RU2008138032A - LASER ELECTRON BEAM DEVICE FOR PICOSECOND PULSE GENERATION - Google Patents

LASER ELECTRON BEAM DEVICE FOR PICOSECOND PULSE GENERATION Download PDF

Info

Publication number
RU2008138032A
RU2008138032A RU2008138032/28A RU2008138032A RU2008138032A RU 2008138032 A RU2008138032 A RU 2008138032A RU 2008138032/28 A RU2008138032/28 A RU 2008138032/28A RU 2008138032 A RU2008138032 A RU 2008138032A RU 2008138032 A RU2008138032 A RU 2008138032A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electron beam
electron
laser
beam device
pulse generation
Prior art date
Application number
RU2008138032/28A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2391753C1 (en
Inventor
Владимир Николаевич Уласюк (RU)
Владимир Николаевич Уласюк
Валентина Филипповна Уласюк (RU)
Валентина Филипповна Уласюк
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная компания "ЭЛИТАР" (RU)
Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная компания "ЭЛИТАР"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная компания "ЭЛИТАР" (RU), Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная компания "ЭЛИТАР" filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная компания "ЭЛИТАР" (RU)
Priority to RU2008138032/28A priority Critical patent/RU2391753C1/en
Publication of RU2008138032A publication Critical patent/RU2008138032A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2391753C1 publication Critical patent/RU2391753C1/en

Links

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

Лазерный электронно-лучевой прибор, включающий электронную пушку, системы фокусировки и отклонения электронного пучка и лазерный экран, включающий плоскопараллельную полупроводниковую пластину с нанесенными на ее поверхности отражающими покрытиями, отличающийся тем, что содержит дополнительно СВЧ отклоняющую систему, расположенную между электронной пушкой и системой отклонения, и щелевую маску, выполненную из поглощающего электроны материала, расположенную на лазерном экране со стороны электронного пучка.A laser electron beam device including an electron gun, focusing systems and electron beam deflection and a laser screen including a plane-parallel semiconductor wafer with reflective coatings deposited on its surface, characterized in that it further comprises a microwave deflecting system located between the electron gun and the deflection system, and a slit mask made of an electron-absorbing material located on the laser screen from the side of the electron beam.

Claims (1)

Лазерный электронно-лучевой прибор, включающий электронную пушку, системы фокусировки и отклонения электронного пучка и лазерный экран, включающий плоскопараллельную полупроводниковую пластину с нанесенными на ее поверхности отражающими покрытиями, отличающийся тем, что содержит дополнительно СВЧ отклоняющую систему, расположенную между электронной пушкой и системой отклонения, и щелевую маску, выполненную из поглощающего электроны материала, расположенную на лазерном экране со стороны электронного пучка. A laser electron beam device including an electron gun, focusing systems and electron beam deflection and a laser screen including a plane-parallel semiconductor wafer with reflective coatings deposited on its surface, characterized in that it further comprises a microwave deflecting system located between the electron gun and the deflection system, and a slit mask made of an electron-absorbing material located on the laser screen from the side of the electron beam.
RU2008138032/28A 2008-09-23 2008-09-23 Laser electron-beam device for generating picosecond pulses RU2391753C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008138032/28A RU2391753C1 (en) 2008-09-23 2008-09-23 Laser electron-beam device for generating picosecond pulses

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008138032/28A RU2391753C1 (en) 2008-09-23 2008-09-23 Laser electron-beam device for generating picosecond pulses

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008138032A true RU2008138032A (en) 2010-03-27
RU2391753C1 RU2391753C1 (en) 2010-06-10

Family

ID=42138099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008138032/28A RU2391753C1 (en) 2008-09-23 2008-09-23 Laser electron-beam device for generating picosecond pulses

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2391753C1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
RU2391753C1 (en) 2010-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2008068691A3 (en) X-ray tube with multiple electron sources and common electron deflection unit
JP2008112999A (en) Charged particle exposure equipment
WO2008155715A3 (en) Fast dose modulation using z-deflection in a rotaring anode or rotaring frame tube
TW200702947A (en) Liquid immersion lithography system having a tilted showerhead relative to a substrate
EP1837897A4 (en) Laser plasma euv light source, target member, production method for target member, target supplying method, and euv exposure system
JP2011510431A5 (en)
TW200627087A (en) Methods and systems for lithographic beam generation
TW200715337A (en) Device for generating X-ray or XUV radiation
MY193121A (en) Laser-cutting using selective polarization
EP2124243A3 (en) Electron beam focusing electrode and electron gun using the same
JP6047654B2 (en) Device for generating an electron beam
WO2012075182A3 (en) Electron beam column and methods of using same
JP2017053823A (en) Electron beam irradiation apparatus
US20170019981A1 (en) Novel solution for euv power increment at wafer level
TW200746273A (en) Ion beam irradiating apparatus, and method of producing semiconductor device
KR20150081149A (en) Photoconductive antenna
US8979282B2 (en) Device for projecting an image on a surface and device for moving said image
RU2008138032A (en) LASER ELECTRON BEAM DEVICE FOR PICOSECOND PULSE GENERATION
TW200732645A (en) Device and method for controlling an angular coverage of a light beam
US7902504B2 (en) Charged particle beam reflector device and electron microscope
US20180005721A1 (en) X-ray generator
EP1492395A3 (en) Laser-produced plasma EUV light source with isolated plasma
SG148958A1 (en) Systems and methods for curing a deposited layer on a substrate
KR101104484B1 (en) Apparatus for generating femtosecond electron beam
Nakamura et al. Ablation dynamics of tin micro-droplet irradiated by double pulse laser used for extreme ultraviolet lithography source

Legal Events

Date Code Title Description
NF4A Reinstatement of patent

Effective date: 20111020

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20120924

NF4A Reinstatement of patent

Effective date: 20141027

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20150924