RU1782314C - Способ автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделий - Google Patents
Способ автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделийInfo
- Publication number
- RU1782314C RU1782314C SU904864752A SU4864752A RU1782314C RU 1782314 C RU1782314 C RU 1782314C SU 904864752 A SU904864752 A SU 904864752A SU 4864752 A SU4864752 A SU 4864752A RU 1782314 C RU1782314 C RU 1782314C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- parameters
- light strip
- information
- image
- line
- Prior art date
Links
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к измерительной технике, может быть использовано при автоматизации визуального контрол дефектов . Цель изобретени - повышение производительности, контрол . Способ автематического контрол заключаетс в сканировании контролируемой поверхности световой полоски, принимающей форму профил поверхности, анализе параметров формы и положени изображени световой полоски с помощью двумерного фотопреобразовател и микроЭВМ при обнаружении аномалии качества поверхности, осуществл емом фотопреобразовател ми, установленными в зоне диффузного отражени . Анализ параметров формы и положени изображени световой полоски включает в себ : определение построчно координат центров элементов бинарного изображени световой полоски; расчет дл бездефектного кадра ординат базовой линии, относительно которой определ ютс параметры дефектов (глубина, ширина, длина, площадь на заданной глубине и т.д.), сравниваемые с предельно допустимыми установленными величинами, и в зависимости от сравнени вырабатываютс сигналы разбраковки проконтролированных деталей и изделий. 2 з.п. ф-лы, 4 ил. С/) С
Description
Изобретение относитс к контрольно- измерительной технике, в частности к опти- ко-электронным способам контрол дефектов, полученных в результате механических повреждений, грубой обработки, несоблюдени технологических операций и т.п. на поверхност х деталей и изделий с учетом возможности оценки параметров дефектов в трех измерени х.
Известны способы контрол дефектов поверхностей, базирующиес на анализе либо амплитудных диаграмм рассе ни сканирующего светового пучка, отраженного от контролируемых поверхностей (за вка Японии №58-57684, кл.С 01 В 11/24,1983), либо градаций ркости изображени контролируемых поверхностей (за вка ФРГ № 3309584, кл. G01 В 11/30. 1983).
VI
оо
ю со
Ј
со
Применение этих способов контрол , достаточно просто реализуемых, позвол т решать задачи обнаружени и идентификации дефектов и частично метрологические, св занные с определением параметров дефектов , описываемых двумерной характеристикой (длина, ширина, площадь и т.д.). При этом вопрос получени заданной производительности контрол , как правило решаетс .
Однако контроль дефектов по глубине (высоте) данными способами невозможен. Это св зано, в зависимости от разновидностей способов, или с отсутствием в отраженном световом поле информации о глубине (высоте) дефектов, или с невозможностью ее выделить. Поэтому часто, из-за низкой достоверности контрол они не могут быть применены.
Известны также методы контрол дефектов поверхностей, позвол ющие решать весь комплекс задач дефектоскопировани поверхностей, в том числе и измер ть параметры дефектов по трем координатам. Наиболее распространенные из них это - метод светового сечени (Кучин А.А., Обрадович К.А. - Оптические приборы дл измерени шероховатости поверхности. - Л., Машиностроение . Л.О., 1981, с. 6-9) и триангул ционный метод (Быстрое Ю.А., Колгин Е.А., Котлецов Б.Н. - Технологический контроль размеров в микроэлектронном производстве . - М.: Радио и св зь, 1988, с.78, 79).
Вместе с тем, применение данных высокоинформативных методов контрол в де- фектоскопировании поверхностей ставит проблему обеспечени оптимального компромиссного решени между производительностью и точностью контрол .
Выражение, позвол ющее оценить производительность контрол при заданных параметрах сканировани , имеет вид
T -xA-ti-f|t2,(1)
-ti ,
tii 2Кгде Т - суммарное врем сканировани и обработки информации при осмотре поверхности деталей;
S - площадь осматриваемой поверхности;
А1, Д2 - шаги осмотра во взаимоперпендикул рных направлени х;
ti - врем сканировани и обработки информации в одном кадре;
k - число кадров, вписывающихс в базовый участок;
t2 - врем обработки информации, полученной на базовом участке.
Например, дл вы влени дефектов и определени их параметров в трех измерени х при осмотре поверхности площадью 1000 мм2 с дискретом 0,1 мм и, примен микроЭВМ, имеющую быстродействие 6 Ю6 операций в секунду, по формуле (1) получаем (дл триангул ционного метода)
Tmln -
1000 0,1 -0,1
10 3 300с;
дл метода светового сечени (длина световой полоски 3,0 мм) с учетом использовани фотоматричных приемников с параллельной выборкой информации и предварительной аппаратной обработкой, св занной с
определением координат центров элементов световой полоски дл каждой строки фотоматрицы
т - ЮОО 20lmln 3,0-0,1
10 ,3с.
Примечание. В примерах расчета Tmin не учитывалось врем , затрачиваемое на обработку информации, полученной на базовых участках, так как оно в основном зависит от требований к конкретным типам объектов контрол и, если не требуетс статистической обработки информации, то оно значительно меньше суммарного времени
обработки информации в кадрах.
В св зи с большим объемом информации , поступающей с фотоматрицы (примерно 160 кбайт в секунду), а также достаточно сложным алгоритмом обработки информации (см. дальше по тексту), достигаема производительность средств контрол даже при использовании микроЭВМ повышенного быстродействи при известных способах контрол не удовлетвор ет требовани м
производства.
Таким образом, обеспечение заданной точности и достоверности контрол при автоматизации визуального осмотра основной номенклатуры деталей и изделий не
позвол ет известными способами и устройствами получить требуемую производительность контрол .
Из существующих способов наиболее близким по технической сущности дл решени задачи контрол дефектов поверхностей деталей и изделий с учетом возможности определени параметров де- фектов(длина. ширина, глубина, площадь на заданной глубине и т.д.) вл етс способ,
описанный в статье (H.Kramer. Oberflachenmessung mit dem Laserllchtschnlttverfahren. Undustrle- Anzelger, v.100, 1978, N 103/104. p.p.60-61). при котором на сканируемой контролируемой поверхности на базовой длине формируют световую полоску, принимающую форму профил поверхности, изображение которой в отраженном свете стро т на двумерном фотоприемнике так, что оно пер- пендикул рно направлению строчной развертки, относительно начала которой определ ют построчно координаты передней границы изображени световой полоски , запоминают их и осуществл ют расчет в каждом кадре базовой линии и относительно нее параметров микро- и макрогеометрии рельефа поверхности.
Недостатками этого способа при контроле дефектов поверхности вл етс ;
низка производительность, обусловленна большим объемом перерабатываемой информации и вычислений;
снижение точности и достоверности контрол в св зи с тем, что средн лини , вл юща с базой отсчета параметров дефектов определ етс по информации, сн той при сканировании участков поверхности с аномали ми качества;
снижение точности и достоверности контрол в св зи с измерением ширины изображени световой полоски, обусловленным различием отражательных характеристик поверхностей объектов контрол и расфокусировкой.
Целью технического решени вл етс повышение производительности, точности и достоверности контрол дефектов поверхности деталей и изделий.
Поставленна цель достигаетс тем, что в способе автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделий, при котором на сканируемой контролируемой поверхности на базовой длине формируют световую полоску, принимающую форму профил поверхности, изображение которой в. отраженном свете стро т на двумерном фотоприемнике так, что оно перпендикул рно направлению строчной развертки, относительно начала которой определ ют построчно координаты передней границы изображени световой полоски , запоминают и х и осуществл ют расчет в каждом кадре базовой линии и относительно нее параметров микро- и макрогео- метрии рельефа поверхности, с целью повышени производительности контрол , принимают дополнительно диффузию отраженную составл ющую светового потока, преобразуют оптический сигнал в электри- ческий, сравнивают уровень полученного электрического сигнала с минимальным и максимальным уровн ми, установленными по заданному критерию обнаружени , фиксируют моменты времени, в которые сигнал
от диффузной составл ющей соответственно меньше или больше заданных, в зафиксированные моменты вырабатывают сигналы обнаружени аномалий качества поверхности, а расчет базовой линии и параметров рельефа производ т только дл участков поверхности с аномали ми качества .
С целью повышени точности и достоверности контрол , базовую линию рассчитывают по информации от последнего кадра перед по влением сигнала об обнаружении аномалии качества контролируемой поверхности .
С целью повышени точности и достоверности контрол , суммируют число элементов разложени строки с числом элементов, пропорциональным координате передней границе изображени , и вычитают число элементов пропорциональное координате задней границы, которое наход т в направлении,обратном направлению развертки от точки ее окончани , и берут половину полученного значени , по которой определ ют построчно координаты центров элементов бинарного изображени световой полоски, которые используют в качестве исходной информации дл расчета параметров аномалий качества контролируемой поверхности .
На фиг, 1 изображена схема способа автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделий; на фиг. 2 - бинар- ные изображени световой полоски с прив зкой к фотоматричной структуре дл бездефектного и дефектного участка поверхности; на фиг. 3 - структурна схема алгоритма программной обработки информации о параметрах дефектов; на фиг. 4 - иллюстраци вли ни отражательных характеристик контролируемой поверхности расфокусировки изображени световой полоски на точность контрол параметров дефектов поверхности дл предложенного способа и прототипа.
Сущность предложенного способа иллюстрируетс схемой, представленной на фиг. 1. На сканируемой поверхности 1 формируют световую полоску 2, длина которой равна базовой длине, выбираемой исход из параметров микро- и макрогеометрии рельефа поверхности, производительности и точности контрол . Световую полоску 2, принимающую форму профил поверхности 1, проецирует в отраженном свете с помощью объектива 3 на двумерный фотопри- емник 4 так, что изображение ее перпендикул рно направлению строчной развертки, относительно, начала которой в блоке обработки информации канала измерени (БОЙКИ) 5 определ ют построчно координаты центров у,- элементов изображени световой полоски, предварительно преобразовав его в бинарное. Бинарное изображение световой полоски с прив зкой к фотоматричной структуре дл бездефектного и дефектного участка поверхности представлены на фиг. 2. Координаты yi занос тс в автономную оперативную пам ть 6, состо щую из нескольких ОЗУ. каждое из которых позвол ет записать в нее объем
информации, соответствующий одному базовому участку, на которые условно разделена контролируема поверхность, Шаг сканировани и число кадров на базовом участке завис т от вида и качества обработки поверхности и от требуемой точности контрол . Запись информации в автономную оперативную пам ть производ т поочередно . При заполнении первого ОЗУ осуществл етс автоматическое г ереклю- чение на запись информации во второе ОЗУ и так далее по кольцевой схеме. При этом информаци с заполненных ОЗУ доступна по чтению через блок интерфейса 7 со стороны вычислительного блока 8. Однако расчета параметров микро- и макрогеометрии рельефа поверхности не производ т вплоть до моментов времени, в которые в зоне световой полоски по вл ютс аномалии качества 9, вызывающие изменение энергии в зоне диффузного отражени , где в зависимости от индикатрис рассе ни на характерных видах дефектов располагают в пространстве дополнительные фотопреобразователи 10 канала обнаружени аномалий (на фиг. 1 показаны 2 фотопреобразовател ). Напр жени с выходов фотопреобразователей 10 сравниваютс в блоке обработки информации канала обнаружени (БОИКО) аномалий 11с установленным по заданному критерию обнаружени минимальным и максТШальным пороговыми уровн ми напр жений и в случае выхода их значений за допустимый интервал в БОИКО 11 вырабатываетс сигнал наличи аномалии, который подаетс в ОЗУ дл фиксировани адресов массивов информации
соответствующих аномали м качества, и в-блоке 8 дл запуска алгоритма расчета параметров рельефа аномалии качества, текуща информаци о которых сравниваетс с предельно допустимыми значени ми по параметрам (глубина, ширина, длина, площадь на заданной глубине и т.д.), и в случае их превышени микроЭВМ 8 вырабатывает сигнал брак по соответствующему параметру , который поступает в блок исполнительных устройств 12 и на информационное
табло 13. Если параметры рельефа аномалии качества в норме, то вырабатываетс сигнал годен. Блок исполнительных устройств 12 управл ет разбраковкой объектов
контрол на годные и брак. При необходимости можно производить разбраковку по видам брака.
Структурна схема алгоритма программной обработки информации о параметрах
дефектов представлена на фиг. 3. Обработка информации начинаетс с момента разрешени доступа микроЭВМ к секции ОЗУ, в которую была записана информаци о координатах yi(ординатах профил рельефа) и
адресах кадров во врем действи сигнала наличи аномалии качества. В пам ть блока 8 записываетс весь массив информации из секции ОЗУ, включа информацию о бездефектных кадрах. Далее определ етс адрес
бездефектного кадра, последнего перед по влением сигнала о наличии аномалии, по информации которого (ординатам yi) рассчитываютс ординаты средней линии mi, имеющей форму номинального профил
контролируемой поверхности и расположенного так, что в пределах длины светового сечени , вписанного во входное окно фотоматрицы сумма квадратов рассто ний отточек профил светового сечени до этой
линии минимальна (Дунин-Барковский И.В., Карташова А.Н. Измерени и анализ шероховатости , волнистости и не кругл ости поверхности . - М.: Машиностроение, 1978, с. 12-41).
С целью снижени объема вычислений при незначительной потере точности, можно рассчитать ординаты средней линии по формулам (фиг.2)
1/2
2
yi т 2 yi: У2 т,.Ј У ; У) (yi + w):
(/2 + 1
45
j
ДУ j(92-yi); (y2-yi); m, Ду,
где I - число ординат (строк) в кадре.
Текущий высотный параметр RI рельефа поверхности в кадре определ етс относительно средней линии по формуле
(mi-yi),
где ki -п-. 2MQin аГ масштабный коэффициентдл меридиональной плоскости;
бм - шаг элементов фотоматрицы в меридиональной плоскости;
- линейное увеличение проекционной системы в меридиональной плоскости.
Текуща ширина дефекта на заданной глубине (высоте) находитс из выражени
вход щих в аномалию, вычисл етс по формуле:
gpk25)ai,
х
где k2 -Ј - масштабней коэффициент дл
сагиттальной плоскости;
5С - шаг элементов фотоматрицы в сагиттальной плоскости;
линейное увеличение проекционной системы в сагиттальной плоскости; 1 при , (-Ri)R3e ,
аН
О при Ri R3r. (-Ri :ЈR3B j - текущий номер кадра в пределах аномалии (на базовом участке).
Длина дефекта на заданной глубине (высоте) находитс из выражени
Lk v Т 2, с j, 1
где v - скорость движени контролируемой поверхности;
Т - период кадровой развертки фотоматрицы;
1 при Rjmax R3r, (-Rjmin R3B)
СН
{. О при Rjmax Ј Rsr, (-Rjmin RSB)
где k - текущий номер аномалии (базового участка);
j - число кадров в пределах аномалии (на базовом участке);
Rjmax; Rjmin максимальна и минимальна глубина дефекта в кадре.
Площадь дефекта на заданной глубине (высоте) RsKRss) в пределах аномалии определ етс по формуле
Sk
У1Площадь распределенного дефекта на заданной глубине по всей поверхности контролируемого объекта определ етс по формуле:
S
Sk.
где k - количество аномалий (локальных дефектов ) на поверхности.
Среднее арифметическое значение координат центров элементов бинарного изображени световой полоски дл кадров,
УГ { Ј
5
0
5
0
5
О
5
0
5
Получаема текуща информаци о параметрах дефекта сравниваетс в вычислительном блоке с установленными предельно допустимыми значени ми, при превышении которых по какому-либо параметру вырабатываютс сигналы разбраковки и индикации , поступающие соответственно в блок исполнительных устройств и информационное табло.
Вли ние отражательных характеристик контролируемой поверхности и расфокусировки световой полоски на точность контрол параметров дефектов дл предложенного способа и прототипа иллюстрируетс на фиг. А (а - за счет изменени параметров шероховатости; б - за счет изменени коэффициента отражени ; в - за счет расфокусировки изображени световой полоски; г - бинарное изображение элемента световой полоски с прив зкой к элементам строки фотоматрицы),
Светова полоска на контролируемой поверхности формируетс световым потоком 14. Индикатрисы рассе ни отраженного потока в зависимости от разброса параметров шероховатости и изменени коэффициента отражени имеют вид, соответствующий позици м -15, 16, 17, согласно которым видеосигналы, снимаемые со строки фотоматрицы представлены на эпюрах 18, 19, 20, а также на эпюре 21, характеризующей вли ние расфокусировки изображени световой полоски. При получении относительно порогового напр жени бинарного изображени элемента световой полоски, представленного на строке фотоматрицы 22 в виде позиции 23 (соответствует эпюре 18) и позиции 24 (соответствует эпюрам 19-21), передние границы изображени у/ и уГприн тые в качестве ординат профил рельефа поверхности в прототипе, имеют разные значени дл бездефектной поверхности и вызывают ошибку A yi-y существенно вли ющую на точность определени параметров микро- и макрогеометрии рельефа поверхности. В предложенном способе определение координаты yi центра элемента бинарного изображени , неизменной по отношению к эпюрам 18-21, позвол ет практически исключить вли ние разброса параметров шероховатости, коэффициента отражени контролируемой поверхности , а также расфокусировки
изображени световой полоски на точность контрол .
При параллельном по строкам съеме ин- форм зции с фотоматрицы с целью увеличени производительности контрол можно легко реализовать аппаратно узлы определени удвоенных координат центров элементов бинарного изображени светопой полоски, например на базе реверсивных счетчиков, работающих по алгоритму (фиг. 4):
2yi t+a-b.
То, что вместо yi вводитс 2yi, легко учитываетс при расчетах в вычислительном блоке.
Рассмотрим пример осуществлени способа автоматического контрол дефектов поверхности цилиндрических деталей диаметром 40 мм и высотой 120 мм.
1.Исходные данные:
1.1.На цилиндрической поверхности деталей не допускаютс дефекты глубиной более 0,05 мм и раскрывом более 0,3 мм.
1.2.Необходима разрешающа способность обнаружени дефектов:
по глубине (д у), мм - 0,01; ,
по ширине, длине (д х), мм - 0,17
1.3.Производительность контролй, дет/ч - не менее 360.
2.Дл обеспечени высокой производительности контрол выбираем в качестве фотоприемника канала измерени фотоматрицу МФ-14, имеющую основные параметры:
размер рабочего п ол в меридиональной и сагиттальной плоскост х (С), мм - 8;
шаг фотоэлементов в меридиональной (Л у) и сагиттальной ( Дх) плоскост х, мм - 0,25; - - - - кадрова частота, кГц - 100,0:
выборка информации - параллельно по строкам.
Выбираем микроЭВМ, имеющую быстродействие 6 106 операций в секунду, что позвол ет обеспечить обработку информации , имеющейс в кадре за врем 1 мс.
3.Угол а выбираетс равным 45° с целью исключени дефокусировки komrpo- лируемой поверхности детали при ее смещений относительно проекционного обнектива,
4.Линейное увеличение проекционного объектива в меридиональной плоскости вычисл етс по формуле:
/Зм
Ду 0,25
бу -2 sin a 0,01 V2
« 17.7
5. Линейное увеличение проекционного объектива в сагиттальной плоскости вычисл етс по формуле
д Ах 0, А -7|5---ТГГ-2 5
Ж-Т5Т
6.Длина световой полоски на детали, обеспечивающа работу фотоматрицы по
всем строкам, определ етс из выражени :
Ј ,2мм
7.Максимальное врем , необходимое дл контрол всей поверхности детали по
способу прототипа, вычисл етс по формуле (1)
т - 40 3,14-120 .
Ттах з.О 0,110 28 С
8.Минимальное врем сканировани поверхности детали, при котором обеспечиваетс запись врей информации в автономную пам ть и выборка ее в микроЭВМ определ етс из выражени :
25
Tmin
Ai Да
ts Q
30
40-3.14-120 3,0-0,1
20 ,56 с
где т.3 - врем записи однобайтового слова в пам ть микроЭВМ. что соответствует кадровой частоте фотоматрицы 50 кГц:
Q - объем информации (однобайтовых
слов) в кадре.
9. Определ ем, какой процент площади поверхности детали можно проконтролировать за врем Tmin, при котором по способу прототипа:
Tmin 100 0.56 100 „ о,
2 % .
i max
28
10. Учитыва реальную на насто щее врем частоту импульсных полупроводниковых излучателей, на базе которых собираетс формирователь световой полоски, Составл ющую 5 кГц (соответствует частоте кадров фотоматрицы), можно проконтролировать по предлагаемому алгоритму обработки информации 20% площади поверхности детали, что существенно больше площади, занимаемой аномали ми качества , при этом врем , затрачиваемое на
контроль составл ет 5,6 с, что в 5 раз ниже, чем дл способа контрол , вз того в качест- ёе прототипа.- -- -Таким образом, применение предлагаемого способа автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделий обеспечивает по сравнению со способом, вз тым в качестве прототипа, следующие преимущества:
существенное повышение производительности контрол при обеспечении заданной достоверности;
повышение точности и достоверности контрол дефектов.
Claims (3)
- Формула изобретени 1. Способ автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделий, при котором на сканируемой контролируемой поверхности на боковой длине формируют световую полоску, принимающую форму профил поверхности, изображение которой в отраженном свете стро т на двумерном фотоприемнике так, что оно перпендикул рно направлению строчной развертки, относительно начала которой определ ют построчно координаты передней границы изображени световой полоски, запоминают их и осуществл ют расчет в каждом кадре базовой линии и относитель- но нее параметров микро- и макрогеометрии рельефа поверхности, отличающийс тем, что, с целью повышени производительности контрол , принимают дополнительнодиффузно-отраженную составл ющую светового потока, преобразуют оптический сигнал в электрический, сравнивают уровень полученного электрического сигнала с минимальным и макси05 0 5 0мальным уровн ми, установленными по заданному критерию обнаружени , фиксируют моменты времени, в которые сигнал от диффузной составл ющей соответственно больше или меньше заданных, в зафиксированные моменты вырабатываютсигналы обнаружени аномалий качества поверхности, а расчет базовой линии и параметров рельефа производ т только дл участков поверхности с аномали ми качества.
- 2.Способ по п. 1.отличающийс тем, что, с целью повышени точности и достоверности контрол , базовую линию рассчитывают по информации от последнего кадра перед по влением сигнала об обна- ружениианомалиикачества контролируемой поверхности.
- 3.Способ по п. 1,отличающийс тем, что, с целью повышени точности и достоверности контрол , суммируют число элементов разложени строки с числом элементов , пропорциональным координате передней границы изображени , и вычитают число элементов, пропорциональных координате задней границы, которое наход т в направлении, обратном направлению развертки от точки ее окончани , и берут поло- ви ну полученного значени , по которой определ ют построчно координаты центров элементов бинарного изображени световой полоски, которую используют в качестве исходной информации дл расчета параметров аномалий качества контролируемой поверхности .81213Фиг.1/ гб/ гУу:Ш:0-З/гдл бездефектного участка; дл дефектного участкаФиг. 2-4Средн лини дл бездефектного участкаKoHTyJB сечени дефек:0-ЗШГГЛ1ЈОпределение адреса бездефектного кадраiI Расче т ередне и линии IОпределение параметров аномалии в J-ом кадреРасчет параметров аномалии на всей поверхности детали (дл К аномалий)Переход к анализу последующей аномалии(Начало)Запись массива информацииЈделение адреса дефектного кадрiедВывод информации о бракеВывод информации о бракеВывод информации о бракеФиг. 3видеосигнал строки фотоматрицы1615
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904864752A RU1782314C (ru) | 1990-09-10 | 1990-09-10 | Способ автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904864752A RU1782314C (ru) | 1990-09-10 | 1990-09-10 | Способ автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделий |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1782314C true RU1782314C (ru) | 1992-12-15 |
Family
ID=21535236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU904864752A RU1782314C (ru) | 1990-09-10 | 1990-09-10 | Способ автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1782314C (ru) |
-
1990
- 1990-09-10 RU SU904864752A patent/RU1782314C/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Быстрое Ю.А., Колчин Е.А., Котлецов- Б.Н. Технологический контроль размеров в микроэлектронном производстве. М., Радио и св зь, 1988, с. 78,79. Kramer Н„ Oberfla cnenmessung mlt dem Laserllchtschnlttvorfahren. Industrle- Auzeiger. v.100, 1978, N 10 3/104, p.p.60-61. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4650333A (en) | System for measuring and detecting printed circuit wiring defects | |
US7457455B2 (en) | Pattern defect inspection method and apparatus | |
US4659220A (en) | Optical inspection system for semiconductor wafers | |
US6360005B1 (en) | Apparatus and method for microscopic inspection of articles | |
Jurkovic et al. | New approach in tool wear measuring technique using CCD vision system | |
US5619429A (en) | Apparatus and method for inspection of a patterned object by comparison thereof to a reference | |
US5146779A (en) | Indentation hardness tester | |
US4579455A (en) | Photomask inspection apparatus and method with improved defect detection | |
US3902811A (en) | Electro-optical scanning system for dimensional gauging of parts | |
CA2053176C (en) | Method of and apparatus for inspecting bottle or the like | |
EP0532169B1 (en) | Optical Inspection Probe | |
JPH01126529A (ja) | 検出される粒子を符合する方法 | |
US4697245A (en) | Inspection and measuring apparatus and method | |
US20080175466A1 (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
JP2005527116A (ja) | プロセス変動のモニタシステムおよび方法 | |
JPH06294745A (ja) | 円筒形核燃料ペレットを自動的に分類するための光学的方法及び装置 | |
CN1015764B (zh) | 检测有孔罩板的方法 | |
CN111638226B (zh) | 检测方法、图像处理器以及检测*** | |
US4841139A (en) | Method for testing components of transparent material for surface irregularities and occlusions | |
US10359613B2 (en) | Optical measurement of step size and plated metal thickness | |
RU1782314C (ru) | Способ автоматического контрол дефектов поверхности деталей и изделий | |
US10168524B2 (en) | Optical measurement of bump hieght | |
JPH0349363B2 (ru) | ||
US7924420B2 (en) | Optical inspection including partial scanning of wafers | |
JPH0629705B2 (ja) | 板状体の歪検査方法 |