RU2072642C1 - Vacuum-arc plasma source - Google Patents
Vacuum-arc plasma source Download PDFInfo
- Publication number
- RU2072642C1 RU2072642C1 RU94021421A RU94021421A RU2072642C1 RU 2072642 C1 RU2072642 C1 RU 2072642C1 RU 94021421 A RU94021421 A RU 94021421A RU 94021421 A RU94021421 A RU 94021421A RU 2072642 C1 RU2072642 C1 RU 2072642C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cathode
- vacuum
- arc
- plasma
- lengthy
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к вакуумно-плазменной технологии и может быть применено для нанесения покрытий. The invention relates to vacuum-plasma technology and can be used for coating.
В последние годы широкое распространение получила технология нанесения покрытий, основанная на применении потоков металлической плазмы, получаемых с помощью вакуумно-дуговых устройств с интегрально-холодным катодом. Использование данной технологии позволяет интенсифицировать процесс нанесения покрытий, обеспечить высокую их чистоту и хорошую адгезию. In recent years, a coating technology based on the use of metal plasma streams obtained using vacuum-arc devices with an integrated cold cathode has become widespread. Using this technology allows you to intensify the coating process, to ensure their high purity and good adhesion.
Вакуумно-дуговой разряд горит в парах материала катода. Разряд привязан к поверхности катода микропятнами, в зоне которых температура материала катода, как правило, превышает температуру кипения. Пятна хаотически перемещаются по поверхности, и их скорость лежит в диапазоне от десятых долей до нескольких десятков метров в секунду. Плотность тока в катодных пятнах (КП) имеет порядок 109 1010 A/м2, что и вызывает интенсивное испарение катода, обеспечивающее высокую эффективность процесса горения разряда [1 и 2] Создание вакуумно-дуговых источников плазмы требует решения задачи удержания КП на рабочей поверхности катода и обеспечения управлением движения заряженной компоненты плазменного потока.A vacuum arc discharge burns in the vapor of the cathode material. The discharge is attached to the cathode surface by microspots, in the zone of which the temperature of the cathode material usually exceeds the boiling point. The spots move randomly on the surface, and their speed ranges from tenths to several tens of meters per second. The current density in the cathode spots (KP) is of the order of 10 9 10 10 A / m 2 , which causes intense evaporation of the cathode, which ensures high efficiency of the discharge burning process [1 and 2] Creating vacuum-arc plasma sources requires solving the problem of keeping the KP on the working the surface of the cathode and providing control of the movement of the charged components of the plasma stream.
В настоящее время широкое практическое применение нашли вакуумно-дуговые источники плазмы с коаксиальной системой электродов и внешней магнитной системой стабилизации катодных пятен [3 и 4] В этом случае используются закономерности движения КП во внешнем неоднородном магнитном поле: катодное пятно вакуумной дуги в достаточно сильном магнитном поле, силовые линии которого пересекают поверхность катода под острым углом движутся в "антиамперовом" (обратном) направлении, т. е. смещаются в cторону острого угла [5] Использование стабилизирующей катушки ведет к удержанию КП на рабочей поверхности катода и формированию расходящегося плазменного потока. At present, vacuum-arc plasma sources with a coaxial electrode system and an external magnetic system for stabilizing cathode spots have found wide practical application [3 and 4]. In this case, regularities of the motion of a CP in an external inhomogeneous magnetic field are used: the cathode spot of a vacuum arc in a sufficiently strong magnetic field whose lines of force intersect the cathode surface at an acute angle move in the “anti-ampere” (reverse) direction, that is, they are shifted to the side of the acute angle [5] th coil leads to the retention of the KP on the working surface of the cathode and the formation of a diverging plasma flow.
Из используемых на практике источников следует также отметить устройства со стабилизацией КП арочным магнитным полем [6] КП в этом случае, двигаясь по правилу "острого угла", локализуются под вершиной магнитной арки и циркулируют по замкнутой траектории. Of the sources used in practice, it should also be noted that devices with stabilization of the CS by an arched magnetic field [6] in this case, moving according to the "acute angle" rule, are localized under the top of the magnetic arch and circulate along a closed path.
Представленные источники плазмы генерируют сильно неоднородный, ограниченный по размерам плазменный поток. В связи с этим, для обработки длинномерных изделий требуется создание вакуумно-дуговых устройств протяженной конструкции. The presented plasma sources generate a highly inhomogeneous, limited in size plasma flow. In this regard, the processing of long products requires the creation of vacuum-arc devices of an extended design.
Представлена также [7] конструкция стержневого катода с локализацией КП магнитными полями двух встречно включенных соленоидов. За счет изменения тока в соленоидах осуществляется сканирование КП по длине рабочей зоны катода. К недостаткам данной конструкции следует отнести невысокий коэффициент использования плазмообразующего материала, сложность в системе размещения соленоидов и в управлении перемещением КП для получения равномерного покрытия по длине обрабатываемого изделия. Also presented [7] is the design of the rod cathode with the localization of the CS by magnetic fields of two counter-connected solenoids. By changing the current in the solenoids, the KP is scanned along the length of the working zone of the cathode. The disadvantages of this design include the low utilization of the plasma-forming material, the complexity in the placement system of solenoids and in controlling the movement of the gearbox to obtain a uniform coating along the length of the workpiece.
Наиболее близким к изобретению по совокупности признаков является устройство [8] Данный источник состоит из протяженного цилиндрического катода, внутри которого, на оси расположен набор постоянных магнитов, намагниченных в осевом направлении, и противостоящих друг другу одноименными полюсами. Катод имеет токоподвод, снабжен поджигающим электродом и дугогасящими экранами. Функции анода выполняет вакуумная камера. Удержание катодного пятна (КП) на боковой поверхности цилиндрического катода осуществляется магнитным полем "арочной" конфигурации. Для усиления "арочных" свойств создаваемого магнитного поля используется магнитопровод, расположенный между магнитами. Формируемое магнитное поле представляет из себя набор "арок" от отдельно взятых магнитов, при этом поле ориентировано так, что составляющие вектора индукции магнитного поля лежат в плоскости, параллельной оси катода. The closest to the invention in terms of features is the device [8] This source consists of an extended cylindrical cathode, inside of which, on the axis, is a set of permanent magnets magnetized in the axial direction and opposing each other with the same poles. The cathode has a current lead, is equipped with an ignition electrode and arc suppression screens. The anode functions as a vacuum chamber. Retention of the cathode spot (CP) on the lateral surface of the cylindrical cathode is carried out by the magnetic field of the "arched" configuration. To enhance the "arched" properties of the created magnetic field, a magnetic circuit located between the magnets is used. The generated magnetic field is a set of "arches" from individual magnets, while the field is oriented so that the components of the magnetic field induction vector lie in a plane parallel to the cathode axis.
При горении дуги на движение КП оказывает влияние как магнитное поле постоянных магнитов, так и на поле токового канала в плазме и тока, текущего по катоду. КП перемещаются от поджигающего электрода в сторону токоподвода, имея составляющие как продольного перемещения в сторону токоподвода (носящую случайный характер), так и азимутальную компоненту, обеспечивающую их вращение вокруг оси катода под "аркой" магнитного поля. При равных протяженностях магнитного поля под "арками" происходит сканирование КП из одной зоны в другую исключительно случайным образом, что вносит неуправляемость в характер продольного перемещения. When burning an arc, the motion of the CS is influenced by both the magnetic field of the permanent magnets and the field of the current channel in the plasma and the current flowing through the cathode. CPs move from the ignition electrode to the current supply side, having both longitudinal movement components towards the current supply (which is random in nature) and the azimuthal component, which ensures their rotation around the cathode axis under the “arch” of the magnetic field. With equal lengths of the magnetic field under the “arches”, the CP is scanned from one zone to another exclusively randomly, which introduces uncontrollability into the nature of the longitudinal movement.
Для получения равномерного покрытия по высоте обрабатываемого изделия, необходимым условием является вращение детали как вокруг своей оси, так и вокруг оси катода. С целью повышения коэффициента использования плазмообразующего материала и экономии энергозатрат требуется производить полную загрузку рабочего объема и при этом обеспечить стабильное горение вакуумно-дугового разряда. При обработке изделий, диаметр которых сопоставим с половиной диаметра рабочего объема и более, использование данной системы напыления представляется нецелесообразным, так как исключается возможность обеспечения вращения изделия вокруг катода. Данный недостаток ведет к получению неравномерного покрытия по толщине (до десятков процентов), при этом также резко сокращается коэффициент использования плазмообразующего вещества. To obtain a uniform coating along the height of the workpiece, a necessary condition is the rotation of the part both around its axis and around the axis of the cathode. In order to increase the utilization rate of the plasma-forming material and save energy, it is necessary to fully load the working volume and at the same time ensure stable combustion of the vacuum-arc discharge. When processing products whose diameter is comparable to half the diameter of the working volume or more, the use of this spraying system seems inappropriate, since the possibility of ensuring the rotation of the product around the cathode is excluded. This disadvantage leads to an uneven coating in thickness (up to tens of percent), while the use of a plasma-forming substance is also sharply reduced.
Задача изобретения создание протяженного вакуумно-дугового источника плазмы с прямолинейным характером движения КП по рабочей поверхности катода. Данное усовершенствование позволит обеспечить следующие технические результаты:
равномерность толщины формируемого покрытия на длинномерных изделиях;
повышение коэффициента использования плазмообразующего материала.The objective of the invention is the creation of an extended vacuum-arc plasma source with a rectilinear nature of the motion of the CP along the working surface of the cathode. This improvement will ensure the following technical results:
uniform thickness of the formed coating on long products;
increased utilization of plasma-forming material.
Задача достигается за счет того, что в вакуумно-дуговом источнике плазмы, содержащем протяженные цилиндрический катод и протяженную магнитную систему, дугогасящий экран, поджигающий электрод и анод, используется протяженная магнитная система, составляющие вектора индукции магнитного поля которой по длине рабочей зоны катода, лежат в плоскости, перпендикулярной оси катода. The problem is achieved due to the fact that in a vacuum-arc plasma source containing an extended cylindrical cathode and an extended magnetic system, an extinguishing screen, an ignition electrode and an anode, an extended magnetic system is used, the components of the magnetic induction vector of which along the length of the cathode working zone lie in a plane perpendicular to the axis of the cathode.
Предлагаемое устройство отличается от известного следующим. The proposed device differs from the known following.
В известном устройстве магнитное поле, формируемое для управления движением КП, имеет "арочную" конфигурацию и ориентировано так, что составляющие вектора индукции магнитного поля лежат в плоскости, параллельной оси катода. Перемещение КП осуществляется в основном в азимутальном направлении: под "аркой" магнитного поля, а в продольном (при переходе от "арки" к "арке") происходит случайным образом в случае равенства напряженности магнитного поля между соседними магнитами. Данное условие требует подбора магнитов с очень близкой напряженностью, так как отклонение вносит непредсказуемость в характер движения КП. In the known device, the magnetic field generated to control the motion of the gearbox has an “arched” configuration and is oriented so that the components of the magnetic field induction vector lie in a plane parallel to the cathode axis. The motion of the CS is carried out mainly in the azimuthal direction: under the “arch” of the magnetic field, and in the longitudinal direction (when moving from the “arch” to the “arch”) occurs randomly in case of equality of the magnetic field between adjacent magnets. This condition requires the selection of magnets with very close tension, since the deviation introduces unpredictability into the nature of the motion of the gearbox.
В предлагаемом устройстве движение КП вдоль катода от поджигающего электрода к противоположному концу носит упорядоченный характер и осуществляется по прямолинейной траектории, что достигается за счет того, что протяженная магнитная система выполнена таким образом, что вектор индукции магнитного поля по длине рабочей зоны катода лежит в плоскости, перпендикулярной его оси. Данное условие удерживает КП от азимутального перемещения по поверхности катода. In the proposed device, the movement of the CP along the cathode from the ignition electrode to the opposite end is ordered and takes a straight path, which is achieved due to the fact that the extended magnetic system is designed so that the magnetic field induction vector along the length of the cathode working zone lies in a plane perpendicular to its axis. This condition holds the KP from azimuthal displacement along the cathode surface.
На фиг. 1 представлено взаимное расположение цилиндрического протяженного катода и магнитной системы, выполненной постоянными магнитами (б) и петлевой обмоткой (а); на фиг. 2 конструкция вакуумно-дугового источника плазмы; на фиг. 3 зависимость среднего времени пробега катодными пятнами расстояния поджигающий электрод экран от величины индукции магнитного поля. In FIG. 1 shows the relative position of a cylindrical extended cathode and a magnetic system made with permanent magnets (b) and a loop winding (a); in FIG. 2 design of a vacuum-arc plasma source; in FIG. Figure 3 shows the dependence of the average travel time by the cathode spots on the distance the screen igniting the electrode on the magnitude of the magnetic field induction.
Принцип действия предлагаемого вакуумно-дугового источника плазмы протяженной конструкции основан на управлении движением КП с помощью внешнего магнитного поля, создаваемого протяженной магнитной системой. Данная система может быть реализована либо в виде петлевой обмотки, либо на основе магнитотвердых материалов. The principle of operation of the proposed vacuum-arc plasma source of an extended design is based on controlling the motion of the gearbox using an external magnetic field created by an extended magnetic system. This system can be implemented either in the form of a loop winding, or on the basis of hard magnetic materials.
На фиг. 1 схематически представлено взаимное расположение элементов катод-магнитная система, предполагаемая траектория перемещения КП от поджигающего электрода к токоподводу и силовые линии создаваемого магнитного поля, в котором это движение осуществляется. При наложении магнитного поля ортогональная составляющая индукции магнитного поля удерживает КП от азимутального перемещения, а тангенциальная составляющая обеспечивает их продольное упорядоченное перемещение по прямолинейной траектории. Протяженность магнитной системы должна превышать длину рабочей зоны катода, а ее ориентация относительно катода должна быть такой, чтобы краевые эффекты не искажали прямолинейного характера движения КП на начальном и конечном участке движения. Удаление магнитной системы от оси катода зависит от создаваемой величины индукции магнитного поля. Изменение ориентации магнитной системы относительно своей оси и соответственно катода приводит к смещению траектории движения КП на его поверхности в соответствии с картиной магнитного поля (фиг. 1). При относительно небольших градиентах электрического поля заряженная компонента плазменного потока движется вдоль магнитных силовых линий внешнего магнитного поля. Таким образом, приложенное магнитное поле задает направление движения плазменного потока над поверхностью катода. In FIG. 1 schematically shows the relative position of the elements of the cathode-magnetic system, the proposed trajectory of the KP from the ignition electrode to the current lead and the lines of force of the generated magnetic field in which this movement is carried out. When a magnetic field is applied, the orthogonal component of the magnetic field induction prevents the CP from azimuthal movement, and the tangential component ensures their longitudinal ordered movement along a straight path. The length of the magnetic system should exceed the length of the working zone of the cathode, and its orientation relative to the cathode should be such that the edge effects do not distort the rectilinear nature of the motion of the CP at the initial and final section of motion. The removal of the magnetic system from the cathode axis depends on the magnitude of the magnetic field induced. A change in the orientation of the magnetic system relative to its axis and, accordingly, the cathode leads to a displacement of the trajectory of the KP on its surface in accordance with the picture of the magnetic field (Fig. 1). At relatively small gradients of the electric field, the charged component of the plasma stream moves along the magnetic lines of force of the external magnetic field. Thus, the applied magnetic field sets the direction of the plasma flow above the cathode surface.
В каждом случае выбор параметров и размеров магнитной системы обусловлен конструкцией используемого вакуумно-дугового устройства. In each case, the choice of parameters and dimensions of the magnetic system is determined by the design of the vacuum-arc device used.
На фиг. 2 представлена конструкция вакуумно-дугового устройства, состоящего из протяженного цилиндрического катода (К) 1, токоподвода (ТП) 2, электрически изолированного от катода дугогасящего экрана 3, поджигающего электрода (ПЭ) 4, вакуумная камера 5 выполняет функции анода, протяженная магнитная система (МС) выполнена в виде петлевой обмотки 6, в рабочем объеме расположено обрабатываемое изделие 7, установленное на электрически изолированном диске 8, вращение которого обеспечивает двигатель 9. Магнитная система 6, например, расположена не в рабочем объеме камеры, а с внешней его стороны. Данное условие позволяет устранить влияние теплового воздействия обмотки в процессе работы на величину достигаемого вакуума в системе. In FIG. 2 shows the design of a vacuum-arc device, consisting of an extended cylindrical cathode (K) 1, a current supply (TP) 2, electrically isolated from the cathode of the arc-extinguishing
Вакуумно-дуговой источник плазмы работает следующим образом. Vacuum-arc plasma source works as follows.
На поверхности катода 1 от поджигающего устройства 4 формируются КП, которые в магнитном поле петлевой обмотки 6 перемещаются к токоподводу 2. При попадании КП в зазор катод 1 дугогасящий экран 3 происходит погасание вакуумно-дугового разряда. Интервал между поджигающими импульсами больше или равен среднестатистическому времени жизни КП на поверхности катода. On the surface of the
Наложение внешнего магнитного поля величиной в несколько мТл упорядочивает продольное перемещение КП по поверхности катода. На фиг.3 представлены экспериментальные зависимости среднего времени пробега КП расстояния от поджигающего электрода 4 до дугогасящего экрана 3. Сокращение времени пробега τ c увеличением индукции магнитного поля свидетельствует о спрямлении траектории движения КП. Результаты получены на титановом катоде длиной 200 мм и диаметром 50 мм. Внешняя магнитная система в виде петлевой обмотки была выполнена проводом ПЭТВ-2 диаметром 0,65 мм, с продольными размерами 350 мм, расстояние между протяженными сторонами равнялось 120 мм. The application of an external magnetic field of several mTl orders the longitudinal displacement of the CS along the cathode surface. Figure 3 shows the experimental dependence of the average travel time of the KP distance from the ignition electrode 4 to the extinguishing
Осаждение ионной компоненты плазменного потока осуществляется на обрабатываемом изделии 7, расположенном на пути ее движения. Скорость роста наносимого покрытия связана с параметрами плазменного потока следующим образом
где ji плотность тока ионов на изделие;
κ, S коэффициенты аккомодации ионов и распыления ими поверхности;
e заряд одного иона;
nо концентрация атомов в наносимом покрытии.The deposition of the ionic component of the plasma stream is carried out on the
where j i is the ion current density per article;
κ, S are the coefficients of accommodation of ions and their surface spraying;
e charge of one ion;
n about the concentration of atoms in the applied coating.
Распределение плотности ионного тока вдоль оси катода имеет равномерный характер. Неравномерность не превышала единицы процентов. Данное распределение не зависит от величины накладываемого магнитного поля. Характер движения КП на поверхности потока по прямолинейной траектории обеспечивает получение равномерного покрытия на обрабатываемом изделии. The distribution of the ion current density along the cathode axis is uniform. The unevenness did not exceed a few percent. This distribution does not depend on the magnitude of the applied magnetic field. The nature of the movement of the KP on the surface of the stream along a rectilinear trajectory provides uniform coverage on the workpiece.
Практически предлагаемая конструкция вакуумно-дугового устройства с протяженным цилиндрическим катодом длиной 500 мм была опробована для нанесения покрытия на изделия цилиндрической формы диаметром 200 мм и высотой 450 мм. Неравномерность покрытия как по длине, так и по внешней стороне не превышала единиц процентов. The practically proposed design of a vacuum-arc device with an extended cylindrical cathode 500 mm long was tested for coating cylindrical products with a diameter of 200 mm and a height of 450 mm. The unevenness of the coating both in length and on the outside did not exceed units of percent.
Список литературы
1. Мойжес Б.Я. Немчинский В.А. Эрозия и катодные струи вакуумной дуги. // ЖТФ, 1980, т.50, N 1, с. 78 86.Bibliography
1. Moizhes B.Ya. Nemchinsky V.A. Erosion and cathode jets of a vacuum arc. // ZhTF, 1980, vol. 50,
2. Немчинский В. А. О движении катодного пятна вакуумной дуги. // ЖТФ, 1979, т.49, N 7, с. 1379 1384. 2. Nemchinsky V. A. On the motion of the cathode spot of a vacuum arc. // ZhTF, 1979, t. 49,
3. Аксенов И. И. Хороших В.М. Потоки частиц и массоперенос в вакуумной дуге: Обзор. М. ЦНИИатоминформ, 1984. 3. Aksenov I.I. Khoroshikh V.M. Particle Flows and Mass Transfer in a Vacuum Arc: Overview. M. Central Research Institute of Atominform, 1984.
4. Дороднов А.М. Петросов В.А. О физических принципах и типах вакуумных технологических плазменных устройств. // ЖТФ, 1981, т.51, N 3, с. 504 524. 4. Dorodnov A.M. Petrosov V.A. On the physical principles and types of vacuum technological plasma devices. // ZhTF, 1981, v. 51,
5. Касаев И.Г. Катодные процессы электрической дуги. М. Наука, 1968. 5. Kasaev I.G. Cathode processes of an electric arc. M. Science, 1968.
6. АС N 42650, кл. C 23 C 15/00. Б.И. N 37, 1975. Электроразрядное устройство для нанесения покрытий в вакууме. Денисов Б.В. и др. 6. AC N 42650, class C 23 C 15/00. B.I. N 37, 1975. An electric discharge device for coating in vacuum. Denisov B.V. and etc.
7. АС N 569949, кл. C 23 C 13/08, Б.И. N 27, 1977. Электродуговой испаритель материалов. Ефимов Ю.П. и др. 7. AC N 569949, cl. C 23 C 13/08, B.I. N 27, 1977. Electric arc evaporator of materials. Efimov Yu.P. and etc.
8. Карпов Д.А. Потехин С.Л. Способы магнитной локации катодных пятен вакуумной дуги и конструкции электродуговых испарителей с магнитной стабилизацией. Препринт НИИЭФА им.Д.В.Ефремова. НИИЭФА П-А-0588. Л. 1982. 8. Karpov D.A. Potekhin S.L. Methods for the magnetic location of the cathode spots of a vacuum arc and the design of electric arc evaporators with magnetic stabilization. Preprint NIIEFA named after D.V. Efremov. NIIEFA P-A-0588. L. 1982.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU94021421A RU2072642C1 (en) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | Vacuum-arc plasma source |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU94021421A RU2072642C1 (en) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | Vacuum-arc plasma source |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU94021421A RU94021421A (en) | 1996-01-27 |
| RU2072642C1 true RU2072642C1 (en) | 1997-01-27 |
Family
ID=20156959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU94021421A RU2072642C1 (en) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | Vacuum-arc plasma source |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2072642C1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2482217C1 (en) * | 2012-02-28 | 2013-05-20 | Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" | Vacuum arc plasma source |
| RU2528536C1 (en) * | 2013-01-09 | 2014-09-20 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения" | Magnetic unit of spraying system |
-
1994
- 1994-06-07 RU RU94021421A patent/RU2072642C1/en active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 1. Авторское свидетельство СССР N 901358, C 23C 13/12, 1982. 2. Карпов Д.А., Потехин С.Л. Способы магнитной локализации катодных пятен вакуумной дуги и конструкции электродуговых испарителей с магнитной стабилизацией. Препринт НИИЭФА им.Д.В.Ефремова. НИИЭФА П-А-0588, Л. 1982. * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2482217C1 (en) * | 2012-02-28 | 2013-05-20 | Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" | Vacuum arc plasma source |
| RU2528536C1 (en) * | 2013-01-09 | 2014-09-20 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения" | Magnetic unit of spraying system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5269898A (en) | Apparatus and method for coating a substrate using vacuum arc evaporation | |
| US6103074A (en) | Cathode arc vapor deposition method and apparatus | |
| JP4491132B2 (en) | Plasma processing equipment | |
| KR100361620B1 (en) | apparatus for a vaccum arc discharge, plasma duct for a vaccum arc discharge, apparatus for generating a beam of plasma and method for controlling an arc discharge | |
| EP0328033A2 (en) | Thin film forming apparatus and ion source utilizing plasma sputtering | |
| EP0869535A2 (en) | A method to generate ionized metal plasma using electron beams and magnetic field | |
| JPH0762246B2 (en) | Substrate deposition equipment | |
| KR100343033B1 (en) | Vacuum arc evaporation source and vacuum arc deposition apparatus | |
| Coll et al. | Design of vacuum arc-based sources | |
| CA2108673A1 (en) | Method and apparatus for linear magnetron sputtering | |
| CN100573802C (en) | Vacuum arc light source with field generator for magnetic | |
| KR20020087056A (en) | Apparatus for evaporation of materials for coating of objects | |
| RU2072642C1 (en) | Vacuum-arc plasma source | |
| US6756596B2 (en) | Filtered ion source | |
| JPH03193871A (en) | Thin-film sputtering method and device | |
| WO2013120097A9 (en) | Compact, filtered ion source | |
| KR100274433B1 (en) | Sputtering apparatus and the same method | |
| JP3807684B2 (en) | Sputtering method and sputtering apparatus | |
| KR20130106575A (en) | Vacuum arc evaporation unit and arc ion plating apparatus including the same | |
| RU2098512C1 (en) | Vacuum-arc plasma source | |
| CN112359330A (en) | Ion coating device with scanning coil | |
| RU2207399C2 (en) | Vacuum electric arc device | |
| Aksenov | Magnetic confinement structures in vacuum-arc plasma filtering systems | |
| RU2180472C2 (en) | Vacuum-arc plasma source | |
| JP2004018899A (en) | Evaporation source and film-formation equipment |