RU2006120309A - DEVICE FOR PLASMA-CHEMICAL PROCESSING OF MATERIALS - Google Patents

Claims (1)

Устройство для плазмохимической обработки материалов состоит из последовательно расположенных по направлению к центру системы и помещенных в высоковакуумную камеру диаметрально противоположных источника электронов и мишени из материала для напыления, электронно-оптической системы для транспортировки пучка электронов с плотностью тока около 0,3 А/см², внешних катушек магнитного поля с индукцией вдоль пучка электронов порядка 50 Гс, камеры пучково-плазменного разряда с подачей рабочего газа и расположенного перпендикулярно траектории пучка электронов ввода вращения-перемещения с закрепленным образцом и возможностью подачи напряжения смещения.A device for plasma-chemical processing of materials consists of diametrically opposite electron sources and targets from a material for sputtering, electronically-optical systems for transporting an electron beam with a current density of about 0.3 A / cm ² , sequentially located towards the center of the system and placed in a high vacuum chamber external coils of a magnetic field with induction along an electron beam of the order of 50 G, a beam-plasma discharge chamber with a working gas supply and a trajectory located perpendicular electron beam input rotational displacement with clamped-pattern and for supplying the bias voltage.