RU2056702C1 - Трансформаторный плазмотрон - Google Patents

Трансформаторный плазмотрон Download PDF

Info

Publication number
RU2056702C1
RU2056702C1 SU4848965A RU2056702C1 RU 2056702 C1 RU2056702 C1 RU 2056702C1 SU 4848965 A SU4848965 A SU 4848965A RU 2056702 C1 RU2056702 C1 RU 2056702C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
transformer
gas
discharge chamber
sections
nodes
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
В.А. Коган
И.М. Уланов
Г.И. Глухих
Original Assignee
Уланов Игорь Максимович
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Уланов Игорь Максимович filed Critical Уланов Игорь Максимович
Priority to SU4848965 priority Critical patent/RU2056702C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2056702C1 publication Critical patent/RU2056702C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Использование: при обработке газообразных продуктов в диапазоне давлений от 102- мм рт. ст. до 1 атм. Сущность изобретения: секции плазмотрона образуют замкнутое кольцо. На каждой секции радиально расположен магнитопровод с первичной обмоткой. На торцовых участках секций расположены узлы ввода и вывода газа. Прилегающие друг к другу узлы ввода и вывода соседних секций разделены промежуточными диафрагмами. 1 ил.

Description

Изобретение относится к плазменной технике, использующейся в плазмохимии и металлургии, более конкретно к трансформаторным плазмотронам низкотемпературной плазмы.
Известен трансформаторный плазмотрон, содержащий стержневой магнитопровод и разрядную камеру с несколькими вводами и выводами, где патрубки вывода расположены на стенках труб разрядной камеры, а патрубки ввода на каждой трубе на равном расстоянии от примыкающих к ней патрубков вывода.
Наличие разрядной камеры с конструктивным расположением патрубков ввода и вывода газа ведет к турбулизации газового потока на выходе за счет встречи двух соседних потоков газа, что нарушает устойчивость контрагированного разряда, и напряжение на дуге возрастает, что вызывает возрастание удельного расхода электроэнергии.
Известно, что оптимальным для такого трансформаторного плазмотрона является соотношение, когда длина разрядной камеры практически равна периметру сердечника. В этом случае напряжение на дуге UдEl, где Е напряженность электрического поля; l длина разрядной камеры, приблизительно равная длине дуги, будет минимальным. В указанном трансформаторном плазмотроне указанное соотношение реализовать невозможно. Для такой конструкции плазмотрона длина разрядной камеры составляет 1,5 периметра сердечника, поэтому из-за увеличения U общая потребляемая мощность увеличивается.
Целью изобретения является снижение удельного расхода электроэнергии и увеличение производительности.
Цель достигается тем, что в трансформаторном плазмотроне, содержащем замкнутую разрядную камеру, выполненную в виде электроизолированных друг от друга охлаждаемых металлических секций, узел тангенциального ввода газа и трансформатор, содержащий по меньшей мере два магнитопровода с индивидуальными обмотками, разрядная камера выполнена в форме кольца, количество магнитопроводов, узлов ввода газа и узлов вывода газа выбрано равным количеству секций камеры, причем магнитопроводы установлены радиально по центру каждой секции, а узлы ввода и вывода газа по противоположным торцам секций и соединены между собой промежуточными диафрагмами.
Сопоставительный анализ с прототипом позволяет сделать вывод о том, что заявляемый плазмотрон отличается тем, что магнитопроводы с первичными обмотками расположены радиально по центру каждой секции, их количество, а также количество узлов ввода и вывода газа выбираются равным количеству секций камеры, при этом сама разрядная камера выполнена в форме кольца, трансформатор содержит по меньшей мере два магнитопровода с первичными обмотками, а узлы ввода и вывода газа установлены по противоположным торцам секций и соединены между собой промежуточными диафрагмами. Таким образом, заявляемое техническое решение соответствует критерию "новизна".
Анализ известных технических решений позволяет сделать вывод об отсутствии в них признаков, сходных с существенными отличительными признаками в заявляемом плазмотроне, и признать заявляемое решение соответствующим критерию "существенные отличия".
На чертеже показан плазмотрон.
Он состоит из нескольких магнитопроводов 1 с первичными обмотками 2, расположенных радиально по центру каждой секции 3 замкнутой разрядной камеры, узлов ввода 4 и вывода 5 газообразных продуктов. Узлы ввода и вывода расположены по противоположным торцам секций и соединены между cобой введенными промежуточными диафрагмами 6.
Плазмотрон работает следующим образом.
Разряд зажигается при пониженном давлении 10-1-10-2 мм рт.ст. Затем давление в разрядной камере может подниматься до 1-10 атм. Ввод газа осуществляется через узел 4. Прореагированный в плазме поток поджимается диафрагмой. Основная часть газового потока и продукты реакций выходят из разрядной камеры. Небольшая часть газового потока, непосредственно окружающего ядро дуги, проходит через диафрагму во входной узел следующего участка разрядной камеры, где дуга вновь стабилизируется входящим газом. Тем самым не нарушается устойчивость дуги.

Claims (1)

  1. ТРАНСФОРМАТОРНЫЙ ПЛАЗМОТРОН, содержащий замкнутую разрядную камеру, выполненную в виде электроизолированных одна от другой охлаждаемых металлических секций, узел тангенциального ввода газа, узел вывода газа и трансформатор, содержащий по меньшей мере два магнитопровода с индивидуальными обмотками, отличающийся тем, что, с целью снижения удельного расхода энергии и повышения производительности плазмотрона, разрядная камера выполнена в форме кольца, количество магнитопроводов, узлов ввода газа и узлов вывода газа выбрано равным количеству секций камеры, причем магнитопроводы установлены радиально по центру каждой секции, а узлы ввода и вывода газа - по противоположным торцам секций и соединены между собой введенными промежуточными диафрагмами.
SU4848965 1990-07-09 1990-07-09 Трансформаторный плазмотрон RU2056702C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4848965 RU2056702C1 (ru) 1990-07-09 1990-07-09 Трансформаторный плазмотрон

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4848965 RU2056702C1 (ru) 1990-07-09 1990-07-09 Трансформаторный плазмотрон

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2056702C1 true RU2056702C1 (ru) 1996-03-20

Family

ID=21526318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4848965 RU2056702C1 (ru) 1990-07-09 1990-07-09 Трансформаторный плазмотрон

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2056702C1 (ru)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8124906B2 (en) 1997-06-26 2012-02-28 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US8779322B2 (en) 1997-06-26 2014-07-15 Mks Instruments Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US8872525B2 (en) 2011-11-21 2014-10-28 Lam Research Corporation System, method and apparatus for detecting DC bias in a plasma processing chamber
US8898889B2 (en) 2011-11-22 2014-12-02 Lam Research Corporation Chuck assembly for plasma processing
US8999104B2 (en) 2010-08-06 2015-04-07 Lam Research Corporation Systems, methods and apparatus for separate plasma source control
US9083182B2 (en) 2011-11-21 2015-07-14 Lam Research Corporation Bypass capacitors for high voltage bias power in the mid frequency RF range
RU2558728C1 (ru) * 2014-05-29 2015-08-10 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) Комбинированный индукционно-дуговой плазмотрон и способ поджига индукционного разряда
US9111729B2 (en) 2009-12-03 2015-08-18 Lam Research Corporation Small plasma chamber systems and methods
US9155181B2 (en) 2010-08-06 2015-10-06 Lam Research Corporation Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US9177762B2 (en) 2011-11-16 2015-11-03 Lam Research Corporation System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing
US9190289B2 (en) 2010-02-26 2015-11-17 Lam Research Corporation System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas
US9263240B2 (en) 2011-11-22 2016-02-16 Lam Research Corporation Dual zone temperature control of upper electrodes
US9396908B2 (en) 2011-11-22 2016-07-19 Lam Research Corporation Systems and methods for controlling a plasma edge region
US9449793B2 (en) 2010-08-06 2016-09-20 Lam Research Corporation Systems, methods and apparatus for choked flow element extraction
US9508530B2 (en) 2011-11-21 2016-11-29 Lam Research Corporation Plasma processing chamber with flexible symmetric RF return strap
US9967965B2 (en) 2010-08-06 2018-05-08 Lam Research Corporation Distributed, concentric multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US10283325B2 (en) 2012-10-10 2019-05-07 Lam Research Corporation Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US10586686B2 (en) 2011-11-22 2020-03-10 Law Research Corporation Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Краткое описание термоядерных установок ИАЭ, Препринт ИАЭ-2314.М., ИАЭ, 1973. *

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8779322B2 (en) 1997-06-26 2014-07-15 Mks Instruments Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US8124906B2 (en) 1997-06-26 2012-02-28 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US9111729B2 (en) 2009-12-03 2015-08-18 Lam Research Corporation Small plasma chamber systems and methods
US9911578B2 (en) 2009-12-03 2018-03-06 Lam Research Corporation Small plasma chamber systems and methods
US9735020B2 (en) 2010-02-26 2017-08-15 Lam Research Corporation System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas
US9190289B2 (en) 2010-02-26 2015-11-17 Lam Research Corporation System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas
US9967965B2 (en) 2010-08-06 2018-05-08 Lam Research Corporation Distributed, concentric multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US8999104B2 (en) 2010-08-06 2015-04-07 Lam Research Corporation Systems, methods and apparatus for separate plasma source control
US9155181B2 (en) 2010-08-06 2015-10-06 Lam Research Corporation Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US9449793B2 (en) 2010-08-06 2016-09-20 Lam Research Corporation Systems, methods and apparatus for choked flow element extraction
US9177762B2 (en) 2011-11-16 2015-11-03 Lam Research Corporation System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing
US8872525B2 (en) 2011-11-21 2014-10-28 Lam Research Corporation System, method and apparatus for detecting DC bias in a plasma processing chamber
US9508530B2 (en) 2011-11-21 2016-11-29 Lam Research Corporation Plasma processing chamber with flexible symmetric RF return strap
US9083182B2 (en) 2011-11-21 2015-07-14 Lam Research Corporation Bypass capacitors for high voltage bias power in the mid frequency RF range
US9263240B2 (en) 2011-11-22 2016-02-16 Lam Research Corporation Dual zone temperature control of upper electrodes
US9396908B2 (en) 2011-11-22 2016-07-19 Lam Research Corporation Systems and methods for controlling a plasma edge region
US8898889B2 (en) 2011-11-22 2014-12-02 Lam Research Corporation Chuck assembly for plasma processing
US10586686B2 (en) 2011-11-22 2020-03-10 Law Research Corporation Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery
US10622195B2 (en) 2011-11-22 2020-04-14 Lam Research Corporation Multi zone gas injection upper electrode system
US11127571B2 (en) 2011-11-22 2021-09-21 Lam Research Corporation Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery
US10283325B2 (en) 2012-10-10 2019-05-07 Lam Research Corporation Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
RU2558728C1 (ru) * 2014-05-29 2015-08-10 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) Комбинированный индукционно-дуговой плазмотрон и способ поджига индукционного разряда

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2056702C1 (ru) Трансформаторный плазмотрон
US10674594B2 (en) Harmonic cold plasma device and associated methods
US5503809A (en) Compact ozone generator
US6815899B2 (en) Remote plasma generator
US3280018A (en) Method for chemically reacting flowing gases
RU2094961C1 (ru) Трансформаторный плазмотрон
US5374802A (en) Vortex arc generator and method of controlling the length of the arc
US4013867A (en) Polyphase arc heater system
US10010854B2 (en) Plasma reactor for liquid and gas
US3308050A (en) Electric discharge apparatus for chemically reacting flowing gases
KR101670296B1 (ko) 파티클 저감 구조를 갖는 플라즈마 챔버
US3480829A (en) Electric arc light source and method
RU2061262C1 (ru) Обмотка для создания тороидального магнитного поля
US20030194358A1 (en) Ozone generator
KR100464809B1 (ko) 원격 플라즈마 발생기
US4454436A (en) Disc-shaped M.H.D. generator
US20240216887A1 (en) Plasma reactor for plasma-based gas conversion comprising an effusion nozzle
RU2407249C2 (ru) Устройство для получения плазмы с разомкнутым магнитопроводом и способ осуществления электрического разряда и получения плазмы в нем
RU2775363C1 (ru) Электродуговой плазмотрон переменного тока
RU2379860C1 (ru) Трансформаторный плазмотрон с диэлектрической разрядной камерой
RU2083484C1 (ru) Конверсор
US6967009B2 (en) Ozone generator
RU2558728C1 (ru) Комбинированный индукционно-дуговой плазмотрон и способ поджига индукционного разряда
RU2001104702A (ru) Магнито-гидродинамический преобразователь энергии
US3469143A (en) Electric arc light source having undercut recessed anode