RU2033475C1 - Method of vacuum condensation application of coats - Google Patents
Method of vacuum condensation application of coats Download PDFInfo
- Publication number
- RU2033475C1 RU2033475C1 RU92011255A RU92011255A RU2033475C1 RU 2033475 C1 RU2033475 C1 RU 2033475C1 RU 92011255 A RU92011255 A RU 92011255A RU 92011255 A RU92011255 A RU 92011255A RU 2033475 C1 RU2033475 C1 RU 2033475C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electron beam
- target
- evaporation
- sprayed
- substrate
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к металлургии, а более конкретно к получению защитных и декоративных покрытий, и может найти применение практически во всех отраслях машиностроения и металлообработки. The invention relates to metallurgy, and more specifically to the production of protective and decorative coatings, and can find application in almost all branches of engineering and metalworking.
Известен способ конденсационного нанесения покрытий в вакууме, по которому создают дуговой разряд низкого давления между катодом и коаксиально ему расположенным анодом, распыляют катод, создают поток пара и конденсируют покрытие на подложке. A known method of condensation coating in vacuum, which create an arc of low pressure between the cathode and the anode coaxially located thereon, spray the cathode, create a vapor stream and condense the coating on the substrate.
Недостаток данного способа состоит в наличии в потоке пара микрокапель величиной в десятки микронов, которые, осаждаясь на подложке, ухудшают качество покрытия (в частности, снижают адгезию и негативно влияют на электрофизические и оптические свойства напыленного слоя). The disadvantage of this method is the presence in the steam stream of microdrops of tens of microns in size, which, deposited on the substrate, impair the quality of the coating (in particular, reduce adhesion and adversely affect the electrophysical and optical properties of the sprayed layer).
Наиболее близким к изобретению является способ вакуумного конденсационного нанесения покрытий, по которому создают поток пара путем бомбардировки распыляемой мишени сканирующим по ее поверхности электронным пучком, направляют поток пара на подложку и конденсируют покрытие на подложке. За счет непрерывного сканирования электронного пучка по поверхности мишени последняя поддерживается в расплавленном состоянии. Closest to the invention is a method of vacuum condensation coating, in which a vapor stream is created by bombarding the sprayed target with an electron beam scanning on its surface, the vapor stream is directed onto the substrate and the coating is condensed on the substrate. Due to the continuous scanning of the electron beam over the target surface, the latter is maintained in the molten state.
Этот cпоcоб, принятый в качестве прототипа изобретения, также не свободен от недостатков. Так, для него характерна невысокая эффективность испарения, особенно при использовании водоохлаждаемой мишени. This method, adopted as a prototype of the invention, is also not free from disadvantages. So, it is characterized by low evaporation efficiency, especially when using a water-cooled target.
Изобретение позволяет устранить указанный недостаток прототипа, повысить эффективность процесса за счет снижения энергозатрат. The invention allows to eliminate the specified disadvantage of the prototype, to improve the efficiency of the process by reducing energy consumption.
Указанная задача решается благодаря тому, что по способу, по которому создают поток пара путем бомбардировки распыляемой мишени сканирующим по ее поверхности электронным пучком, направляют поток пара на подложку и конденсируют покрытие на подложке, осуществляют фиксацию электронного пучка в каждой из бомбардируемых точек поверхности распыляемой мишени в течение времени t, определяемого по формуле:
K <t< где L, δ C, Тпл и а соответственно удельная теплота испарения, глубина пробега электронов, удельная теплоемкость, температура плавления и коэффициент температуропроводности материала мишени;
Uэ и Рэ соответственно ускоряющее напряжение и поверхностная плотность мощ- ности электронного пучка; К 2,35 ˙ 10-15 коэффициент пропорциональности.This problem is solved due to the fact that according to the method by which a vapor stream is created by bombarding a sprayed target with an electron beam scanning on its surface, the steam stream is directed onto the substrate and the coating is condensed on the substrate, the electron beam is fixed in each of the bombarded points of the surface of the sprayed target in the flow of time t, determined by the formula:
K <t < where L, δ C, T pl and a, respectively, specific heat of evaporation, electron mean free path, specific heat, melting temperature and thermal diffusivity of the target material;
U e and R e, respectively, accelerating voltage and surface power density of the electron beam; To 2.35 ˙ 10 -15 coefficient of proportionality.
Фиксирование электронного пучка в каждой из точек поверхности распыляемой мишени при соблюдении зависимости (1) между свойствами материала мишени, энергетическими параметрами электронного пучка и временем фиксации приводит к взрывному (близкому к сублимационному характеру эмиссии материала мишенью. Указанный характер испарения качественно отличен от такового в прототипе. The fixation of the electron beam at each point on the surface of the sputtered target, subject to dependence (1) between the properties of the target material, the energy parameters of the electron beam and the fixation time, leads to explosive (close to the sublimation nature of the emission of the material by the target. This characterization of evaporation is qualitatively different from that in the prototype.
Взрывное испарение материала происходит в малом объеме, где имеют место торможение электронов и выделение энергии электронного пучка. При этом более 60% его энергии расходуется на испарение материала мишени, а тепловые потери на нагрев всей мишени не превышают 5.15%
При реализации способов нанесения покрытий, принятых в качестве аналога и прототипа, составы конденсата и испаряемого сплава существенно различаются. Конденсат обогащается элементом сплава с более высоким парциальным давлением паров. В результате избирательного испарения формируется покрытие со слоистой структурой. Для выравнивания химического состава и изменения структуры слоя приходится применять дополнительную операцию (высокотемпературный отжиг).Explosive evaporation of the material takes place in a small volume, where electron braking and electron beam energy release take place. Moreover, more than 60% of its energy is spent on the evaporation of the target material, and the heat loss on heating the entire target does not exceed 5.15%
When implementing coating methods adopted as an analogue and prototype, the compositions of the condensate and the vaporized alloy are significantly different. Condensate is enriched in an alloy element with a higher partial vapor pressure. As a result of selective evaporation, a coating with a layered structure is formed. To equalize the chemical composition and change the structure of the layer, an additional operation (high-temperature annealing) has to be applied.
Использование изобретения позволяет, с одной стороны, исключить образование крупнокапельной фазы, что объясняется близким к сублимационному характером эмиссии напыляемого материала, а с другой стороны максимально приблизить состав конденсированного покрытия к составу материала распыляемой мишени. The use of the invention allows, on the one hand, to exclude the formation of a large droplet phase, which is explained by the close to sublimation nature of the emission of the sprayed material, and on the other hand, maximally approximate the composition of the condensed coating to the composition of the material of the sprayed target.
На чертеже представлена схема для реализации способа. The drawing shows a diagram for implementing the method.
С помощью источника 1 создается электронный пучок 2, который направляется на поверхность распыляемой мишени 3. Посредством отклоняющей системы 4 осуществляются сканирование электронного пучка по поверхности распыляемой мишени и его фиксирование в отдельных ее точках на время t, заданное зависимостью (1). Кратковременная интенсивная бомбардировка микроучастка распыляемой мишени (точка 5) в течение указанного времени приводит к взрывному (близкому к сублимационному) испарению микрообъема материала. Образовавшийся паровой поток 6 направляется на подложку 7, где производится конденсация с образованием покрытия. Электронный пучок 2 посредством отклоняющей системы 4 перемещается в другую точку (8) поверхности распыляемой мишени, и элементарный цикл повторяется до образования покрытия требуемой толщины на подлежащей напылению поверхности подложки. Using the
Возможность осуществления изобретения подтверждается примерами его практической реализации. The possibility of carrying out the invention is confirmed by examples of its practical implementation.
П р и м е р 1. Наносили покрытие с использованием признаков способа, включенных в формулу изобретения, и способа-прототипа. Материал распыляемой мишени медь. Результаты испытаний сведены в таблицу. PRI me
Таким образом, эффективность испарения повысилась почти в 8 раз. Thus, the evaporation efficiency increased by almost 8 times.
П р и м е р 2. Параметры способа такие же, как в примере 1, однако время t выбрано равным 12 мкс. При этом испарение практически прекращалось ввиду малости времени фиксирования: энергии, подводимой электронами, оказалось недостаточно для обеспечения взрывного характера испарения материала. PRI me
Claims (1)
где L, δ C, Tп л, a соответственно удельная теплота испарения, глубина пробега электронов, удельная теплоемкость, температура плавления и коэффициент температуропроводности материала распыляемой мишени,
Vэ, Pэ соответственно ускоряющее напряжение и поверхностная плотность мощности электронного пучка;
K 2,35 · 10- 1 5 коэффициент пропорциональности.METHOD OF VACUUM CONDENSATION COVERING, in which a steam stream is created by bombarding the sprayed target with an electron beam scanning on its surface, direct the steam stream onto the substrate and condense the coating on the substrate, characterized in that the electron beam is fixed in each of the bombarded points of the surface of the sprayed target in the passage of time t determined by the formula
where L, δ C, T p l , a, respectively, specific heat of evaporation, electron mean free path, specific heat, melting temperature and thermal diffusivity of the material of the sprayed target,
V e , P e, respectively, accelerating voltage and surface power density of the electron beam;
K 2.35 · 10 - 1 5 coefficient of proportionality.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU92011255A RU2033475C1 (en) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | Method of vacuum condensation application of coats |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU92011255A RU2033475C1 (en) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | Method of vacuum condensation application of coats |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2033475C1 true RU2033475C1 (en) | 1995-04-20 |
RU92011255A RU92011255A (en) | 1995-12-27 |
Family
ID=20133426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU92011255A RU2033475C1 (en) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | Method of vacuum condensation application of coats |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2033475C1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2532742C1 (en) * | 2013-05-15 | 2014-11-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук | Method of producing fullerene-containing film on substrate |
-
1992
- 1992-12-10 RU RU92011255A patent/RU2033475C1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Шиллер З. и др. Электронно-лучевая технология. М.: Энергия, 1980, с.203. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2532742C1 (en) * | 2013-05-15 | 2014-11-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук | Method of producing fullerene-containing film on substrate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Tudose et al. | Chemical and physical methods for multifunctional nanostructured interface fabrication | |
Takikawa et al. | Review of cathodic arc deposition for preparing droplet-free thin films | |
US7014889B2 (en) | Process and apparatus for plasma activated depositions in a vacuum | |
US4152478A (en) | Ionized-cluster deposited on a substrate and method of depositing ionized cluster on a substrate | |
JP6650442B2 (en) | Apparatus for forming a coating on the surface of a component, band-like material or tool | |
JPS6199672A (en) | Method and apparatus for surface treatment of article to be processed | |
US7556695B2 (en) | Apparatus to make nanolaminate thermal barrier coatings | |
US8343591B2 (en) | Method for use with a coating process | |
US3854984A (en) | Vacuum deposition of multi-element coatings and films with a single source | |
RU2033475C1 (en) | Method of vacuum condensation application of coats | |
CN103469164A (en) | Device and method for realizing plasma activation electron beam physical vapor deposition | |
JPH0372067A (en) | Arc discharge type evaporator having a plurality of evaporating crucibles | |
RU2205893C2 (en) | Method and apparatus for plasma chemical deposition of coatings | |
Metzner et al. | Plasma-activated electron beam deposition with diffuse cathodic vacuum arc discharge (SAD): a technique for coating strip steel | |
JPH0625835A (en) | Vacuum deposition method and vacuum deposition device | |
JPH04198474A (en) | Ion plating method and device | |
RU2146724C1 (en) | Method for depositing composite coatings | |
JP2505375B2 (en) | Method and apparatus for forming compound film | |
JPS6320447A (en) | Method and apparatus for continuous coating of metallic strip with ceramics | |
KR950000010B1 (en) | Ion plating method and processing apparatus therefor | |
RU2164549C2 (en) | Method for evaporation and condensation of current conductive materials | |
JPS6347362A (en) | Ion plating device | |
JP2505376B2 (en) | Film forming method and apparatus | |
JP2000054114A (en) | Film structure excellent in heat and wear resistance | |
JPH02243757A (en) | Formation of stainless alloy coating film |