RU173867U1 - Вибрационный гироскоп LL-типа - Google Patents

Вибрационный гироскоп LL-типа Download PDF

Info

Publication number
RU173867U1
RU173867U1 RU2016149382U RU2016149382U RU173867U1 RU 173867 U1 RU173867 U1 RU 173867U1 RU 2016149382 U RU2016149382 U RU 2016149382U RU 2016149382 U RU2016149382 U RU 2016149382U RU 173867 U1 RU173867 U1 RU 173867U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electrodes
groups
movable
plane
electrode
Prior art date
Application number
RU2016149382U
Other languages
English (en)
Inventor
Юрий Дмитриевич Акульшин
Алексей Николаевич Казакин
Роман Валерьевич Клейманов
Иван Михайлович Комаревцев
Степан Андреевич Конаков
Андрей Васильевич Коршунов
Юрий Борисович Ладе
Михаил Семенович Лурье
Яков Анатольевич Некрасов
Андрей Викторович Одинцов
Евгений Нилович Пятышев
Яков Борисович Эннс
Original Assignee
федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") filed Critical федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ")
Priority to RU2016149382U priority Critical patent/RU173867U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU173867U1 publication Critical patent/RU173867U1/ru

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
    • G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
    • G01C19/5607—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using vibrating tuning forks
    • G01C19/5621—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using vibrating tuning forks the devices involving a micromechanical structure

Landscapes

  • Gyroscopes (AREA)

Abstract

Полезная модель относится к области изделий микромеханики, в частности к вибрационным микромеханическим гироскопам (ММГ) LL-типа. Вибрационный гироскоп LL-типа с обратной связью в канале вторичных колебаний содержит первую подвижную массу, включающую внешнюю и инерциальную массу, подвешенную на упругих подвесах, и систему гребенчатых электродов, вторую подвижную массу, включающую инерциальную массу и измерительный резонатор с первой, второй и третьей группами плоскопараллельных электродов, при этом электроды первой и второй групп включают в себя подвижные и неподвижные электроды, расстояние между поверхностями подвижных и близлежащих неподвижных электродов отличаются в два и более раз, электроды третьей группы включают в себя подвижный электрод, равноудаленный от поверхностей близлежащих неподвижных электродов, систему управления положением первой и второй подвижных масс, входы и выходы которой соединены с электродами, при этом наименьшее расстояние между поверхностями близлежащих подвижных и неподвижных электродов первой, второй и третьей групп имеет переменное, чередующееся по длине электрода, значение. Технический результат – повышение удельной емкости групп плоскопараллельных электродов ММГ LL-типа. 1 з.п. ф-лы, 5 ил.

Description

Полезная модель относится к области изделий микромеханики, в частности к вибрационным микромеханическим гироскопам (ММГ) LL-типа, широко применяемым в микросистемной технике (МСТ) для мониторинга параметров движения перемещающихся объектов.
Известны конструкции вибрационных ММГ, отличающиеся количеством осциллирующих масс, направлением колебаний, структурой и конструкцией возбуждающих и измерительных узлов, технологией изготовления и материалами [Acar C. MEMS Vibratory Gyroscopes Structural Approaches to Improve Robustness/ C. Acar and A. Shkel // - Springer. - 2009. - pp. 262.].
Одной из наиболее актуальных задач является увеличение емкости электродных групп при неизменных массогабаритных параметрах. Однако из-за особенностей технологии изготовления ММГ увеличить значение емкости электродной группы становиться невозможным без увеличения количества электродов (т.е. без увеличения занимаемой электродной группой площади).
При плазменном травлении (основном инструменте формообразования в современных технологических маршрутах) существует взаимозависимость между глубиной и площадью области травления [High aspect ratio sub-micron trenches on silicon-on-insulator and bulk silicon / M. Hermersdorf, C. Hibert, D. Grogg, etc. // J. Microelectronic Engineering. - No. 88. - 2011. - pp. 2556-2558]. Достижимое на сегодняшний день аспектное отношение (отношение глубины травления к ширине полости) составляет примерно 30:1. Поэтому для формирования чувствительных ММГ, требующих, чтобы их высота составляла порядка сотни мкм, приходится увеличивать зазор между электродами гребенчатых структур до 3÷5 мкм, что приводит к уменьшению удельной электроемкости. (Под удельной емкостью понимается отношение емкости к объему воздушного зазора между электродами.)
Известны решения по уменьшению зазора гребенчатых структур, использующие процессы постобработки и активной настройки [Acar C. Structurally decoupled micromachined gyroscope swith post-release capacitance enhancement / Cenk Acar, Andrei M. Shkel // Journal of Micromechanics and Microengineering. - Vol. 15. - 2005. - pp. 1092-1101.]. В случае активной настройки формируется дополнительная механическая структура с собственным приводом (электростатическим или термическим), смещающим и удерживающим структуру в положении с уменьшенным зазором. Постобработка также использует дополнительную механическую структуру для изменения зазора, но в то же время предполагает фиксацию данной структуры после перемещения. Указанные способы увеличивают габариты устройства и неприемлемы для серийного производства изделий по групповой технологии.
Среди различных конструкций ММГ LL-типа широкое распространение получил противофазный ММГ с разделенными первой и второй подвижными массами [Micro-machined gyrometric sensorfor differential measurement of the moment of vibrating masses / Claude Rougeot, Bernard Chaumet, Bertrand LeVerrier, etal. // UnitedStatesPatentUS 7,707,886 B2. - 4 May 2010]. Данная конструкция является прототипом заявленного изобретения.
Вибрационный гироскоп LL-типа содержит подвижную первую массу, подвешенную на упругом подвесе, и систему гребенчатых электродов, вторую подвижную массу с группами плоскопараллельных электродов. Измерение силы Кориолиса осуществляют электроды первой группы, при этом увеличение удельной емкости приводит к увеличению чувствительности ММГ за счет увеличения крутизны зависимости емкости от амплитуды вторичных колебаний. Электроды второй группы обеспечивают компенсацию силы Кориолиса, при этом увеличение удельной емкости приводит к расширению диапазона измерения угловых скоростей за счет увеличения электростатической силы. Настройку собственной частоты второй подвижной массы осуществляют электроды третьей группы, для которых увеличение удельной емкости приводит к расширению диапазона настройки частоты собственных колебаний. Для данной конструкции увеличение емкости невозможно без увеличения массогабаритных параметров групп плоскопараллельных электродов.
Проблема увеличения удельной емкости, то есть увеличение электроемкости при сохранении массогабаритных параметров, решается путем частичного уменьшения зазоров между электродами датчика до одного или менее микрона при высоте структуры 100 мкм. Такое уменьшение щелевого зазора становится возможным благодаря специальной форме боковых поверхностей одного из электродов системы. В частности, эта задача решается для конструкции ММГ LL-типа, хотя ее применение возможно и для ММГ других типов.
Технической проблемой, решаемой предложенной полезной моделью, является повышение удельной емкости групп плоскопараллельных электродов ММГ LL-типа (удельная емкость - отношение электрической емкости к объему воздушного зазора между электродами.).
Для решения указанной технической проблемы предложен ММГ LL-типа, содержащий первую подвижную массу, подвешенную на упругом подвесе, и систему гребенчатых электродов, вторую подвижную массу с группами (первой, второй и третьей) плоскопараллельных электродов, систему управления положением первой и второй подвижной массы. Электроды первой и второй группы включают в себя подвижные и неподвижные электроды, расстояние между поверхностями подвижных электродов и близлежащих неподвижных отличается в два и более раз. Электроды третьей группы включают в себя подвижный электрод, равноудаленный от поверхностей близлежащих неподвижных электродов.
Проблема решается путем использования электродов переменной ширины, где наименьшее расстояние между поверхностями близлежащих электродов имеет переменное, чередующееся по длине электрода, значение. Переменное расстояние позволяет в несколько раз уменьшить эквивалентный средний зазор между зубцами гребенок. Переменное расстояние между поверхностями близлежащих электродов может быть выполнено в виде синусоиды.
Технический результат достигается тем, что области плазменного травления со стандартной шириной щели чередуются с областями узкого зазора, в результате чего облегчается диффузия травящих компонентов плазмы внутрь узкого зазора. Вследствие этого увеличивается удельная электроемкость.
На Фиг. 1. изображена схема конструкции ММГ LL-типа.
На Фиг. 2а. изображен фрагмент первой и второй группы плоскопараллельных электродов (вид на плане).
На Фиг. 2б. изображен фрагмент третьей группы плоскопараллельных электродов.
На Фиг. 3. изображена зависимость изменения емкости электродных групп от смещения, где: сплошная - для преобразователя с переменным профилем электродов; пунктирная - для преобразователя с плоскопараллельными электродами.
На Фиг. 4. изображена фотография ММГ, выполненная в растровом электроном микроскопе.
На Фиг. 5. изображена фотография первой группы плоскопараллельных электродов. Расстояние между поверхностями электродов выполнено переменным, в виде синусоиды.
Вибрационный гироскоп LL-типа содержит следующие конструктивные элементы:
1 - внешняя рамка;
2 - инерциальная масса;
3 - измерительный резонатор;
4 - упругий подвес первой и второй массы;
5 - упругий подвес измерительного резонатора;
6 - система гребенчатых электродов;
7 - основание;
8 - первая группа плоскопараллельных электродов;
9 - вторая группа плоскопараллельных электродов;
10 - третья группа плоскопараллельных электродов.
На Фиг. 1 представлена проекция на плоскость OXY трехмерной электромеханической системы предложенного ММГ LL-типа, сформированной в кремниевой пластине, фиксированной на стеклянном основании.
Конструкция микромеханического гироскопа представляет систему связанных подвешенных масс: внешняя рамка 1; инерциальная масса 2; измерительный резонатор 3 и внешняя система управления положением первой (образуемой элементами 1, 2) и второй (образуемой элементами 2, 3) подвижных масс, соединенная с системой гребенчатых электродов 6 и группами плоскопараллельных электродов 8-10. Внешняя система управления на фигурах не показана.
Первая подвижная масса представляет собой резонатор первичных колебаний, включает внешнюю рамку (элемент 1), инерциальную массу (элемент 2), подвешенную на упругих подвесах 4, и систему гребенчатых электродов 6. Упругий подвес 4 закреплен на основании 7. Внешняя рамка 1 и инерциальная масса 2 связаны упругим подвесом 4, удовлетворяющим условию высокой жесткости по оси ОХ и низкой жесткости по оси OY. Система гребенчатых электродов 6 представляет собой группу встречно-направленных подвижных и неподвижных электродов, в которой каждый электрод равноудален от ближайших электродов. Неподвижные электроды закреплены на основании 7, подвижные закреплены на внешней рамке 1. Вторая подвижная масса включает инерциальную массу 2 и измерительный резонатор 3 с группами плоскопараллельных электродов (элементы 8, 9 и 10). Инерциальная масса 2 и измерительный резонатор 3 связаны упругим подвесом 4, в данном случае удовлетворяющим условию низкой жесткости по оси ОХ и высокой жесткости по оси OY. Измерительный резонатор 3 также подвешен на упругий подвес 5, имеющий высокую жесткость в направление ОХ и низкую жесткость в направление OY. Электроды первой (элемент 8) и второй группы (элемент 9) включают в себя подвижные и неподвижные электроды, расстояние между поверхностями подвижных электродов и близлежащих неподвижных отличается в два и более раз. Электроды третьей группы (элемент 10) включают в себя подвижный электрод, равноудаленный от поверхностей близлежащих неподвижных электродов. Подвижные электроды имеют закрепление на измерительном резонаторе (элемент 3), неподвижные имеют закрепление на основании (элемент 7).
Внешняя система управления (не показана на фигурах), является внешним устройством, аналогичным использованному в выбранном прототипе и описанным в [А New Silicon Tuning Fork Gyroscope for Aerospace Applications/ Bernard Chaumet, Bertrand LeVerrier, Claude Rougeot, etal. // Symposium Gyro Technology, Karlsruhe Germany - 2009] или [Результаты испытаний установочной партии гироскопов RR-типа / В.Г. Пешехонов, Я.А. Некрасов, П. Пфлюгер, и др. // Гироскопия и навигация №1 (72), 2011]. Входы и выходы внешней системы управления соединены с системой гребенчатых электродов 6 и группами плоскопараллельных электродов 8, 9, 10.
Принцип работы предложенного вибрационного ММГ основан на преобразовании первичных колебаний в ортогональные им вторичные колебания при действующей внешней угловой скорости. Основная задача первой подвижной массы - возбуждение первичных колебаний в направлении оси ОХ. Возбуждение первичных колебаний осуществляется за счет подачи переменного напряжения между подвижными и неподвижными электродами системы гребенчатых электродов 6. Первичные колебания передаются на инерциальную массу 2 за счет жесткой связи с внешней рамкой 1 вдоль направления первичных колебаний и податливой связи в ортогональном направлении.
Инерциальная масса 2 имеет функцию формирования колебаний, вызванных силами Кориолиса, и передачи их на измерительный резонатор 3. Жестко связанная с внешней рамкой 1 по оси движения внешней рамки и податливая в направлении, ортогональном движению внешней рамки, инерциальная масса 2 имеет две степени свободы в направлении осей ОХ и OY.
Измерительный резонатор 3 имеет упругую связь с инерциальной массой 2. податливую в направлении возбуждающих колебаний и жесткую в ортогональном направлении. Измерительный резонатор 3 фиксируется к основанию 7 упругим подвесом 5, жестким в направлении возбуждающих колебаний и податливым в направлении колебаний, вызванных силами Кориолиса. Таким образом, измерительный резонатор 3 имеет одну степень свободы.
Для подавления синфазных воздействий предложенная схема может быть объединена в систему из двух ММГ, упругосвязанных между собой. Система из двух ММГ, известная как камертонная или противофазная, позволяет уменьшить чувствительность ММГ к внешним воздействиям.
Амплитуда колебаний второй массы 2, 3 по оси OY прямо пропорциональна внешней угловой скорости. Для измерения амплитуды вторичных колебаний формируется первая группа плоскопараллельных электродов 8, включающая в себя подвижные и неподвижные электроды, формирующие конденсатор емкостью С. Расстояние между поверхностями подвижных электродов и близлежащих неподвижных электродов отличаются в два и более раз (с противоположных сторон каждого зубца гребенок). Подвижный электрод совершает колебания вместе с измерительным резонатором 3, что приводит к изменению зазора и изменению емкости плоскопараллельных электродов первой группы 8. Чувствительность первой группы плоскопараллельных электродов 8 определяется крутизной зависимости емкости от амплитуды вторичных колебаний, определяемой как:
Figure 00000001
где R - отношение изменения емкости dC к изменению зазора между электродами dy. При этом при малых перемещениях значение R является постоянным.
Для расширения диапазона измеряемых угловых скоростей формируется вторая группа плоскопараллельных электродов 9, включающая в себя подвижные и неподвижные электроды. Расстояние между поверхностями подвижных электродов и близлежащих неподвижных электродов отличается в два и более раз (с противоположных сторон каждого зубца гребенок). Электроды второй группы обеспечивают обратную электростатическую связь, что компенсирует амплитуду вторичных колебаний. Величина обратной связи определяется значением электростатической силы F:
Figure 00000002
где V - разность потенциалов между подвижными и неподвижными электродами.
Для настройки частоты собственных колебаний второй массы 2, 3 формируется третья группа плоскопараллельных электродов 10, включающая в себя подвижные электроды, равноудаленные от поверхностей близлежащих неподвижных электродов. Электроды третьей группы формируют "отрицательную жесткость", величина которой определяется электростатической силой (2).
Внешняя система управления (не показана на фигурах) имеет функцию управления положением первой и второй подвижных масс. Входы и выходы системы управления соединены с группами плоскопараллельных электродов 8, 9, 10 и системой гребенчатых электродов 6. Внешняя система управления формирует синусоидальное напряжение управления на системе гребенчатых электродов 6, постоянное напряжение на третьей группе плоскопараллельных электродов 10 и напряжение, управляемое обратной электростатической связью второй группы плоскопараллельных электродов 9. При этом внешняя система управления преобразует измеряемое изменение емкости первой группы плоскопараллельных электродов 8 в напряжение.
Характеристика электродов первой, второй и третьей группы 8, 9, 10 определяется параметрами удельной емкости. Увеличение удельной емкости приводит к увеличению чувствительности электродов первой группы 8 за счет увеличения крутизны зависимости емкости от амплитуды вторичных колебаний и к расширению диапазона измерения угловых скоростей и диапазона настройки частоты собственных колебаний второй массы 2, 3 за счет увеличения электростатической силы электродов второй и третьей группы 9, 10 без увеличения занимаемой площади.
Для плоскопараллельных электродов первой, второй и третьей группы электродов 8, 9, 10, электростатическая емкость С между электродами определяется как:
Figure 00000003
где ε0≈8.85⋅10-12 Ф/м - электрическая постоянная, А - площадь перекрытия, определяемая длиной перекрытия между зубцами - x0 и высотой зубцов - z0, y0 - зазор между электродами и n - количество пар электродов.
На Фиг. 2а, б представлена проекция фрагмента групп плоскопараллельных электродов с периодически изменяемым расстоянием между поверхностями электродов. Фиг. 2а соответствует первой (элемент 8) и второй (элемент 9) группам плоскопараллельных электродов. Фиг. 2б соответствует третьей группе плоскопараллельных электродов (элемент 10). В группах плоскопараллельных электродов (элементы 8-10) наименьшее расстояние между поверхностями близлежащих подвижных и неподвижных электродов имеет переменное, чередующееся по длине электрода, значение.
Увеличение значения емкости первой, второй и третьей группы плоскопараллельных электродов 8-10 возможно при уменьшении зазора между поверхностями электродов. Такое уменьшение зазора ограничено технологическими ограничениями. Проблема решается путем использования зубцов переменной ширины, что позволяет в несколько раз уменьшить эквивалентный средний зазор между зубцами гребенок.
Для структуры групп плоскопараллельных электродов 8-10 с переменным профилем зазора между электродами значение емкости принимает вид функции, переменной по длине электрода - y(x). Значение емкости Cν определяется зависимостью:
Figure 00000004
Функция y(x) может иметь любую периодическую зависимость. Периодичность профиля определяется из условия обеспечения требований анизотропного плазменного травления по аспектному отношению, где период больше или равняется минимальному зазору между электродами. Примером заявленной конструкции может являться электродная структура, в которой переменное расстояние, между поверхностями близлежащих электродов y(x), выполнено в виде синусоиды.
Для конструкции ММГ высотой структуры z0=100 мкм, в соответствии с особенностями технологических операций, зазор между поверхностями плоскопараллельных электродов 8, 9, 10 равен y0=5 мкм при аспектном отношении равном 20. Таким образом, электростатическая емкость групп плоскопараллельных электродов (элементы 8-10) с количеством пар электродов n=40, площадью перекрытия электродов x0=170 мкм равняется 1.2 пФ. Для уменьшения зазора в заявленной конструкции используется переменный профиль электродов, то есть зазор определяется в виде функции y(x). Таким образом, емкость гребенчатого преобразователя с переменным профилем, выполненным в виде волнистой линии типа синусоиды с периодом 10 мкм и изменением зазора между электродами 2-5 мкм, равняется 1.9 пФ. Удельная емкость групп плоскопараллельных электродов 8-10 с переменным профилем электродов в 1.6 раза больше емкости плоскопараллельных электродов, что определяет эффективность предложенной конструкции.
На Фиг. 3 изображена зависимость изменения емкости групп электродов 8-10 от смещения для групп электродов с плоскопараллельными электродами (пунктирная линия) и для групп электродов с переменным расстоянием между электродами, выполненным в виде синусоиды (сплошная линия). Зависимость позволяет судить об увеличении значения емкости и крутизне зависимости изменения емкости от амплитуды колебаний.
На Фиг. 4 изображена фотография, сделанная на растровом электронном микроскопе, изготовленной структуры вибрационного ММГ.
Устройство изготовлено путем глубокого реактивного травления кремния в теле кремниевой пластины. В большинстве случаев это Bosh-процесс, формирующий наиболее вертикальный профиль травления. При формировании вертикального профиля следует учитывать ограничения, накладываемые особенностями технологической операции травления (аспектные соотношения в различных элементах структуры). В ходе травления необходима диффузия компонентов плазмы в вытравливаемые полости между элементами. Уменьшение зазора приводит к уменьшению скорости травления вплоть до полной остановки травления.
На Фиг. 5 представлена фотография пары встречных электродов первой 8 и второй 9 групп с переменным расстоянием между поверхностями близлежащих электродов, выполненным в виде синусоиды.
В конструкции измерительной части ММГ предлагается использовать электродные системы, где наименьшее расстояние между поверхностями близлежащих электродов имеет переменное, чередующиеся по длине электрода, значение. Такая конструкция представляет пару ротор-статор, где один из зубьев имеет плоскую поверхность электрода, а противоположный - периодически неоднородную. При этом ширина зазора между двумя соседними зубцами становится переменной. Зазор в широкой части зубца остается прежним (5 мкм, при высоте зубьев 100 мкм), а в узкой части существенно уменьшен (≤2 мкм). Примером может быть изображенная на Фиг. 5 структура электродов с переменным расстоянием между поверхностями близлежащих электродов, выполненным в виде синусоиды. Иначе говоря, в конструкции электродов 8-10 происходит чередование областей с высоким аспектным отношением и областей с низким аспектным отношением, что позволяет обеспечить большую глубину травления при меньших величинах зазора. Таким образом, возрастает удельное значение емкости. В отличие от прототипа, область большего зазора обеспечивает диффузию компонентов плазмы в узкую часть структуры. Такие формы зазора существенно облегчают изготовление ММГ по технологиям микросистемной техники, а именно способствуют уменьшению диффузионных ограничений на этапе глубокого вертикального плазменного травления кремния.
В целом, вибрационный гироскоп LL-типа, выполненный с изолированными двумя подвижными массами, включающими три группы электродов, имеющих переменное, чередующееся по длине электрода, значение, обеспечивает: большую чувствительность к изменению внешней угловой скорости; широкий диапазон измеряемых угловых скоростей и широкий диапазон настройки собственной частоты второй массы. Таким образом, вибрационный гироскоп LL-типа обеспечивает более высокую точность измерения.

Claims (2)

1. Вибрационный гироскоп LL-типа с обратной связью в канале вторичных колебаний, содержащий первую подвижную массу, включающую внешнюю и инерциальную массу, подвешенную на упругих подвесах, и систему гребенчатых электродов, вторую подвижную массу, включающую инерциальную массу и измерительный резонатор с первой, второй и третьей группами плоскопараллельных электродов, при этом электроды первой и второй групп включают в себя подвижные и неподвижные электроды, расстояние между поверхностями подвижных и близлежащих неподвижных электродов отличается в два и более раз, электроды третьей группы включают в себя подвижный электрод, равноудаленный от поверхностей близлежащих неподвижных электродов, систему управления положением первой и второй подвижных масс, входы и выходы которой соединены с электродами, отличающийся тем, что наименьшее расстояние между поверхностями близлежащих подвижных и неподвижных электродов первой, второй и третьей групп имеет переменное, чередующееся по длине электрода, значение.
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что упомянутое переменное значение расстояния между поверхностями близлежащих подвижных и неподвижных электродов первой, второй и третьей групп выполнено в виде синусоиды.
RU2016149382U 2016-12-15 2016-12-15 Вибрационный гироскоп LL-типа RU173867U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016149382U RU173867U1 (ru) 2016-12-15 2016-12-15 Вибрационный гироскоп LL-типа

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016149382U RU173867U1 (ru) 2016-12-15 2016-12-15 Вибрационный гироскоп LL-типа

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU173867U1 true RU173867U1 (ru) 2017-09-15

Family

ID=59894234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016149382U RU173867U1 (ru) 2016-12-15 2016-12-15 Вибрационный гироскоп LL-типа

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU173867U1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU179133U1 (ru) * 2017-12-27 2018-04-28 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") Вибрационный гироскоп LL-типа
RU181219U1 (ru) * 2018-04-06 2018-07-06 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Чувствительный элемент микромеханического гироскопа
RU181216U1 (ru) * 2018-04-06 2018-07-06 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Интегральный микромеханический гироскоп

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2296390C1 (ru) * 2005-10-31 2007-03-27 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный институт электронной техники (технический университет)" (МИЭТ) Чувствительный элемент микромеханического датчика
RU2344374C1 (ru) * 2007-07-17 2009-01-20 Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт "Электроприбор" Электродная структура для микромеханического гироскопа и микромеханический гироскоп с этой структурой (варианты)
US7707886B2 (en) * 2005-07-05 2010-05-04 Thales Micro-machined gyrometric sensor for differential measurement of the movement of vibrating masses
US8037757B2 (en) * 2007-12-12 2011-10-18 Honeywell International Inc. Parametric amplification of a MEMS gyroscope by capacitance modulation
US20130055787A1 (en) * 2010-02-02 2013-03-07 Wolfram Geiger Coriolis gyroscope having correction units and method for reducing the quadrature bias

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7707886B2 (en) * 2005-07-05 2010-05-04 Thales Micro-machined gyrometric sensor for differential measurement of the movement of vibrating masses
RU2296390C1 (ru) * 2005-10-31 2007-03-27 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный институт электронной техники (технический университет)" (МИЭТ) Чувствительный элемент микромеханического датчика
RU2344374C1 (ru) * 2007-07-17 2009-01-20 Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт "Электроприбор" Электродная структура для микромеханического гироскопа и микромеханический гироскоп с этой структурой (варианты)
US8037757B2 (en) * 2007-12-12 2011-10-18 Honeywell International Inc. Parametric amplification of a MEMS gyroscope by capacitance modulation
US20130055787A1 (en) * 2010-02-02 2013-03-07 Wolfram Geiger Coriolis gyroscope having correction units and method for reducing the quadrature bias

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU179133U1 (ru) * 2017-12-27 2018-04-28 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") Вибрационный гироскоп LL-типа
RU181219U1 (ru) * 2018-04-06 2018-07-06 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Чувствительный элемент микромеханического гироскопа
RU181216U1 (ru) * 2018-04-06 2018-07-06 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Интегральный микромеханический гироскоп

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101166866B1 (ko) 수평으로 배향된 구동 전극을 구비한 ｍｅｍｓ자이로스코프
RU173867U1 (ru) Вибрационный гироскоп LL-типа
JPH11337345A (ja) 振動するマイクロジャイロメータ
JP2012141299A (ja) 面内容量型ｍｅｍｓ加速度計
US20130000404A1 (en) Angular velocity sensor
EP2489981A2 (en) Angular velocity sensor and electronic device
JP5773844B2 (ja) 出力安定性に優れた振動型ジャイロ
JP2000346649A (ja) マイクロジャイロスコープ
CN102288172A (zh) 一种放大质量块运动速度的电容式微机械陀螺
CN109737943A (zh) 高精度mems陀螺仪
EP2570770B1 (en) Three-mass coupled oscillation technique for mechanically robust micromachined gyroscopes
KR101087018B1 (ko) 마이크로메카니컬 운동 센서
KR100363786B1 (ko) 마이크로 자이로스코프
JP2004233088A (ja) 静電可動機構、共振型装置および角速度センサ
JP6632726B2 (ja) マイクロメカニカルヨーレートセンサ及びその製造方法
WO2019240007A1 (ja) 静電アクチュエータおよび物理量センサ
RU179133U1 (ru) Вибрационный гироскоп LL-типа
JP2010008300A (ja) 慣性センサ
JP4777806B2 (ja) 水晶振動子及び角速度センサ
KR100493149B1 (ko) 대칭형 ｚ축 마이크로자이로스코프 및 그 제조방법
JP2012242240A (ja) ジャイロセンサー、電子機器
JP2000292174A (ja) ジャイロスコープ
RU2778622C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп
RU2296390C1 (ru) Чувствительный элемент микромеханического датчика
RU2455652C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок