RU2000106644A - COMPOSITE MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING IT, RADIATING HEAT PANEL FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE (OPTIONS), DIELECTRIC PANEL AND ELECTROSTATIC ABSORBENT - Google Patents

COMPOSITE MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING IT, RADIATING HEAT PANEL FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE (OPTIONS), DIELECTRIC PANEL AND ELECTROSTATIC ABSORBENT

Info

Publication number
RU2000106644A
RU2000106644A RU2000106644/28A RU2000106644A RU2000106644A RU 2000106644 A RU2000106644 A RU 2000106644A RU 2000106644/28 A RU2000106644/28 A RU 2000106644/28A RU 2000106644 A RU2000106644 A RU 2000106644A RU 2000106644 A RU2000106644 A RU 2000106644A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
heat
semiconductor device
panel
radiating
radiating panel
Prior art date
Application number
RU2000106644/28A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2198949C2 (en
Inventor
Казутака ОКАМОТО
Йасуо КОНДО
Теруйоси АБЕ
Йасухиса АОНО
Дзунйа КАНЕДА
Риуити САИТО
Йосихико КОИКЕ
Original Assignee
Хитачи, Лтд.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP06954099A external-priority patent/JP3690171B2/en
Application filed by Хитачи, Лтд. filed Critical Хитачи, Лтд.
Publication of RU2000106644A publication Critical patent/RU2000106644A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2198949C2 publication Critical patent/RU2198949C2/en

Links

Claims (21)

1. Композитный материал, содержащий металл и неорганическое соединение, причем большая часть указанного соединения представляет собой гранулированные зерна с размером не более, чем 50 мкм, и дендриты.1. A composite material containing metal and an inorganic compound, with most of this compound being granular grains with a size of not more than 50 μm, and dendrites. 2. Композитный материал по п. 1, в котором каждый из дендритов имеет стержнеподобный ствол и ветви гранулированной формы, сформированные около ствола. 2. The composite material according to claim 1, wherein each of the dendrites has a rod-like trunk and granular shaped branches formed near the trunk. 3. Композитный материал по пп. 1-2, в котором большая часть соединения представляет собой гранулированные зерна размером от 5 мкм до не более чем 50 мкм и дендриты, причем от 1 до 10% всего указанного соединения представляет собой мелкие гранулированные зерна с диаметром не более 1 мкм. 3. Composite material according to paragraphs. 1-2, in which most of the compounds are granular grains ranging in size from 5 microns to not more than 50 microns and dendrites, and from 1 to 10% of the total specified compound is small granular grains with a diameter of not more than 1 micron. 4. Композитный материал по любому из пп. 1-3, у которого коэффициент теплового расширения или теплопроводность в направлении отвердевания больше, чем в направлении, вертикальном по отношению к направлению отвердевания. 4. Composite material according to any one of paragraphs. 1-3, in which the coefficient of thermal expansion or thermal conductivity in the direction of solidification is greater than in the direction vertical to the direction of solidification. 5. Композитный материал по любому из пп. 1-4, который содержит медь и от 10 до 55% по объему оксида меди, причем указанный материал имеет коэффициент линейного расширения в температурном диапазоне от комнатной температуры до 300oС от 5•10-6/oС до 17•10-6/oС, теплопроводность при комнатной температуре от 100 до 380 (Вт/(м•К), и обладает анизотропией.5. Composite material according to any one of paragraphs. 1-4, which contains copper and from 10 to 55% by volume of copper oxide, and the specified material has a coefficient of linear expansion in the temperature range from room temperature to 300 o From 5 • 10 -6 / o C to 17 • 10 -6 / o C, thermal conductivity at room temperature from 100 to 380 (W / (m • K), and has anisotropy. 6. Композитный материал по п. 5, в котором кристаллы оксида меди имеют форму стержней, ориентированных в одном направлении, причем указанный материал имеет коэффициент линейного расширения в температурном диапазоне от комнатной температуры до 300oС от 5•10-6/oС до 17•10-6/oС, теплопроводность при комнатной температуре от 100 до 380 (Вт/(м•К), и другое значение теплопроводности в ориентированном направлении выше, чем в направлении, расположенном под прямым углом к ориентированному направлению, и разница между этими двумя значениями составляет от 5 до 100 Вт/(м•К).6. The composite material according to claim 5, in which the crystals of copper oxide have the shape of rods oriented in one direction, said material having a coefficient of linear expansion in the temperature range from room temperature to 300 ° C from 5 • 10 -6 / o C to 17 • 10 -6 / o С, thermal conductivity at room temperature from 100 to 380 (W / (m • K), and another value of thermal conductivity in the oriented direction is higher than in the direction located at right angles to the oriented direction, and the difference between these two values is about 5 to 100 W / (m • K). 7. Композитный материал по любому из пп. 1-6, в котором неорганическое соединение имеет форму стержней, ориентированных в одном направлении. 7. Composite material according to any one of paragraphs. 1-6, in which the inorganic compound is in the form of rods oriented in one direction. 8. Композитный материал по пп. 5 или 6, который является способным пластически обрабатываться. 8. Composite material according to paragraphs. 5 or 6, which is capable of being plastically machined. 9. Способ получения композитного материала, содержащий стадии получения металла и неорганического соединения, которое формирует эвтектическую структуру с указанным металлом, и плавления и отверждения металла и неорганического соединения. 9. A method for producing a composite material comprising the steps of producing a metal and an inorganic compound that forms a eutectic structure with said metal, and melting and curing the metal and inorganic compound. 10. Способ получения композитного материала по п. 9, который содержит стадии плавления меди и оксида меди сырого материала в атмосфере с парциальным давлением кислорода от 10-2 Па до 103 Па, за которым следует литье, посредством которого получают литой материал, и холодная или горячая пластическая обработка указанного литого материала.10. The method of producing a composite material according to claim 9, which contains the stage of melting copper and copper oxide of the crude material in the atmosphere with a partial oxygen pressure of 10 -2 Pa to 10 3 Pa, followed by casting, by which the cast material is obtained, and cold or hot plastic processing of said cast material. 11. Излучающая тепло панель для полупроводникового прибора, изготовленная из указанного композитного материала по любому из пп. 1-9. 11. A heat-emitting panel for a semiconductor device made of the specified composite material according to any one of paragraphs. 1-9. 12. Панель по п. 11, которая имеет на своей поверхности слой никелевого гальванического покрытия. 12. The panel according to claim 11, which has on its surface a layer of nickel plating. 13. Полупроводниковый прибор, содержащий излучающую тепло панель, а также изолирующую подложку, укрепленную на излучающей тепло панели, и полупроводниковое устройство, укрепленное на указанной изолирующей подложке, причем указанная излучающая тепло панель является излучающей тепло панелью по п. 11 или 12. 13. A semiconductor device comprising a heat radiating panel, and an insulating substrate mounted on a heat radiating panel, and a semiconductor device mounted on a heat insulating substrate, said heat radiating panel being a heat radiating panel according to claim 11 or 12. 14. Полупроводниковый прибор, содержащий излучающую тепло панель, полупроводниковое устройство, смонтированное на излучающей тепло панели, рамку с внешними выводами, прикрепленную к излучающей тепло панели, и металлический провод для электрического подсоединения рамки с внешними выводами к полупроводниковому устройству, причем полупроводниковое устройство является загерметизированным с помощью полимерных смол, а указанная излучающая тепло панель является излучающей тепло панелью по п. 11 или 12. 14. A semiconductor device comprising a heat radiating panel, a semiconductor device mounted on a heat radiating panel, a frame with external terminals attached to the heat radiating panel, and a metal wire for electrically connecting the frame with external terminals to the semiconductor device, the semiconductor device being sealed with using polymer resins, and said heat-radiating panel is a heat-radiating panel according to claim 11 or 12. 15. Полупроводниковый прибор, содержащий излучающую тепло панель, полупроводниковое устройство, смонтированное на лицевой поверхности излучающей тепло панели, рамку с внешними выводами, прикрепленную к излучающей тепло панели, и металлический провод для подсоединения рамки с внешними выводами к полупроводниковому устройству, причем полупроводниковое устройство является загерметизированным с помощью полимерных смол, причем указанная излучающая тепло панель снабжена открытой поверхностью на стороне, противоположной поверхности установки полупроводникового устройства, причем излучающая тепло панель является излучающей тепло панелью по п. 11 или 12. 15. A semiconductor device comprising a heat emitting panel, a semiconductor device mounted on the front surface of the heat radiating panel, a frame with external terminals attached to the heat radiating panel, and a metal wire for connecting the frame with external terminals to the semiconductor device, the semiconductor device being sealed using polymer resins, and the specified heat-radiating panel is provided with an open surface on the side opposite the surface of the mouth new semiconductor device, and the radiating heat panel is a radiating heat panel according to claim 11 or 12. 16. Полупроводниковый прибор, содержащий излучающую тепло панель, полупроводниковое устройство, смонтированное на излучающей тепло панели, штыревой контакт, подобранный так, чтобы подсоединяться к внешней проводке, керамическую многослойную подложку, расположенную посередине, с открытым пространством для размещения полупроводникового устройства, металлический провод для электрического подсоединения полупроводникового устройства к контактам подложки, причем излучающая тепло панель и подложка присоединяются друг к другу таким образом, что полупроводниковое устройство расположено в указанном открытом пространстве, и крышка прикрепляется к подложке таким образом, что полупроводниковое устройство изолируется от окружающей атмосферы, а излучающая тепло панель является излучающей тепло панелью по п. 11 или 12. 16. A semiconductor device containing a heat-emitting panel, a semiconductor device mounted on a heat-radiating panel, a pin selected so as to be connected to an external wiring, a ceramic multilayer substrate located in the middle, with an open space for accommodating the semiconductor device, a metal wire for electrical connecting the semiconductor device to the contacts of the substrate, and the heat-emitting panel and the substrate are connected to each other in this way ohm, that the semiconductor device is located in the indicated open space, and the lid is attached to the substrate so that the semiconductor device is isolated from the surrounding atmosphere, and the heat-radiating panel is a heat-radiating panel according to claim 11 or 12. 17. Полупроводниковый прибор, содержащий излучающую тепло панель, полупроводниковое устройство, смонтированное на излучающей тепло панели, контакт, подобранный так, чтобы подсоединяться к внешней проводке, керамическую многослойную подложку, расположенную посередине, с вогнутой частью для размещения указанного полупроводникового устройства, металлической провод для электрического подсоединения указанного полупроводникового устройства к контактам подложки, причем излучающая тепло панель и подложка присоединяются друг к другу таким образом, что полупроводниковое устройство расположено в вогнутой части подложки, и крышка прикрепляется к подложке таким образом, что полупроводниковое устройство изолируется от окружающей атмосферы, а излучающая тепло панель является излучающей тепло панелью по п. 11 или 12. 17. A semiconductor device comprising a heat-emitting panel, a semiconductor device mounted on a heat-radiating panel, a contact selected so as to be connected to an external wiring, a ceramic multilayer substrate located in the middle with a concave portion for receiving said semiconductor device, a metal wire for electrical connecting the specified semiconductor device to the contacts of the substrate, and the heat-radiating panel and the substrate are connected to each other so such that the semiconductor device is located in the concave portion of the substrate, and the lid is attached to the substrate so that the semiconductor device is isolated from the surrounding atmosphere, and the heat-radiating panel is a heat-radiating panel according to claim 11 or 12. 18. Полупроводниковый прибор, содержащий излучающую тепло панель, полупроводниковое устройство, прикрепленное к излучающей тепло панели с помощью теплопроводящей полимерной смолы, рамку с внешними выводами, прикрепленную к керамической изолирующей подложке, TAB для электрического подсоединения полупроводникового устройства к рамке с внешними выводами, причем излучающая тепло панель и изолирующая подложка прикрепляются друг к другу таким образом, что полупроводниковое устройство изолируется от окружающей атмосферы, и гибкий корпус из теплопроводящей полимерной смолы, расположенный между полупроводниковым устройством и изолирующей подложкой, причем излучающая тепло панель является излучающей тепло панелью по п. 11 или 12. 18. A semiconductor device comprising a heat-emitting panel, a semiconductor device attached to a heat-radiating panel using a heat-conducting polymer resin, a frame with external terminals attached to a ceramic insulating substrate, TAB for electrically connecting the semiconductor device to a frame with external terminals, and radiating heat the panel and the insulating substrate are attached to each other so that the semiconductor device is isolated from the surrounding atmosphere, and a flexible housing of a thermally conductive polymer resin located between the semiconductor device and the insulating substrate, the heat emitting panel being a heat radiating panel according to claim 11 or 12. 19, Полупроводниковый прибор, содержащий первую излучающую тепло панель, полупроводниковое устройство, присоединенное с помощью металла, к первой излучающей тепло панели, вторую излучающую тепло панель, к которой прикрепляется заземляющая панель, причем первая излучающая тепло панель монтируется на второй излучающей тепло панели, и TAB электрически подсоединяется к контактам полупроводникового устройства, причем полупроводниковое устройство герметизируется с помощью полимерных смол, причем излучающая тепло панель является излучающей тепло панелью по п. 11 или 12. 19, A semiconductor device comprising a first heat-radiating panel, a metal semiconductor device connected to a first heat-radiating panel, a second heat-radiating panel to which a grounding panel is attached, the first heat-radiating panel being mounted on the second heat-radiating panel, and TAB electrically connected to the contacts of the semiconductor device, and the semiconductor device is sealed with polymer resins, and the heat-radiating panel is radiating heat panel according to claim 11 or 12. 20. Диэлектрическая панель для электростатических поглощающих устройств, причем панель изготавливается из композитного материала по одному из пп. 1-9. 20. The dielectric panel for electrostatic absorbing devices, and the panel is made of composite material according to one of paragraphs. 1-9. 21. Электростатическое поглощающее устройство, содержащее электродный слой и диэлектрическую панель, прикрепленную к электродному слою, в котором при приложении напряжения к электродному слою генерируется электростатическая сила притяжения между диэлектрической панелью и веществом, поэтому вещество прикрепляется к поверхности диэлектрической панели, причем диэлектрическая панель является диэлектрической панелью по п. 20. 21. An electrostatic absorption device comprising an electrode layer and a dielectric panel attached to an electrode layer, in which, when a voltage is applied to the electrode layer, an electrostatic attractive force is generated between the dielectric panel and the substance, therefore, the substance is attached to the surface of the dielectric panel, the dielectric panel being a dielectric panel under item 20.
RU2000106644/28A 1999-03-16 2000-03-15 Composite material, process of its production, panel of semiconductor device emitting heat, semiconductor device ( variants ), dielectric panel and electrostatic absorbing facility RU2198949C2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06954099A JP3690171B2 (en) 1999-03-16 1999-03-16 Composite material and its production method and application
JP11-069540 1999-03-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2000106644A true RU2000106644A (en) 2002-02-10
RU2198949C2 RU2198949C2 (en) 2003-02-20

Family

ID=13405664

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2000106644/28A RU2198949C2 (en) 1999-03-16 2000-03-15 Composite material, process of its production, panel of semiconductor device emitting heat, semiconductor device ( variants ), dielectric panel and electrostatic absorbing facility

Country Status (6)

Country Link
US (4) US6646344B1 (en)
EP (1) EP1036849B1 (en)
JP (1) JP3690171B2 (en)
KR (1) KR20010049226A (en)
DE (1) DE60017304T2 (en)
RU (1) RU2198949C2 (en)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030211062A1 (en) * 2001-05-07 2003-11-13 Karl Laden Anhydrous skin cleaners
JP4672902B2 (en) * 2001-05-11 2011-04-20 株式会社三社電機製作所 Power semiconductor module
JP2002368168A (en) * 2001-06-13 2002-12-20 Hitachi Ltd Composite member for semiconductor device, insulation- type semiconductor device or non-insulation type semiconductor device using the same
JP2003017254A (en) * 2001-06-29 2003-01-17 Sanyo Electric Co Ltd Manufacturing method of electroluminescent display
JP2003017255A (en) * 2001-06-29 2003-01-17 Sanyo Electric Co Ltd Manufacturing method of electroluminescent display
JP2003163342A (en) * 2001-11-29 2003-06-06 Olympus Optical Co Ltd Solid state imaging device and its manufacturing method
US20030146499A1 (en) * 2001-12-18 2003-08-07 Yasuo Kondo Composite material including copper and cuprous oxide and application thereof
JP3910072B2 (en) 2002-01-30 2007-04-25 東洋アルミニウム株式会社 Paste composition and solar cell using the same
JP3566269B2 (en) * 2002-06-07 2004-09-15 富士通株式会社 Lead frame, manufacturing method thereof, and semiconductor device.
DE10235771A1 (en) * 2002-08-05 2004-02-26 Texas Instruments Deutschland Gmbh Encapsulated chip and production process for smart labels has baseplate with conductive surrounding layer and cover plate with conductive surfaces
JP3740117B2 (en) * 2002-11-13 2006-02-01 三菱電機株式会社 Power semiconductor device
US6870243B2 (en) * 2002-11-27 2005-03-22 Freescale Semiconductor, Inc. Thin GaAs die with copper back-metal structure
US7449780B2 (en) * 2003-03-31 2008-11-11 Intel Corporation Apparatus to minimize thermal impedance using copper on die backside
US7239024B2 (en) * 2003-04-04 2007-07-03 Thomas Joel Massingill Semiconductor package with recess for die
KR100705868B1 (en) * 2003-05-06 2007-04-10 후지 덴키 디바이스 테크놀로지 가부시키가이샤 Semiconductor device and the method of manufacturing the same
US8395253B2 (en) * 2004-01-28 2013-03-12 International Rectifier Corporation Hermetic surface mounted power package
DE102004025082B4 (en) * 2004-05-21 2006-12-28 Infineon Technologies Ag Electrically and by radiation ignitable thyristor and method for its contacting
DE102004062183B3 (en) * 2004-12-23 2006-06-08 eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH Thyristor arrangement, has external resistance and temperature zone each comprising temperature coefficients, where coefficients of external resistance are smaller than coefficients of resistance zone in specific temperature range
JP2008044009A (en) * 2006-07-19 2008-02-28 Honda Motor Co Ltd Method of joining members having different thermal expansion coefficients
US8592256B2 (en) * 2007-02-16 2013-11-26 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Circuit board manufacturing method, semiconductor manufacturing apparatus, circuit board and semiconductor device
JP5252819B2 (en) * 2007-03-26 2013-07-31 三菱電機株式会社 Semiconductor device and manufacturing method thereof
US8067834B2 (en) * 2007-08-21 2011-11-29 Hvvi Semiconductors, Inc. Semiconductor component
US8253233B2 (en) 2008-02-14 2012-08-28 Infineon Technologies Ag Module including a sintered joint bonding a semiconductor chip to a copper surface
JP4748173B2 (en) * 2008-03-04 2011-08-17 株式会社デンソー Semiconductor module and manufacturing method thereof
MD249Z (en) * 2009-04-29 2011-02-28 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы Process for manufacturing a thermoelectric cooler for the Chip substrate
DE102011002458A1 (en) 2011-01-05 2012-07-05 Robert Bosch Gmbh Electronic assembly with improved thermal management
JP2013243340A (en) 2012-04-27 2013-12-05 Canon Inc Electronic component, mounting member, electronic apparatus, and manufacturing method of these
JP6296687B2 (en) 2012-04-27 2018-03-20 キヤノン株式会社 Electronic components, electronic modules, and methods for manufacturing them.
JP5885690B2 (en) * 2012-04-27 2016-03-15 キヤノン株式会社 Electronic components and equipment
US9433075B2 (en) * 2012-08-27 2016-08-30 Mitsubishi Electric Corporation Electric power semiconductor device
JP2017170627A (en) * 2016-03-18 2017-09-28 富士電機株式会社 Molded product manufacturing method and molded product
US11147156B2 (en) 2016-12-06 2021-10-12 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Composite member, heat radiation member, semiconductor device, and method of manufacturing composite member
EP3506344A1 (en) * 2017-12-29 2019-07-03 Siemens Aktiengesellschaft Semiconductor module
JP7202869B2 (en) * 2018-12-10 2023-01-12 ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社 Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
CN113133233A (en) * 2020-01-15 2021-07-16 浙江盘毂动力科技有限公司 Insulated heat-conducting encapsulated electrical element and encapsulating method thereof

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE68913800T2 (en) 1988-04-30 1994-07-14 Toyota Motor Co Ltd Process for the production of composite metal while accelerating the infiltration of the matrix metal by fine particles of a third material.
US5443615A (en) * 1991-02-08 1995-08-22 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Molded ceramic articles
US5045972A (en) 1990-08-27 1991-09-03 The Standard Oil Company High thermal conductivity metal matrix composite
US5089356A (en) 1990-09-17 1992-02-18 The Research Foundation Of State Univ. Of New York Carbon fiber reinforced tin-lead alloy as a low thermal expansion solder preform
DE69130227T2 (en) 1990-11-27 1999-01-21 Alcan International Ltd., Montreal, Quebec METHOD FOR PRODUCING IMPROVED HYPEREUTECTIC ALLOYS AND COMPOSITIONS BASED ON THEM
US5561321A (en) * 1992-07-03 1996-10-01 Noritake Co., Ltd. Ceramic-metal composite structure and process of producing same
US6238454B1 (en) * 1993-04-14 2001-05-29 Frank J. Polese Isotropic carbon/copper composites
US5490627A (en) * 1994-06-30 1996-02-13 Hughes Aircraft Company Direct bonding of copper composites to ceramics
JPH0837252A (en) * 1994-07-22 1996-02-06 Nec Corp Semiconductor device
JPH0878578A (en) 1994-09-08 1996-03-22 Sanyo Special Steel Co Ltd Material for heat dissipating substrate and manufacturing method thereof
JPH0891836A (en) * 1994-09-19 1996-04-09 Furukawa Co Ltd Production of cuprous oxide powder
JP3493844B2 (en) * 1994-11-15 2004-02-03 住友電気工業株式会社 Semiconductor substrate material, method of manufacturing the same, and semiconductor device using the substrate
JPH0915773A (en) 1995-06-30 1997-01-17 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photographic sensitive material
JP3426827B2 (en) 1995-12-25 2003-07-14 京セラ株式会社 Semiconductor device
JPH09209058A (en) 1996-01-30 1997-08-12 Kyocera Corp Composite material with high thermal conductivity and its production
US5882532A (en) * 1996-05-31 1999-03-16 Hewlett-Packard Company Fabrication of single-crystal silicon structures using sacrificial-layer wafer bonding
US6056186A (en) * 1996-06-25 2000-05-02 Brush Wellman Inc. Method for bonding a ceramic to a metal with a copper-containing shim
US6245442B1 (en) * 1997-05-28 2001-06-12 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Metal matrix composite casting and manufacturing method thereof
US6074888A (en) * 1998-08-18 2000-06-13 Trw Inc. Method for fabricating semiconductor micro epi-optical components
US6114048A (en) * 1998-09-04 2000-09-05 Brush Wellman, Inc. Functionally graded metal substrates and process for making same
KR20020035630A (en) 1998-12-07 2002-05-11 가나이 쓰도무 Composite material and application thereof
JP3040768B1 (en) * 1999-03-01 2000-05-15 株式会社 大阪合金工業所 Method for producing copper alloy ingot with suppressed casting defects, segregation and oxide content

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2000106644A (en) COMPOSITE MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING IT, RADIATING HEAT PANEL FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE (OPTIONS), DIELECTRIC PANEL AND ELECTROSTATIC ABSORBENT
US5379186A (en) Encapsulated electronic component having a heat diffusing layer
US6029343A (en) Insulated surface mount circuit board construction
US4700273A (en) Circuit assembly with semiconductor expansion matched thermal path
JPH0846070A (en) Integrated circuit package with diamond thermal radiator
US6075287A (en) Integrated, multi-chip, thermally conductive packaging device and methodology
US20030198022A1 (en) Power converter package with enhanced thermal management
FI88452C (en) Design to improve cooling of a power transistor
US4807018A (en) Method and package for dissipating heat generated by an integrated circuit chip
JPS6220700B2 (en)
RU2001119053A (en) Composite material and its application
KR101008772B1 (en) Thermal-conductive substrate package
JPH08316382A (en) Electronic module for removing heat from semiconductor die and its preparation
CN106783753A (en) Semiconductor devices
EP1225631A2 (en) Heat dissipation arrangement for electronic components
JP3193142B2 (en) Board
JPH0320067A (en) Semiconductor device fitted with ceramic heat-radiating fins
JP2005056916A (en) Circuit board
JPS6142864B2 (en)
JPH1098127A (en) Semiconductor package for surface mounting
JPH02132847A (en) Semiconductor device with ceramic heat dissipation fin
JP2008277408A (en) Heat radiation sheet
JPS61265849A (en) Power semiconductor device
JPH0818182A (en) Circuit board
JPH06181397A (en) Heat pipe system cooling device for circuit board