PL95013B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL95013B1 PL95013B1 PL1974176128A PL17612874A PL95013B1 PL 95013 B1 PL95013 B1 PL 95013B1 PL 1974176128 A PL1974176128 A PL 1974176128A PL 17612874 A PL17612874 A PL 17612874A PL 95013 B1 PL95013 B1 PL 95013B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- measure according
- inhibitor
- phosphate
- complex
- formula
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 51
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 31
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- -1 acetylene alcohol Chemical compound 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 11
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 10
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K aluminium phosphate Chemical compound O1[Al]2OP1(=O)O2 ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 4
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGZOZRJPBONCJO-KXQOOQHDSA-N AOPE Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC[C@H](COP(O)(=O)OCCNC(=O)CON)OCCCCCCCCCCCCCCCC MGZOZRJPBONCJO-KXQOOQHDSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000207199 Citrus Species 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 206010021118 Hypotonia Diseases 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGPNXGJLKXGASM-UHFFFAOYSA-N [Si].CC=C Chemical compound [Si].CC=C OGPNXGJLKXGASM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052849 andalusite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 238000003287 bathing Methods 0.000 description 1
- 229910001570 bauxite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000020971 citrus fruits Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012907 honey Nutrition 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002694 phosphate binding agent Substances 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 239000004552 water soluble powder Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B12/00—Cements not provided for in groups C04B7/00 - C04B11/00
- C04B12/02—Phosphate cements
- C04B12/022—Al-phosphates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B28/00—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements
- C04B28/34—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements containing cold phosphate binders
- C04B28/342—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements containing cold phosphate binders the phosphate binder being present in the starting composition as a mixture of free acid and one or more reactive oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/63—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B using additives specially adapted for forming the products, e.g.. binder binders
- C04B35/6303—Inorganic additives
- C04B35/6306—Binders based on phosphoric acids or phosphates
- C04B35/6309—Aluminium phosphates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Fireproofing Substances (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
Opis patentowy opublikowano: 31.01.1978 95013 MKP C04b 35/00 Int. Cl.2 C04B 35/00 ^ZYtELlTiX[ Twórca "wynalazku: • Uprawniony z patentu: Imperial Chemical Industries Limited, Lonclyn (Wielka Brytania) Srodek wiazacy kompozycje ogniotrwale Przednilotem wynalazku jest srodek wiazacy za¬ wierajacy inhibitor, stosowany jako skladnik kom- pozycji ogniotrwalych.Kompozycje ogniotrwale., które stanowia miesza¬ nine czastek ognioodpornych, kwasowego srodka wiazacego lub zdolnego do tworzenia charakteru kwasowego* oraz substancji ido dyspergowania lub rozpuszczania srodka wiazacego, np. wody, znane sa z tego, ze w przypadku obecnosci zanieczysz¬ czen metalicznych wykazuja szereg wad. Przy¬ puszcza sie, ze w kompozycjach takich kwasowy srodek wiazacy reaguje z zanieczyszczeniami meta¬ licznymi z uwolnieniem wodoru. Stwarza to klo¬ poty w magazynowaniu itaklich kompozycji a w uformowanych wyrobach wystepuje zjawisko pecznienia, które mnozna okreslic jako powstawanie pustych przestrzeni. Wyirofoy z pustymi przestrze¬ niami odznaczaja sie pewna deformacja, posiadaja mniejsza gestosc i nizsza wytrzymalosc od wyro¬ bów, w których zjawisko to nie wystepuje.Stwierdzono, ze w kompozycjach ognioodpornych ze srodkiem wiazacym stanowiacym kompleksowy fosforan zawierajacy chlorowiec moze wystepowac zjawisko pecznienia w przypadku obecnosci zanie¬ czyszczen metalicznych, oraz ze zjawisko1 pecznie¬ nia irnoana zmniejszyc, a w pewnych przypadkacih w zasadzie usunac, jesli kompozycja zawiera od<- powiedni inhibitor.Wedlug wynalazku opracowano dla kompozycji ogniotrwalych odpowiedni srodek iwiazacy, zawie¬ rajacy inhibitor.Wedlug wynalazku, srodek wiazacy zawierajacy inhibitor, stanowi mieszanine co naj'mniej jednego kompleksowego fosforanu glinu, zawierajacego chlorowiec oraz jedna lub wiecej czesteczek wody chemicznie zwiazanej i/lub jedna lub wiecej che¬ micznie zwiazanych czasteczek organicznych za¬ wierajacych tlen, oraz co najmniej jeden inhibitor stanowiacy alkohol acetylenowy o wzorze ogólnym HC=C-C5R1R2- byc takie same lub rózne i oznaczaja atomy wo¬ doru lub grupy organiczne, Y oznacza dwuwair- tosciowa grupe organiczna, a n oznacza lifzbe yod 2 do -30.W inhibitorze o wzorze HC^C-<^iR^Y)-nÓH odpowiednimi podstawnikami Rt i R^ sa atomy wodoru i rodniki ailkiilowe o 1—10 atomach (Wegla, takie jak metyl, etyl i propyl. 'Korz.ys.tnae oba Rt i R2 oznaczaja atomy wodoru, poniewaz w tym przypadku inhibitor mozna'wytworzyc z laitwo do¬ stepnego alkoholu pr^pargilowego.Korzystnie Y oznacza\:er*ipe oksyajkilenowa, po¬ niewaz inhibitor zawierajacy, te grupe szczególnie skutecznie ogranicza pecznienie wyrobów z kom¬ pozycji ognioodpornej zawieraj acej im)ieszanqine srodka wiajzacego i inhdbiitora oraz zanieczyszczenia metaliczne. Inihibiitoreni moze byc„ i^P- zwiazek 95 0130 wzorze 1, iw którym Rg, i R4 moga byc takie saone lub rózne i oznaczaja atomy wodoru lub grupy organiczne.Odpowiednimi grupami organicznymi sa rodnika alkilowe i rozgaleziione rodndlki alkilowe o 1.—10 atoniach wegla* np. metylowe, etylowe,, propylowe i butylowe, podstawione irodniki alkilowe, np. chlo- rametylowe oraz grupy aromatyczne np. fenylowe.Korzystnie R,a i R4 oznaczaja atomy wodoru, wzglednie geden z nich stanowi atom wodoru, a drugi rodnik alkilowy, np. metylowy. We wzorze 1 girupy oksyaikillowe moga stanowic mieszanine grup io róznej (budowie iw' przypadku niektórych z nich mp. oba Rg i R4 'oznaczaja atomy wodoru, a w przypadku innych grup np. jeden z nich sta¬ nowi atom wodoru a drugi rodnik alkilowy. Girupy te mioga wchodzic w sklad kopolimerów równiez .blokowych. Inhibitory, w których wzorach pod¬ stawniki R,y i R4 stanowia atomy wodoru lub grupy metylowe albo ich mieszanine, to znaczy zwiazki, w których wzorach Y oznacza grupe «oksyetylenowa lub oksypropytaiowa albo ich mieszanine, sa szcze¬ gólnie korzystne, gdy mozna je wytwarzac z latwo dostepnego tlenku letyleniu i itilemku propylenu lub z ich mieszaniny.Inhibitor wystepujacy w srodku wedlug wyna¬ lazku moze byc mieszanina zwiazków o wzorze OH =C-iORiRa- tosci, tak ze na ogól dla mieszaniny tych zwiazków n nie jest liczba calkowita. Korzystnie m jest w zakresie 2—!2 np. okolo 7, gdyz taka miesza¬ nine inhiibitorów jest latwiej otrzymac niz o wyzr szym n.Alkohole acetylenowe istosowane jako inhibitor w sirodku wedlug wynalazku sa .zasadniczo mniej lotne i toksyczne iod alkoholu priopargilowego i dla¬ tego dogodniejsze do stosowania. Ze wzgledu na lotnosc alkoholu propargilowego jego stosowanie polaczone jest z ryzykiem dzialania toksycznego, zwlaszcza w podwyzszonej temperaturze. W przy¬ padku alkoholi acetylenowych ryzyko takie jest znacznie mniejsze.Inhibitor o iwzorze HC=CRiR2-(Y) nOH wytwarza sie z alkoholu pnopairgilowego, lufo jego podstawio¬ nej pochodnej poddajac go reakcji ze zwiazkiem stanowiacym zródlo grupy o symbolu Y. Np. gdy Y oznacza grupe oksyalkilowa, inhibitor wytwarza sie poddajac reakcji alkoholi propairgilowy lub jego pochodna z tlenkiem alkilenu, korzystnie z tlen¬ kiem 1,2-alkiilenu, np. o wzorze 2, w którym R^ i R4 maja wyzej podane znaczenie, przy czym do reakcji mozna uzyc dwu lub kilku tlenków alki¬ lenu.Reakcje prowadzi sie w obecnosci katalizatora, takiego jak amina trzeciorzedowa,' kwas wodoro¬ tlenek metalu alkalicznego lufo ziem alkalicznych.W przypadku wytwarzania inhibitorów o wysokim wspólczynniku n, pozadana jest podwyzszona tem¬ peratura i podwyzszone cisnienie.Kompleksowy fosforan iglinu .stosowany w sirodku wiazacym wedlug wynalazku wytwarza sie przez poddanie reakcji glinu albo zwiazku glinu, np. halogenku glinu, z kwasem fosforowym lub estrem kwasu fosforowego albo ze zwiazkiem zdolnym ;oi3 4 do tworzenia kwasu fosforowego lub jego estru.. W iprzypadku uzycia glinu lub zwiazku glinu innego niiz zwiazek glinu zawierajacy chlorowiec, konieczne jest wprowadzenie do reakcji odpowied- niego chloroiwcioikwasu.. Reakcje prowadzi sie w 'Obecnosci wody lub zwiazku ogranieznego za¬ wierajacego tlen,, a mieszanine reakcyjna zazwy¬ czaj stanowi roztwór. Wydzielony z mieszaniny reakcyjnej kompleksowy fosforan zawiera jedna lub kilka chemicznie zwiazanych czasteczek wody i/lub czasteczek organicznych zawierajacych tlen.Korzys;tnie reakcje prowadzi sie w temperaturze 0—5i0oC. Kompleksowy fosforan wydziela sie z mie¬ szaniny poreakcyjnej przez wytracenie dodatkiem odpowiednego rozpuszczalnika, przez zatezenie, liofilizacje lub suszenie irozpryskowe. Korzystnym .chlorowcem iw kompleksie fosforanowym jest chlor, lecz moze to byc brom lub jod. Korzystnym fosforanem (jest ortofosforan, lecz mozna stosowac takze imetafosforan li pirofosforan.Odpowiednimi zwiazkami organiczymi zawieraja, cymi tlen sa hydiroksyzwiazki, estry, aldehydy i ketony, a zwlaszcza te zwiazki organiczne za¬ wierajace (tlen, które z solami glinu tworza zwiazki zespolone. Korzystnymi hydroksyzwiazikami sa alkohole alifatyczne — 1—10 atomach wegla. Szcze¬ gólnie korzystne sa alkohole alifatyczne o 1—4 ato¬ mach wegla, np; alkohol etylowy.Stosunek ilosciowy gramoatomów glinu do gramo- atomów fosforu w kompleksowym fosforanie glinu obejmuje szeroki zakres, mp. li—2 : 2—I, szczegól¬ nie 1—2:1, ale zasadniczo korzystny jest stosunek 1:1, to znaczy mieszczacy sie w zakresie 0,8—ii, 2:1, poniewaz kompleksowe fosforany o takim stosunku w niskich temperaturach rozkladaja sie bezposrednio do ortofosfonainu glinu wykazujacego stosunkowo wyzsza stalosc chemiczna i ogniood- porniosc. Stosunek gramoatomów glinu do graimoa- . tomów chlorowca w kompleksowym fosforanie glinu równiez obejmuje szeroki zakres, np.. 1^2: 1—3, ale zasadniczo korzystny jest sto¬ sunek 1:1.Kompleksowy fosforan glinu zawiera,, np. 1;—5 4_ czasteczek wody i/lub czasteczek organicznych za¬ wierajacych tlen. Przyklady odpowiednich kom¬ pleksowych fosforanów giliimu mozna znalezc w brytyjskich opisach patentowych nr nr 1 322 722 113^2 724. ¦50 (Przykladowo wymienia sie nastepujace komplek¬ sowe fosforany glinu: a) .zawierajacy chlor i alkohol etylowy, o empi¬ rycznym wzorze AiiPGlH^CdOg. Charakterystyczne wartosci widma IR i promieni X tego zwiazku 55 podano w przykladzie 1 wyzej wymienionego opisu patentowego nr 1&22 722. Zwiazek ten okreslono skrótowo jako AOPE; b) zawierajacy chlor i wode, o ernpirycznym wzorze AlPOlH^Og. Charakterystyczne wartosci 60 widma LR i promieni X tego zwiazku podano w przykladzie 1 wyzej wymienionego opisu paten¬ towego nr l322 7i24. Zwiazek ten okreslono skrótowo jako AOPH; c) zawierajacy (bram i alkohol etylowy, o empi- 65 rycznym wzorze AlB:rH25C808. Charakterystyczne t95 013 wartosci widma ER i promieni X tego zwiazku po¬ dan®^w przykladzie 3 wyizej .wymieniorbego opisu patentowego nr 13^2122.. Zwitek ten okreslono skrótowo jako AiDjFE. iNailezy zaznaczyc, ze podane wyzej wzory empi¬ ryczne w zadnej imdieirze me dmipflikiuja konkretnej budowy czasteczkowej tych fosforanów.Stale fosforany czesto odznaczaja sie hignosko- pijnoscda. Stwierdzono jednak, ze w mieszaninie z inhibitorem, srodek wedilug wyinailazku wykazuje zmniejszona hiigroskopijnosc.Mieszanine kompleksowego fosforanu r, gilrimiu i inhibitora wytwarza sie przez ich wymieszanie, np. w mieszalniku obrotowym do zestawiania mieszanek. Dogodnie srodek wedlug wynalazku wyitwaffiza sie przez wprowadzenie inhibiitoira do roztworu kompleksowego jfosforamu glinu w cie¬ klym rozcienczalniku, np. do roztworu, w którym otrzymano kompleksowy fosforan glonu, a na¬ stepnie wydzielenie mieszaniny z roztworu, np. przez wytracenie dodatkiem odpowiedniego roz- puszczailnika, przez zatezenie roztworu, liofilizacje lub suszenie rozpryskowe. iKorzysitnie stosuje sie inhibitor rozpuszczalny w cieklym rozcienczalniku.Stezenie srodka wiazacego w roztworze'korzystnie wynosi od 1 do 50tyo wagowych.Ilosc inhibitora zawaflfego w mieszaninie zalezy miedzy innymi od iwlasmosci kompleksowego' fosfo- ranu glinu oraz od ilosci izanieczyszczen metalicz¬ nych w kompozycji ognioodpornej., której miesza¬ nina wedlug wynalazku jest . skladnikiem. Dla danego srodka wiazacego i dla danych czasteczek ognioodpornych ilosc inhibitora konieczna do za¬ hamowania pecznienia mozna dobrac na podstawie prostego doswiadczenia polegajacego na zestawie¬ niu mieszanek o róznej zawartosci inhibitora i uformowaniu wyrobów o dopuszczalnym pecznie¬ niu.Stwierdzono, ze w srodku wedlug wynalazku korzystnie zawartosc inhibitora wynosi co najmniej 0&'/••, na ogól 0,2—W* wagowych sirodka wiazacego zawartego w mieszaninie, a najkorzystniej 0,2—4*/o.Jednakze w przypadku mieszaniny przeznaczonej do kompozycji ognioodpornych o stosunkowo.duzej ilosci zanieczyszczen metalicznych konieczny jest inhibitor w ilosci powyzej 5°/a, lecz nie wyzszej niz IO*/o. W iprzypadku malej zawartosci zanie¬ czyszczen metalicznych wystarcza Oyl°/o inhibitora w stosunku do wagi srodka wiazacego.Srodek wedlug wynalazku nadaje sie jako sklad¬ nik kompozycji ogniotrwalej, w sklad której, oprócz srodka wchodza czastki materialu ognio¬ odpornego. Kompozycja taka 'moze byc w sta¬ nie zasadniczo suchym, albo moze to byc kompo¬ zycja do utwardzania, która zawiera jeszcze ciekly rozcienczalnik stanowiacy rozpuszczalnik srodka wiazacego. Korzystnie rozcienczalnikiem jest woda, lub rozcienczalnik zawierajacy wode, np. mieszanina wody z^rozcienczalnikiem organicznym.Zanieczyszczenia metaliczne obecne w kompo¬ zycji ogniotrwalej moga pochodzic z róznych zró¬ del, n[p. zelazo moze znajdowac sie w czastkach ognioodpornych lub moze pochodzic z kul stalo¬ wych uzywanych w .mlynach Kulowych. Zelazo wystepuje czesto jako «ffi^eczyszczenie w pokru¬ szonych ceglach ognioodpornych ze starych .wy¬ kladzin; . Oprócz, zelaza kompozycja ogniotrwala moze zawierac inne zanieczyszczenia metaliczne; * np. w zuzlu icJi]XM«K^o-ndkJ wac chrom nietaJdeziiy, i Korzystnie jako czasteczki xgnioodporne w kom¬ pozycjach stosuje sie imaterialy kwasowe lub obo¬ jetne, jak równiez materialy zasadowe, zwlaszcza. czesc z nich moze byc zasadowa. Mozna takze stosowac mieszanine dwu Jjub wiecej róznych rodzajów wyzej wymienionych materialów, przy tym kompozycja itaka moze zawierac irówniez gline.Czastki ogrrioodporne stosów^ .mozna w' jdor wolnej postaci lecz zgodnej z przeznaczeniem kom¬ pozycji Zazwyczaj stosuje sie czastki ogniood¬ porne w postaci proszku, ale mozna irówniez uzyc wlókienek, wiórków i platków. Korzystnie ,stosuje sie mieszanine czastek grubych d drobniejszych, poniewaz wytrzymalosc .wyrobów z takich kompo¬ zycji zazwyczaj jest wyzsza niz w przypadku czastek o zblizonych wymiarach. / Wielkosc czastek ognioodpornych moze wahac sie w szerokim zakresie* zaleznie od przeznaczenia kompozycji ognioodpornej. Np. w przypadku kom¬ pozycji przeznaczonej na wyprawe ogniotrwala nanoszonej pneumatycznie, pozadane jest uzycie proszku, którego ziarna maja wymiary 0,35—1,0 mm.Moga byc równiez stosowane proszM drobnoziar- niste o wielkosci czastek zasadniczo ponizej O^OS mm.W przypadku wytwarzania1 form stosowanych do sporzadzenia odlewów metoda traconego wosku, korzystne jest stosowanie proszku ognioodpornego zawierajacego co najmniej 50M wagowych czastek ponizej 0,15 mm, a bairdziej konzystnie ponizej 0,075 mm. Czastki ognioodporne moga miec-takze wymiary do 2 cm, a nawet wieksze.Jako szczególnie uzyteczne czastki ognioodporne 40 stosuje sie .krzemionke, tlenek, glinowy, rnp. pra¬ zony i plytkowy lub topiony, dwutlenek cyrkonu oraz ortofcrzemiany cyrkonowe. Mozna takze sto¬ sowac tlenek tytanu, krzemiany glinu, np. sylima¬ nit, andaluzyt, muMt i molochiit, glinki porcelitowe, 45 wegliki, np. wegllik krzemu i wolframu, azotki, np. azotek krzemu i boru, 'bor, azbest, tlenek ze¬ lazowy* tlenek chromu, chwwnit, mike i wegiel, np. grafit. 60 Sucha kompozycja ognioodporna korzystnie za¬ wiera srodek wiazacy w ilosci 0,5—40^/t wagowych, a bairdziej korzystnie ^-^OP/t lub 2M10*/tu Stwierdzono, ze odpowiednia zawartosc inhibi¬ tora w kompozycji ognioodpornej zazwyczaj wynosi 55- co najmniej 0,0lP/t, na ogól 0,01—!•/•, a korzystnie 0,0(2—0,5% wagowych czastek ognioodpomych.Do wytworzenia lutwardzalnej (kompozycji ognio¬ odpornej nalezy stosowac ciekly rozcienczalnik w ilosci odpowiedniej do zapewnienia zadanej kon- 60 systenoji. Na ogól ilosc cieklego (rozcienczalnika w lutwairdizailnej kompozycji ognioodpornej wynosi 0,5—asP/o* korzystnie 2—15!%, a jeszcze korzystniej —110% wagowych.Jako rozcienczalniki stosuje sie zawyczaj roz. ** puszczalkiik srodka wiazacego. &rodek wiazacy \7 95 013 8 moze byc równiez ©dyspergowany w rozcienczal- nikiu, mp. jako zawiesina, zol lub zel. Korzystnym rozcienczalnikiem jest woda. Rozcienczalnikiem moze byc równiez ciekly zwiazek organiczny, np. polarny, taki jak alkohol metylowy, etylowy, izo¬ propylowy ikub bmtyiLowy, glikol etylenowy Hub eter manoetylowy glikolu etylenowego. Mozna równiez stosowac mieszanine rozcienczalników, korzysitnie zawierajaca wode^ Sucha kompozycje ognioodporna wytwarza sie przez zimdeszande czastek ognioodpornych ze srod¬ kiem wiazacym zawierajacym irnhibiitor, albo z przedimieszka iziozona ze srodka wiazacego i inihi- bd/Lora^np. w mieszalniku obrotowym do zestawia¬ nia mieszanek. Utwardzalna kompozycje ogniood¬ porna (wytwarza sie przez dodanie zadanej ilosci rozcienczalnika do suchej kompozycji. W dmny spo¬ sób lurtwairdzalna kompozycje mozna wytworzyc praez zmieszanie czalstek ognioodpornych srodkiem wiazacym zawierajacym inhibitor w rozcienczal- nifcu.Utwardzalna kompozycje ognioodporna mozna sitosiowac do (rozmaitych celów, miedzy innymd do wytwarzania wyrobów formowanych, korzystnie prasowanych. Mozna takze wykorzystywac jej zdolnosc do tezenia i przylegania do otaczajacych powierzchni, tworzac powloki i okladziny korzy¬ stnie na wyrobach (metalowych.Mozna ja stosowac do tloczenia i prasowania, jako wyprawe ogniotrwala nanoszona za pomoca dzialka pneumatycznego, jako zaprawa murarska, cementy i wypelniacze, mfp. spoiwa ceramiczne, korzystnie w urzadzeniach pracujacych w wysokich temperaturach, mp, jako sciany i wykladziny pie¬ ców/ Sklad kompozycji ii jej konsystencje dobiera sie tak, aby zapewnic jej optymalna przydatnosc w danym zastosowaniu. Z utwairdzalnej kompo¬ zycji ognioodpornej mozna wytwarzac takie wy¬ roby formowane jak mp. cegla piecowai, z innych wyrobów wyimdenic mozna bloki prostokatne i szesciokatne, formy, korzystnie formy odOiewndcze, plyty i inne (wyroby (monolitowe' np. wykladziny monolitowe do urzactoen pracujacych w wysokich temperataach.Uitwardzalna kompozycje mozna przeksztalcic w twarde, informowane przedmioty przez ogrzewa¬ nie do wyzszej temperatury, albo wprowadzajac do kompozycji srodek utwardzajacy reagujacy ze srodkiem wiazacym. Jesli to pozadane, utwardzanie osiaga sie lacznym dzialaniem podwyzszonej (tem¬ peratury i srodka .utwardzajacego. Kompozycje utwardzana na zimno wytwarza sie wprowadzajac do niej odpowiednio dobrany srodek utwardza- * jacy. Wytwarza .sie z niej przedmioty odlewane o wystarczajacej wytrzymalosci w stanie suro¬ wym. Korzystnym srodkiem urtwardzajacym jiesit tlenek magnezowy, jak podano w brytyjskim opisie zgloszeniowym nr 23885/72^ opublikowanym równiez jako holenderskie zgloszenie patentowe nr 7306 526.Uformowany produkt poddaje sie nastepnie ogrze¬ waniu, w temperaturze np. w #0°—12O0°C, otrzy¬ mujac gotowy wyrób ognioodporny. Korzystnie stosiuje sie ogrzewanie dwuetapowe. W pierwszym etapie s,urowy produkt suszy sie w temperaturze, np. w 80°—250°C, a w drugim wygrzewa sie go w piecu do wypalania., w temperaturze np. 860°— 1000°C i otrzymuje gotowy wyrób ognioodporny./Utwardzalna kompozycje ognioodporna przezna- s czona do powlekania nanosi sie na podloze w zwy¬ kly sposób, np. w kapieli, przez natryskiwanie lub mailowanie. -Podlozem moze byc przedmiot meta¬ lowy lub z dowolnego tworzywa i w dowolnej postaci.* Kompozycja ognioodporna moze zawierac liczne dodatki. W celu polepszenia wlasnosci zwilzaja- cyoh dodaje sie srodki powierzchniowo-czyinne.Jesli jest to pozadane, dodaje sie pigmenty i/lub nieognioodpoime wypelniacze. W przy^padku jej przeznaczenia do tloczenia lub prasowania, korzy¬ stne (jest dodanie plastyfikatorów, takich jak ben¬ tonit i inne gliinki, lub srodków zastepczych, np. pochodnych celulozy, idinki wprowadza sie takze w celu podwyzszenia wytrzymalosci produktów koncowych w wysokich temperaturach.(Wynalazek objasniaja ponizsze przyklady w których wszystkie /udzialy podano wagowo.Przeklad I i II. 13(5 czesci bezwodnego chlorku glipowego dodano powoli do 300 czesbi wody, po czym do otrzymanego roziwonu dodano 110 czesci 89tyo wodnego kwasu 'Ortofosforowego.Otrzymany zólty roztwór odwodniono we wspól- pradowej suszarce riozpylowej, wyposazonej w wirujacy irozpytlacz tarczowy i komore, przy cisniendiu atmosferycznym. Temperatura powietrza na Wlocie wynosila 140°C, a na wylocie 70°C.Otrzymano zólty rozpuszczalny w wodzie proszek (okreslony skrótowo jako ACPH), którego analiza wykazala: Al Cl PG4 H*0 tyo 11,4 17,4 30,3 30,0 udzial 1,00 1,00 1,12 4,0 W dwóch oddzielnych operacjach, zmieszano sta- 43 rannie 06 czesci sortowanych czastek (boksytu za¬ wierajacego 1^2% zelaza:, 4 czesci gliny o wyso¬ kiej zawartosci tlenku glinowego, 5 czesci ACPH i (0,4 czesci .tlenku magnezowego jako srodka utwardzajacego 45 z otrzymanych imieszanin dodano odpowiednio.W przykladzie I 0,05 czesci a w przykladzie II 0,1 czesci inhibitora, stanowiacego mieszanine zwiazków o ogólnym wzorze 3, w którym ignupa o wzorze 4 oznacza mieszanine jednostek tlenku 50 etylenu i propylenu, a n loznacza liczbe 7,5. Do obu otrzymanych kompozycji dodano po -6 czesci wody i utworzona citfstowata mase .przelano do form z gniazdami o wymiarach 101,6X12y7X 12,7 mm i pozostawiono na 15 minut do otwairdzema. 56 Otrzymane próbki o wymiarach 101,0X12,7X12,7 mm wyjeto z form i ogrzewano przez 16 godzin -w 110°!C, a nastepnie przez 2 godziny w 1000°C Po wyjeciu z form próbki wytworzone z kompo¬ zycji zawierajacej 0^06 czesci inhibitora wykazy- 60 waly bardzo niewielki stopien specznienia, a próbki wytworzone z kompozycji zawierajacej 0,1 czesci inhibitora nde 'wykazywaly nawet sladów ispecznie- nia.Postepowano jak wyzej z ta róznica, ze nie do- 65 dano inhibitora. Wytworzone próbki wykazywaly95 013 9 znaczny stopien specznienia, a w szczególnosci ich górna powierzchnia nie ograniczana forma zawie¬ rala liczne pory i w wyniku powstania pustych przestrzeni powiekszyla swe wymiary powyzej poziomu formy.Przyklad III. Postepowano jak w przykladzie I, z ta róznica, ze uzyto 0,1 czesci inhibitora o wzorze 3, w którym n = 2 oraz jeden z symboli Ra i R4 lozinaczal metyl a drogi atom wodoru. Uzyfto form o wymiarach 63,5X63,5X63,15 mm i pominieto ogrzewanie próbek. Próbki wyjete z formy nie wykazywaly nawet sladów specznienia.[Powyzsze postepowanie powtórzono-, lecz nie do¬ dano inhibitora. Wytworzone próbki po wyjeciu z formy wykazywaly porowatosc i specznienie, a górna powierzchnia próbek byla porowata i po¬ wiekszyla swoje wymiary powyzej poziomu formy.W wyniku specznienia objetosc tych próbek byla o MP/i wieksza od objetosci próbek wytworzonych z mieszanki zawierajacej inhibitor. jPrziyklad IV. Postepowano jak w przykla¬ dzie II, z ita róznica, ze uzyto 0,05 czesci inhibitora.Wytworzone próbki nie wykazywaly sladów specznieniau Przyklad V. Postepowano jak w przykla¬ dzie III, z (ta róznica, ze uzyto 0,1 czesci inhibitora o wzorze 3, w którym n = 2, R^ = R4 = H. Po wy¬ jeciu z form próbki nie wykazywaly sladów specz¬ nienia.Przyklad VI. Postepowano jak w przykla¬ dzie V» lecz uzyto 0,05 czesci inhibitora. Wytwo¬ rzone próbki równiez inie wykazywaly sladów specznienia* PL PL
Claims (13)
1. Z a is it r z e z e n i a p a11 e n t o w e 1. Srodek wiazacy kompozycje ogniotrwale, za¬ wierajacy inhibitor, znamienny tym, ze stanowi mieszanine co najmniej jednego kompleksowego fosforanu glinu zawierajacego chlorowiec a jedna lub wiecej czasteczek wody chemicznie zwiazanej i/luib jedna lub wiecej chemicznie zwiazanych cza¬ steczek organicznych zawierajacych tlen, oraz jako 10 10 15 20 35 40 inhibitor co najmniej jednego alkoholu acetyleno¬ wego o wzorze ogólnym ¦• HC=C-CRiR2-(Y)nOH, w którym Rj i iRg moga byc takie same lub rózne i oznaczaja atomy wodoru lub grupy organiczne, Y oznacza dwu/wartosciowa igrupe organiczna, a n lozinacza liczbe od 2 do 30.
2. Srodek wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako inhibitor zawiera alkohol o wzorze HC=C- -CRtRa-TOnOH, w którym RL i R2 oznaczaja atomy wodoru.
3. Srodek wedlug zastrz. 2, znamienny' tym, ze Y oznacza ©rupe oksyailkilanowa.
4. Srodek wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze grupe oksyalkilenowa przedstawia wzór 4, w któ¬ rym R,3 i R4 moga byc takie same lub róznie i oznaczaja atomy rwodoru lub grupy organiczne.
5. Srodek wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze n przecietnie jest liczba od 2 do 12.
6. Srodek wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze Y oznacza grupe oksyetylenowa, oskypropyilenowa lub ich mieszanine. 7. [ 7. Srodek wedlug zastrz. 5 albo 6, znamienny tym, ze n wynosi okolo
7.
8. srodek wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako .fosforan zawiera kompleksowy fosforan glinu zawierajacy chlor.
9. srodek wedlug zastrz. 1 albo 8, znamienny tym, ze kompleks'owy fosforan glinu zawiera od 1 do 5 * czasteczek wody chemicznie zwiazanej.
10. Srodek wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w zawartym kompleksowym fosforanie glinu stosunek gramoatomów glinu do gramoatomów fosforu wynosi od 0,8 :1 do 1,2 :1.
11. Srodek wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako kompleksowy fosforan glinu zawiera fosforan o wzorze empirycznym ALPOHnOg.
12. Srodek wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera inhibitor w ilosci od 0,2 do 5% wagowych srodka wiazacego.
13. Srodek wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera ciekly rozcienczalnik, w którym komplek¬ sowy fosforan i inhibitor ;sa rozpuszczalne.95 013 HC-C— C^RgfO-CH- CH)n OH WZÓP 4 I3 I4 CH CH WZÓR 2 I HCsC.CH (O-CH-CH)— OH K WZÓR 3 13 A O— CH~ CH- WZÓR 4 l,/.(i Z-U Nr li Kil 1-78 120 fftZ. U ( VllU 1 /l PL PL
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB5597273A GB1426459A (en) | 1973-12-03 | 1973-12-03 | Binder for refractory aggregate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL95013B1 true PL95013B1 (pl) | 1977-09-30 |
Family
ID=10475388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL1974176128A PL95013B1 (pl) | 1973-12-03 | 1974-12-02 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3994739A (pl) |
JP (1) | JPS5089409A (pl) |
BE (1) | BE822808A (pl) |
CA (1) | CA1025892A (pl) |
DE (1) | DE2457101C3 (pl) |
FR (1) | FR2252997B1 (pl) |
GB (1) | GB1426459A (pl) |
IT (1) | IT1026726B (pl) |
LU (1) | LU71405A1 (pl) |
NL (1) | NL7415688A (pl) |
PL (1) | PL95013B1 (pl) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3186005B2 (ja) * | 1993-12-24 | 2001-07-11 | 愛知機械工業株式会社 | 鋳造用中子 |
US5612393A (en) * | 1993-12-24 | 1997-03-18 | Nissan Motor Co., Ltd. | Casting core composition |
US20030110992A1 (en) | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Pavlik Robert S. | Alumina refractories and methods of treatment |
US8087450B2 (en) | 2007-01-29 | 2012-01-03 | Evonik Degussa Corporation | Fumed metal oxides for investment casting |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE320311B (pl) * | 1968-07-15 | 1970-02-02 | Mo Och Domsjoe Ab | |
GB1322722A (en) * | 1969-06-12 | 1973-07-11 | Ici Ltd | Complex aluminium phosphates |
GB1365287A (en) * | 1970-12-11 | 1974-08-29 | Ici Ltd | Graphite compositions |
-
1973
- 1973-12-03 GB GB5597273A patent/GB1426459A/en not_active Expired
-
1974
- 1974-11-25 US US05/526,924 patent/US3994739A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-11-29 BE BE151038A patent/BE822808A/xx unknown
- 1974-12-02 PL PL1974176128A patent/PL95013B1/pl unknown
- 1974-12-02 NL NL7415688A patent/NL7415688A/xx not_active Application Discontinuation
- 1974-12-02 IT IT7430097A patent/IT1026726B/it active
- 1974-12-02 LU LU71405A patent/LU71405A1/xx unknown
- 1974-12-02 FR FR7439429A patent/FR2252997B1/fr not_active Expired
- 1974-12-03 DE DE2457101A patent/DE2457101C3/de not_active Expired
- 1974-12-03 JP JP49137819A patent/JPS5089409A/ja active Pending
- 1974-12-03 CA CA215,268A patent/CA1025892A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3994739A (en) | 1976-11-30 |
CA1025892A (en) | 1978-02-07 |
FR2252997A1 (pl) | 1975-06-27 |
AU7579274A (en) | 1976-05-27 |
DE2457101B2 (de) | 1978-08-17 |
GB1426459A (en) | 1976-02-25 |
BE822808A (fr) | 1975-05-29 |
JPS5089409A (pl) | 1975-07-17 |
NL7415688A (nl) | 1975-06-05 |
FR2252997B1 (pl) | 1978-09-15 |
IT1026726B (it) | 1978-10-20 |
LU71405A1 (pl) | 1976-04-13 |
DE2457101A1 (de) | 1975-06-05 |
DE2457101C3 (de) | 1979-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3966482A (en) | Refractory binder | |
US3899342A (en) | Complex phosphates | |
US4171984A (en) | Refractory composition for flow casting | |
JPH02293383A (ja) | 耐熱性フオーム、その製造及び使用 | |
PL206611B1 (pl) | Interkalowane związki grafitu zdolne do ekspandowania, sposób ich wytwarzania i ich zastosowanie | |
CN1850728A (zh) | 高炉出铁口Al2O3-SiC-C体系无水炮泥 | |
PL81674B1 (pl) | ||
US20040186041A1 (en) | Phyllosilicate-intercalation compounds with increased expansion volume, method for their synthesis and their use | |
PL95013B1 (pl) | ||
KR20160119766A (ko) | 카르보닐 화합물을 사용하여 금속 주조를 위한 몰드 및 코어를 생산하는 방법 및 상기 방법에 따라 생산된 몰드 및 코어 | |
US7101821B2 (en) | Silicon composition | |
KR19980703345A (ko) | 경량의 분무가능한 턴디쉬 라이닝 조성물 | |
US3950177A (en) | Refractory compositions | |
US4056588A (en) | Bonded particulate ceramic materials and their manufacture | |
US3702774A (en) | Mould treatment | |
US3262793A (en) | Refractory | |
CN101747069A (zh) | 一种炼钢电炉顶用高铝制品 | |
JPH01160854A (ja) | 高強度、耐摩耗性耐火キャスタブル | |
JPS6341865B2 (pl) | ||
DK2742089T3 (en) | Dispersion polymers with improved thermal stability | |
EP1622848B1 (en) | Manufacturing method of a heat-resistant material, heat-resistant structure, structural material and dry matter composition | |
IL36333A (en) | Refractory compositions | |
CS209451B2 (cs) | Žáruvzdorný přípravek | |
GB2032898A (en) | Non-fired silicon carbide refractories | |
US4010294A (en) | Complex phosphates |