RU172636U1 - DIAMOND PRESSURE SENSOR - Google Patents
DIAMOND PRESSURE SENSOR Download PDFInfo
- Publication number
- RU172636U1 RU172636U1 RU2016148152U RU2016148152U RU172636U1 RU 172636 U1 RU172636 U1 RU 172636U1 RU 2016148152 U RU2016148152 U RU 2016148152U RU 2016148152 U RU2016148152 U RU 2016148152U RU 172636 U1 RU172636 U1 RU 172636U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- diamond
- pressure sensor
- metallization layer
- membrane
- base
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
- G01L9/12—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means by making use of variations in capacitance, i.e. electric circuits therefor
Abstract
Использование: для создания алмазного датчика давления. Сущность полезной модели заключается в том, что датчик содержит основание, выполненное из первой кремниевой пластины, на котором расположены термоусадочные столбики, и мембрану, скрепленную с упомянутыми столбиками и выполненную путем нанесения пленки поликристаллического CVD-алмаза на поверхность второй кремниевой пластины с отверстием, при этом обращенные друг к другу стороны основания и мембраны покрыты слоем металлизации, в котором слой металлизации на основании разделен на два контакта и электроды приварены только к контактам основания. Технический результат: обеспечение возможности повышения точности измерений и упрощение технологии производства датчика давления. 7 ил.Use: to create a diamond pressure sensor. The essence of the utility model lies in the fact that the sensor comprises a base made of the first silicon wafer on which the shrink columns are located, and a membrane bonded to the said columns and made by depositing a polycrystalline CVD diamond film on the surface of the second silicon wafer with an aperture, the sides of the base and the membrane facing each other are covered by a metallization layer, in which the metallization layer on the base is divided into two contacts and the electrodes are welded only to the main contacts education. Effect: providing the possibility of increasing the accuracy of measurements and simplifying the production technology of the pressure sensor. 7 ill.
Description
Полезная модель относится к области электроники, а именно к конструкции алмазного датчика давления, который может быть использован в различных видах промышленности для измерения давления при воздействии повышенной температуры, ионизирующего излучения, химически агрессивных сред.The utility model relates to the field of electronics, namely, to the design of a diamond pressure sensor, which can be used in various industries to measure pressure when exposed to elevated temperature, ionizing radiation, and chemically aggressive environments.
Из уровня техники известны конструкции датчиков давления емкостного типа. Принцип работы этих датчиков основан на изменении емкости конденсатора от приложенной нагрузки на одну из обкладок конденсатора [Ж. Аш и др. Датчики измерительных систем. / Перевод под ред. А.С. Обухова, т. 1. М., Мир, 1992, с. 383]. The prior art design of capacitive pressure sensors. The principle of operation of these sensors is based on a change in the capacitance of the capacitor from the applied load on one of the capacitor plates [J. Ash et al. Sensors for measuring systems. / Translation Ed. A.S. Obukhova, t.one. M., Mir, 1992, p. 383].
Также из уровня техники известна конструкция емкостного датчика давления, содержащего первую кремниевую пластину, на которой расположены термоусадочные элементы, и чувствительный элемент из поликристаллического CVD-алмаза, скрепленный с упомянутыми термоусадочными элементами [патент US 6613601 В1, опубл. 02.09.2003]. Датчик работает следующим образом. При воздействии давления на чувствительный элемент он прогибается, меняя расстояние между первым электродом и вторым, которым является слой металлизации первой пластины кремния, и меняет, таким образом, емкость. При этом пропорционально изменению емкости меняется выходной сигнал в специальной измерительной схеме, в которую датчик включен. Изменение выходного электрического сигнала пропорционально перемещению мембраны, которое, в свою очередь, пропорционально давлению, вызывающему это перемещение.Also known from the prior art is the design of a capacitive pressure sensor containing a first silicon wafer on which heat shrink elements are located, and a polycrystalline CVD diamond sensitive element bonded to said heat shrink elements [US Pat. No. 6,613,601 B1, publ . 09/02/2003]. The sensor operates as follows. When pressure is applied to the sensitive element, it bends, changing the distance between the first electrode and the second, which is the metallization layer of the first silicon wafer, and thus changes the capacitance. In this case, in proportion to the change in capacitance, the output signal changes in a special measuring circuit in which the sensor is included. The change in the output electrical signal is proportional to the movement of the membrane, which, in turn, is proportional to the pressure causing this movement.
Недостатками указанной конструкции являются:The disadvantages of this design are:
- сравнительно ограниченная точность измерения за счет паразитной емкости между электродом мембраны и металлизацией неподвижного электрода, рядом с которым он расположен;- relatively limited measurement accuracy due to stray capacitance between the membrane electrode and the metallization of the stationary electrode, next to which it is located;
- необходимость формирования на алмазной мембране контактной площадки для приварки электрода в связи с низкой адгезией наносимых на алмаз металлических слоев;- the need to form a contact pad on the diamond membrane for welding the electrode due to the low adhesion of metal layers applied to the diamond;
- сложность производства, связанная с необходимостью приварки электрода к тонкой алмазной мембране.- the complexity of production associated with the need to weld the electrode to a thin diamond membrane.
Улучшение параметров алмазного датчика давления может быть достигнуто разделением слоя металлизации на неподвижном основании на две части, при этом электроды привариваются только к металлизации неподвижного основания.Improving the parameters of the diamond pressure sensor can be achieved by dividing the metallization layer on the fixed base into two parts, while the electrodes are welded only to the metallization of the fixed base.
Наиболее близким аналогом заявленной полезной модели является алмазный датчик давления [патент RU 89240 U1, опубл. 27.11.2009]. Указанный алмазный датчик давления содержит первую кремниевую пластину со слоем металлизации, например, из алюминия, являющуюся первым электродом, термоусадочные элементы (столбики), выполненные из полиуретана. Кроме того, алмазный датчик давления содержит вторую кремниевую пластину с отверстием в ней, чувствительный элемент из поликристаллического CVD-алмаза в виде пленки поликристаллического CVD-алмаза. Чувствительный элемент покрыт слоем металлизации. К слою металлизации чувствительного элемента присоединен второй электрод.The closest analogue of the claimed utility model is a diamond pressure sensor [patent RU 89240 U1, publ. 11/27/2009]. The specified diamond pressure sensor contains a first silicon wafer with a metallization layer, for example, of aluminum, which is the first electrode, heat-shrinkable elements (columns) made of polyurethane. In addition, the diamond pressure sensor contains a second silicon wafer with a hole in it, a polycrystalline CVD diamond sensing element in the form of a polycrystalline CVD diamond film. The sensing element is coated with a metallization layer. A second electrode is connected to the metallization layer of the sensing element.
Поликристаллический CVD (Chemical Vapor Deposition) алмаз широко известен из уровня техники (см., например, Ральченко В., Конов В. CVD-алмазы. Применение в электронике // Электроника, Выпуск 4/2007).Polycrystalline CVD (Chemical Vapor Deposition) diamond is widely known in the art (see, for example, Ralchenko V., Konov V. CVD diamonds.Application in Electronics // Electronics,
Указанный алмазный датчик имеет широкий диапазон измерений, он является универсальным. Однако широта диапазона и универсальность указанного алмазного датчика давления отрицательно влияет на точность измерений.The specified diamond sensor has a wide range of measurements, it is universal. However, the breadth of the range and versatility of the specified diamond pressure sensor adversely affects the accuracy of the measurements.
Технический результат предлагаемой полезной модели заключается в повышении точности измерений и упрощении технологии производства датчика давления.The technical result of the proposed utility model is to increase the accuracy of measurements and simplify the production technology of the pressure sensor.
Технический результат достигается тем, что в алмазном датчике давления, содержащем основание, выполненное из первой кремниевой пластины, на котором расположены термоусадочные столбики, и мембрану, скрепленную с упомянутыми столбиками и выполненную путем нанесения пленки поликристаллического CVD-алмаза на поверхность второй кремниевой пластины с отверстием, при этом обращенные друг к другу стороны основания и мембраны покрыты слоем металлизации, слой металлизации на основании разделен на два контакта, к каждому из которых присоединен электрод.The technical result is achieved in that in a diamond pressure sensor containing a base made of a first silicon wafer, on which shrink columns are located, and a membrane bonded to said columns and made by depositing a polycrystalline CVD diamond film on the surface of a second silicon wafer with an aperture, the sides of the base and the membrane facing each other are covered with a metallization layer, the metallization layer on the base is divided into two contacts, each of which is connected lectrode.
Таким образом, исключаются технологические операции формирования контактной площадки на мембране и приварки электрода к слою металлизации мембраны. Точность измерений повышается за счет исключения паразитной емкости между электродом мембраны и основанием и снижения влияния геометрических размеров слоя металлизации на мембране на величину емкости датчика давления.Thus, technological operations of forming a contact area on the membrane and welding the electrode to the metallization layer of the membrane are excluded. The measurement accuracy is improved by eliminating the stray capacitance between the membrane electrode and the base and reducing the influence of the geometric dimensions of the metallization layer on the membrane on the value of the pressure sensor capacitance.
Полезная модель поясняется чертежами.The utility model is illustrated by drawings.
На фиг. 1 изображен алмазный датчик давления в разобранном виде, общий вид.In FIG. 1 shows a disassembled diamond pressure sensor, general view.
На фиг. 2 изображено основание в процессе изготовления алмазного датчика давления после нанесения слоя металлизации (алюминия) и приварки алюминиевых электродов, вид сбоку.In FIG. 2 shows the base in the process of manufacturing a diamond pressure sensor after applying a layer of metallization (aluminum) and welding of aluminum electrodes, side view.
На фиг. 3 изображена в процессе изготовления алмазного датчика давления мембрана после нанесения с одной ее стороны слоя из поликристаллического CVD-алмаза толщиной 12 мкм, а с другой ее - слоя из поликристаллического CVD-алмаза толщиной 3 мкм (маска для травления), вид сбоку.In FIG. 3 shows a membrane during the manufacturing of a diamond pressure sensor after applying a layer of polycrystalline CVD diamond with a thickness of 12 μm on one side and a layer of polycrystalline CVD diamond with a thickness of 3 μm on one side (mask for etching), side view.
На фиг. 4 изображена в процессе изготовления алмазного датчика давления мембрана после формирования лазерным лучом чувствительного элемента в виде консоли из поликристаллического CVD-алмаза и проведения по маске травления кремния, вид сверху.In FIG. 4 shows a membrane during the manufacturing of a diamond pressure sensor after the laser beam forms a sensor element in the form of a cantilever made of polycrystalline CVD diamond and is subjected to silicon etching mask, top view.
На фиг. 5 - сечение А-А фиг. 3 после формирования лазерным лучом чувствительного элемента из поликристаллического CVD-алмаза, проведения по маске травления кремния и нанесения слоя металлизации (алюминий) на мембрану из поликристаллического CVD-алмаза толщиной 12 мкм.In FIG. 5 is a section AA of FIG. 3 after the laser beam is formed of a polycrystalline CVD diamond sensitive element, the silicon etching mask is applied and a metallization layer (aluminum) is deposited on a 12 μm thick polycrystalline CVD diamond membrane.
На фиг. 6 изображен алмазный датчик давления в сборе.In FIG. 6 shows a diamond pressure transmitter assembly.
На фиг. 7 изображена структурная схема системы регистрации параметров алмазного датчика давления.In FIG. 7 is a structural diagram of a diamond pressure sensor parameter registration system.
Алмазный датчик давления 1 содержит основание 2, выполненное из первой кремниевой пластины, слой металлизации 3 основания 2, разделенный на два контакта, с электродами 4 и 10, термоусадочные элементы (столбики) 5, выполненные из полиуретана (фиг. 1). Кроме того, алмазный датчик давления содержит мембрану, выполненную путем нанесения пленки поликристаллического CVD-алмаза 8 на поверхность второй кремниевой пластины 6 с отверстием 7 в ней. Мембрана покрыта слоем металлизации 9.The
Все вышеперечисленные элементы соединяются между собой в процессе изготовления, который осуществляется в следующем порядке.All of the above elements are interconnected during the manufacturing process, which is carried out in the following order.
Сначала берут основание 2 (фиг. 2) и наносят на него слой металлизации 3 (алюминия) (фиг. 3), разделенный на два контакта.First, take the base 2 (Fig. 2) and apply a metallization layer 3 (aluminum) on it (Fig. 3), divided into two contacts.
После этого на вторую кремниевую пластину 6 (фиг. 3) наносят пленку 8 из поликристаллического CVD-алмаза толщиной 12 мкм, а с другой стороны второй кремниевой пластины 6 наносят пленку 11 (или слой) (маску) из поликристаллического CVD-алмаза толщиной 3 мкм. Далее по пленке 11 (маске) из поликристаллического CVD-алмаза толщиной 3 мкм) проводят травление кремния второй кремниевой пластины 6 с обратной ее стороны, получая рабочий объем 7. После этого наносят слой металлизации 9 (алюминий) на пленку 8 из поликристаллического CVD-алмаза толщиной 12 мкм (фиг. 5).After that, a second silicon wafer 6 (FIG. 3) is coated with a
Для окончательной сборки алмазного датчика давления сначала приваривают электроды 4 и 10 к слою металлизации 3 (фиг. 2), а затем скрепляют основание и мембрану между собой при помощи термоусадочных элементов 5 из полиуретана (более подробно процесс изготовления алмазного датчика давления описан ниже).For the final assembly of the diamond pressure sensor, the
На фиг. 6 показана сборка алмазного датчика давления в аксонометрии. Текучую среду, давление которой необходимо измерить, подводят к рабочему объему 7 с помощью трубки 12 с выходным отверстием 13. Алмазный датчик давления имеет крышку 14.In FIG. Figure 6 shows the assembly of a diamond pressure sensor in a perspective view. The fluid, the pressure of which must be measured, is led to the working
Принцип работы алмазного датчика давления основан на изменении емкости конденсатора, образованного слоем металлизации 3, неподвижно располагающимся на основании 2, и подвижным слоем металлизации 9, располагающимся на диафрагме 8, при изменении давления текучей среды, например газа или жидкости, которая через отверстие 7 воздействует на диафрагму 8, прогибая ее. Слои металлизации 3 и 9 образуют обкладки конденсатора. При этом конденсатор фактически состоит из двух конденсаторов, соединенных последовательно, один из которых образуется первым контактом слоя металлизации 3 с электродом 4 и подвижным слоем металлизации 9, а второй - подвижным слоем металлизации 9 и вторым контактом слоя металлизации 3 с электродом 10.The principle of operation of the diamond pressure sensor is based on a change in the capacitance of the capacitor formed by a
При отсутствии давления среды на диафрагму 8 слой металлизации 9, располагающийся на ней, располагается параллельно неподвижному слою металлизации 3. При подаче текучей среды по трубке 12 от действия давления текучей среды на диафрагму 8 она прогнется. Вместе с ней прогнется и слой металлизации 9, располагающийся на диафрагме 8. Расстояние между ним и неподвижным слоем металлизации 3 изменится, что приведет к изменению емкости между подвижным слоем металлизации 9 и неподвижным слоем металлизации 3.In the absence of medium pressure on the
Данное изменение будет зафиксировано и преобразовано в код в преобразователе емкость-код 15 (фиг. 7). После этого код будет направлен в устройство 16 управления и сбора информации, а оттуда - в персональный компьютер 17.This change will be recorded and converted into code in the converter capacity-code 15 (Fig. 7). After that, the code will be sent to the
Пленка 8 поликристаллического CVD-алмаза является основным упругим элементом в алмазном датчике давления, из которого изготовлена мембрана. Благодаря таким ее уникальным свойствам, как чрезвычайно высокая твердость, высокая теплопроводность, прозрачность в широком оптическом диапазоне, большое удельное сопротивление, достигается повышение точности измерений при сохранении широкого диапазона измерений.Polycrystalline
Использование упругого чувствительного элемента (мембраны), выполненного путем нанесения пленки поликристаллического CVD-алмаза 8 на кремниевую пластину, позволило при разработке технологии изготовления применить стандартное технологическое оборудование для изготовления изделий микроэлектроники.The use of an elastic sensitive element (membrane) made by applying a film of
При изготовлении мембраны алмазного датчика давления из алмазной пленки, нанесенной на кремниевую пластину, используется сочетание планарной технологии с другими технологиями, состоящее в применении глубокого травления кремния, для получения основного чувствительного элемента алмазного датчика: мембраны.In the manufacture of the membrane of a diamond pressure sensor from a diamond film deposited on a silicon wafer, a combination of planar technology with other technologies is used, consisting in the use of deep etching of silicon, to obtain the main sensitive element of the diamond sensor: the membrane.
Использование мембраны, выполненной путем нанесения пленки поликристаллического CVD-алмаза на кремниевую пластину, позволило при разработке технологии изготовления применить стандартное технологическое оборудование для изготовления изделий микроэлектроники.The use of a membrane made by applying a film of polycrystalline CVD diamond on a silicon wafer made it possible to use standard technological equipment for the manufacture of microelectronics products when developing a manufacturing technology.
Для получения мембраны из пленки CVD-алмаза использовался процесс глубокого анизотропного травления кремния. Уникальность свойств пленки синтетического алмаза, а именно высокая химическая стойкость к любым кислотам и щелочам, позволила использовать ее и в качестве упругого элемента, и в качестве стопора глубокого травления, и в качестве маски глубокого травления кремния.A deep anisotropic etching of silicon was used to obtain a membrane from a CVD diamond film. The uniqueness of the properties of a synthetic diamond film, namely the high chemical resistance to any acids and alkalis, made it possible to use it as an elastic element, as a stop for deep etching, and as a mask for deep etching of silicon.
Поскольку синтетическая алмазная пленка обладает уникальными свойствами, а именно она химически стойкая практически во всех кислотах и щелочах, то формирование топологии возможно только с помощью процессов ионного травления или лазерного «рисования» элементов алмазных датчиков.Since a synthetic diamond film has unique properties, namely it is chemically stable in almost all acids and alkalis, the formation of a topology is possible only using ion etching processes or laser "drawing" of diamond sensor elements.
Вторая часть чувствительного элемента, исполняющая роль второй обкладки конденсатора, представляет собой сапфировое основание со слоем металлизации в виде алюминиевой пленки, напыленной по поверхности в виде двух отдельных контактов с выведенными за их пределы проволочными электродами.The second part of the sensitive element, which plays the role of the second lining of the capacitor, is a sapphire base with a metallization layer in the form of an aluminum film sprayed over the surface in the form of two separate contacts with wire electrodes removed from their limits.
Таким образом, схема алмазного датчика давления в сборе представляет собой сэндвич из двух обкладок, сочлененных посредством полиуретановых прокладок, полимеризованных в условиях повышенной температуры и давления.Thus, the diagram of the diamond pressure sensor assembly is a sandwich of two plates, articulated by polyurethane gaskets, polymerized under conditions of elevated temperature and pressure.
Очевидно, что номинальные значения емкости в подобных конструкциях зависят от габаритных размеров составляющих деталей, перекрываемых металлизированных площадей и физико-механических свойств примененных диэлектрических материалов.Obviously, the nominal capacitance values in such structures depend on the overall dimensions of the constituent parts, the overlapped metallized areas and the physicomechanical properties of the applied dielectric materials.
В практической реализации предлагаемой полезной модели диафрагма имеет размеры 8,0×8,0×0,3 мм, а нижняя - 8,0×8,0×0,5 мм.In the practical implementation of the proposed utility model, the diaphragm has dimensions of 8.0 × 8.0 × 0.3 mm, and the lower one is 8.0 × 8.0 × 0.5 mm.
В качестве базовой конструкции для алмазных датчиков давления выбраны металлостеклянные корпуса 3301.8 по КЮЯЛ 431433.023-02 ТУ (ТО-8) производства завода «МАРС» (г. Торжок). Массогабаритные характеристики корпусов: вес 13,6 г и наружный ∅12,75 при общей высоте (вместе с баллоном КЮЯЛ 433684.001-05) 15 мм представляются оптимальными. При этом понадобилась доработка корпусов введением столика для наиболее рационального использования внутреннего объема.As a basic design for diamond pressure sensors, metal-glass cases 3301.8 according to KYUYAL 431433.023-02 TU (TO-8) manufactured by the MARS plant (Torzhok) were selected. The overall dimensions of the cases: weight 13.6 g and external ∅12.75 with a total height of 15 mm (together with the KYUYAL 433684.001-05 cylinder) are optimal. At the same time, the completion of the buildings was required by introducing a table for the most rational use of the internal volume.
В конструкции выбранного типа ТО-8 предусмотрены две выходные воздушные трубки, одна из них - откачной штенгель, посредством которых при подаче избыточного давления проводится аттестация детекторов. Штенгель после использования механизма холодного отпая должен быть пропаян и закрыт защитным колпачком.The design of the selected type of TO-8 provides two output air tubes, one of them is a pumping ram, by which, when an overpressure is applied, the detectors are certified. The plug must be soldered and closed with a protective cap after using the cold deflection mechanism.
Изготовленные алмазные датчики давления по результатам измерения на измерителе цифровом L.C.R. Е7-8 имеют емкость 8 пФ.Manufactured diamond pressure sensors according to the results of measurements on a digital meter L.C.R. E7-8 have a capacity of 8 pF.
В предложенной конструкции алмазного датчика чувствительный элемент в виде мембраны изготовлен из пленки поликристаллического CVD-алмаза. У алмаза коэффициент термического расширения в 4-6 раз ниже, чем у кремния, радиационная стойкость в 100 раз выше, а химическая стойкость является наивысшей, что позволяет расширить диапазон измерений алмазного датчика давления, повысить точность измерений при сохранении широкого диапазона измерений.In the proposed design of the diamond sensor, the sensitive element in the form of a membrane is made of a polycrystalline CVD diamond film. In diamond, the coefficient of thermal expansion is 4-6 times lower than in silicon, radiation resistance is 100 times higher, and chemical resistance is the highest, which allows you to expand the measurement range of the diamond pressure sensor, improve the accuracy of measurements while maintaining a wide range of measurements.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2016148152U RU172636U1 (en) | 2016-12-08 | 2016-12-08 | DIAMOND PRESSURE SENSOR |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2016148152U RU172636U1 (en) | 2016-12-08 | 2016-12-08 | DIAMOND PRESSURE SENSOR |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU172636U1 true RU172636U1 (en) | 2017-07-18 |
Family
ID=59498740
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2016148152U RU172636U1 (en) | 2016-12-08 | 2016-12-08 | DIAMOND PRESSURE SENSOR |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU172636U1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108955995A (en) * | 2018-08-01 | 2018-12-07 | 山东省科学院海洋仪器仪表研究所 | The Sea-water pressure sensor and preparation method of quick response based on diamond thin |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5144843A (en) * | 1988-07-26 | 1992-09-08 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Pressure sensor |
RU2251087C2 (en) * | 2003-06-09 | 2005-04-27 | Новосибирский государственный технический университет | Capacitive pressure pickup |
US7409864B2 (en) * | 2005-05-18 | 2008-08-12 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Pressure sensor and substrate processing apparatus |
US20090090190A1 (en) * | 2006-07-10 | 2009-04-09 | Yamaha Corporation | Pressure sensor and manufacturing method therefor |
RU89240U1 (en) * | 2009-08-17 | 2009-11-27 | Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации | DIAMOND PRESSURE SENSOR |
-
2016
- 2016-12-08 RU RU2016148152U patent/RU172636U1/en active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5144843A (en) * | 1988-07-26 | 1992-09-08 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Pressure sensor |
RU2251087C2 (en) * | 2003-06-09 | 2005-04-27 | Новосибирский государственный технический университет | Capacitive pressure pickup |
US7409864B2 (en) * | 2005-05-18 | 2008-08-12 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Pressure sensor and substrate processing apparatus |
US20090090190A1 (en) * | 2006-07-10 | 2009-04-09 | Yamaha Corporation | Pressure sensor and manufacturing method therefor |
RU89240U1 (en) * | 2009-08-17 | 2009-11-27 | Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации | DIAMOND PRESSURE SENSOR |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108955995A (en) * | 2018-08-01 | 2018-12-07 | 山东省科学院海洋仪器仪表研究所 | The Sea-water pressure sensor and preparation method of quick response based on diamond thin |
CN108955995B (en) * | 2018-08-01 | 2024-02-02 | 山东省科学院海洋仪器仪表研究所 | Sea water pressure sensor based on rapid response of diamond film and preparation method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104034454B (en) | A kind of sensor chip for many physical quantities and preparation method thereof | |
US4261086A (en) | Method for manufacturing variable capacitance pressure transducers | |
US5483834A (en) | Suspended diaphragm pressure sensor | |
US2999386A (en) | High precision diaphragm type instruments | |
Zhao et al. | A fully packaged CMOS interdigital capacitive humidity sensor with polysilicon heaters | |
CA2010803C (en) | Capacitive semiconductive sensor with hinged silicon diaphragm for linear movement | |
US4386453A (en) | Method for manufacturing variable capacitance pressure transducers | |
JPS6140529A (en) | Pressure and capacitance transducer and manufacture thereof | |
US3479879A (en) | Manometer | |
TW201432237A (en) | Method and arrangement for measuring vacuum pressure with a measurement cell arrangement | |
EP0451193A1 (en) | Multimodulus pressure sensor. | |
Cho et al. | An ultrasensitive silicon pressure-based microflow sensor | |
EP0164413A1 (en) | Pressure transducer. | |
EP0198018A1 (en) | Capacitive sensing cell made of brittle material | |
US8739632B2 (en) | Pressure sensor structure and associated method of making a pressure sensor | |
CN114577391A (en) | Insulated gas pressure sensor and preparation method thereof | |
CN103837290B (en) | High-precision capacitance pressure transducer, | |
CN102589760A (en) | Minitype capacitance-type mechanical sensor and preparation method thereof | |
RU172636U1 (en) | DIAMOND PRESSURE SENSOR | |
CN110220636B (en) | Capillary communicating pipe type differential pressure sensor and measuring method | |
KR20070096655A (en) | Micro pressure sensor | |
CA1154502A (en) | Semiconductor variable capacitance pressure transducer | |
RU178898U1 (en) | CAPACITIVE PRESSURE SENSOR WITH DIAMOND MEMBRANE | |
Ho et al. | Stainless steel capacitive pressure sensor for high pressure and corrosive media applications | |
KR20140046356A (en) | Pressure transducer using ceramic diaphragm |