PL81341B1 - - Google Patents

Description

Uprawniony z patentu: Xerox Corporation, Rochester, Nowy Jork (Stany Zjednoczone Ameryki) Zespól usuwajacy czastki wywolywacza z powierzchni swiatloczulej bebna urzadzenia kserograficznego Przedmiotem wynalazku jest zespól usuwajacy czastki wywolywacza z powierzchni swiatloczulej bebna urzadzenia kserograficznego.W znanych urzadzeniach kserograficznych, plyta kserograficzna wykonywana zwykle w postaci fotoprze- wodzacej warstwy umieszczonej na przewodzacym podlozu jest ladowana równomiernie i naswietlana promienia¬ mi swietlnymi tworzacymi obraz powielanego dokumentu. Fotoprzewodzaca warstwa staje sie dobrym przewod¬ nikiem pod wplywem swiatla, w wyniku czego ladunki elektrostatyczne znajdujace sie na tej powierzchni zostaja rozproszone tworzac w ten sposób elektrostatyczny obraz utajony. Obraz utajony wywolany jest nastepnie za pomoca jednego ze znanych drobnych proszków barwiacych, które zostaly specjalnie opracowane w tym celu. W procesie kserograficznym sproszkowany wywolywacz przyciagany jest elektrostatycznie do obrazu utajonego w ilosci proporcjonalnej do znajdujacego sie na tej powierzchni wielkosci ladunku. Miejsca o malym ladunku przyciagaja male ilosci wywolywacza podczas gdy miejsca o ladunku wiekszym przyciagaja wieksze ilosci.Calkowicie wywolany obraz przenoszony jest z powierzchni swiatloczulej na powierzchnie na przyklad papieru, a nastepnie ustalany tworzac w ten sposób trwala kopie oryginalu. Wywolywacz przenoszony jest zwykle z powierzchni swiatloczulej na powierzchnie papieru podczas specjalnej operacji. Okazalo sie jednak, ze wystepuja podczas tej operacji sily, które silniej przyciagaja czasteczki pigmentu do powierzchni swiatloczulej niz sily przenoszace te czasteczki na papier. Tak wiec pewna ilosc tych czasteczek pozostaje na powierzchni swialtoczulej po operacji przeniesienia obrazu. Te pozostalosci toneru, jesli nie sa usuniete z powierzchni swialtoczulej, przeszkadzaja i powoduja rózne wady i trudnosci podczas nastepnych operacji naswietlania i wywolywania.Znane sa urzadzenia usuwajace czastki wywolywacza z powierzchni swiatloczulej przez zbieranie pigmen¬ tu. Jednakze po dluzszym uzyciu element oczyszczajacy jest tak zanieczyszczony pigmentem, ze musi byc wymieniony na nowy. Element oczyszczajacy oraz pozostale czasteczki pigmentu zostaja w ten sposób wyeliminowane z dalszej pracy urzadzenia.W wysoko wydajnych urzadzeniach wymiana powyzsza oznacza nie tylko powazne straty ale jest równiez bardzo kosztowna. Znane sa równiez zespoly usuwajace czastki wywolywacza z powierzchni swialtoczulej za pomoca plyt oczyszczajacych wykonanych z gumy lub z materialu podobnego przesuwnej wzdluz powierzchni2 81 341 swialtoczulej w celu usuniecia z niej resztek wywolywacza. Zbierany pigment nawarstwia sie jednak miedzy plyta oczyszczajaca i powierzchnia swiatloczula powodujac w ten sposób znaczne trudnosci w oczyszczaniu calej plyty. Stosowano równiez srodki elektrostatyczne i pneumatyczne w celu zwiekszenia skutecznosci oczyszczania. .Znany jest z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 2972767 zespól usuwajacy czastki wywolywacza zawierajacy plyte oczyszczajaca w formie cienkiego arkusza o stalym wymiarze i odpowiedniej wytrzymalosci i sztywnosci dla wytrzymywania naprezen wystepujacych w jego plaszczyznie. Plyta oczyszcza¬ jaca jest gietka w kierunku wzdluznym i promieniowym wzgledem oczyszczanego bebna tak, ze ustawia sie powierzchnie oczyszczajaca wzdluz kierunku dzialania nacisku roboczego. Plyta oczyszczajaca jest podtrzymy¬ wana w polozeniu zasadniczo prostopadlym wzgledem powierzchni oczyszczanej i oczyszcza te powierzchnie przez zbieranie z niej materialu.Celem wynalazku jest opracowanie konstrukcji zespolu usuwajacego czastki wywolywacza z powierzchni swiatloczulej bebna urzadzenia kserograficznego o wiekszej skutecznosci oczyszczania niz zespoly znane dotychczas przez zastosowanie plyty oczyszczajacej powierzchnie za pomoca scinania nagromadzonej warstwy materialu. Cel wynalazku osiagnieto przez to, ze zespól usuwajacy czastki wywolywacza zawiera podluzna, elastyczna, prostokatna plyte oczyszczajaca oraz srodki mocujace te plyte, które stanowi obudowa dociskajaca plyte oczyszczajaca tak, ze jest ona odksztalcona na niepodpartej dlugosci, zas powierzchnia górna i powierz¬ chnia boczna plyty oczyszczajacej stykaja sie pod katem ostrym tworzac krawedz oczyszczajaca, przy czym górna powierzchnia jest lekko odchylona ku dolowi od powierzchni styku krawedzi oczyszczajacej z powierz¬ chnia swiatloczula bebna. Krawedz oczyszczajaca plyty przechodzi miedzy powierzchnia bebna a czasteczkami wywolywacza i odrzuca te czasteczki od powierzchni bebna ponad swobodnym koncem plyty.Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykladzie wykonania na rysunku przedstawiajacym plyte oczyszczajaca dociskana do cylindrycznej powierzchni swiatloczulej.Kserograficzne urzadzenie powielajace zawiera kserograficzna plyze 10 zawierajaca fotoprzewodzaca warstwe swialtoczula, wykonana w postaci obrotowego walca ulozyskowanego na walku (niewidocznym na rysunku) w ramie urzadzenia. Plyta kserograficzna 10 obracana jest w kierunku strzalki uwidocznionej na rysunku w wyniku czego, powierzchnia swiatloczula przechodzi przez kilka podzespolów wykonujacych poszczególne operacje: ladowanie podczas którego powierzchia swiatloczula bebna jest ladowana równomiernie ladunkiem elektrycznym, naswietlanie podczas którego swiatlo lub promieniowanie odzwierciedlajace obraz kopiowanego dokumentu, pada na naswietlana powierzchnie rozpraszajac na niej ladunki w miejscach naswietla¬ nych tworzac utajacy obraz elektrostatyczny, wywolywanie podczas którego wywolywacz skladajacy sie z drobnych czastek pigmentu nakladany jest na powierzchnie naswietlana, pigment ten przywiera nastepnie do powierzchni swiatloczulej w postaci widocznego obrazu odzwierciedlajacego dokladnie oryginalny dokument kopiowany, przenoszenie podczas którego obraz wytworzony z pigmentu przenoszony jest elektrostatycznie z powierzchni swiatloczulej na powierzchnie papieru oraz usuwanie czastek wywolywacza z powierzchni swiatloczulej bebna podczas którego powierzchnie te poddawane najpierw przemiennemu skrobaniu a nastepie oczyszczaniu przez plyte oczyszczajaca w celu zdjecia pozostalosci pigmentu, która pozostala na tej powierz¬ chni po przeniesieniu obrazu na powierzchnie papieru i pigment ten jest zbierany w celu ponownego uzycia a plyta swiatloczula przechodzi obok zarzacej sie plyty w celu calkowitego rozladowania pozostalych ladunków elektrostatycznych.Plyta oczyszczajaca 46 osadzona jest nieruchomo w uchwycie 51 wykonanym w scianie obudowy 40 zespolu usuwajacego czastki wywolywacza. Plyta 46 podczas pracy urzadzenia docisnieta jest do bebna na calej jego dlugosci. Krawedz oczyszczajaca plyty, utworzona przez powierzchnie górna 47 oraz powierzchnie boczna 48 plyty umieszczona jest nieco ponizej linii srodkowej bebna przy czym plyta 46 jest tak zamocowana, ze jej krawedz zbiera pozostale czasteczki pigmentu z powierzchni bebna tak, jak ostrze noza tokarskiego skrawa obrabiana czesc. Sily powstajace podczas tego rodzaju operacji oczyszczania sa bardzo podobne do sil powstajacych podczas operacji toczenia, a wiec, najodpowiedniejszym ksztaltem plyty oczyszczajacej jest ksztalt noza tokarskiego. Górna powierzchnia 47 plyty 46 pochylona jest nieco tworzac z powierzchnia boczna 48 kat ostry dzieki czemu krawedz oczyszczajaca jest ostra. Plyta oczyszczajaca 46 jest tak osadzona w obudowie 40 zespolu usuwajacego czastki wywolywacza, ze miedzy powierzchnia boczna 48 a linia t styczna do powierzchni plyty 46 w punkcie styku tej powierzchni z powierzchnia boczna 48 utworzony jest ostry kat przylozenia. Kat przylozenia rózny jest dla róznych materialów plyty oczyszczajacej 46 w celu uzyskania optymalnego efektu oczyszczania powierzchni bebna.Doswiadczenia wykazaly, ze katy ostrza plyty oczyszczajacej moga byc rózne dla róznych materialów tej plyty w celu skutecznego wyeliminowania drgan plyty oraz innych niepozadanych skutków wystepujacych w czasie ruchu bebna. Jako material na plyte oczyszczajaca stosowany byc moze dowolny niemetaliczny81341 3 material sprezysty o wysokiej sprezystosci i wytrzymalosci. Przykladowymi materialami moga byc: kauczuk polisiloksenowy, kauczuk poliuretanowy, zywica policzterofluoroetylenowa* kauczuk styrenobutadienowy, kauczuk nitrylowy, kauczuk nitrokrzemowy, elastyczna piana poliuretanowa oraz ich zestawy, mieszanki i kopolimery. Plyta oczyszczajaca musi byc dostatecznie miekka w celu minimalnego scierania sie oraz scierania powierzchni swialtoczulej bebna.Material plyty oczyszczajacej powinien miec twardosc Shore'a okolo 55 do 75 i wspólczynnik wytrzy¬ malosci na rozciaganie okolo 14 do 21 kG/cm2 przy wydluzeniu 100% oraz sprezystosci dajacej 35% odbicia wedlug normy ASTM. Doswiadczenia wykazaly, ze plyta oczyszczajaca moze byc wykonana w duzych granicach grubosci bez zauwazalnych zmian w skutecznosci oczyszczania. Obudowa 40 w której zamocowana jest plyta oczyszczajaca 46 zamocowana jest na wahadlowej dzwigni 58 obrotowo osadzonej na walku 59 osadzonym nieruchomo w ramie urzadzenia. W celu ulatwienia wyjmowania bebna z urzadzenia obudowa 40 moze byc obracana wokól.walka 59 w dól. W polozeniu pracy obudowa 40 wraz z plyta oczyszczajaca 46 dociskana jest za pomoca sprezyn bocznych, w wyniku czego krawedz&czyszczajacej plyty 46 jest dociskana do powierzchni swiatloczulej.Korzystnie jest, gdy plyta oczyszczajaca wykonana jest z poliuretanu o wlasciwosciach fizycznych opisanych powyzej i osadzona jest jednym koncem w obudowie 40, przy czym plyta 46 wystaje z obudowy 40 na dlugosc L. Gdy obudowa 40 umieszczona jest w polozeniu roboczym krawedz oczyszczajaca plyty'46 docisnieta jest do powierzchni bebna w wyniku czego plyta 46 ugina sie O wielkosc d\ W wyniku sprezystosci plyta oczyszczajaca wywiera nacisk na powierzchnie swiatloczulego bebna ustawiajac sie samoistnie i dopasowujac do kazdej nieregularnosci powierzchni bebna, zapewniajac styk krawedzi oczyszczajacej na calej dlugosci bebna. Wartosc odksztalcenia równego dlugosci L ntepodpieranej plyty podniesiona do trzeciej potegi (L3) daje optymalne oczyszczenie z minimalnymi drganiami plyty oczyszczajacej a stosowanie kata wierzcholkowego a okolo 95° oraz kata przylozenia b okolo 25° zmniejsza do minimum drgania plyty przy jednoczesnym doskonalym oczyszczeniu.Odksztalcenie równe trzeciej potedze dlugosci niepodpartej plyty odnosi sie do wartosci od 8,8 mm do 12,5 mm. Odksztalcenie zwykle równe jest jednej szóstej dlugosci L niepodpartej plyty.W celu dalszego zmniejszenia tendencji plyty oczyszczajacej do drgania podczas oczyszczania bebna, walek 59 umieszczony jest na linii stycznej t dzieki czemu sily tarcia oraz sily dynamiczne przenoszone sa przez ten walek.Umieszczenie plyty oczyszczajacej nieco ponizej poziomu linii srodkowej bebna oraz ustawienie plyty pod katem wierzcholkowym wiekszym od 90° powoduje, ze wywolywacz usuwany z powierzchni swiatloczulej odrzucany jest na tylna powierzchnie plyty od powierzchni bebna. PL PL PL PL

Claims (7)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Zespól usuwajacy czastki wywolywacza z powierzchni swiatloczulej bebna urzadzenia kserograficznego zawierajacy wydluzona, elastyczna prostokatna plyte oczyszczajaca majaca dwie powierzchnie tworzace wydluzona krawedz oczyszczajaca oraz srodki nieruchomo mocujace drugi koniec plyty oczyszczajacej i dociskajace krawedz oczyszczajaca plyty do powierzchni swiatloczulej bebna, znamienny tym, ze plyta (46) jest gietka a srodki mocujace stanowi obudowa (40) dociskajaca plyte (46) tak, ze jest ona odksztalcona na niepodpartej dlugosci (L), zas powierzchnia górna (47) i powierzchnia boczna (48) stykaja sie pod katem ostrym tworzac krawedz oczyszczajaca, przy czym górna powierzchnia (47) jest lekko odchylona ku dolowi od powierzchni styku krawedzi oczyszczajacej z powierzchnia swiatloczula bebna.

2. Zespól wedlug zastrz. 1,znamienny tym, ze plyta oczyszczajaca (46) umocowana jest jednym koncem w obudowie (40) a drugim koncem dociskana jest do swiatloczulego bebna z sila dostateczna do ugiecia swobodnego konca plyty (46).

3. Zespól wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera srodki do traktowania przemiennym pradem powierzchni swiatloczulej przed przesunieciem sie jej do styku z plyta oczyszczajaca (46).

4. Zespól wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze powierzchnia swiatloczula wykonana jest w postaci obrotowego bebna. 5. '

5. Zespól wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze plyta oczyszczajaca (46) umocowana jest w po- przek powierzchni bebna w styku z jej czescia ponizej srodkowej linii poziomej bebna.

6. Zespól wedlug zastrz. 1,znamienny tym, ze plyta oczyszczajaca (46) osadzona jest wahadlowo wzgledem swiatloczulego bebna i jest podtrzymywana w obudowie (40) dla dosuwania i odsuwania plyty (46) do styku z powierzchnia swiatloczula bebna.

7. Zespól wedlug zastrz. 1 lub 5 lub 6, znamienny tym, ze punkt obrotu osadzenia plyty oczyszczajacej (46) lezy na linii stycznej (t) do bebna stycznej w punkcie styku krawedzi plyty oczyszczajacej (46) z tym bebnem.KI. 57e,15/00 61341 MKP G03g 15/00 Prac. Poligraf. UP PRL. Naklad 120 + 18egz. Cena 10 zl PL PL PL PL