RU2114520C1 - Импульсная плазменная установка - Google Patents

Импульсная плазменная установка Download PDF

Info

Publication number
RU2114520C1
RU2114520C1 RU96119512A RU96119512A RU2114520C1 RU 2114520 C1 RU2114520 C1 RU 2114520C1 RU 96119512 A RU96119512 A RU 96119512A RU 96119512 A RU96119512 A RU 96119512A RU 2114520 C1 RU2114520 C1 RU 2114520C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
arc
electrodes
auxiliary
electrode
coil
Prior art date
Application number
RU96119512A
Other languages
English (en)
Other versions
RU96119512A (ru
Inventor
В.П. Лежепеков
И.В. Лежепеков
А.М. Смаглиев
Original Assignee
Кубанский государственный технологический университет
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Кубанский государственный технологический университет filed Critical Кубанский государственный технологический университет
Priority to RU96119512A priority Critical patent/RU2114520C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2114520C1 publication Critical patent/RU2114520C1/ru
Publication of RU96119512A publication Critical patent/RU96119512A/ru

Links

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Изобретение относится к плазменной технике. Импульсная плазменная установка содержит два высоковольтных электрода, источник питания вспомогательной дуги, генератор импульсного тока, отражающую стенку из диэлектрического материала и обмотку магнитного дутья, при этом отрицательный электрод выполнен подвижным и жестко связан с якорем электромагнита, обмотка которого включена между указанным электродом и отрицательным полюсом источника питания вспомогательной дуги, причем с электродом она связана гибким проводом. Растяжение . дуги осуществляется за счет раздвижения электродов посредством электромагнита. При этом опорные точки дуги располагаются на концах электродов неподвижно, а паровая катодная струя, обтекая столб вспомогательной дуги, дополнительно стабилизирует ее электрофизические характеристики. По достижении вспомогательной дугой заданных параметров запускается источник питания обмотки магнитного дутья м между электродами инициируется высоковольтный разряд. Обмотка магнитного дутья размещена непосредственно за отражающей стенкой, в результате чего сгусток плазмы притягивается к холодной отражающей стенке и как бы раскатывается по ее поверхности в тонкую пленку. При этом существенно снижается экранирующее действие частиц плазмы и увеличивается излучающая поверхность, что обусловливает высокую интенсивность излучения. 1 ил.

Description

Изобретение относится к плазменной технике, а более точно к устройствам с косвенным нагревом дуговым разрядом, и может быть использовано как источник интенсивного светового излучения.
Известен импульсный плазменный ускоритель эрозионного типа (Гришин С.Д., Лесков Л.В., Козлов Н.П. Электрические ракетные двигатели. -М.: Машиностроение, 1975, с. 198 - 208), принятый в качестве прототипа. Который содержит плазмотрон, имеющий два высоковольтных электрода, генератор импульсного тока, источник инициирования вспомогательного разряда, блок управления, разрядную камеру и сопло. Ускорение потока плазмы достигается посредством создания высокого давления в камере устройства, а также за счет взаимодействия осевых холловских токов с азимутальным магнитным полем, образованным током, текущим по центральному электроду. Плазмообразующий газ получается непосредственно в камере ускорителя при действии электрического разряда на стенку камеры, выполненную из газогенерирующего материала (например, фибры, меди, оргстекла). При этом газодинамические и магнитные силы не уравновешивают друг друга, вследствие чего на срезе ускорителя образуется самосжимающаяся область повышенной температуры и плотности, так называемый плазменный фокус, являющийся источником интенсивного светового излучения.
Перемещение высоковольтного сильноточного импульсного разряда по электродам устройства в течение всего периода работы обусловливает их повышенный износ, а разрушение стенки разрядной камеры, имеющее место при генерации плазмообразующего газа, уменьшает ресурс работы устройства. Кроме того, взаимное экранирование частиц плазменного фокуса ограничивает интенсивность излучения. Снижение напряжения и мощности разряда, перемещающегося по электродам устройства, хотя и способно снизить термическую нагрузку на его элементы, однако, в свою очередь, чревато резким падением интенсивности излучения, кроме того, при движении дуги по направляющим электродам в поперечном магнитном поле практически невозможно обеспечить стабильность таких ее характеристик, как ток, удельная проводимость, скорость перемещения, постоянство формы (сечения, длины, радиуса кривизны), что ведет к разбросу параметров процесса разряда и генерации излучения.
По сравнению с устройством прототипа предлагаемое изобретение позволяет обеспечить заданную стабилизацию характеристик и формы дуги непосредственно в момент высоковольтного разряда, существенно повысить интенсивность излучения при сопоставимых энергетических затратах, а также значительно уменьшить термическую нагрузку на элементы устройства.
Это достигается тем, что предлагаемое устройство, содержащее положительный и отрицательный электроды, источник питания вспомогательной дуги и генератор импульсного тока, снабжено электромагнитом, отражающей стенкой из диэлектрического материала и обмоткой магнитного дутья, соединенной с источником выпрямленного напряжения, при этом отрицательный электрод жестко связан с якорем электромагнита, обмотка которого включена между указанным электродом и отрицательным полюсом источника питания вспомогательной дуги, причем с электродом она связана гибким проводом, а обмотка магнитного дутья размещена непосредственно за отражающей стенкой и присоединена к источнику выпрямленного напряжения.
Существенные отличия предлагаемого устройства от прототипа заключаются в том, что устройство предлагаемого изобретения содержит электромагнит, предназначенный для разведения электродов, отражающую стенку из диэлектрического материала, при контакте плазменного сгустка с которой происходит генерация интенсивного светового излучения, и обмотку магнитного дутья, обеспечивающую контакт плазмы и отражающей стенки, при этом отрицательный электрод выполнен подвижным и жестко связан с якорем электромагнита, обмотка которого включена между указанным электродом и отрицательным полюсом источника питания вспомогательной дуги, причем с электродом она связана гибким проводом. Это сделано ввиду того обстоятельства, что в устройстве предлагаемого изобретения дуга растягивается до момента достижения ею заданных энергетических и геометрических параметров, после чего осуществляется ее пробой высоковольтным разрядом. Растяжение дуги осуществляется за счет раздвижения электродов посредством электромагнита. При этом опорные точки дуги располагаются на концах электродов неподвижно, а паровая катодная струя, обтекая столб дуги, дополнительно стабилизирует ее электрофизические характеристики. Кроме того, размещение обмотки магнитного дутья непосредственно за отражающей стенкой улучшает динамический контакт плазмы с поверхностью стенки.
На чертеже представлена общая схема импульсной плазменной установки.
Установка содержит высоковольтные электроды 1 и 2 (1 - катод, 2 - анод), источник 3 питания вспомогательной дуги, представляющий собой регулируемый источник выпрямленного тока, дроссель 4, генератор импульсного тока, включающий высоковольтный конденсатор 5, источник 6 высокого выпрямленного напряжения, резистор 7, осциллятор 8 и разрядник 9, а также отражающую стенку 10 из диэлектрического материала, обмотку 11 магнитного дутья и электромагнит, состоящий из обмотки 12, якоря 13, пружины 14 и изолирующей втулки 15.
Отрицательный электрод 2 жестко связан с якорем 13 электромагнита, обмотка 12 которого включена между электродом 2 и отрицательным полюсом источника 3, причем с электродом она связана гибким проводом, а электрод 1 подключен к положительному полюсу источника 3 через дроссель 4. Высоковольтный конденсатор 5 связан с источником 6 через резистор 7 и через осциллятор 8 и разрядник 9 подключен параллельно электродам 1 и 2. Отражающая стенка 10 расположена вблизи разрядного промежутка 16, причем обмотка 11 магнитного дутья расположена непосредственно за отражающей стенкой. Цепи контроля и управления источника 3 связаны с цепью пуска осциллятора 8. Обмотка 11 питается от источника выпрямленного напряжения, который при необходимости может быть выполнен регулируемым (не показан).
Установка работает следующим образом.
В начальном положении электроды 1 и 2 сведены вместе. Перед включением источника 3 конденсатор 5 должен быть полностью заряжен. При запуске источника 3 образуется следующая цепь тока: положительный полюс источника 3, дроссель 4, электрод 1, электрод 2, обмотка 12 электромагнита, отрицательный полюс источника 3. В результате протекания тока через обмотку 12 якорь 13 втягивается в обмотку, одновременно перемещая электрод 2. В результате разведения электродов 1 и 2 между ними зажигается вспомогательная дуга, стабильность параметров которой (тока, удельной проводимости) обеспечивается за счет регулирующего действия источника 3 и дросселя 4. По достижении вспомогательной дугой заданной длины при условии стабильности ее электрических характеристик от источника 3 на осциллятор 8 и на источник питания обмотки магнитного дутья подается пусковой импульс, осциллятор срабатывает и пробивает промежуток разрядника 9, замыкая цепь разряда высоковольтного конденсатора 5 и инициируя высоковольтный разряд между электродами 1 и 2. Разрядник 9 в данной схеме предназначен для предотвращения возможности включения генератора импульсного тока при недостаточном заряде конденсатора. Время заряда конденсатора 5 определяется наряду с его емкостью величиной сопротивления резистора 7. В результате взаимодействия магнитных полей дуги и обмотки 11 магнитного дутья сгусток плазмы притягивается к холодной отражающей стенке и как бы раскатывается по ней в тонкую пленку, в связи с чем снижается экранирующее действие частиц плазмы. При этом ввиду малой толщины плазменной пленки и большой площади излучающей поверхности интенсивность излучения плазмы существенно усиливается.
Такая конструкция позволяет предварительно сформировать параметры вспомогательной дуги, однозначно определяющие характер процесса протекания высоковольтного разряда, благодаря чему высоковольтный разряд с заданными характеристиками формируется только в конце периода работы, что снижает термическую нагрузку на элементы устройства. Кроме того, механизм генерации излучения с применением отражающей стенки, реализованный в данном устройстве, позволяет существенно снизить экранирующий эффект частиц плазмы, что при сопоставимых энергетических затратах обеспечивает более высокую интенсивность излучения. В свою очередь, размещение обмотки магнитного дутья непосредственно за отражающей стенкой дополнительно улучшает динамический контакт плазмы с поверхностью стенки.

Claims (1)

  1. Импульсная плазменная установка, содержащая положительный и отрицательный электроды, источник питания вспомогательной дуги и генератор импульсного тока, отличающаяся тем, что она снабжена электромагнитом, отражающей стенкой из диэлектрического материала и обмоткой магнитного дутья, соединенной с источником выпрямленного напряжения, при этом отрицательный электрод жестко связан с якорем электромагнита, обмотка которого включена между указанным электродом и отрицательным полюсом источника питания вспомогательной дуги, причем с электродом она связана гибким проводом, а обмотка магнитного дутья размещена непосредственно за отражающей стенкой.
RU96119512A 1996-09-30 1996-09-30 Импульсная плазменная установка RU2114520C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU96119512A RU2114520C1 (ru) 1996-09-30 1996-09-30 Импульсная плазменная установка

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU96119512A RU2114520C1 (ru) 1996-09-30 1996-09-30 Импульсная плазменная установка

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2114520C1 true RU2114520C1 (ru) 1998-06-27
RU96119512A RU96119512A (ru) 1998-11-20

Family

ID=20186083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU96119512A RU2114520C1 (ru) 1996-09-30 1996-09-30 Импульсная плазменная установка

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2114520C1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2457638C2 (ru) * 2010-10-26 2012-07-27 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" Плазменный источник светового излучения
RU2529056C2 (ru) * 2012-12-14 2014-09-27 Общество с ограниченной ответственностью "НИТ" Высоковольтный плазмотрон

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Гришин С.Д., Лесков Л.В., Козлов И.П. Электрические ракетные двигатели.- М.: Машиностроение, 1975, с. 198-208. *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2457638C2 (ru) * 2010-10-26 2012-07-27 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" Плазменный источник светового излучения
RU2529056C2 (ru) * 2012-12-14 2014-09-27 Общество с ограниченной ответственностью "НИТ" Высоковольтный плазмотрон

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6396213B1 (en) Apparatus for generating a compound plasma configuration with multiple helical conductor elements
EP0901572B1 (en) Traveling spark ignition system and ignitor therefor
TW505734B (en) Add-on unit to conventional ignition systems to provide a follow-on current through a spark plug
US2919370A (en) Electrodeless plasma torch and method
JPH03500042A (ja) 燃料ガス製造及び該燃料ガスからの熱エネルギーの放出強化のための方法及び装置
JP2009008100A (ja) 可燃性の気体混合物に点火するための、コロナ放電を生成し持続させるための点火システムと点火方法
WO1997012372A9 (en) A compound plasma configuration, and method and apparatus for generating a compound plasma configuration
US8259771B1 (en) Initiating laser-sustained plasma
JP7271489B2 (ja) 高エネルギー効率、高出力のプラズマトーチ
NL2008208C2 (en) Spark ablation device.
US3586905A (en) Plasma arc heating apparatus
US4475063A (en) Hollow cathode apparatus
KR910011094A (ko) 단락에 의해 개시되는 플라즈마 토오치
CN101828433B (zh) 用于脉冲等离子体生成的阴极组件和方法
RU2114520C1 (ru) Импульсная плазменная установка
US3556706A (en) Oil burner spark ignition system
Kohno et al. Cable guns as a plasma source in a plasma opening switch
US4639635A (en) Spark plug
RU2762196C2 (ru) Электродуговой плазмотрон
US2909695A (en) Coaxial magnetohydrodynamics switch device
CA1093628A (en) Device and method of starting a long radiation source
Prozorov et al. Dynamics studies of cathode spots in a vacuum-arc discharge with ring electrodes
RU2343650C2 (ru) Способ создания высокоэнтальпийной газовой струи на основе импульсного газового разряда
RU116686U1 (ru) Катодный узел импульсного дугового генератора плазмы
RU204397U1 (ru) Устройство для возбуждения разряда в ВЧИ-плазмотроне