PL79350B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL79350B1
PL79350B1 PL1968129462A PL12946268A PL79350B1 PL 79350 B1 PL79350 B1 PL 79350B1 PL 1968129462 A PL1968129462 A PL 1968129462A PL 12946268 A PL12946268 A PL 12946268A PL 79350 B1 PL79350 B1 PL 79350B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
glass
molten
active agent
line
reservoir
Prior art date
Application number
PL1968129462A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Albert Sidney Robinson
Pilkington Brothers Limited
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Albert Sidney Robinson, Pilkington Brothers Limited filed Critical Albert Sidney Robinson
Publication of PL79350B1 publication Critical patent/PL79350B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/005Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to introduce in the glass such metals or metallic ions as Ag, Cu
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • G05D7/06Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0605Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for solid materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

Uprawniony z patentu: Pilkington Brothers Limited, Liverpool (Wielka Brytania) Sposób wytwarzania szkla o zmodyfikowanej powierzchni oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia szkla o zmodyfikowanej powierzchni oraz urza¬ dzenie do stosowania tego sposobu.Szklo o zmodyfikowanej powierzchni wytwarza¬ ne jest na kapieli roztopionego metalu w wyniku stykania sie przesuwajacej sie na kapieli tasmy szkla z warstwa roztopionej substancji, która moze stanowic roztopiona cyna lub stop, którego glów¬ nym skladnikiem jest cyna, posiadajaca wiekszy ciezar wlasciwy niz ciezar wlasciwy szkla.Znane sa sposoby nadawania pewnych cech po¬ wierzchni szkla, zwlaszcza plyt szklanych, w któ¬ rych szklo styka sie z roztopionym materialem przewodzacym elektrycznosc, na przyklad metalem.Roztopiony metal zastosowany tu jest jako elek¬ troda celem przewodzenia regulowanego pradu elektrycznego, przez co uzyskuje sie modyfikacje struktury powierzchni szkla. W znanym sposobie jedna powierzchnia szkla styka sie z roztopionym metalem, podczas gdy na drugiej powierzchni tej warstwy szkla znajduje sie roztopiony material przewodzacy prad elektryczny odpowiednio unie¬ ruchomiony, a struktura powierzchni szkla mody¬ fikowana jest przez przepuszczanie regulowanego pradu elektrycznego przez szklo znajdujace sie mie¬ dzy unieruchomionym materialem, a roztopionym metalem, przy czym szklo przesuwane jest na po¬ wierzchni roztopionego metalu, a roztopiony elek¬ trycznie przewodzacy material jest unieruchomiony na górnej powierzchni szkla. 2 Znane sa urzadzenia do wytwarzania szkla pla¬ skiego o zadanej charakterystyce powierzchni za¬ wierajace zbiornik z kapiela metalowa, urzadzenie do doprowadzania szkla z regulowana predkoscia i do przesuwania szkla w postaci warstwy lub tasmy do przodu, regulatory do kontrolowania tem¬ peratury i lepkosci szkla tak, aby zapewnic stop¬ niowe chlodzenie w miare jego przesuwania sie az do chwili, gdy stanie sie ono na tyle sztywne, zeby mozna je bylo zdjac z kapieli w stanie nie¬ uszkodzonym, z elektrod zamirzonydi w jeziorku roztopionego materialu i w kapieli metalowej oraz z obwodu elektrycznego dla elektrod.Obróbka powierzchni szkla stykajacego sie z war¬ stwa roztopionej substancji powoduje zmniejszenie zawartego w niej czynnika aktywnego, co powo¬ duje otrzymanie szkla o niejednorodnych wlasci¬ wosciach.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu wy¬ twarzania szkla o zmodyfikowanej powierzchni, który nie posiada niedogodnosci wystepujacych w sposobach stosowanych do tej pory.Dalszym celem wynalazku jest opracowanie kon¬ strukcji urzadzenia do wytwarzania szkla o zmo¬ dyfikowanej powierzchni, które umozliwia regu¬ lacje wielkosci powierzchni styku warstwy rozto¬ pionej substancji i powierzchni szkla oraz pozwala na regulowanie konfiguracji powierzchni styku warstwy roztopionej substancji i powierzchni szkla.Cel wynalazku zostal osiagniety przez to, ze po- 7935079350 równuje sie charakterystyke szkla po zmodyfiko¬ waniu z charakterystyka wymagana i róznice war¬ tosci zamienia sie na sygnal elektryczny a sygnal ten stosuje sie do kontroli ilosci materialu wpro¬ wadzanego do roztopionej substancji tak, ze za¬ chowuje sie okreslona postac i wielkosc roztopio¬ nej substancja.Cel wynalazku zostal osiagniety równiez przez to, ze urzadzenie do wytwarzania szkla o zmody¬ fikowanej powierzchni ma przewód zasilajacy, za¬ konczony w poblizu czlonu ustalajacego, zespól fotoelektryczny umieszczony za wylotem zbiornika dla sledzenia intensywnosci przenikania swiatla przez powierzchnia obrabianej tasmy szkla o da¬ nej charakterystyce, zbiornik zasilajacy materialu sluzacego do uzupelnienia roztopionej masy, za¬ opatrzony w kanal z zaczepem, polaczony z prze¬ wodem zasilajacym^oraz uklad sterujacy polaczony z zespolem fotoelektrycznym.Wymagane wlasciwosci wytwarzanej tasmy szkla¬ nej moga dotyczyc na przyklad szczególnych cech odbijania swiatla, barwy lub przewodnosci elek¬ trycznej szkla.Warstwe roztopionej substancji moze stanowic roztopiony metal, na przyklad metal o niskiej tem¬ peraturze topnienia, jak cyna, olów, ciekly stop zawierajacy metal obnizajacy jego temperature lub roztopione sole, na przyklad halogenki srebrne, miedzi, cynku, sodu, potasu lub litu.Warstwa roztopionej substancji utrzymywana jest na górnej powierzchni tasmy szkla za pomoca czlo¬ nów rozmieszczonych bezposrednio nad przesuwa¬ jaca sie tasma.Warstwa substancji moze byc utrzymywana na górnej powierzchni tasmy szkla w wyniku przy¬ legania dzieki silom napiecia powierzchniowego, do czlonów ograniczajacych rozmieszczonych poprzecz¬ nie w stosunku do przesuwajacej sie tasmy na kapieli metalowej.Obróbka powierzchni szkla stykajacej sie z war¬ stwa roztopionej substancji nastepuje w wyniku przeplywu pradu elektrycznego. Prad przeplywa od elektroprzewodzacej roztopionej substancji przez szklo do kapieli metalowej. Szklo winno miec od¬ powiednio wysoka temperature, przy której po¬ siada ono odpowiednio wysoka przewodnosc elek¬ tryczna umozliwiajaca przeplyw pradu.W wyniku przeplywu pradu elektrycznego na¬ stepuje wnikanie do powierzchni szkla czynnika aktywnego zawartego w warstwie substancji, co powoduje wyczerpywanie sie czynnika aktywnego.Prad elektryczny przeplywajacy przez szklo od warstwy elektroprzewodzacej roztopionej substan¬ cji, przyczynia sie do wytwarzania wymaganych wlasciwosci, sledzenia uzyskiwanych wlasciwosci obrabianej tasmy szklanej, wytwarzania sygnalu wskazujacego zachodzenie jakichkolwiek zmian wy¬ maganych wlasciwosci oraz wykorzystania tego sygnalu do regulacji zasilania czynnika aktywnego do warstwy elektroprzewodzacej roztopionej sub¬ stancji stykajacej sie ze szklem. Wytwarzany sy¬ gnal moze byc równiez uzyty do regulacji napiecia elektrolizy przylozonego do warstwy roztopionej substancji.Wygodnym sposobem wykrywania zachodzacych zmian wymaganych wlasciwosci jest sledzenie przenikalnosci swiatla przez szklo. Innym sposo¬ bem wykrywania zmian, wedlug wynalazku, jest zastosowanie ukladu czulego na zmiany koloru szkla.W zalecanym^ wykonaniu wynalazku sledzona jest intensywnosc swiatla przenikajacego przez szklo od zródla o stalej jasnosci i wytwarzany jest sy¬ gnal wykazujacy zachodzenie zmian przenikalnosci swiatla przez szklo. Sygnal ten jest nastepnie wy¬ korzystywany do selektywnej regulacji zasilania czynnikiem aktywnym warstwy elektroprzewodza¬ cej roztopionej substancji oraz pradu elektrycznego przeplywajacego przez szklo od roztopionej sub- stancji.Natezenie pradu elektrycznego przeplywajacego przez szklo od roztopionej substancji okresla ilosc czynnika wnikajacego w powierzchnie szkla, a tym samym i predkosc wyczerpywania sie czynnika aktywnego w warstwie roztopionej substancji. Dla¬ tego zalecane jest by zasilanie czynnika aktywne¬ go do warstwy substancji byla proporcjonalna do wielkosci pradu elektrycznego przechodzacego przez szklo. W przypadku, gdy roztopiona substancje sta- nowi stop, na przyklad stop na bazie cyny, olowiu czy bizmutu, jako metalu rozpuszczalnika z roz¬ puszczonym metalem, jako czynnikiem aktywnym wnikajacym w górna powerzchnie tasmy szklanej, na przyklad z krzemem, tytanem, manganem, chro- mem czy zelazem, to stosuje sie regulacje poda¬ wania do warstwy roztopionej substancji metalu aktywnego.Istnieje okreslona zaleznosc zawartosci w stopie metalu rozpuszczalnika i rozpuszczanego metalu zalezna od temperatury. Jesli czlon ograniczajacy, który zapewnia okreslony kontakt tasmy szklanej z roztopiona substancja, wykonany jest z metalu aktywnego, który przy temperaturze obróbki za¬ chowuje stan staly, to w miare wnikania rozpusz- 40 czonego metalu aktywnego w powierzchnie szkla wyczerpujacy sie ze stopu metal aktywny moze byc zasilany bezposrednio z samego czlonu ogra¬ niczajacego.Roztopiona substancja moze byc doprowadzana 45 przez dodawanie wylacznie metalu aktywnego przy zachowaniu stalej ilosci metalu rozpuszczalnika.Wedlug wynalazku, zaleca sie doprowadzac czyn¬ nik aktywny nie bezposrednio do warstwy sub¬ stancji, bioracej udzial w obróbce powierzchni 50 szkla, lecz do pewnej przestrzeni stanowiacej re¬ zerwe tego czynnika. Dzieki takiemu rozwiazaniu unika sie zaklócenia stanu równowagi roztopionej substancji uczestniczacej bezposrednio w obróbce powierzchni szkla, zwlaszcza unika sie odbioru cie- 55 pla lub obnizenia temperatury substancji. Wspom¬ niana rezerwa moze sie znajdowac w poblizu war¬ stwy roztopionej substancji, dzieki czemu dopro¬ wadzany do niej czynnik moze przybrac odpo¬ wiedni stan termiczny, a w niektórych przypad- 60 kach i chemiczny, zwlaszcza jezeli w górnej prze¬ strzeni wanny nad kapiela znajduje sie odpowied¬ nia atmosfera chemiczna. Podawany nastepnie do warstwy roztopionej substancji czynnik znajduje sie zasadniczo w tym samym stanie termicznym 65 i chemicznym, co roztopione substancje.79350 « W tym przypadku sygnal regulacyjny wykorzy¬ stany jest do regulacji zasilania czynnika aktyw¬ nego do pojemnosci rezerwowej czynnika, a na¬ stepnie dó regulacji zasilania roztopionej" substan¬ cji stykajacej sie ze szklem z pojemnosci rezerwo¬ wej, Dzieki regulacji zasilania pojemnosci rezer¬ wowej, a nastepnie regulacji zasilania czynnika aktywnego z tej pojemnosci uzyskuje sie ciagle i równomierne zasilanie warstwy roztopionej sub¬ stancji znajdujacej sie na powierzchni szkla czyn¬ nikiem aktywnym bez zaklócen jej stanu fizycznego czy konfiguracji.Powyzszy sposób zasilania warstwy roztopionej substancji czynnika aktywnego przyczynia sie do zwiekszenia jej jednorodnosci, co ma dodatni wplyw na jednorodnosc obróbki calej powierzchni przesuwajacej sie tasmy szkla.Dodawany do warstwy cieklej substancji czyn¬ nik aktywny znajduje sie zwykle w stanie plyn¬ nym, jednak z punktu widzenia dozowania ko¬ rzystniejsze jest zasilanie czynnikiem znajdujacym sie w stanie stalym w postaci drobin, które ule¬ gaja nastepnie stepieniu przed osiagnieciem war¬ stwy roztopionej substancji.Wynalazek obejmuje równiez urzadzenie do sto¬ sowania sposobu wedlug wynalazku, skladajacego sie ze zbiornika zawierajacego kapiel z roztopio¬ nej substancji, zespól do doprowadzania szkla z re¬ gulowana predkoscia do kapieli i przesuwania szkla w postaci tasmy wzdluz kapieli, czlon ustalajacy do utrzymywania roztopionej masy materialu, slu¬ zacego do zmiany wlasciwosci szkla, w stycznosci z okreslonym obszarem szkla, oraz zespól powodu¬ jacy wnikanie jonów z roztopionej masy do po¬ wierzchni szkla.Istota wynalazku polega na tym, ze urzadzenie ma przewód zasilajacy zakonczony w poblizu czlo¬ nu ustalajacego, zespól fotoelektryczny umieszczony za wylotem zbiornika, dla sledzenia zmian inten¬ sywnosci przenikania swiatla przez powierzchnie obrabianej tasmy szkla, zbiornik zasilajacy ma¬ terialu sluzacego do uzupelniania roztopionej masy, zaopatrzony w kanal z zaczepem polaczony z prze¬ wodem zasilajacym, oraz uklad sterujacy polaczony z zespolem fotoelektrycznym.Jednorodnosc obróbki powierzchni szkla zalezy w bardzo powaznym stopniu od zdolnosci utrzy¬ mania stalej konfiguracji powierzchni styku szkla z warstwa cieklej substancji, a takze od predkosci przesuwu tasmy szkla. Waznym czynnikiem z punktu widzenia regulacji powierzchni styku jest rozciaglosc waritwy roztopionej substancji w kie¬ runku przesuwu szkla na kapieli.Jak wspomniano wyzej, jednorodnosc obróbki przesuwajacej sie tasmy sprawdzana jest za po¬ moca ciaglego sledzenia jej wlasciwosci. Operacja ta dokonywana jest w najdalszym miejscu obróbki tasmy, jakkolwiek zmiany wlasciwosci wykorzy¬ stywane sa do regulacji procesu obróbki.W przypadku elektrycznej obróbki powierzchni tasmy szkla pozadane jest by czlon utrzymujacy warstwy elektroprzewodzacej roztopionej substan¬ cji stanowil anode, zasilana pradem. Obwód za¬ silania wyposazony jest w regulator pradu, stero¬ wany przez czujnik, dzieki czemu mozliwa jest regulacja wielkosci pradu zasilajacego anode w przypadku jakichkolwiek zmian wlasciwosci szkla. "-¦-.¦¦¦,.¦ Dla dostarczania czynnika aktywnego do war¬ stwy cieklej substancji stykajacej sie ze szklem, stosuje sie przewód zasilajacy polaczony ze zbior¬ nikiem i rozmieszczony nad przesuwajaca sie^ tasma szkla. Na wyplywie ze zbiornika rezerwo¬ wego znajduje sie glowica grafitowa regulujaca podawanie czynnika aktywnego do warstwy cieklej substancji.W urzadzeniu wedlug wynalazku regulacja za¬ silania czynnikiem aktywnym ze zbiornika re¬ zerwowego cieklej substancji elektroprzewodzacej uzyskiwana jest w wyniku rozmieszczenia na okre¬ slonej wysokosci w stosunku do zbiornika rezerwo¬ wego wylotu roztopionej substancji. Zasilanie war¬ stwy roztopionej substancji czynnikiem aktywnym odbywa sie tylko wtedy, gdy poziom tego czyn¬ nika w zbiorniku przekroczy ustalona wysokosc.Zbiornik rezerwowy znajduje sie w grafitowej glowicy zamocowanej na stalowej koszulce prze¬ wodu zasilajacego. Koszulka tego przewodu wy¬ lozona jest wewnatrz grafitem. Do glowicy przy¬ mocowany jest odchylony ku dolowi, grafitowy dziobek, który polaczony jest ze i zbiornikiem przy pomocy dwóch skosnych otworów wykonanych w glowicy. Górne konce tych otworów zbiegaja sie na poziomie powierzchni roztopionego czyn¬ nika aktywnego w zbiorniku,, tworzac ostra kra¬ wedz. Dzieki temu zasilanie zbiornika rezerwo¬ wego czynnikiem aktywnym powoduje jednoczesne wyciekanie tego czynnika przez dziobek do war¬ stwy roztopionej substancji.W uproszczonym rozwiazaniu urzadzenia wedlug wynalazku podawanie czynnika aktywnego do war¬ stwy roztopionej substancji odbywa sie z zaglebie¬ nia znajdujacego sie w górnej czesci czlonu ogra¬ niczajacego w ksztalcie belki. W zaglebieniu tym moze znajdowac sie pewna ilosc rezerwowego, czynnika aktywnego. W srodku zaglebienia wy¬ mierzony jest maly otwór biegnacy do dolnej po¬ wierzchni belki. Nad zaglebieniem umieszczona jest grafitowa glowica zasilajaca, zamocowana na. koncu przewodu zasilajacego. W glowicy znajduje sie otwór polaczony z przewodem zasilajacym, do którego dostarczany jest czynnik aktywny w po¬ staci drobin oraz dysza, przez która drobiny po¬ dawane sa do zaglebienia w belce.Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przy¬ kladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urzadzenie w przekroju pionowym, fig, 2 — urzadzenie w widoku z góry bez kon¬ strukcji dachowej, fig. 3 — przekrój poprzeczny wzdluz linii III—III na fig. 1 oraz schemat re¬ gulacji zasilania elektroprzewodzacego czynnika aktywnego do warstwy roztopionej substancji przy¬ legajacej do dolnej powierzchni elektrody, fig. 4 — grafitowa glowice zasilajaca elektroprzewodzacym czynnikiem aktywnym w widoku z góry, fig. 5 — przekrój wzdluz linii V—V na fig. 4, fig. 6 —. w przekroju pionowym samozsypowy zbiornik drobin czynnika aktywnego w przekroju pionowym, fig. 7 — schemat obwodu elektrycznego zbiornika samozsypowego, fig. 8 — inny przyklad wykonania 3* 40 45 50 55 6079350 glowicy zasilajacej, fig. 9 — przekrój wzdluz linii IX—IX na fig. 8.Na fig. 112 przedstawiano schemat urzadzenia do wytwarzania tasmy szkla o wymaganych wla¬ snosciach. Roztopione szklo doprowadza sie przez spust 1 pieca wyposazonego w zasuwe 2, na roz¬ topiona substancje w postaci kapieli metalowej.Spust szkla z pieca zakonczony jest dziobkiem 3 skladajacym sie z progu 4 i bocznych scian 5, z których jedna przedstawiona jest na fig. 1. Prze¬ krój poprzeczny dziobka jest zwykle prostokatny.Dziobek 3 umieszczony jest powyzej podlogi 6 podluznej wanny skladajacej sie z bocznych scian 7, z przedniej sciany 8 znajdujacej sie w poczat¬ kowej czesci wanny i tylnej sciany 9 znajdujacej sie w koncowej czesci wanny. Sciany boczne oraz sciany przednie i tylna tworza wraz z podloga jednolita konstrukcje. W wannie znajduje sie me¬ talowa kapiel 16 siegajaca do poziomu 11. Kapiel metalowa moze stanowic na przyklad ciekla cyna lub ciekly stop cynowy, którego glówny skladnik stanowi cyna, posiadajacy ciezar wlasciwy wiekszy niz szkla.Nad wanna znajduje sie konstrukcja dachowa skladajaca sie ze stropu 12 bocznych scian 13, przedniej sciany 14 i tylnej sciany 15. Soiany bocz¬ ne 13 oraz sciany przednia 14 i tylna 15 tworza wraz ze stropem 12 jednolita calosc. Przednia sciana 14 dochodzi do pbziomu 11 kapieli metalo¬ wej pozostawiajac szczeline 16 o ograniczonej wy¬ sokosci. Przez te szczeline przeplywa ciekle szklo.Miedzy tylna sciana 15 konstrukcji dachowej i tyl¬ na sciana 9 wanny znajduje sie szczelina 17, przez która wychodzi tasma szklana z wanny i prze¬ chodzi na napedzane rólki 16 przenosnika znajdu¬ jacego sie za sciana 15 tylna wanny. Poziom gór¬ nej plaszczyzny rolek 18 znajduje sie powyzej kra¬ wedzi tylnej sciany 9 wanny, dzieki czemu tasma moze swobodnie przechodzic przez szczeline 17.Rolki 18 przenosza obrobiona tasme szklana do pieca odprezajacego. Dzieki napedowi, na rolkach wytwarzana Jest sila pociagowa, która pomaga przesuwaniu sie tasmy po powierzchni metalowej kapieli 10.Dzióbek 3 znajduje sie w komorze tworzacej przez pokrywe 18 przymocowana do konstrukcji dachowej i zasuwy 2. Z dzióbka 3 na metalowa kapiel 10 wyplywa stopione sodowo-wapniowo- krzemowe szklo. 21. Intensywnosc przeplywu szkla przez próg 4 dzióbka 3 regulowana jest za pomoca zasuwy 2. Próg 4 dzióbka 3 znajduje sie nad po¬ ziomem 11 kapieli metalowej, dzieki czemu na drodze kilkunastu centymetrów wystepuje swo¬ bodny spadek szkla na powierzchnie 11 kapieli me¬ talowej. Dzieki swobodnemu spadkowi w poczat¬ kowej czesci wanny tworzy sie jezyk 22 stopio¬ nego szkla siegajacy do przedniej sciany 8 wanny.Temperatura szkla przesuwajacego sie na kapieli w formie tasmy regulowana jest za pomoca grzej¬ ników 23 zanurzonych W kapieli i grzejników 24 rozmieszczonych nad tasma szkla pod stropem.Do przestrzeni pod stropem przewodami 28 prze¬ chodzacymi przez strop 12 podawany jest gaz.Przewody te za pomoca rozgalezników 27 polaczone sa z kolektorem 28 polaczonym ze zródlem za- 40 silania gazu. Podawany gaz moze byc gazem obo¬ jetnym lub moze zawierac skladnik redukcyjny, na przyklad wodór. Tak wiec w przestrzeni nad tasma szkla znajduje sie gaz ochronny, który moze wyplywac z tej przestrzeni przez szczeliny 16 i 17.Temperatura przesuwajacej sie wzdluz Wanny tasmy stopionego szkla jest regulowana przy po¬ mocy grzejników 23, 24 w taki sposób, by za¬ pewnic uksztaltowanie sie warstwy szkla. War¬ stwa ta zaczyna ksztaltowac sie w poblizu wlasci¬ wej szczeliny 16, dzieki poprzecznemu rozplywowi stopionego szkla wystepujacemu pod wplywem sil ciezkosci i napiecia powierzchniowego, by po przej¬ sciu przez wstepny odcinek 29, 30 osiagnac wlasci¬ wa szerokosc. Szerokosc wanny u poziomu po¬ wierzchni kapieli metalowej w poczatkowym sta¬ dium rozwoju tasmy szklanej jest wieksza od sze¬ rokosci warstwy stopionego szkla na odcinku 30, co umozliwia swobodny przeplyw poprzeczny szkla w tej czesci warstwy.Dla nadania górnej powierzchni tasmy szkla wymaganych wlasciwosci, z powierzchnia ta styka sie roztopiona substancja elektroprzewodzaca, któ¬ ra przylega do powierzchni dzieki silom napiecia powierzchniowego. Tasma szkla przesuwa sie pod ta substancja.W poprzek kierunku przesuwajacej sie szklanej tasmy 12 rozmieszczona jest elektroda 31 majaca ksztalt belki. Elektroda ta znajduje sie nad górna powierzchnia szkla. Miedzy dolna powierzchnia elektrody 31 i górna powierzchnia warstwy szkla znajduje sie szczelina o wysokosci 6—7 mm (fig. 3 i 4). Elektroda 31 jest przymocowana w srodko¬ wej czesci do preta 33 umieszczonego w prze¬ strzeni nad kapiela, który wychodzi na zewnatrz przez sciane boczna wanny. W celu ulatwienia wlasciwego ustawienia elektrody 31 nad górna po¬ wierzchnia szklanej warstwy 32 na precie 33 moze sie znajdowac izolator elektryczny (nie pokazany na rysunku).Pret 33 sluzy jednoczesnie jako podpora elek¬ trody 31 nad górna powierzchnia szklanej war¬ stwy 32 oraz jako przewód elektryczny doprowa¬ dzajacy prad do elektrody 31. Elektroda 31 przy¬ mocowana jest do wygietej koncówki 35 preta 33 za pomoca sruby 34.Miedzy dolna powierzchnia elektrody 31 i górna powierzchnia szklanej tasmy 32 znajduje sie elek¬ troprzewodzaca roztopiona substancja 36. Ciekla substancja 36 zwilza powierzchnie elektrody 31 i przylega do niej dzieki silom napiecia powierz¬ chniowego, dzialajacym miedzy roztopiona sub¬ stancja 36 i elektroda 31. W wyniku dzialania tych sil roztopiona substancja 36 nie wywiera nacisku na przesuwajaca sie szklana tasme 32. Umozliwia to dokonywanie obróbki tasmy szklanej w poczat¬ kowej czesci wanny, gdzie temperatura szkla wy¬ nosi 850°C do 900°C. Przy tej temperaturze szklo jest plastyczne, ale w wyniku braku nacisku ze strony roztopionej substancji, górna powierzchnia nie ulega zadnym odksztalceniom.W kapieli metalowej zanurzona jest druga elek¬ troda 37 zamocowana na precie 38 wychodzacym na zewnatrz wanny przez boczna sciane 7. Pret9 79350 ten polaczony jest z drugim biegunem ukladu za¬ silania pradem.Jak wspomniano wyzej, elektroda 31 majaca ksztalt belki jest anoda. W ten sposób zostaje wy¬ tworzony uklad elektrolityczny skladajacy sie z elektrody 31, roztopionej substancji 36, szkla 32 i kapieli cieklego metalu 16. Przeplyw pradu przez szklo powoduje kontrolowane przenikanie czynnika aktywnego z roztopionej substancji 36 przez górna powierzchnie szkla powodujac wymagane zmiany wlasciwosci szkla.Wielkosc pradu elektrycznego przeplywajacego przez szklo od elektrody 31 do kapieli metalowej 19 regulowana jest w zaleznosci od predkosci prze¬ suwu tasmy szklanej i jej temperatury w taki sposób, aby przenikanie czynnika aktywnego przez górna powierzchnie tasmy szklanej odpowiadalo osiagnieciu wymaganych wlasciwosci szkla.Regulacja wielkosci pradu elektrycznego moze byc dokonywana przy pomocy zmian konfiguracji powierzchni styku roztopionej substancji ze szklem, zmiany napiecia pradu lub zmiany obu wielkosci jednoczesnie. Dokonywanie zmian konfiguracji po¬ wierzchni styku roztopionej substancji ze szklem konieczne jest nawet w przypadku, gdy zmiany pradu sa dokonywane za pomoca regulacji na¬ piecia.Barwienie powierzchni szkla dokonywane jest w wyniku przenikania przez górna powierzchnie pewnych skladników aktywnych. Inne skladniki moga powodowac zmiany przewodnosci elektrycz¬ nej powierzchni szkla, na której wytworzona zo¬ staje warstwa o lepszej przewodnosci elektrycznej niz pozostalej czesci szkla. Warstwa ta moze byc wykorzystana jako oporowy grzejnik elektryczny znajdujacy sie na powierzchni szkla. Innym waz¬ nym aspektem wykorzystania wynalazku jest moz¬ liwosc wytwarzania plaskich tafli szklanych o wy¬ maganym stopniu odbicia jednej z powierzchni szkla. Wlasciwosc ta jest szczególnie cenna w pro¬ dukcji szkla odbijajacego cieplne promieniowanie sloneczne. Szklo dobrze odbijajace cieplne promie¬ niowanie sloneczne wytwarzane jest przez wprowa¬ dzanie w górna powierzchnie tasmy szklanej olo¬ wiu, a nastepnie przez wystawienie jej na dziala¬ nie atmosfery redukujacej, znajdujacej sie w wan¬ nie miedzy stopem i kapiela cieklego metalu.Wprowadzenie olowiu powoduje szare zabarwie¬ nie powierzchni i wzrost stopnia odbicia górnej powierzchni szkla. W tym przypadku roztopiona substancje 36 stanowi olów. Belka elektryczna winna byc w tym przypadku wykonana z platyny lub rutenu czy rodu pokrytych platyna. Elektroda ta moze byc wykonana równiez z innych metali, jak na przyklad palladu, niklu czy spieczonego ze¬ laza, które absorbuje olów.Podczas przeplywu pradu elektrycznego od cie¬ klej substancji 36, która stanowi ciekly olów, do kapieli cieklego metalu olów przenika przez górna powierzchnie szkla. Intensywnosc procesu przeni¬ kania olowiu zalezy od wielkosci pradu elektrycz¬ nego.Warstwa roztopionej substancji rozciaga sie w poprzek tasmy szkla. Dla osiagniecia jednolitych wlasciwosci szkla na calej szerokosci tasmy, jak i jednorodnosci obróbki calego procesu, wymagane jest aby ta powierzchnia styku byla stala.Jakakolwiek zmiana konfiguracji powierzchni styku powoduje zmiany obróbki górnej powierz- s chni tasmy szklanej. Jakosc obróbki sprawdzana jest po calej szerokosci tasmy. Pozadane jest aby sprawdzanie to odbywalo sie w piecu dla odpre¬ zania tasmy szklanej rozmieszczonym bezposrednio za tylna sciana wanny.Na fig. 1 przedstawiono zespól obserwujacy umieszczony w poblizu konca pieca do odpreze¬ nia, gdzie szklo jest juz chlodne. Na wsporniku 40 przymocowanym do stropu pieca umieszczona jest fotokomórka 39. Pod fotokomórka 39 przesuwa sie na przenosnych rolkach 18 tasma szklana. Wyj¬ sciowy impuls elektryczny fotokomórki 39 przeka¬ zywany jest linia 42.Pod przesuwajaca sie tasma szklana, miedzy dwoma rolkami 18 przenosnymi, naprzeciw fo- tokomórki 39 znajduje sie kwarcowo-jodowa lam¬ pa 43 bedaca zródlem stalego strumienia swiatla.Lampa 43 umieszczona jest na wsporniku 44 przy¬ mocowanym do podlogi pieca do odprezenia. Lam¬ pa 43 zasilana jest z regulowanego zasilacza za posrednictwem przewodów 45. Strumien swietlny z jodowo-kwarcowej lampy 43 po przejsciu przez tasme szklana pada na fotokomórke i wytwarza sygnal elektryczny bedacy wskaznikiem jakosci obróbki powierzchni szkla, so Jakiekolwiek zmiany intensywnosci swiatla po przejsciu przez tasme powodowane zmianami in¬ tensywnosci obróbki tasmy szklanej przesuwajacej sie pod warstwa roztopionej substancji powoduja zmiany sygnalu wyjsciowego fotokomórki 39 prze- kazywanego nastepnie linia 42.Na fig. 3 przedstawiono sposób dalszego wyko¬ rzystania sygnalu wyjsciowego fotokomórki 39 do regulacji zasilania czynnika aktywnego do warstwy roztopionej substancji, jak i do regulacji wartosci 40 pradu elektrycznego przechodzacego przez te war¬ stwe i tasme szkla. Linia 42 zasila rejestrator 46 dokonujacy ciaglego zapisu wspólczynnika prze- nikalnosci swiatla przez tasme szklana. Z linia 42 polaczony jest równiez komparator 47. Drugi sy- 45 gnal wyjsciowy do obwodu komparatora doprowa¬ dzony jest linia 48 z recznie nastawianego poten¬ cjometru 49 zasilanego ze zródla 59 pradu stalego.Wymagana obróbke tasmy szklanej osiaga sie przez nastawienie potencjometru 49 wyskalowanego u- 50 przednio wedlug odpowiednich wartosci wspólczyn¬ nika przenikania swiatla.W komparatorze 147 sygnal przechodzacy z foto¬ komórki 39 porównywany jest z wartoscia nasta¬ wiona na potencjometrze odpowiadajaca wymaga- 55 nej wartosci wspólczynnika przenikania swiatla.Sygnal wyjsciowy w komparatorze przesylany droga 51 wykorzystywany jest do regulacji war¬ tosci pradu przeplywajacego od cieklej substancji do szkla. Linia 51 przenoszaca sygnal wyjsciowy eo z obwodu komparatora zasila wejscie pradowego regulatora 52 polaczonego ze zródlem zasilania linia 53 (nie przedstawiona na rysunku).Wartosc pradu w linii 51 mierzona jest za po¬ moca miernika 54 pradu i zapisywana przez re- 65 jestrator 55 dokonujacy ciaglego zapisu pradu11 79350 12 przeplywajacego z roztopionej substancji 36 do szklanej tasmy 32. Rejestrator 55 za pomoca linii 56 polaczony jest z wyjsciem miernika 54. pradu.Drugie wyjscie miernika pradu zasila 57 poprzez pret 33 elektrode 31. Pradowy regulator 52 regu¬ luje wielkosc pradu w linii 57 w zaleznosci od sygnalu wejsciowego z linii 51. Selektywna regu¬ lacja zasilania warstwy roztopionej substancji elektroprzewodzacej czynnikiem aktywnym od¬ bywa sie na sygnal dochodzacy linia 58 polaczona z wyjsciem miernika 54 pradu.Na koncu zasilajacego przewodu 60 zamocowana jest grafitowa glowica 59 (fig. 1, 2, 3). Przewód zasilajacy sluzacy do podawania drobin elektro- przewodzacego czynnika aktywnego, na przyklad srutu olowianego, do glowicy 59, wychodzi na zewnatrz wanny przez sciane boczna.Ponizej przedstawiona jest konstrukcja i dzia¬ lanie glowicy 59, zasilajacej. Sluzy ona do poda¬ wania elektroprzewodzacego czynnika aktywnego do plytkiego zaglebienia 62 znajdujacego sie w gór¬ nej powierzchni belkowej elektrody 31. Substancja wyplywa z glowicy przez zamocowany na niej gra¬ fitowy dzióbek 61 polaczony ze zbiornikiem we¬ wnatrz glowicy. Przez elektrode przewiercony jest otwór 63 dochodzacy do dolnej powierzchni, a za¬ czynajacy sie w zaglebieniu 62.Zapas srutu olowianego znajduje sie w zbior¬ niku 64 (fig. 3, 6). Zbiornik 64 sklada sie z tylnej sciany 66, przedniej sciany 67 (nie pokazanej na fig. 6) i wyprofilowanej w ksztalcie leja samozsyp- nego, wkladki 65, znajdujacej sie miedzy scianami.Grubosc wkladki 65, okreslajaca odleglosc od siebie scian 66 i 67 jest w przyblizeniu równa srednicy srutu olowianego, dzieki czemu srut w zbiorniku tworzy pojedyncza pionowa warstwe. Z dolnej cze¬ sci wyprofilowanej powierzchni 68, wkladki 65 od¬ chodzi biegnacy skosnie ku dolowi kanal 69, do którego spada olowiany srut 69a ze zbiornika. Ka¬ nal 69. laczy sie z poziomym kanalem 70 znajdu¬ jacym sie równiez we wkladce 65. Kanal ten laczy sie z kolei z doprowadzajacym przewodem 71 wy¬ chodzacym na zewnatrz ze zbiornika i polaczonym z zasilajacym przewodem 60 grafitowej glowicy 59.Opadajacy do kanalu 69 olowiany srut 69a za¬ trzymywany jest za pomoca zaczepu 72. u wlotu do kanalu 70. Zaczep 72 znajduje sie w pionowym otworze wykonanym w dolnej czesci wkladki 65.Zaczep w dolnej czescL zakonczony:jest lbem 73 na który dziala sprezyna 74 przymocowana za po¬ moca sruby 75 do dolnej czesci wkladki 65. Spre¬ zyna 74 przyciska leb 73 zaczepu 72 do dolnej po¬ wierzchni wkladki 65.Do kanalu 70 przez sciane boczna zbiornika prze¬ chodzi wypychacz 76 przymocowany do plyty 77 polaczonej równiez w srodkowej czesci z pretem 78. Pret. ten przymocowany jest do tloka 79 znaj¬ dujacego sie w cylindrze 80, Na tlok dziala spre¬ zyna ?1. Ustawia ona tlok w tajkim polozeniu, ze wypychacz 76 jest wyciagniety z kanalu 70. Do plyty 77 przymocowany jest takze zaklócajacy pret 82 przechodzacy do wnetrza zbiornika przez sciane boczna 65. Pret 82 jest równolegly do kanalu 70 i znajduje sie powyzej tego kanalu. Zaklócajacy pret 82 moze byc wsuwany do zbiornika ze sru¬ tem olowianym. Plyta 77 moze przesuwac sie w kierunku sciany bocznej zbiornika srutu olo¬ wianego.Plyta 77 moze wykonywac ruch w kierunku sciany bocznej zbiornika srutu olowianego, pod wplywem sprezonego powietrza podawanego % prze¬ wodu 84 przez elektromagnetyczny zawór 85 do przewodu 86 polaczonego z cylindrem 80. Podczas kazdego ruchu plyty 77 przymocowany do niej wypychacz 76 podaje do przewodu 71 pojedyncza drobine srutu olowianego znajdujaca sie dotad na dnie przewodu 69 i blokowana przez zaczep 72.Zaczep 72 podczas ruchu popychacza 76 ulega od¬ blokowaniu. Ruch plyty 77 powoduje równiez wsu¬ niecie do zbiornika zaklócajacego preta 82, który zapobiega blokowaniu srutu w zbiorniku i ulatwia wlot do kanalu 69.Elektromagnetyczny zawór 85 otrzymuje impulsy elektryczne trwajace okolo 0,5 sekundy. Gdy elektromagnes przestaje dzialac, tlok pod dziala¬ niem sprezyny wraca do polozenia wyjsciowego.Wraz z tlokiem wracaja do polozenia wyjsciowego wypychacz 76 i zaklócajacy pret 82, a miedzy za¬ czepem. 72 blokujacym i koncówka wypychacza 76 umieszczona zostaje nastepna drobina srutu.Przewód doprowadzajacymi wykonany jest z za¬ roodpornej stali nierdzewnej. Jak pokazano na fig. , jest on za pomoca nakretki 86 przymocowany do stalowej koszulki 60 zasilajacego przewodu wy¬ lozonego wewnatrz grafitem, na drugim koncu którego zakonczonym kolnierzem 87 przymocowany jest za pomoca srub 89 (na fig. 5 przedstawiono tylko jedna) korpus 88 zasilajacej glowicy 59.W korpusie, glowicy wykonany jest gwintowany otwór 90 przechodzacy nastepnie w komore 91 konczaca sie w poblizu dna glowicy. Miedzy otwo¬ rem 90 i komora 91 znajduje sie pierscieniowy wystep 92, o który opiera sie korek 93 wkrecony w otwór 90. Wzdluz osi korka biegnie otwór 94 przechodzacy w górnej czesci w lejkowaty wlot 95.Wykladzina grafitowa zasilajacego przewodu wy¬ staje poza kolnierz 87 znajdujacy sie na stalowej koszulce i wchodzi do wnetrza komory przez ot¬ wór 97 wykonany w tylnej scianie. Os otworu 97 nachylona jest pod pewnym katem do plaszczyzny poziomu. Wylot 98 z wykladziny grafitowej znaj¬ duje sie w komorze 90 nad.lejkowatym wlotem 95 wykonanym w korku 93. Drobiny srutu olowianego podawane przez otwór 99 przewodu zasilajacego wpadaja do lejkowatego wlotu 95 w korku, a na¬ stepnie jesli wymiar ich jest maly, przechodza przez otwór 94 do komory 91 w dolnej czesci glo¬ wicy. Drobiny o wiekszych wymiarach zatrzymuja sie na dnie lejkowatego wlotu, gdzie ulegaja sto¬ pieniu.Komora 91 stanowi zbiornik cieklego czynnika aktywnego, gdzie przebywa on przez pewien czas.Poniewaz temperatura glowicy jest równa- tempe¬ raturze gazu znajdujacego sie nad kapiela, dro¬ biny srutu olowianego ulegaja tam calkowitemu stopieniu. Ponadto znajdujacy sie w komorze cie¬ kly czynnik osiaga stan równowagi chemicznej z warunkami panujacymi w przestrzeni gazowej nad kapiela. Komora 90 zamknieta jest od góry korkiem 100. W osi tego korka znajduje sie otwór 23 40 45 50 55 6013 79350 14 101, przez który nastepuje wyrównanie atmosfery panujacej nad kapiela metalowa w wannie i nad powierzchnia stopionego czynnika aktywnego w ko¬ morze.W przedniej scianie korpusu 88 grafitowej glo¬ wicy znajduje sie wystep 102 z ukosnie podcieta dolna scianka 103. W sciance tej wywiercony jest otwór 104, w którym umieszczony jest grafitowy dzióbek 61 dochodzacy do otworu 105. Otwór 105 dochodzi do górnej powierzchni 106 wystepu 100, gdzie schodzi sie z innym otworem 107 przecho¬ dzacym od górnej powierzchni 106 wystepu 102 do dolnej czesci komory 91.Schodzace sie otwory 105 i 107 tworza ostra krawedz 103, która okresla poziom stopionego me¬ talu w komorze 91 i otworze 94. Krawedz 108 okresla zasilanie cieklego czynnika aktywnego z komory 91 do zaglebienia 62 w górnej powierz¬ chni elektrody 31. Gdy uklad obserwujacy wykaze, ze zaistniala zmiana w przenikaniu swiatla przez tasme szklana, do warstwy cieklej substancji 36 nalezy dodac cieklego olowiu. Wtedy do przewodu zasilajacego podawane sa pojedyncze drobiny srutu olowianego, które powoduja podniesienie sie po¬ ziomu stopionego metalu 109 w komorze 91 po¬ wyzej ostrej krawedzi 103. Metal przelewa sie przez te krawedz i poprzez otwór 110 w dzióbku 61 do¬ staje sie do zaglebienia 62, a stad przez otwór 63 w elektrodzie 31 do roztopionej substancji znaj¬ dujacej sie nad nia. Dzieki temu przywrócona zo¬ staje konfiguracja powierzchni styku szkla ze sto¬ pionym olowdem.W celu zapewnienia podawania malych ilosci stopionego metalu dzióbek 61 i srednica otworu 94 winny byc male. Srednica otworu 94 moze wy¬ nosic na przyklad okolo 3 mm. Srednica otworu 110 w dzióbku 61 moze wynosic okolo 2,5 mm.Jak wspomniano, temperatura glowicy jest równa temperaturze gazu znajdujacego sie w wannie nad kapiela metalowa. Przy tej temperaturze ma¬ terial drobin podawanych do komory glowicy ulega stopieniu. Podawane ze zbiornika drobiny moga miec rózna srednice, dlatego niektóre z nich moga ulegac stopieniu w przewodzie zasilajacym, w lej¬ kowatym wlocie 95 do komory 91, a niektóre z nich moga wpadac do otworu 94, gdzie ulegaja szyb¬ kiemu stopieniu w cieklym metalu 109.Na przyklad drobiny o srednicy 6 mm beda sie zatrzymywaly w lejkowatym wlocie 95 i tam be¬ da ulegaly stopieniu. W tym przypadku podawa¬ nie stopionego metalu do otworu 110 w dzióbku 61 bedzie nieco opóznione w stosunku do poda¬ wania drobin ze zbiornika do przewodu zasila¬ jacego.Podawanie drobin przez przewód doprowadza¬ jacy 71 moze odbywac sie równiez za pomoca gazu. Uzywany jest wtedy zwykle ten sam gaz, który znajduje sie w przestrzeni nad kapiela me¬ talowa. Wlot gazu do przewodu doprowadzajacego znajduje sie w poczatkowej jego czesci na ze¬ wnatrz wanny, a wylot odbywa sie przez otwory 111 znajdujace sie w poblizu glowicy przechodzace przez stalowa koszulke 60 i grafitowa wykladzine 96 przewodu zasilajacego. Wylot gazu moze sie odbywac równiez przez otwór 101 w korku 100 znajdujacym sie w górnej czesci glowicy.Podawanie cieklego olowiu do roztopionej sub¬ stancji 36 odbywa sie tylko wtedy, gdy poziom cieklego olowiu w komorze podniesie sie powyzej ostrej krawedzi 108. Odbywa sie ono lagodnie, bez zadnych gwaltownych udarów poniewaz zarówno sama komora 91 w glowicy, jak i zaglebienie 62 w górnej powierzchni elektrody 31 oraz maly ot¬ wór 63 wychodzacy z zaglebienia maja dzialanie tlumiace.Gdy w linii 58 pojawi sie sygnal z pradowego miernika 54 wskazujacy, ze nastapila zmiana w przenikaniu swiatla przez tasme szklana w re¬ gulacyjnym obwodzie 112 (fig. 3) pojawia sie im¬ puls trwajacy 0,5 sekund. Obwód 112 polaczony jest linia 113 z elektromagnetycznym zaworem 85.Na fig. 7 przedstawiono bardziej dokladnie regu¬ lacyjny obwód 112 zbiornika 64. Z miernika pra¬ dowego wychodza dwie line 58, miedzy które wla¬ czony jest opornik 114. Spadek napiecia na opor¬ niku 114 wskazujacy na wielkosc pradu w ob¬ wodzie miernika pradowego przekazywany jest li¬ niami 115 i 116 do wzmacniacza 117 pradu stalego, a ze wzmacniacza linia 118 na impulsowy genera¬ tor 119 regulujacy napiecie.Generator ten moze byc nastawiany recznie. Gdy prad w linii 118 przekroczy pewna okreslona war¬ tosc, co wystepuje wtedy, gdy nastapia zmiany w przenikaniu swiatla przez tasme szklana prze¬ chodzaca przez piec dla odprezenia szkla, wska¬ zujace na koniecznosc dostarczania czynnika ak¬ tywnego ze zbiornika 64, generator 119 wytworzy serie impulsów. Impulsy te za pomoca linii 120 przekazywane sa do obwodu binarnego dzielnika 121 wytwarzajacego impulsy wskazujace na ko¬ niecznosc podania do glowicy drobiny czynnika aktywnego, nastepnie linia 122 do impulsatora 123 wytwarzajacego pojedyncze empulsy o czasie trwa¬ nia 0,5 sekund przekazywane na elektromagne¬ tyczny zawór 85. Wytwarzane przez impulsator 123 sygnaly linia 124 przekazywane sa na elektro¬ magnetyczny licznik 125, zliczajacy ilosc podawa¬ nych drobin czynnika aktywnego, a nastepnie do linii 113 polaczonej z elektromagnetycznym zawo¬ rem 85.W obwodzie regulacyjnym zbiornika 64 znajduje sie równiez urzadzenie alarmowe dzialajace, gdy zbiornik ulega opóznieniu. Schemat obwodu tego urzadzenia przedstawiono w dalszej czesci fig. 7.Opóznienie zbiornika 64 powoduje wlaczenie mi- krowylacznika znajdujacego sie w dolnej czesci komory samozsypowej i powstanie w linii 126 sy¬ gnalu elektrycznego przekazywanego na jedno z wejsc dwustabilnego obwodu 127. Drugie wej¬ scie obwodu polaczloine jest z linia 128 laczaca sie z linia 113.Kazdy impuls w linii 113 powoduje powstanie w dwustabilnym obwodzie 127 okreslonego stanu.Powstanie impulsu w linii 126 w wyniku opróz¬ nienia zbiornika powoduje zmiany w obwodzie 127, a nastepny impuls w linii 113, i powrócenie ob¬ wodu 127 do poprzedniego stanu powoduje pow¬ stanie impulsu wyjsciowego przekazywanego linia 129 na stawidlo 13&, Drugie wejscie do bramki 130 40 45 50 55 60iit 79350 16 za pomoca linii 131 polaczone jest z jednostabil- nym ukladem 132, na wyjsciu którego znajduje sie uklad rózniczkowy.Uklad 132 otrzymuje sterujace impulsy z linii 113 linia 133. Zrózniczkowany sygnal wyjsciowy ukladu 132 przekazywany jest do bramki 130 w tej samej chwili co impuls przekazywany linia 129.Impuls wyjsciowy z bramki 130 pojawia sie w li¬ nii 134 tylkb wtedy, gdy dochodzi do niej impuls 129. Impuls wyjsciowy w linii 134 steruje alar¬ mowy dwustabilny uklad 135, który moze byc na¬ stawiany recznie za pomoca wylacznika 136.Z ukladu 135 Unia 137 impuls przekazywany jest na wzmacniacz 138, a stad na lampe 139, swiatlo której wskazuje, ze nalezy zwrócic uwage na zbior¬ nik, lub jesli fest to konieczne, linia 139a na bu¬ czek wydajacy sygnaly dzwiekowe.Poniewaz prad zasilajacy anode 31 linia 57 ge¬ nerowany jest w tym samym ukladzie, co prad przekazywany linia 53 do ukladu regulacyjnego zbiornika, podawanie drobin materialu do zasila¬ jacego przewodu 71, a nastepnie do zasilajacej gjowicy 59, jest proporcjonalne do wielkosci pradu przeplywajacego od roztopionej substancji 36 przez szklana tasme 52. Dzieki temu otrzymywana jest wymagana konfiguracja powierzchni styku war¬ stwy roztopionej substancji z powierzchnia szkla, co zapewnia uzyskanie wymaganych wlasciwosci tasmy szklanej.Gdy proces produkcyjny przebiega normalnie, wystepuje regularne podawanie pojedynczych dro¬ bin materialu do zasilajacego przewodu 71, a wiec stopiony i równomierny doplyw materialu, na przy¬ klad cieklego olowiu, do warstwy roztopionej sub¬ stancji.Intensywnosc podawania czynnika aktywnego proporcjonalna jest do intensywnosci wnikania jego iod wplywem pradu elektrycznego z warstwy roztopionej substancji 36 do górnej powierzchni szklanej tasmy 32.W przedstawiony wyzej sposób do warstwy roz¬ topionej substancji 36 wprowadzony moze byc do¬ wolny metal, stop metali, czy tez sole, jesli tylko materialy te wystepuja w stanie cieklym przy temperaturze, która panuje w tej czesci wanny, gdzie warstwa roztopionej substancji styka sie z powierzchnia szkla.Na fig. 8 19 przedstawiono uproszczona kon¬ strukcje glowicy zasilajacej. W tym wariancie wy¬ konane lejkowate zaglebienie 140 w górnej po¬ wierzchni elektrody 31 jest wieksze niz zaglebienie 62 przedstawione na fig. 3; w elektrodzie 131 wy¬ wiercony jest otwór 141 o srednicy okolo 3 mm.Poziom 142 cieklego czynnika aktywnego podawa¬ nego do warstwy roztopionej substancji 36 znaj¬ duje sie w lejkowatym zaglebieniu.Podawanie czynnika aktywnego, na przyklad cie¬ klego olowiu do stozkowego otworu 140 odbywa sie przez dysze 143 rozmieszczona na grafitowej glowicy 144. Glowica ta przymocowana jest do kol¬ nierza 87 znajdujacego sie na koncu koszulki 60 wylozonego grafitem przewodu zasilajacego. W ot¬ wór 145 glowicy wkrecona jest koncówka 146 gra¬ fitowej wykladziny 96 wystepujaca na zewnatrz koszulki stalowej 60 zakonczonej kolnierzem 87, o który sie ona opiera. Z otworu 145 wychodzi za¬ silajacy otwór 147 o mniejszej srednicy zakon¬ czony zaglebieniem 148.Z zasilajacym otworem 147 laczy sie otwór 149 6 w dyszy 143. W górnej czesci glowicy znajduje sie otwór 150 sluzacy do wylotu gazu podawanego do przewodu zasilajacego. Wylot gazu z przewodu za¬ silajacego odbywac sie moze takze przez otwory 111 wykonane blisko kolnierza 87 w stalowej ko- *o szulce 60 i grafitowej wykladzinie 96. Podawane ze zbiornika przez przewód doprowadzajacy dro¬ biny czynnika aktywnego uderzaja o zaglebienie 148, gdzie wytracaja swa predkosc pozioma i przez otwór 149 w dyszy 143 opadaja do stozkowego otworu 140 znajdujacego sie w górnej powierzchni elektrody 31.Moze zdarzyc sie, ze podawane drobiny mate¬ rialu ulegna stopieniu przed osiagnieciem zbior¬ nika 142. W przeciwnym przypadku ulegaja stjo- pieniu w stozkowym zaglebieniu 140, skad ciekly material przez otwór 141 przedostaje sie do war¬ stwy roztopionej substancji 36.W obydwóch opisanych wyzej przykladach unika sie zmian temperatury warstwy roztapianej sub- stancji, wskutek podawania do niej nowych por¬ cji czynnika aktywnego. Dostarczany czynnik ma nie tylko te sama temperature lecz równiez osiaga ten sam stan chemiczny, jaki ma roztopiona sub¬ stancja w warstwie. so Regulowane podawanie malych porcji materia¬ lu do warstwy roztopionej substancji 36, która przylega do elektrody 31 zapewnia utrzymanie sta¬ lej powierzchni kontaktu ze szklem, a wiec i sta¬ lej dlugosci tej warstwy w kierunku przesuwu tasmy szklanej, co ma istotny wplyw na jakosc jej obróbki. PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe 40 1. Sposób wytwarzania szkla o zmodyfikowanej powierzchni przez przenikanie jonów z roztopionej substancji utrzymywanej w stycznosci z powierz¬ chnia szkla przesuwajacego sie wzdluz kapieli sto- 45 pionego metalu, znamienny tym, ze porównuje sie charakterystyke szkla po zmodyfikowaniu z cha¬ rakterystyka wymagana i róznice w wartosci za¬ mienia sie na sygnal elektryczny, a sygnal ten sto¬ suje sie do kontroli ilosci materialu wprowadzane- 50 g0 do roztopionej substancji tak, ze zachowuje sie okreslona postac i wielkosc roztopionej substan¬ cji.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze przepuszcza sie przez tasme szkla swiatlo ze zródla 55 swiatla o stalej intensywnosci, kontroluje intensy¬ wnosc swiatla przechodzacego przez szklo i wytwa¬ rza sygnal elektryczny w zaleznosci od zmian w in¬ tensywnosci przepuszczania swiatla przez tasme szkla. so 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze material doprowadza sie do roztopionej substancji z pojemnika zapasowego w zaleznosci od zmian w intensywnosci przenikania swiatla przez tasme szkla. 65 4. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 3 znamienny17 79350 tym, ze material doprowadza sie w postaci gru¬ dek.
3. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ze intensywnosc swiatla przechodzacego przez tasme szkla kontroluje sie za wylotem zbiornika z kapiela metalu. 6. Urzadzenie do wytwarzania szkla o zmodyfi¬ kowanej powierzchni zawierajacej wydluzony zbiornik mieszczacy w sobie kapiel roztopionej substancji, zespól do doprowadzania szkla z regu¬ lowana predkoscia do kapieli i przesuwania szkla w postaci tasmy wzdluz kapieli, czlon ustalajacy do utrzymywania roztopionej substancji materialu, sluzacego do zmiany wlasciwosci szkla, w stycznosci z okreslonym obszarem szkla, oraz zespól powodu¬ jacy wnikanie jonów z roztopionej masy do powierz¬ chni szkla, znamienne tym, ze ma przewód zasila¬ jacy (71) zakonczony w poblizu czlonu ustalajacego, zespól fotoelektryczny (39, 43) umieszczony za wylo¬ tem zbiornika dla sledzenia zmian intensywnosci przenikania swiatla przez powierzchnie obrabianej tasmy szkla o danej charakterystyce, zbiornik (64) zasilajacy materialu sluzacego do uzupelniania roz¬ topionej masy, zaopatrzony w kanal (69) z zacze¬ pem (72) polaczony z przewodem zasilajacym (71) oraz uklad sterujacy polaczony z zespolem foto- elektrycznym (39, 43). 7. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze czlon ustalajacy dla utrzymywania warstwy elek- troprzewodzacej roztopionej substancji stanowi elektroda (31), która jest anoda, polaczona z ob¬ wodem zasilania pradu elektrycznego zawierajacym regulator (52) pradu sterowany przez czynnik regulujacy wielkosc pradu przeplywajacego pTzez anode, dla osiagniecia wymaganej obróbki szkla. 8. Urzadzenie wedlug zastrz. 6 albo 7, znamienne tym, ze elektroda (31) ma otwór (63) zasilajacy wychodzacy z zaglebienia (62) wykonanego w jej 18 górnej powierzchni, gdzie doprowadzany jest czyn¬ nik aktywny. 9. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze przewód zasilajacy (71) polaczony jest ze zbior¬ nikiem (91) cieklego czynnika aktywnego, znajduja¬ cego sie nad tasma (32) szkla, przy czym wylot zbiornika jest uksztaltowany tak, ze umozliwia re¬ gulowane zasilanie czynnikiem aktywnym warstwy roztopionej substancji. 10. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze wlot do zbiornika (91) czynnika rezerwowego jest umieszczony na okreslonej wysokosci w sto¬ sunku do wylotu. 15 11. Urzadzenie wedlug zastrz. 10, znamienne tym, ze zbiornik (91) czynnika rezerwowego jest przy¬ mocowany do stalowej koszulki przewodu zasila¬ jacego (71) glowicy grafitowej (59), do której przy¬ mocowany jest odchylony ku dolowi grafitowy 20 dzióbek (61) laczacy sie ze zbiornikiem (91) za po¬ moca dwóch skosnych*- zbiegajacych sie otworów (105, 107) wykonanych w glowicy, tworzacych w górnej czesci ostra krawedz (108), która okresla poziom cieklego czynnika aktywnego w zbiorniku 25 (91). 12. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze w górnej czesci belkowej elektrody (31) znaj¬ duje sie zaglebienie (62), dla utrzymania rezerwy cieklego czynnika aktywnego, przy czym zaglebie- 30 nie (62) jest polaczone otworem (63) zasilajacym z dolna powierzchnia elektrody (31), a nad otwo¬ rem (63) na koncu przewodu zasilajacego (71) za¬ mocowana jest grafitowa glowica zasilajaca (39), w której jest umieszczona dysza oraz otwór za- 35 silajacy polaczony z przewodem zasilajacym, przez który podawane sa do zaglebienia (62) w elektro¬ dzie (31) drobiny elektroprzewodzacego czynnika aktywnego.793507&350 ??¥¥* 2T—1 PL
PL1968129462A 1967-11-09 1968-10-10 PL79350B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB51050/67A GB1235469A (en) 1967-11-09 1967-11-09 Improvements in or relating to the manufacture of flat glass

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL79350B1 true PL79350B1 (pl) 1975-06-30

Family

ID=10458449

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1968129462A PL79350B1 (pl) 1967-11-09 1968-10-10

Country Status (10)

Country Link
US (1) US3607175A (pl)
BE (1) BE723617A (pl)
CS (1) CS172860B2 (pl)
DE (1) DE1801085B2 (pl)
ES (2) ES359500A1 (pl)
FR (1) FR1590482A (pl)
GB (1) GB1235469A (pl)
LU (1) LU57259A1 (pl)
NL (1) NL144903B (pl)
PL (1) PL79350B1 (pl)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3915683A (en) * 1968-04-09 1975-10-28 Pilkington Brothers Ltd Method for manufacture of float glass
US3876406A (en) * 1968-04-09 1975-04-08 Pilkington Brothers Ltd Method and apparatus for manufacture of float glass
US3883340A (en) * 1973-03-29 1975-05-13 Bell Telephone Labor Inc Glass melting method
US6103638A (en) * 1997-11-07 2000-08-15 Micron Technology, Inc. Formation of planar dielectric layers using liquid interfaces
US20030037569A1 (en) * 2001-03-20 2003-02-27 Mehran Arbab Method and apparatus for forming patterned and/or textured glass and glass articles formed thereby
US6796144B2 (en) * 2001-05-30 2004-09-28 Battelle Memorial Institute System and method for glass processing and temperature sensing
EP1786736A1 (de) * 2004-09-18 2007-05-23 Schott AG Verfahren und vorrichtung zur herstellung von flachglas nach dem floatverfahren
CN101224952B (zh) * 2008-02-19 2011-02-02 浙江大学 表面梯度氧化低反射纳米硅镀膜玻璃的在线制备方法
CN106746508A (zh) * 2016-12-22 2017-05-31 重庆天和玻璃有限公司 带孔玻璃的制备装置
CN106810062B (zh) * 2017-03-20 2022-10-18 河北富晶科技有限公司 一种改善浮法玻璃过渡辊台擦锡及密封性能的装置及方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH311812A (de) * 1951-11-05 1955-12-15 Zeiss Carl Fa Aufdampfeinrichtung.
NL139290C (pl) * 1963-08-15
GB1151853A (en) * 1965-07-09 1969-05-14 Pilkington Brothers Ltd Improvements in or relating to the Manufacture of Flat Glass.

Also Published As

Publication number Publication date
DE1801085B2 (de) 1971-07-22
ES359500A1 (es) 1970-08-16
LU57259A1 (pl) 1969-02-11
NL144903B (nl) 1975-02-17
ES359499A1 (es) 1970-08-16
CS172860B2 (cs) 1977-01-28
GB1235469A (en) 1971-06-16
BE723617A (pl) 1969-05-08
FR1590482A (pl) 1970-04-13
DE1801085A1 (de) 1969-09-04
US3607175A (en) 1971-09-21
NL6815061A (pl) 1969-05-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL79350B1 (pl)
Latham et al. Electrical charging of hail pellets in a polarizing electric held
US2673232A (en) Feed device for electrolytic cells
DE112005001190B4 (de) Vorrichtung zur Vakuumbeschichtung durch Metall- oder Legierungsverdampfung und Verfahren mit derartiger Vorrichtung
DE69205253T2 (de) Vorrichtung für die Zuführung von granuliertem Schüttgut für einen Halbleitendeinkristallziehungsapparat.
US4661200A (en) String stabilized ribbon growth
ES339386A1 (es) Aparato para utilizar en la fabricacion de vidrio plano.
US3244494A (en) Method of feeding to and melting in a glass furnace
McKubre et al. Excess power observations in electrochemical studies of the D/Pd system; the influence of loading
JPH0743485A (ja) 水の電解装置
DE1771332C3 (de) Galvanische Abscheidung von Metallen auf kugelförmige Teilchen
EP0451552A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Formung eines Giesstrahls
HU187339B (en) Process and apparatus for correct filling and controlling correct doses of alumina for electrolyzing furnace of hot process, and process for producing aluminium
DE1583715C3 (de) Verfahren zum Kühlen eines schmelzflüssigen Drahtes oder Fadens
DE2708032C3 (de) Kontinuierlich arbeitende Pulverzuführvorrichtung zur Einspeisung und Abführung von Pulver in das bzw. aus dem Beschichtungsmaterialbett einer elektrostatischen Fluidisierbett-Beschichtungseinrichtung
Matsui et al. Electrification of pure water flowing down a trough set up with a resin sheet
PL71465B1 (pl)
JPS60105148A (ja) 液体金属イオン源
DE1558356A1 (de) Mittels Ultraschalleinwirkung auf eine Metallschmelze durch Zerstaeubung des Metalls hergestelltes Pulver und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102013110760B4 (de) Strahlungsquelle zur Erzeugung von kurzwelliger Strahlung aus einem Plasma
US3420766A (en) Automatic electroplating and washing apparatus
US3353713A (en) System for charging small quantities of granular materials
US3777208A (en) Method and apparatus for producing radiation
JP3068269B2 (ja) 原料供給装置
Baugh et al. A mechanism for alkaline cell leakage