RU2013150512A - Температурная компенсация в устройстве cmut - Google Patents

Температурная компенсация в устройстве cmut Download PDF

Info

Publication number
RU2013150512A
RU2013150512A RU2013150512/28A RU2013150512A RU2013150512A RU 2013150512 A RU2013150512 A RU 2013150512A RU 2013150512/28 A RU2013150512/28 A RU 2013150512/28A RU 2013150512 A RU2013150512 A RU 2013150512A RU 2013150512 A RU2013150512 A RU 2013150512A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
membrane
electrode
cmut device
cavity
temperature
Prior art date
Application number
RU2013150512/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2590938C2 (ru
Inventor
Петер ДИРКСЕН
Адриан ЛЕВЕСТЕЙН
Original Assignee
Конинклейке Филипс Н.В.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Конинклейке Филипс Н.В. filed Critical Конинклейке Филипс Н.В.
Publication of RU2013150512A publication Critical patent/RU2013150512A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2590938C2 publication Critical patent/RU2590938C2/ru

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B06GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS IN GENERAL
    • B06BMETHODS OR APPARATUS FOR GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS OF INFRASONIC, SONIC, OR ULTRASONIC FREQUENCY, e.g. FOR PERFORMING MECHANICAL WORK IN GENERAL
    • B06B1/00Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency
    • B06B1/02Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B06GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS IN GENERAL
    • B06BMETHODS OR APPARATUS FOR GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS OF INFRASONIC, SONIC, OR ULTRASONIC FREQUENCY, e.g. FOR PERFORMING MECHANICAL WORK IN GENERAL
    • B06B1/00Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency
    • B06B1/02Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy
    • B06B1/0292Electrostatic transducers, e.g. electret-type
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • B81B3/0064Constitution or structural means for improving or controlling the physical properties of a device
    • B81B3/0081Thermal properties
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49005Acoustic transducer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Transducers For Ultrasonic Waves (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Ultra Sonic Daignosis Equipment (AREA)

Abstract

1. Устройство CMUT, содержащее,кремниевую подложку (10),полость (12),мембрану (13),причем мембрана и кремниевая подложка, каждая, выполнены с возможностью образования боковой стороны полости, упомянутые боковые стороны расположены друг напротив друга,первый электрод (11), расположенный рядом с полостью и параллельно ей, выполнен соприкасающимся с кремниевой подложкой,второй электрод (14), расположенный рядом с полостью и параллельно ей, напротив первого электрода и встроенный в мембрану,отличающееся тем, чтоустройство CMUT дополнительно содержит средства (30) температурной компенсации,причем такие средства выполнены с возможностью уменьшения вызванного температурой отклонения мембраны посредством конструкционных характеристик мембраны, при этом конструкционные характеристики мембраны дают в результате сведение к минимуму вызванного температурой момента мембраны.2. Устройство CMUT по п. 1, в которомсредства температурной компенсации выполнены с возможностью уменьшения вызванного температурой отклонения мембраны, h, в соответствии с:где h представляет собой вызванное температурой отклонение мембраны в направлении подложки в центральной точке полости,M представляет собой вызванный температурой момент мембраны,D представляет собой изгибную жесткость пластины,rпредставляет собой радиус мембраны в качестве заданного от центральной точки полости,rпредставляет собой радиус второго электрода в качестве заданного от центральной точки полости,h, hи hпредставляют собой расстояния до первой боковой стороны второго электрода, второй боковой стороны второго электрода и толщину мембраны соответственно, как измерено от бок

Claims (16)

1. Устройство CMUT, содержащее,
кремниевую подложку (10),
полость (12),
мембрану (13),
причем мембрана и кремниевая подложка, каждая, выполнены с возможностью образования боковой стороны полости, упомянутые боковые стороны расположены друг напротив друга,
первый электрод (11), расположенный рядом с полостью и параллельно ей, выполнен соприкасающимся с кремниевой подложкой,
второй электрод (14), расположенный рядом с полостью и параллельно ей, напротив первого электрода и встроенный в мембрану,
отличающееся тем, что
устройство CMUT дополнительно содержит средства (30) температурной компенсации,
причем такие средства выполнены с возможностью уменьшения вызванного температурой отклонения мембраны посредством конструкционных характеристик мембраны, при этом конструкционные характеристики мембраны дают в результате сведение к минимуму вызванного температурой момента мембраны.
2. Устройство CMUT по п. 1, в котором
средства температурной компенсации выполнены с возможностью уменьшения вызванного температурой отклонения мембраны, h, в соответствии с:
Figure 00000001
где h представляет собой вызванное температурой отклонение мембраны в направлении подложки в центральной точке полости,
M представляет собой вызванный температурой момент мембраны,
D представляет собой изгибную жесткость пластины,
rm представляет собой радиус мембраны в качестве заданного от центральной точки полости,
rb представляет собой радиус второго электрода в качестве заданного от центральной точки полости,
h1, h2 и h3 представляют собой расстояния до первой боковой стороны второго электрода, второй боковой стороны второго электрода и толщину мембраны соответственно, как измерено от боковой стороны мембраны, образующей боковую сторону полости,
ν представляет собой коэффициент Пуассона,
S представляет собой термическое напряжение в мембране,
E представляет собой модуль Юнга материала мембраны, причем E1 и E2 относятся к мембране и второму электроду соответственно,
ΔT представляет собой изменение температуры, и
α представляет собой коэффициент расширения материала, причем α1 и α2 относятся к мембране и второму электроду соответственно.
3. Устройство CMUT по п. 1 или 2, в котором второй электрод расположен симметрично по отношению к высоте мембраны таким образом, что (h1+h2)/2 равно или приблизительно равно ½ h3, тем самым уменьшая M до 0.
4. Устройство CMUT по п. 1 или 2, в котором толщина второго электрода уменьшена и положение второго электрода смещено по отношению к центральной оси мембраны, параллельной полости.
5. Устройство CMUT по п. 1 или 2, в котором второй электрод продолжается по всей мембране параллельно полости.
6. Устройство CMUT по п. 5, в котором rb=rm.
7. Устройство CMUT по п. 1 или 2, в котором устройство CMUT дополнительно содержит первую компенсирующую пластину, причем первая компенсирующая пластина состоит из такого же материала, как и второй электрод, и расположена на наружной поверхности мембраны, противоположной по отношению к полости, на боковой стороне, параллельной полости, пластина имеет радиус rb-top, как измерено от центральной точки полости так, что rb-top≤rb.
8. Устройство CMUT по п. 1 или 2, в котором устройство CMUT дополнительно содержит вторую компенсирующую пластину, причем вторая компенсирующая пластина выполнена в соответствии с размерами и составом второго электрода, вторая компенсирующая пластина и второй электрод расположены симметрично в мембране по отношению к центральной оси мембраны и параллельно полости.
9. Устройство CMUT по п. 1 или 2, в котором второй электрод устройства CMUT содержит узкое кольцо, расположенное для разделения и электрического разъединения внутренней части второго электрода и наружной части.
10. Устройство CMUT по п. 1 или 2, в котором мембрана содержит нитрид кремния, и второй электрод содержит алюминий или соединение алюминия.
11. Устройство CMUT по п. 1 или 2, дополнительно содержащее специальную интегральную схему (ASIC), причем ASIC представляет собой независимый компонент или интегрирована со CMUT.
12. Устройство ультразвукового формирования изображения, содержащее устройство CMUT по любому из указанных выше пп. 1-11.
13. Устройство регистрации давления, содержащее устройство CMUT по любому из указанных выше пп. 1-11.
14. Способ изготовления устройства CMUT по пп. 1-11, содержащий этапы:
изготовления устройства CMUT по любому из пп. 1-11,
обеспечения испытательного оборудования для устройства CMUT, причем испытательное оборудование выполнено с возможностью приведения в действие в диапазоне температур, предпочтительно содержащий диапазон температур, по меньшей мере, -55°C - +200°C, более предпочтительно содержащий диапазон температур +10°C - +60°C,
измерения температурной зависимости устройства CMUT, характеризуемой коэффициентом β.
15. Способ изготовления устройства CMUT по п. 14, дополнительно содержащий этап:
корректировки неполной температурной зависимости устройства CMUT посредством дополнительного изготовления для добавления первой или дополнительной первой компенсирующей пластины по п. 7.
16. Способ изготовления устройства CMUT по пп. 11, 14 или 15, содержащий дополнительный этап:
добавления постоянных данных о коэффициенте температурной зависимости β и/или уникального идентификатора в ASIC.
RU2013150512/28A 2011-04-13 2012-04-06 Температурная компенсация в устройстве cmut RU2590938C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP11162282.5 2011-04-13
EP11162282 2011-04-13
PCT/IB2012/051719 WO2012140556A2 (en) 2011-04-13 2012-04-06 Temperature compensation in a cmut device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2013150512A true RU2013150512A (ru) 2015-05-20
RU2590938C2 RU2590938C2 (ru) 2016-07-10

Family

ID=46025821

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013150512/28A RU2590938C2 (ru) 2011-04-13 2012-04-06 Температурная компенсация в устройстве cmut

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9550211B2 (ru)
EP (1) EP2696994B1 (ru)
JP (1) JP6141826B2 (ru)
CN (1) CN103459051B (ru)
BR (1) BR112013026005A2 (ru)
RU (1) RU2590938C2 (ru)
WO (1) WO2012140556A2 (ru)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2627282C2 (ru) * 2012-05-31 2017-08-04 Конинклейке Филипс Н.В. Полупроводниковая пластина и способ ее изготовления
JP6495545B2 (ja) * 2015-11-02 2019-04-03 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 超音波トランスジューサアレイ、プローブ及びシステム
US10101863B2 (en) * 2016-02-18 2018-10-16 Synaptics Incorporated Force calibration for temperature
KR102481368B1 (ko) 2016-04-26 2022-12-26 엘지전자 주식회사 스크롤 압축기
CN109152540A (zh) * 2016-05-20 2019-01-04 皇家飞利浦有限公司 用于使用多个压力传感器来确定脉搏波速度的设备、***和方法
DE112019004979T5 (de) 2018-10-05 2021-06-17 Knowles Electronics, Llc Verfahren zur Herstellung von MEMS-Membranen, die Wellungen umfassen
CN112840676B (zh) 2018-10-05 2022-05-03 美商楼氏电子有限公司 响应于声学信号来生成电信号的声学换能器和麦克风组件
WO2020072920A1 (en) 2018-10-05 2020-04-09 Knowles Electronics, Llc Microphone device with ingress protection
US11528546B2 (en) 2021-04-05 2022-12-13 Knowles Electronics, Llc Sealed vacuum MEMS die
US11540048B2 (en) 2021-04-16 2022-12-27 Knowles Electronics, Llc Reduced noise MEMS device with force feedback
US11649161B2 (en) 2021-07-26 2023-05-16 Knowles Electronics, Llc Diaphragm assembly with non-uniform pillar distribution
US11772961B2 (en) 2021-08-26 2023-10-03 Knowles Electronics, Llc MEMS device with perimeter barometric relief pierce
US11780726B2 (en) 2021-11-03 2023-10-10 Knowles Electronics, Llc Dual-diaphragm assembly having center constraint

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3715638A (en) * 1971-05-10 1973-02-06 Bendix Corp Temperature compensator for capacitive pressure transducers
US4016764A (en) * 1976-07-19 1977-04-12 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Temperature compensated, high resolution pressure transducer based on capacitance change principles
GB2048488B (en) 1979-04-26 1983-04-27 Rosemount Eng Co Ltd Differential pressure sensing apparatus
RU2010197C1 (ru) 1991-02-19 1994-03-30 Научно-исследовательский институт физических измерений Датчик давления
US5195373A (en) * 1991-04-17 1993-03-23 Southwest Research Institute Ultrasonic transducer for extreme temperature environments
US6831394B2 (en) * 2002-12-11 2004-12-14 General Electric Company Backing material for micromachined ultrasonic transducer devices
JP2007531357A (ja) * 2004-02-27 2007-11-01 ジョージア テック リサーチ コーポレイション ハーモニックcmut素子及び製造方法
EP1769573A4 (en) * 2004-02-27 2010-08-18 Georgia Tech Res Inst MULTIPLE-ELEMENT-ELECTRODE-CMUT-COMPONENTS AND MANUFACTURING METHOD
RU2310176C1 (ru) * 2006-02-13 2007-11-10 ФГУП "НИИ физических измерений" Полупроводниковый преобразователь давления
JP2008099036A (ja) * 2006-10-12 2008-04-24 Olympus Medical Systems Corp 超音波トランスデューサ、超音波探触子及び超音波診断装置
JP4885779B2 (ja) * 2007-03-29 2012-02-29 オリンパスメディカルシステムズ株式会社 静電容量型トランスデューサ装置及び体腔内超音波診断システム
EP2207484B1 (en) 2007-09-17 2016-11-09 Koninklijke Philips N.V. Production of pre-collapsed capacitive micro-machined ultrasonic transducers and applications thereof
JP5623084B2 (ja) 2007-11-29 2014-11-12 株式会社日立メディコ 超音波探触子及びこれを用いた超音波診断装置
RU2511671C2 (ru) 2008-09-16 2014-04-10 Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. Емкостной микрообработанный ультразвуковой преобразователь
WO2010061363A2 (en) * 2008-11-26 2010-06-03 Freescale Semiconductor, Inc. Electromechanical transducer device and method of forming a electromechanical transducer device
US10129656B2 (en) * 2009-01-30 2018-11-13 Avago Technologies International Sales Pte. Limited Active temperature control of piezoelectric membrane-based micro-electromechanical devices

Also Published As

Publication number Publication date
JP6141826B2 (ja) 2017-06-07
US9550211B2 (en) 2017-01-24
JP2014518028A (ja) 2014-07-24
RU2590938C2 (ru) 2016-07-10
US20140022865A1 (en) 2014-01-23
CN103459051A (zh) 2013-12-18
CN103459051B (zh) 2017-02-15
EP2696994A2 (en) 2014-02-19
EP2696994B1 (en) 2021-08-18
BR112013026005A2 (pt) 2016-12-20
WO2012140556A2 (en) 2012-10-18
WO2012140556A3 (en) 2013-06-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2013150512A (ru) Температурная компенсация в устройстве cmut
JP2014518028A5 (ru)
JP2007127607A (ja) センサブロック
CN106052915A (zh) 一种mems光纤压力传感器及制作方法
CN102439405B (zh) 物理量传感器
US20180159445A1 (en) Wafer and method of manufacturing the same
US11655145B2 (en) MEMS vibrator and MEMS oscillator
CN205861261U (zh) 一种mems光纤压力传感器
JP2010117179A (ja) 力検知素子
Gebhardt et al. Integrated piezoelectrics for smart microsystems-A teamwork of substrate and piezo
CN104931193A (zh) 一种带有参考真空室的mems皮拉尼计
JP2009250874A (ja) 物理量センサおよびその製造方法
JP2009265012A (ja) 半導体センサ
CN1651333A (zh) 多晶栅导电层构成的集成微机电***器件及其制备方法
JP6218330B2 (ja) 圧力センサ及びその製造方法
US20070062294A1 (en) Pressure sensor and method for manufacturing pressure sensor
JP2006292478A (ja) 物理量センサ
JPS60233863A (ja) 静電容量式圧力センサ
JP5618764B2 (ja) 燃焼機用圧力検出装置用パッケージ
JP2010181207A (ja) 力学量検出素子、及びその製造方法
Kalinkina et al. Reducing the Temperature Error of Thin-Film Structures of Micromechanical Elements in Mechatronic Pressure Sensors
US20210126184A1 (en) Piezoceramic Ultrasonic Transducer
JP2003232709A (ja) 薄膜の弾性率測定方法
JP5139759B2 (ja) 半導体圧力センサ
JP2005322890A (ja) 圧電/電歪膜型素子

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190407