RU2006132106A -
METHOD FOR GROWING MONOCRYSTALS OF SEMICONDUCTOR COMPOUNDS OF TYPE A3B5
- Google Patents
METHOD FOR GROWING MONOCRYSTALS OF SEMICONDUCTOR COMPOUNDS OF TYPE A3B5
Download PDF
Info
Publication number
RU2006132106A
RU2006132106ARU2006132106/15ARU2006132106ARU2006132106ARU 2006132106 ARU2006132106 ARU 2006132106ARU 2006132106/15 ARU2006132106/15 ARU 2006132106/15ARU 2006132106 ARU2006132106 ARU 2006132106ARU 2006132106 ARU2006132106 ARU 2006132106A
Федеральное государственное унитарное предпри тие"Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет" (RU)
Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное унитарное предпри тие"Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет" (RU), Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет"filedCriticalФедеральное государственное унитарное предпри тие"Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет" (RU)
Priority to RU2006132106/15ApriorityCriticalpatent/RU2327824C1/en
Publication of RU2006132106ApublicationCriticalpatent/RU2006132106A/en
Application grantedgrantedCritical
Publication of RU2327824C1publicationCriticalpatent/RU2327824C1/en
Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed
(AREA)
Claims (2)
1. Способ выращивания монокристаллов полупроводниковых соединений типа А3В5 вертикальной направленной кристаллизацией, включающий кристаллизацию расплава в тигле на затравочный кристалл, расположенный в нижней части тигля и имеющий площадь поперечного сечения много меньше площади основного сечения тигля, отличающийся тем, что в качестве затравочного кристалла используют монокристалл, в котором линии дислокации преимущественно расположены под углом к вертикали 45 градусов и более.1. A method of growing single crystals of type A 3 B 5 semiconductor compounds by vertical directional crystallization, comprising crystallizing the melt in a crucible onto a seed crystal located in the lower part of the crucible and having a cross-sectional area much smaller than the crucible main cross-sectional area, characterized in that it is a seed crystal use a single crystal in which the dislocation lines are mainly located at an angle to the vertical of 45 degrees or more.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве затравочного кристалла используют монокристалл, содержащий изовалентную легирующую примесь с концентрацией выше 1018 атом/см3.2. The method according to claim 1, characterized in that as the seed crystal using a single crystal containing isovalent dopant with a concentration of above 10 18 atom / cm 3 .
RU2006132106/15A2006-09-072006-09-07Method of single crystal growth for semiconductors of type a3b5
RU2327824C1
(en)