой) с последующей карбонизацией. Такие тормозные диски С/С обычно используются для посадочных шасси самолетов и для гоночных автомобилей.
Кольцевые подложки 30 располагают с образованием множества кольцевых вертикальных стопок 32, опирающихся на нижнюю грузовую плиту 40. Каждая стопка подложек может быть подразделена на множество расположенных друг над другом секций, разделенных одной или несколькими промежуточными плитами 42, причем плиты 40 и 42 могут быть изготовлены из графита. В плитах образованы сквозные отверстия 40а, 42а, согласованные по положению с отверстиями, имеющимися в подложках. Промежуточные плиты 42 поддерживаются грузовой плитой 40 с помощью стоек 44.
В показанном примере выполнения (фиг.2) образовано двенадцать стопок, при этом девять стопок образуют кольцо равномерно отстоящих одна от другой стопок, находящихся вблизи токоприемника, а три стопки расположены в центральной части загружаемой зоны. Могут быть предусмотрены также другие схемы загрузки. Так, например, могут использоваться семь стопок с расположением шести стопок по кольцу и одной стопки в центре.
Каждая кольцевая стопка 32 закрыта сверху крышкой 34, так что внутренний объем реакционной камеры 26 подразделен на множество внутренних объемов 36 стопок и на объем 28 вне стопок. Каждый внутренний объем стопки образован центральными отверстиями подложек 30 и отверстиями в промежуточных плитах 42.
Каждая подложка 30 в стопке 32 отделена, в зависимости от ее положения, от соседних подложек, или от плиты 40, 42, или от крышки 34 с помощью прокладок 38, которые оставляют зазоры 39 между подложками. Прокладки могут быть расположены так, чтобы оставлять проходы для газа между объемами 36 и 28 через зазоры 39. Эти зазоры могут быть организованы таким образом, чтобы обеспечивать уравновешивание давлений между объемами 36 и 28, как это описано в патенте США №5904957, или же таким образом, чтобы создавать простые проходы для утечек газа и поддерживать градиент давления между объемами 36 и 28.
Зона 24 подогрева газа, окруженная токоприемником, как и реакционная камера 26, содержит подогреватель 50 газа, подробно показанный на фиг.3-6.
Подогреватель газа содержит кольцо (втулку) 52, которое опирается на донную стенку 14 токоприемника и проходит вблизи его боковой стенки 12. Кольцо 52 предпочтительно представляет собой единое массивное тело из теплопроводного материала, такого как графит.
Кольцо 52 ограничивает камеру 54 подогрева газа. Сквозной проход, сформированный в донной изоляции 22 и донной стенке 14 токоприемника, образует газовый ввод 56 для газа-реагента, ведущий в камеру 54 подогрева газа. Газовый ввод 56 подсоединен к источнику газа-реагента (не показан). В варианте выполнения могут быть образованы несколько впускных проходов для газа, сообщающихся с зоной подогрева газа. Газовый ввод 56 может быть снабжен экраном 58, препятствующим выходу тепла из камеры 54 подогрева газа.
Камера 54 подогрева газа закрыта газораспределительной плитой 60, которая опирается на верхнюю поверхность кольца 52. В газораспределительной плите 60 образованы сквозные отверстия 60а, выровненные или пространственно согласованные с отверстиями 40а и с внутренними объемами 36 стопок 32. Как показано на фиг.3 и 4, каждое отверстие 60а снабжено вкладышем 62 в виде сопла с калиброванным поперечным сечением (на фиг.4 расположение стопок 32 показано штрихпунктирными линиями).
Газ, подаваемый через газовый ввод 56, предварительно, до поступления к отверстиям 60а, нагревается в камере 54 подогрева. Предварительный нагрев производится посредством того, что газ принудительно направляется вдоль множества отстоящих одна от другой перфорированных пластин 66, которые установлены горизонтально между донной стенкой 14 токоприемника и газораспределительной плитой 60, и сквозь эти пластины.
Перфорированные пластины 66 могут быть изготовлены из теплопроводного пленочного материала, такого как графитовая пленка. Использование таких тонких перфорированных пластин позволяет снизить массу и объем подогревателя газа по сравнению с массивными перфорированными графитовыми пластинами. В качестве альтернативного варианта пластины 66 могут быть изготовлены из композитного материала С/С.
Перфорированные пластины 66 удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью прокладок 68 предпочтительно в виде радиально расположенных графитовых стержней (также показаны штриховыми линиями на фиг.5 и 6).
В предпочтительном варианте пластины 66 содержат одну или несколько пар пластин 661, 662, которые расположены непосредственно одна над другой. При этом одна пластина 662 имеет перфорацию 672 только в центральной части, а другая пластина 661 имеет перфорацию 671 только в периферийной части. За счет этого поток газа вынужденно течет не только сквозь пластины, но и вдоль них. В этом случае предпочтительно, чтобы пластина с перфорацией в периферийной части была нижней.
Для обеспечения относительно равномерного выхода подогретого газа в верхней части камеры подогрева газа, по меньшей мере, верхняя перфорированная пластина или две верхние перфорированные пластины 66з снабжены перфорацией, равномерно распределенной по их поверхности (фиг.3).
Пластины 66 удерживаются в желаемом горизонтальном положении вертикальными стойками 70, проходящими через отверстия 71 в пластинах. Стойки 70 укреплены на нижней неперфорированной пластине 72, которая имеет центральный канал, совмещенный с газовым вводом 56, и опирается на внутреннюю кромку 52а в нижней части кольца 52. Таким образом, кольцо 52 с пластинами 66, 72 и стойками 70 перед установкой в печь могут быть предварительно собраны в единый узел.
Газ, выходящий через отверстия 60а в газораспределительной плите 60, направляется по трубам 74, которые вставлены в отверстия 76, выполненные в удерживающей плите 78 и совмещенные по положению с отверстиями 60а. Трубы 74 снабжены верхними фланцами, опирающимися на плиту 78 вокруг отверстий 76. Внутри труб 74 размещены вставки 80, выполненные, например, в форме призм (фиг.3 и 7) и предназначенные для дополнительного нагрева протекающего газа. Трубы 74 и вставки 80, а также плиты 60 и 78 изготовлены из теплопроводного материала, такого как графит. Плита 78 опирается на газораспределительную плиту 60 посредством колонн 82.
Трубы 74 сообщаются с отверстиями 40а в грузовой плите 40. Кольца 84 вставлены в отверстия 40а и опираются на верхние кромки труб 74 для направления потоков газа между плитами 78 и 40. Плита 40 опирается на плиту 78 с помощью колонн 86.
При работе стопки подложек загружают в реакционную камеру над подогревателем газа. Вес нагрузки поддерживается дном токоприемника посредством плит 40, 78, 60, колонн 86, 82 и кольца 52. Донная стенка 14 токоприемника опирается на колонны, которые поддерживают всю печь.
Печь нагревается токоприемником для доведения подложек, загруженных в реакционную камеру, до требуемой температуры. При этом нагреваются также элементы конструкции, несущие нагрузку, и элементы подогревателя газа.
После достижения желаемой температуры внутри печи через газовый ввод 56 подают газ-реагент. Газ подогревается при его течении вдоль перфорированных пластин 66 в камере 54 подогрева и сквозь эти пластины. Использование массивного кольца 52, которое имеет высокую тепловую инерцию и выполнено как одно целое, способствует эффективному нагреву и герметизации камеры подогрева газа.
Подогретый газ выходит из камеры 54 подогрева через сопла 62 и дополнительно нагревается за счет теплообмена со стенками труб 74 и вставок 80 до поступления во внутренние объемы стопок подложек.
Описанным образом достигается эффективный подогрев газа-реагента, что снижает до минимума температурный градиент между нижней частью каждой стопки и ее остальной частью.
Газ, пропущенный во внутренний объем 36 стопки подложек, проникает в объем 28 реакционной камеры посредством диффузии через пористую структуру подложек, производя при этом осаждение желаемой матрицы, а затем и через зазоры 39. Отработанный газ отводится из объема 28 реакционной камеры через газовый вывод 17, выполненный в верхней стенке 16 токоприемника и подсоединенный к насосному устройству (не показано).
В оптимальном варианте осуществления разделение потока подогретого газа-реагента на индивидуальные потоки, подаваемые во внутренние объемы стопок подложек, регулируется в зависимости от местоположения стопки в реакционной камере. Регулирование осуществляется с той целью, чтобы пропускать более значительные потоки газа-реагента в стопки, удаленные от боковой стенки 12 токоприемника, по сравнению с потоком газа-реагента в стопку, расположенную вблизи этой стенки.
Действительно, стопка подложек, расположенная в центральной части реакционной камеры, такая как стопка 321 на фиг.2, нагревается токоприемником несколько меньше по сравнению со стопкой подложек, расположенной вблизи боковой стенки 12 токоприемника, такой как стопка 322. За счет небольшого увеличения потока газа-реагента в стопку 321 можно компенсировать несколько менее эффективный нагрев и снизить градиент уплотнения между различными стопками.
Индивидуальные потоки газа-реагента в различные стопки регулируются путем выбора поперечного сечения каналов, образуемых соплами 62. Как показано на фиг.4, сопло 621 для центральной стопки (такой как стопка 321) образует канал несколько большего поперечного сечения по сравнению с каналом, образуемым соплом 622 для периферийной стопки (такой как стопка 322). Для создания возможности выбора и регулирования индивидуальных потоков газа-реагента может быть предусмотрен комплект сопел 62 одинакового наружного диаметра в соответствии с диаметром отверстий 60а, но с внутренними калиброванными каналами, имеющими различные поперечные сечения.
Другой, упрощенный пример выполнения подогревателя газа по изобретению представлен на фиг.8.
Решение по фиг.8 отличается от примера выполнения по фиг.3 тем, что стопка 32 кольцевых каркасов 30 опирается непосредственно на плиту 60, которая представляет собой как газораспределительную, так и грузовую плиту.
Этот альтернативный пример выполнения может использоваться, когда эффективность камеры подогрева газа достаточна и нет необходимости в дополнительном нагреве индивидуальных потоков газа, выходящих из нее. Эффективность камеры 54 подогрева газа может быть отрегулирована путем выбора соответствующего числа перфорированных пластин 66.
Claims (18)
1. Печь химической газовой пропитки для уплотнения кольцевых пористых подложек, устанавливаемых в виде множества вертикальных кольцевых стопок, содержащая токоприемник, имеющий внутреннюю боковую стенку, ограничивающую зону подогрева газа и реакционную камеру внутри печи, и донную стенку, а также, по меньшей мере, одно сквозное отверстие для ввода газа через донную стенку токоприемника, и подогреватель газа, содержащий кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, теплообменник, расположенный в камере подогрева газа, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и имеющую множество отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, имеющую множество отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек.
2. Печь по п.1, отличающаяся тем, что подогреватель газа дополнительно содержит сопла, установленные в каналах, служащих для установления сообщения между зоной подогрева газа и внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и предназначенные для регулирования потоков подогретого газа, поступающих в эти внутренние объемы.
3. Печь по п.1, отличающаяся тем, что газораспределительная плита и грузовая плита образуют одну плиту.
4. Печь по п.1, отличающаяся тем, что грузовая плита выполнена отдельно от газораспределительной плиты и расположена над ней, причем предусмотрено множество труб для соединения отверстий газораспределительной плиты с соответствующими отверстиями грузовой плиты.
5. Печь по п.4, отличающаяся тем, что указанные трубы снабжены вставками, изготовленными из теплопроводного материала, для теплообмена с газом, протекающим в трубах.
6. Печь по п.1, отличающаяся тем, что грузовая плита опирается на газораспределительную плиту или образована той же плитой, что и газораспределительная плита.
7. Печь по п.2, отличающаяся тем, что сопла для регулирования потоков вставлены в отверстия газораспределительной плиты.
8. Печь по п.1, отличающаяся тем, что указанное кольцо выполнено в виде цельного массивного тела, изготовленного из теплопроводного материала.
9. Печь по п.1, отличающаяся тем, что теплообменник содержит множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем пластины теплообменника изготовлены из пленочного теплопроводного материала.
10. Печь по п.9, отличающаяся тем, что пластины теплообменника выполнены, по существу, круглыми и удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью помещенных между ними радиально расположенных прокладок.
11. Печь по п.1, отличающаяся тем, что теплообменник содержит множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем имеется, по меньшей мере, одна пара расположенных непосредственно одна над другой пластин, одна из которых имеет перфорацию только в своей центральной части, а другая имеет перфорацию только в своей периферийной части.
12. Подогреватель газа для печи химической газовой пропитки по п.1, содержащий кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и имеющую множество отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, имеющую множество отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и теплообменник, содержащий множество отстоящих одна от другой и, по существу, круглых перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем пластины теплообменника изготовлены из пленочного теплопроводного материала и удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью помещенных между ними радиально расположенных прокладок.
13. Подогреватель газа для печи химической газовой пропитки по п.1, содержащий кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и снабженную множеством отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, имеющую множество отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и теплообменник, содержащий множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем имеется, по меньшей мере, одна пара расположенных непосредственно одна над другой пластин, одна из которых имеет перфорацию только в своей центральной части, а другая имеет перфорацию только в своей периферийной части.
14. Подогреватель газа для печи химической газовой пропитки по п.1, содержащий кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и снабженную множеством отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, имеющую множество отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем имеется, по меньшей мере, одна пара расположенных непосредственно одна над другой пластин, одна из которых имеет перфорацию только в своей центральной части, а другая имеет перфорацию только в своей периферийной части, при этом перфорированные пластины изготовлены из пленочного теплопроводного материала и удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью помещенных между ними радиально расположенных прокладок.
15. Подогреватель газа для печи химической газовой пропитки по п.1, содержащий кольцо из теплопроводного материала, опирающееся на донную стенку токоприемника и ограничивающее камеру подогрева газа, с, по меньшей мере, одним отверстием для ввода газа в камеру подогрева газа, теплообменник, расположенный в камере подогрева газа и включающий множество отстоящих одна от другой перфорированных пластин, окруженных кольцом и расположенных, по существу, горизонтально между донной стенкой токоприемника и газораспределительной плитой, причем имеется, по меньшей мере, одна пара расположенных непосредственно одна над другой пластин, одна из которых имеет перфорацию только в своей центральной части, а другая имеет перфорацию только в своей периферийной части, при этом пластины теплообменника изготовлены из пленочного теплопроводного материала и удерживаются на расстоянии одна от другой с помощью помещенных между ними радиально расположенных прокладок, опирающуюся на кольцо газораспределительную плиту, закрывающую сверху камеру подогрева газа и имеющую множество отверстий для подогретого газа, грузовую плиту, несущую стопки кольцевых подложек, подлежащих загрузке в реакционную камеру для их уплотнения, со множеством отверстий, сообщающихся с соответствующими отверстиями газораспределительной плиты и согласованных по положению с внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек, и сопла, установленные в каналах, служащие для установления сообщения между зоной подогрева газа и внутренними объемами соответствующих стопок кольцевых подложек и предназначенные для регулирования потоков подогретого газа, поступающих в эти внутренние объемы.
16. Способ регулирования распределения подогретого газа-реагента в печи химической газовой пропитки для уплотнения кольцевых пористых подложек, загруженных в реакционную камеру печи в виде множества вертикальных стопок, причем каждая стопка содержит наложенные друг на друга подложки, образующие внутренний объем стопки, а реакционную камеру нагревают с помощью токоприемника, имеющего внутреннюю стенку, ограничивающую реакционную камеру, включающий впуск газа-реагента в зону подогрева у дна печи, подогрев газа-реагента посредством его пропускания через зону подогрева, разделение подогретого газа-реагента на множество отдельных потоков у соответствующих выводов зоны подогрева и направление отдельных потоков газа-реагента в соответствующие внутренние объемы стопок кольцевых подложек, причем отдельные потоки газа-реагента регулируют в зависимости от местоположения соответствующих стопок подложек внутри реакционной камеры.
17. Способ по п.16, отличающийся тем, что отдельный поток газа-реагента, направляемый во внутренний объем стопки подложек, находящейся дальше от внутренней стенки токоприемника, чем другая стопка подложек, больше отдельного потока газа-реагента, направляемого во внутренний объем этой другой стопки подложек.
18. Способ по п.16, отличающийся тем, что отдельные потоки газа-реагента регулируют посредством сопел с различными поперечными сечениями, вводимых в отверстия, образованные в газораспределительной плите, закрывающей сверху камеру подогрева газа, расположенную в зоне подогрева газа.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/139,553 | 2002-05-06 | ||
US10/139,553 US6572371B1 (en) | 2002-05-06 | 2002-05-06 | Gas preheater and process for controlling distribution of preheated reactive gas in a CVI furnace for densification of porous annular substrates |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2004132226A RU2004132226A (ru) | 2005-06-27 |
RU2315821C2 true RU2315821C2 (ru) | 2008-01-27 |
Family
ID=22487231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2004132226/02A RU2315821C2 (ru) | 2002-05-06 | 2003-05-05 | Подогреватель газа |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6572371B1 (ru) |
EP (1) | EP1501963B1 (ru) |
JP (1) | JP4417831B2 (ru) |
KR (1) | KR101057215B1 (ru) |
CN (1) | CN100371494C (ru) |
AU (1) | AU2003242547C1 (ru) |
BR (1) | BR0304664B1 (ru) |
CA (1) | CA2484915C (ru) |
IL (1) | IL164970A (ru) |
MX (1) | MXPA04011025A (ru) |
RU (1) | RU2315821C2 (ru) |
UA (1) | UA79779C2 (ru) |
WO (1) | WO2003093531A1 (ru) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7476419B2 (en) * | 1998-10-23 | 2009-01-13 | Goodrich Corporation | Method for measurement of weight during a CVI/CVD process |
US6669988B2 (en) * | 2001-08-20 | 2003-12-30 | Goodrich Corporation | Hardware assembly for CVI/CVD processes |
EP1256973B1 (en) * | 2001-04-12 | 2004-12-29 | Infineon Technologies SC300 GmbH & Co. KG | Heating system and method for heating a reactor |
US6758909B2 (en) * | 2001-06-05 | 2004-07-06 | Honeywell International Inc. | Gas port sealing for CVD/CVI furnace hearth plates |
US6953605B2 (en) * | 2001-12-26 | 2005-10-11 | Messier-Bugatti | Method for densifying porous substrates by chemical vapour infiltration with preheated gas |
US7431585B2 (en) * | 2002-01-24 | 2008-10-07 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for heating substrates |
US20040253377A1 (en) * | 2002-10-24 | 2004-12-16 | Bok Lowell D. | Batch and continuous CVI densification furnace |
CN1304912C (zh) * | 2005-02-21 | 2007-03-14 | 西北工业大学 | 碳/碳复合材料热梯度化学气相渗透过程温度自动控制器 |
US7691443B2 (en) * | 2005-05-31 | 2010-04-06 | Goodrich Corporation | Non-pressure gradient single cycle CVI/CVD apparatus and method |
US8057855B1 (en) | 2005-05-31 | 2011-11-15 | Goodrich Corporation | Non-pressure gradient single cycle CVI/CVD apparatus and method |
KR100792396B1 (ko) * | 2005-10-11 | 2008-01-08 | 주식회사 유진테크 | 파티션 구조형 가열유닛과 이를 이용한 히팅장치 |
US7811085B2 (en) * | 2006-05-04 | 2010-10-12 | Honeywell International Inc. | Gas preheater for chemical vapor processing furnace |
US7771194B2 (en) * | 2006-05-26 | 2010-08-10 | Honeywell International Inc. | Gas preheater for chemical vapor processing furnace having circuitous passages |
US8133532B2 (en) * | 2006-10-29 | 2012-03-13 | Messier-Bugatti-Dowty | Method of densifying porous articles |
IL198123A0 (en) * | 2008-04-18 | 2009-12-24 | Snecma Propulsion Solide | A heat treatment oven with inductive heating |
JP5730496B2 (ja) * | 2009-05-01 | 2015-06-10 | 株式会社日立国際電気 | 熱処理装置、半導体デバイスの製造方法および基板処理方法 |
US11326255B2 (en) * | 2013-02-07 | 2022-05-10 | Uchicago Argonne, Llc | ALD reactor for coating porous substrates |
FR3018526B1 (fr) * | 2014-03-14 | 2021-06-11 | Herakles | Installation de densification cvi comprenant une zone de prechauffage a forte capacite |
DE102014226138A1 (de) | 2014-12-16 | 2016-06-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung mit einer dreidimensionalen magnetischen Struktur |
DE102016215616B4 (de) | 2016-08-19 | 2020-02-20 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Herstellen einer magnetischen Struktur und Vorrichtung |
DE102016215617A1 (de) | 2016-08-19 | 2018-02-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Herstellen eines Hohlraums mit poröser Struktur |
CN108106412B (zh) * | 2017-11-16 | 2019-10-15 | 山东道普安制动材料有限公司 | 一种高效率刹车盘生产设备及应用 |
CN107779843B (zh) * | 2017-12-11 | 2019-10-08 | 湖南顶立科技有限公司 | 一种化学气相沉积炉 |
CN108588678B (zh) * | 2018-05-07 | 2020-06-09 | 西安航空制动科技有限公司 | 一种化学气相沉积炉气体预热装置 |
US10731252B2 (en) * | 2018-05-25 | 2020-08-04 | Rolls-Royce High Temperature Composites | Apparatus and method for coating specimens |
FR3084672B1 (fr) * | 2018-08-03 | 2020-10-16 | Safran Ceram | Procede de densification par infiltration chimique en phase gazeuse de substrats annulaires poreux |
FR3084892B1 (fr) | 2018-08-10 | 2020-11-06 | Safran Ceram | Procede de densification par infiltration chimique en phase gazeuse de substrats annulaire poreux |
CN110699667A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-01-17 | 美尔森银河新材料(烟台)有限公司 | 一种炭炭坩埚生产装置 |
US11111578B1 (en) | 2020-02-13 | 2021-09-07 | Uchicago Argonne, Llc | Atomic layer deposition of fluoride thin films |
US12000046B1 (en) * | 2021-12-29 | 2024-06-04 | Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. | Load assemblies for loading parts in a furnace |
US11932941B1 (en) | 2021-12-29 | 2024-03-19 | Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. | Load assemblies for loading parts in a furnace |
US11912628B1 (en) | 2021-12-29 | 2024-02-27 | Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. | Slurry infiltration fixture |
US11901169B2 (en) | 2022-02-14 | 2024-02-13 | Uchicago Argonne, Llc | Barrier coatings |
CN114990521A (zh) * | 2022-06-22 | 2022-09-02 | 湖南九华碳素高科有限公司 | 一种卧式装炉沉积炉 |
CN116043193A (zh) * | 2022-12-06 | 2023-05-02 | 湖南恒升热工机械设备有限公司 | 一种气相沉积炉 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996015285A1 (en) * | 1994-11-16 | 1996-05-23 | The B.F. Goodrich Company | Pressure gradient cvi/cvd apparatus, process and product |
US5480678A (en) | 1994-11-16 | 1996-01-02 | The B. F. Goodrich Company | Apparatus for use with CVI/CVD processes |
-
2002
- 2002-05-06 US US10/139,553 patent/US6572371B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-05-05 BR BRPI0304664-8B1A patent/BR0304664B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2003-05-05 CA CA2484915A patent/CA2484915C/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-05-05 RU RU2004132226/02A patent/RU2315821C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2003-05-05 UA UA20041109125A patent/UA79779C2/uk unknown
- 2003-05-05 WO PCT/EP2003/005259 patent/WO2003093531A1/en active Application Filing
- 2003-05-05 JP JP2004501664A patent/JP4417831B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-05-05 KR KR1020047017890A patent/KR101057215B1/ko active IP Right Grant
- 2003-05-05 AU AU2003242547A patent/AU2003242547C1/en not_active Ceased
- 2003-05-05 MX MXPA04011025A patent/MXPA04011025A/es active IP Right Grant
- 2003-05-05 EP EP03747459A patent/EP1501963B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-05 CN CNB038101904A patent/CN100371494C/zh not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-11-01 IL IL164970A patent/IL164970A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100371494C (zh) | 2008-02-27 |
CA2484915C (en) | 2010-04-13 |
CN1650042A (zh) | 2005-08-03 |
IL164970A (en) | 2010-06-16 |
CA2484915A1 (en) | 2003-11-13 |
MXPA04011025A (es) | 2005-02-14 |
BR0304664B1 (pt) | 2013-07-09 |
AU2003242547C1 (en) | 2009-01-22 |
JP2005524773A (ja) | 2005-08-18 |
WO2003093531A1 (en) | 2003-11-13 |
EP1501963B1 (en) | 2012-08-08 |
KR101057215B1 (ko) | 2011-08-16 |
IL164970A0 (en) | 2005-12-18 |
JP4417831B2 (ja) | 2010-02-17 |
US6572371B1 (en) | 2003-06-03 |
RU2004132226A (ru) | 2005-06-27 |
AU2003242547A1 (en) | 2003-11-17 |
AU2003242547B2 (en) | 2008-07-31 |
UA79779C2 (en) | 2007-07-25 |
KR20040108781A (ko) | 2004-12-24 |
EP1501963A1 (en) | 2005-02-02 |
BR0304664A (pt) | 2004-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2315821C2 (ru) | Подогреватель газа | |
JP3815796B2 (ja) | 環形状の積重ねで配された多孔性基材を強化するための化学気相浸透法 | |
JP4426302B2 (ja) | 化学的蒸気浸透によって多孔質基材を緻密化するための方法と装置 | |
KR100985377B1 (ko) | 화학적 증기침투에 의한 기판의 치밀화 방법 및 이의 장치 | |
JP3759166B2 (ja) | Cvi/cvdプロセスに使用するための装置 | |
KR20000049264A (ko) | 증기상의 화학적 침투에 의한 고리형 적층체 내에 넣어진 기질을 온도구배로 고밀도화시키는 방법 | |
KR101483315B1 (ko) | 다공성 제품들의 조밀화 방법 | |
US11549176B2 (en) | Method for densifying porous annular substrates by chemical vapour infiltration |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PC43 | Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions |
Effective date: 20130610 |
|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20150506 |